DE4216730A1 - Rasterelektronenstrahlgerät - Google Patents
RasterelektronenstrahlgerätInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Rasterelektronenstrahlgerät,
insbesondere einen Elektronenstrahltester oder ein Ra
sterelektronenmikroskop, entsprechend dem Oberbegriff
des Anspruches 1.
Ein Rasterelektronenmikroskop gemäß dem Gattungsbegriff
des Anspruches 1 ist beispielsweise durch die Litera
turstelle "Septieme Congres International de Microsco
pie Electronique, Grenoble (1970)", S. 205 bis 206 be
kannt.
Der Primärelektronenstrahl durchsetzt hierbei eine von
vier magnetischen Prismen gebildete Ablenkbrücke, durch
die gleichzeitig der Sekundärelektronenstrahl so weit
umgelenkt und vom Primärelektronenstrahl getrennt wird,
daß er mittels eines Detektors erfaßt werden kann.
Nachteilig ist bei dieser Ausführung vor allem die er
forderliche mehrmalige Umlenkung des Primärelektronen
strahles. Sie erfordert einen großen technischen Auf
wand, wenn einerseits Störeinwirkungen auf den Primär
elektronenstrahl vermieden und andererseits eine für
den Einbau des Detektors günstige große Umlenkung des
Sekundärelektronenstrahles erreicht werden sollen.
Mit ähnlichen Nachteilen ist ein Rasterelektronenmikro
skop behaftet, das aus J. Vac. Sci.Technol. B 9(6),
Nov/Dez 1991, S. 3010 bis 3014 bekannt ist. Hierbei er
folgt die Umlenkung des vom Primärelektronenstrahl am
Objekt ausgelösten Sekundärelektronenstrahles durch ein
Wienfilter. Ohne sehr großen technischen Aufwand und
ohne negative Ausweitungen auf den Primärelektronen
strahl lassen sich jedoch mit einer derartigen Einrich
tung nur kleine Umlenkwinkel für den Sekundärelektro
nenstrahl erzielen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Ra
sterelektronenstrahlgerät entsprechend dem Oberbegriff
des Anspruches 1 so auszubilden, daß die Umlenkung des
Sekundärelektronenstrahles um einen großen Winkel auf
besonders einfache Weise erzielt wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das kennzeich
nende Merkmal des Anspruches 1 gelöst. Zweckmäßige Aus
gestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteran
sprüche.
Erfindungsgemäß enthalten die Einrichtungen zur Umlen
kung des Sekundärelektronenstrahles wenigstens einen
elektrostatischen Spiegel, der so angeordnet ist, daß
er zumindest einen wesentlichen Teil des Sekundärelek
tronenstrahles erfaßt und umlenkt.
Besonders vorteilhaft ist hierbei, daß einerseits die
gerade Achse des- Primärelektronenstrahles beibehalten
wird, andererseits jedoch mittels des elektrostatischen
Spiegels die Umlenkung des Sekundärelektronenstrahles
um einen großen Winkel und damit ein günstiger Einbau
der Einrichtungen (Spektrometer oder Detektor) zur Wei
terverarbeitung des umgelenkten Sekundärelektro
nenstrahles ermöglicht wird.
Bei einer besonders zweckmäßigen Ausgestaltung des er
findungsgemäßen Rasterelektronenstrahlgerätes ist der
Spiegel außerhalb des Strahlenganges des Primärelektro
nenstrahles angeordnet, und es ist zwischen dem Objekt
und dem Spiegel wenigstens ein elektronenoptisches Ele
ment vorgesehen, das eine Vorablenkung des Sekundär
elektronenstrahles um einen- geringen Winkel gegenüber
dem Strahlengang des Primärelektronenstrahles bewirkt.
Für diese Vorablenkung des Sekundärelektronenstrahles
kann vorteilhaft - wie noch an Ausführungsbeispielen
näher erläutert wird - ein ein- oder zweistufiges Wien
filter Verwendung finden.
