DE4124937C2 - Verfahren zur Herstellung eines optischen Interferenzschichtsystems - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines optischen InterferenzschichtsystemsInfo
- Publication number
- DE4124937C2 DE4124937C2 DE4124937A DE4124937A DE4124937C2 DE 4124937 C2 DE4124937 C2 DE 4124937C2 DE 4124937 A DE4124937 A DE 4124937A DE 4124937 A DE4124937 A DE 4124937A DE 4124937 C2 DE4124937 C2 DE 4124937C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- layer system
- package
- optical
- interference
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3423—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings comprising a suboxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5806—Thermal treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5846—Reactive treatment
- C23C14/5853—Oxidation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1073—Beam splitting or combining systems characterized by manufacturing or alignment methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/142—Coating structures, e.g. thin films multilayers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines optischen
Interferenzschichtsystems gemäß der Gattung der Patentansprüche.
Interferenzoptische Schichtsysteme bestehen im allgemeinen aus
übereinander erzeugten dielektrischen und/oder metallischen Schichten
verschiedenster Anordnungen, die auf optisch polierte Schichtträger,
z. B. Gläser oder Kristalle aufgedampft, gesputtert oder anderweitig
niedergeschlagen werden.
Dabei hat besonders bei der Gruppe der Interferenzfilter das optische
Interferenzschichtsystem die Hauptfunktion des Bauelements
übernommen, und der Schichtträger ist nur noch Halter des Bauelements.
Häufig schützt man die empfindlichen Schichtsysteme, indem man sie
nachträglich durch einen optischen Kitt, der aus Gründen der optischen
Symmetrie die Brechzahl des Schichtträgers haben soll, mit einem
zweiten Träger so verkittet, daß sie weitgehend von Umwelteinflüssen
ferngehalten werden. Durch die angewandten Techniken zur
Schichtherstellung ist man praktisch gezwungen, die Existenz mindestens
eines Schichtträgers in Kauf zu nehmen und kann die Gruppe der
symmetrisch in Luft oder Vakuum gelagerten Systeme nur mathematisch
simulieren.
Nun läßt sich aber zeigen, daß gerade diese Gruppe schichtoptische
Lösungen enthält, die den geschilderten Stand der Technik erheblich
übertreffen, und es wäre naheliegend, ein solches System zu erzeugen,
wenn nicht grundlegende Schwierigkeiten bestehen, würden. Diese
Schwierigkeiten sind in den oben geschilderten Herstellungsverfahren
begründet. Die danach hergestellten Schichten sind nämlich im
allgemeinen ohne Schichtträger nicht genügend stabil, weil sie häufig aus
einem locker aufgebauten System von Säulen bestehen, die in der Regel
senkrecht zur Schichtfläche stehen. Deshalb zerfallen sie in viele
Mikrokristalle, wenn sie ihren Träger verlieren; selbst auf dem