Ein besonders wichtiges Anwendungsgebiet besitzt die
Erfindung bei Rasterelektronenstrahlgeräten, bei denen
der Primärelektronenstrahl auf eine Energie beschleu
nigt wird, die höher als die Endenergie ist, mit der er
auf die Probe auftrifft. Bei derartigen Rasterelektro
nenstrahlgeräten -sind Einrichtungen vorgesehen, durch
die der Primärelektronenstrahl vor dem Auftreffen auf
die Probe auf seine Endenergie abgebremst wird, wobei
durch diese Einrichtungen zugleich der Sekundärelektro
nenstrahl vom Objekt abgesaugt und auf eine hohe Ener
gie beschleunigt wird.
Durch die erfindungsgemäße Trennung des Primär- und Se
kundärelektronenstrahles - vorzugsweise durch eine
elektronenoptische Vorablenkung des Sekundärelektronen
strahles und eine anschließende Umlenkung über einen
elektrostatischen Spiegel - läßt sich einerseits eine
hohe Energie des Primärelektronenstrahles bis unmittel
bar vor das Objekt aufrechterhalten (um auf diese Weise
die Elektron-Elektron-Wechselwirkung zu minimieren),
und andererseits eine Weiterverarbeitung des umgelenk
ten Sekundärelektronenstrahles erzielen, ohne die Lei
stungsfähigkeit der optischen Einrichtungen für den
Primärelektronenstrahl zu beeinträchtigen.
Bei einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung wird
erreicht, daß der Sekundärelektronenstrahl durch die
Rasterung des Primärelektronenstrahles überhaupt nicht
oder nur geringfügig beeinträchtigt wird. Dies wird da
durch erreicht, daß die zur Fokussierung des Primär
elektronenstrahles auf das Objekt dienende Objektiv
linse und das - in Bewegungsrichtung des Primärelektro
nenstrahles betrachtet - im wesentlichen vor der Objek
tivlinse angeordnete Ablenksystem zur Auslenkung des
Primärelektronenstrahles derart dimensioniert sind, daß
der ausgelenkte Primärelektronenstrahl bei seiner Fo
kussierung durch die Objektivlinse zugleich um etwa 90°
gegenüber der Auslenkrichtung gedreht wird, so daß der
gleichfalls um etwa 90° gedrehte Sekundärelektronen
strahl das Ablenksystem unter einem Winkel erreicht,
der dem negativen Auslenkwinkel des Primärelektronen
strahles entspricht. Auf diese Weise verläßt dann der
Sekundärelektronenstrahl das Ablenksystem im wesentlich
axial und tritt damit - unabhängig von der Rasteraus
lenkung des Primärelektronenstrahles - stets nahezu
axial in die erfindungsgemäßen Einrichtungen zur Umlen
kung des Sekundärelektronenstrahles ein.
Einige Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der
Zeichnung veranschaulicht.
Es zeigt
Fig. 1 ein erfindungsgemäßes Rasterelektro
nenmikroskop in schematischer Darstel
lung;
Fig. 2 einen erfindungsgemäßen Elektronen
strahltester in schematischer Darstel
lung;
Fig. 3 eine Variante des in Fig. 2 veranschau
lichten Elektronenstrahltesters,
Fig. 4 eine schematische Darstellung eines
elektrostatischen Spiegels mit einer
Öffnung zum Durchtritt des Primärelek
tronenstrahles,
Fig. 5 und 6 Aufsicht und Seitenansicht eines ein
stufigen Wienfilters,
Fig. 7 Kombination eines einstufigen Wienfil
ters mit einem elektrostatischen Spie
gel,
Fig. 8 Kombination eines zweistufigen Wien
filters mit einem elektrostatischen
Spiegel,
Fig. 9 und 10 eine Variante der Anordnung gemäß
Fig. 7,
Fig. 11 und 12 eine Variante der Anordnung gemäß
Fig. 8,
Fig. 13, 14 und 15 Seitenansicht und zwei Auf
sichten eines weiteren Ausführungsbei
spiel es.
Das in Fig. 1 ganz schematisch veranschaulichte erfin
dungsgemäße Rasterelektronenmikroskop enthält eine
Elektronenquelle 1 zur Erzeugung eines Primärelektro
nenstrahles 2. Hierbei kann es sich um eine thermische
Elektronenquelle, beispielsweise mit Wolfram- oder
LaB6-Kathode, um eine thermische Feldemissionskathode
oder um eine kalte Feldemissionskathode handeln.
Weiterhin enthält das Rasterelektronenmikroskop gemäß
Fig. 1 eine Kondensorlinse 3, die einstufig als Einzel
linse oder auch als mehrstufiges Linsensystem ausgebil
det sein kann. Es ist ferner eine Objektivlinse 4 sowie
ein Rasterablenksystem 5 vorgesehen, das ein- oder
zweistufig aufgebaut sein kann.
Justierablenkelemente, Stigmatoren und Blenden sind der
Übersichtlichkeit wegen in Fig. 1 nicht dargestellt.
Die durch den Primärelektronenstrahl 2 an einer das Ob
jekt 6 bildenden Probe ausgelösten Sekundärelektronen
werden durch eine Extraktionselektrode 7 abgesaugt. Die
Extraktionsspannung dieser Elektrode 7 beträgt typi
scherweise einige 10 bis einige 100 V.
Im Strahlengang des Sekundärelektronenstrahles 8 befin
det sich ein elektrostatischer Spiegel 9, der den Se
kundärelektronenstrahl umlenkt und einem Detektor 10
zuführt.
Die Einzelheiten der Umlenkung des Sekundärelektronen
strahles 8 werden noch anhand der Fig. 4 bis 15 erläu
tert.
Fig. 2 zeigt einen erfindungsgemäßen Elektronenstrahlte
ster. Für gleiche Bauelemente sind dabei gleiche Be
zugszeichen wie in Fig. 1 verwendet.
Der Primärelektronenstrahl 2 wird hier zunächst mittels
einer Beschleunigungselektrode 11 auf eine hohe Energie
zwischenbeschleunigt. Da die Extraktionselektrode 7 mit
der Beschleunigungselektrode 11 leitend verbunden ist,
entspricht die Absaugspannung der Extraktionselektrode
7 der Zwischenbeschleunigungsspannung der Beschleuni
gungselektrode 11.
Das Objekt 6 wird durch eine integrierte Schaltung ge
bildet, die in üblicher Weise mit Spannung versorgt
wird. Der durch den Spiegel 9 umgelenkte Sekundärelek
tronenstrahl wird einem Spektrometer 10′ zugeführt. Der
Blanker des Elektronenstrahltesters gemäß Fig. 2 ist mit
12 bezeichnet. Es kann aber auch anstelle des Blankers
eine gepulste Kathode, z. B. eine gepulste Fotokathode
verwendet werden.
Bei der in Fig. 3 dargestellten Variante des Elektronen
strahltesters gemäß Fig. 2 ist eine zusätzliche Absaug
elektrode 13 vorgesehen, um am Ort der Probe eine va
riable Feldstärke zu erzielen.
Im Rahmen der Erfindung sind selbstverständlich Abwand
lungen der anhand der Fig. 1 bis 3 veranschaulichten Ra
sterelektronenstrahlgeräte möglich. So kann auch das
Rasterelektronenmikroskop gemäß Fig. 1 mit Zwischenbe
schleunigung des Primärelektronenstrahles ausgeführt
werden. Die Elektronenstrahltester der Fig. 2 und 3 kön
nen ferner - entsprechend dem Prinzip von Fig. 1 - ohne
Zwischenbeschleunigung ausgeführt werden.
Anhand der Fig. 4 bis 15 seien nun verschiedene Möglich
keiten für die Umlenkung des Sekundärelektronenstrahles
erläutert.
Fig. 4 zeigt einen elektrostatischen Spiegel 19, der im
Strahlengang des Primärelektronenstrahles 2 angeordnet
und mit einer Öffnung 20 zum Durchtritt des Primärelek
tronenstrahles versehen ist.
Der Spiegel 19 enthält eine Abschirmelektrode 21, eine
Spiegelelektrode 22 sowie ein Abschlußgitter 23.
Das Abschlußgitter 23 befindet sich auf dem Potential
der Extraktionselektrode 7 (vgl. Fig. 1, 2 und 3). Es
hat die Aufgabe, die beschleunigten Sekundärelektronen
mit der der Extraktionsspannung entsprechenden Energie
an den Spiegel heranzuführen. Weiterhin schirmt das Ab
schlußgitter 23 die an die Spiegelelektrode 22 gelegte
Spannung ab. Die gleiche Aufgabe hat -die Ab
schirmelektrode 21 auf der Spiegelrückseite.
Die Spannung der Spiegelelektrode 22 ist im allgemeinen
etwas negativer als die entsprechende Energie der Se
kundärelektronen, damit die Sekundärelektronen abge
bremst werden, um anschließend - vom Abschlußgitter 23
erneut beschleunigt - den Spiegel wieder zu verlassen.
Der Sekundärelektronenstrahl 8 verläßt den Spiegel 19
unter dem doppelten Neigungswinkel des Spiegels. Bei
der Anordnung gemäß Fig. 4 beträgt der Neigungswinkel
45°, der Spiegelwinkel somit 90°.
Durch den elektrostatischen Spiegel 19 werden die Se
kundärelektronen somit zunächst abgebremst, dann an ei
ner negativen Äquipotentialfläche gespiegelt und an
schließend wieder beschleunigt, so daß sie die Anord
nung mit hoher Energie verlassen. Nach außen hin er
scheint diese Anordnung wie ein ebener Spiegel. Es kön
nen aber auch anders geformte Spiegel verwendet werden,
sofern dies für die nachfolgende Detektion nützlich
ist. Es können z. B. Kugelspiegel, Parabolspiegel oder
ähnliches eingesetzt werden.
Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 4, bei dem der
Spiegel 19 im Strahlengang des Primärelektronenstrahles
angeordnete und keine Vorablenkung für den Sekundärelek
tronenstrahl vorgesehen ist, muß der Spiegel 19 mit der
bereits erwähnten Öffnung 20 für den Primärelektronen
strahl versehen sein. Diese Öffnung kann allerdings
sehr klein gehalten werden.
Anhand der Fig. 5 bis 15 werden im folgenden Ausführun
gen erläutert, bei denen der Spiegel außerhalb des
Strahlenganges des Primärelektronenstrahles angeordnet
ist und zwischen-dem Objekt und dem Spiegel ein elek
tronenoptisches Element vorgesehen ist, das eine Vorab
lenkung des Sekundärelektronenstrahles um einen gerin
gen Winkel gegenüber dem Strahlengang des Primärelek
tronenstrahles bewirkt.
In den Fig. 5 und 6 ist ein einstufiges Wienfilter 28 in
Aufsicht und Seitenansicht schematisch veranschaulicht.
Es enthält ein von zwei Elektroden 24, 25 erzeugtes
elektrisches Feld (Feldlinien E) sowie ein von einem
elektromagnetischen System 26, 27 erzeugtes Magnetfeld
(Feldlinien B). Das elektrische und magnetische Feld
verlaufen senkrecht zueinander und außerdem senkrecht
zur Achse des Primärelektronenstrahles 2. Das elektri
sche und magnetische Feld sollen zweckmäßig gleiche
Feldform besitzen.
Wie die in Fig. 6 dargestellte Seitenansicht des Wien
filters zeigt, besitzt der Primärelektronenstrahl 2 in
der Mitte des Wienfilters oder in ihrer unmittelbaren
Nähe einen Strahlüberkreuzungspunkt. Auf diese Weise
werden die in der ersten Feldhälfte des Wienfilters er
zeugten Fehlereinflüsse im wesentlichen durch die Ein
flüsse der zweiten Feldhälfte kompensiert. Durch ge
eignete Polung des elektrischen und magnetischen Feldes
heben sich für den Primärelektronenstrahl 2 die Wirkung
des elektrischen und magnetischen Feldes gegenseitig
auf, so daß der Primärelektronenstrahl 2 ohne Ablenkung
durch das Wienfilter hindurchtritt. Der in entgegenge
setzter Richtung verlaufende Sekundärelektronenstrahl 8
wird dagegen durch die kombinierte Wirkung des elektri
schen und magnetischen Feldes in der aus Fig. 6 ersicht
lichen Weise abgelenkt.
Fig. 7 zeigt die Kombination eines Wienfilters 28 (gemäß
den Fig. 5 und 6) mit einem elektrostatischen Spiegel 19
(gemäß Fig. 4). Durch das Wienfilter 28 erfährt der Se
kundärelektronenstrahl 8 eine Vorablenkung um einen ge
ringen Winkel gegenüber dem Strahlengang des Primär
elektronenstrahles 2. Der außerhalb des Strahlenganges
des Primärelektronenstrahles 2 angeordnete elektrosta
tische Spiegel 19 bewirkt dann eine starke Umlenkung
des Sekundärelektronenstrahles 8.
Fig. 8 veranschaulicht eine Anordnung mit einem aus den
Stufen 29 und 30 bestehenden zweistufigen Wienfilter
und einem elektrostatischen Spiegel 19. Die beiden Stu
fen 29, 30 dieses Wienfilters besitzen umgekehrte Pola
rität des elektrischen und magnetischen Feldes und wer
den vom Primärelektronenstrahl 2 nacheinander durch
setzt, während der Sekundärelektronenstrahl 8 nur durch
die zwischen dem (nicht dargestellten) Objekt und dem
Spiegel 19 angeordnete zweite Stufe 30 des Wienfilters
hindurchtritt. Diese zweite Stufe 30 des Wienfilters
bildet damit das elektronenoptische Element zur Vorab
lenkung des Sekundärelektronenstrahles 8 um einen ge
ringen Winkel gegenüber dem Strahlengang des Primär
elektronenstrahles 2. Ebenso wie bei dem zuvor erläu
terten Ausführungsbeispiel wird auch bei der Variante
gemäß Fig. 8 der Primärelektronenstrahl 2 durch das
Wienfilter nicht ausgelenkt, sondern lediglich ge
spreizt (dispergiert), wobei in den beiden Stufen 29
und 30 eine entgegengesetzte, sich kompensierende
Spreizung erfolgt.
Die Fig. 9 und 10 zeigen den für die Erfindung wesentli
chen Teil eines Rasterelektronenstrahlgerätes
(Elektronenstrahltester oder Rasterelektronenmikro
skop), das ein einstufiges Wienfilter 28, zwei elektro
statische Spiegel 19a, 19b sowie zwei (durch Detektoren
bzw. Spektrometer gebildete) Einrichtungen 10a, 10b zur
Weiterverarbeitung des umgelenkten Sekundärelektronen
strahles 8 aufweist. Die beiden Spiegel 19a, 19b sind
außerhalb des Strahlenganges des Primärelektronenstrah
les 2 auf entgegengesetzten Seiten dieses Strahles an
geordnet. Das zwischen dem (nicht dargestellten) Objekt
und den Spiegeln 19a, 19b angeordnete Wienfilter 28 ist
in der Polarität seines elektrischen und magnetischen
Feldes umschaltbar, so daß der Sekundärelektronenstrahl
8 wahlweise (vgl. Fig. 9 und 10) über einen der beiden
Spiegel 19a bzw. 19b der einen oder anderen weiterver
arbeitenden Einrichtung 10a bzw. 10b zugeführt werden
kann.
Die Fig. 11 und 12 veranschaulichen eine Variante der
Ausführung gemäß den Fig. 9 und 10. Anstelle eines ein
stufigen Wienfilters 28 ist bei der Anordnung der
Fig. 11 und 12 ein aus den beiden Stufen 29 und 30 be
stehendes Wienfilter vorgesehen, wobei die Spiegel 19a,
19b zwischen diesen beiden Stufen angeordnet sind.
Durch Umschalten der elektrischen und magnetischen Po
larität beider Stufen 29, 30 dieses Wienfilters kann
der Sekundärelektronenstrahl 8 der einen oder anderen
weiterverarbeitenden Einrichtung 10a, 10b zugeführt
werden.
Die Fig. 13 bis 15 zeigen schließlich ein bevorzugtes
Ausführungsbeispiel, bei dem der Sekundärelektronen
strahl 8 bei der Rasterung des Primärelektronenstrahles
2 nicht oder nur geringfügig ausgelenkt wird, was durch
eine geeignete - Anordnung und Dimensionierung - der zur
Fokussierung des Primärelektronenstrahles 2 dienenden
Objektivlinse 31 und des zur Rasterauslenkung des Pri
märelektronenstrahles 2 dienenden Ablenksystems 32 er
reicht wird.
Fig. 13 zeigt den Bereich vor dem Objekt 6. Die Symme
trieachse ist mit 33 bezeichnet. Der Primärelektronen
strahl 2 kommt zunächst unter den Einfluß des Ablenksy
stemes 32 und dann unter die Wirkung der Objektivlinse
31. Dabei wird ausgenutzt, daß die magnetische Objek
tivlinse 31 bei der Fokussierung des Primärelektronen
strahles 2 gleichzeitig eine Drehung auf den Elektro
nenstrahl ausübt. Im einzelnen ist die Wirkungsweise
wie folgt:
Der Primärelektronenstrahl 2 wird durch das Ablenksy
stem 32 abgelenkt (in der Darstellung gemäß Fig. 14 nach
links, vgl. Pfeil 35). Wenn er anschließend das Linsen
feld der Objektivlinse 31 (oder einen Teil davon)
durchsetzt, so wird er hierdurch gedreht (und zwar im
Uhrzeigersinn bei Betrachtung der Fig. 14). Der Primär
elektronenstrahl 2 beschreibt damit eine Schraubenbewe
gung.
Die Objektivlinse 31 und das Ablenksystem 32 sind nun
so angeordnet und dimensioniert, daß bei der Fokussie
rung des Primärelektronenstrahles 2 auf die Oberfläche
des Objektes 6 die Drehung (gegenüber der durch den
Pfeil 35 angedeuteten Ablenkrichtung) gerade 90° aus
macht. Der Primärelektronenstrahl 2 trifft damit im
Punkt A auf das Objekt 6.
Die dort ausgelösten Sekundärelektronen werden durch
die Extraktionselektrode 7 abgesaugt und auf eine hohe
Energie beschleunigt. Der Sekundärelektronenstrahl 8
besitzt daher eine ähnliche Energie und ein ähnliches
Verhalten wie der Primärelektronenstrahl 2. Wenn der
Sekundärelektronenstrahl 8 das Magnetfeld der Objektiv
linse 31 durchsetzt, wird er gleichfalls um nahezu 90°
auf einer Schraubenbahn im selben Drehsinn gedreht
(vgl. Fig. 15) und erreicht damit das Ablenksystem 32
unter einem Winkel, der gerade dem negativen Auslenk
winkel des Primärelektronenstrahles 2 entspricht.
Beim Durchgang durch das Ablenksystem 32 wird der Se
kundärelektronenstrahl 8 um einen Winkel abgelenkt, der
seinen Einfallwinkel gerade wieder kompensiert. Der Se
kundärelektronenstrahl 8 verläßt damit das Ablenksystem
32 weitestgehend axial. Dies bedeutet, daß - unabhängig
von der Rasterauslenkung des Primärelektronenstrahles 2
- der Sekundärelektronenstrahl 8 stets nahezu axial in
die sich dann anschließende erfindungsgemäße Einrich
tung zur Umlenkung des Sekundärelektronenstrahles 8
eintritt.
Claims (8)
1. Rasterelektronenstrahlgerät, insbesondere Elektro
nenstrahltester oder Rasterelektronenmikroskop, ent
haltend
- a) einen Elektronenquelle zur Erzeugung eines Pri märelektronenstrahles,
- b) Einrichtungen zur Beeinflussung des Primärelek tronenstrahles zwischen der Elektronenquelle und einem Objekt,
- c) Einrichtungen zur Umlenkung eines vom Primär elektronenstrahl am Objekt ausgelösten Sekundär elektronenstrahles,
- d) Einrichtungen, insbesondere Spektrometer oder Detektor, zur Weiterverarbeitung des umgelenkten Sekundärelektronenstrahles, dadurch gekennzeichnet, daß
- e) die Einrichtungen zur Umlenkung des Sekundär elektronenstrahles wenigstens einen elektrosta tischen Spiegel (9, 19) enthalten, der 30 ange ordnet ist, daß er zumindest einen wesentlichen Teil des Sekundärelektronenstrahles (8) erfaßt und umlenkt.
2. Rasterelektronenstrahlgerät nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der Spiegel (19) außerhalb des
Strahlenganges des Primärelektronenstrahles (2) an
geordnet ist und zwischen dem Objekt (6) und dem
Spiegel (19) wenigstens ein elektronenoptisches Ele
ment vorgesehen ist, das eine Vorablenkung des
Sekundärelektronenstrahles um einen geringen Winkel
gegenüber dem Strahlengang des Primärelektronen
strahles bewirkt.
3. Rasterelektronenstrahlgerät nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß das die Vorablenkung des Sekun
därelektronenstrahles (8) bewirkende elektronenopti
sche Element durch ein einstufiges Wienfilter (28)
gebildet wird, in dessen Mitte zumindest näherungs
weise ein Strahlüberkreuzungspunkt des Primärelek
tronenstrahles (2) liegt.
4. Rasterelektronenstrahlgerät nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß das die Vorablenkung des Sekun
därelektronenstrahles (8) bewirkende elektronenopti
sche Element durch die eine Stufe (30) eines zwei
stufigen Wienfilters (29, 30) gebildet wird, -wobei
die beiden Stufen dieses Wienfilters umgekehrte Po
larität besitzen und vom Primärelektronenstrahl (2)
nacheinander durchsetzt werden, während der Sekun
därelektronenstrahl (8) nur durch die zwischen dem
Objekt (6) und dem Spiegel (19) angeordnete Stufe
(30) des Wienfilters hindurchtritt.
5. Rasterelektronenstrahlgerät nach Anspruch 1, gekenn
zeichnet durch
- f) Einrichtungen zur Beschleunigung des Primärelek tronenstrahles (2) auf eine Energie, die höher ist als die Endenergie, mit der der Primärelek tronenstrahl auf das Objekt (6) auftrifft,
- g) sowie Einrichtungen, durch die der Primärelek tronenstrahl (2) vor dem Auftreffen auf das Ob jekt auf seine Endenergie abgebremst wird.
6. Rasterelektronenstrahlgerät nach Anspruch 1, enthal
tend
- f) ein Ablenksystem (32) zur Auslenkung des Primär elektronenstrahles (2),
- g) sowie eine Objektivlinse (31) zur Fokussierung des Primärelektronenstrahles auf das Objekt (6), dadurch gekennzeichnet, daß
- h) die Objektivlinse (31) und das - in Bewegungs richtung des Primärelektronenstrahles (2) be trachtet - im wesentlichen vor der Objektivlinse (31) angeordnete Ablenksystem (32) derart dimen sioniert sind, daß der ausgelenkte Primärelek tronenstrahl bei seiner Fokussierung durch die Objektivlinse zugleich um etwa 90° gegenüber der Auslenkrichtung (Pfeil 35) gedreht wird, so daß der gleichfalls um etwa 90° gedrehte Sekundär elektronenstrahl (8) das Ablenksystem (32) unter einem Winkel erreicht, der dem negativen Aus lenkwinkel des Primärelektronenstrahles (2) ent spricht.
7. Rasterelektronenstrahlgerät nach Anspruch 2, gekenn
zeichnet durch folgende Merkmale:
- f) außerhalb des Strahlenganges des Primärelektro nenstrahles (2) sind zwei elektrostatische Spie gel (19a, 19b) angeordnet,
- g) das zwischen dem Objekt (6) und den Spiegeln an geordnete elektronenoptische Element ist derart umschaltbar, daß der Sekundärelektronenstrahl (8) wahlweise auf den einen oder anderen Spiegel trifft; zur Weiterverarbeitung des durch den einen oder anderen Spiegel umgelenkten Sekundärelektronen strahles sind zwei alternativ wirksame Einrich tungen (10a, 10b) vorgesehen.
8. Elektronenstrahlgerät nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Spiegel (19) im Strahlengang
des Primärelektronenstrahles (2) angeordnet und mit
einer Öffnung (20) zum Durchtritt des Primärelektro
nenstrahles versehen ist.
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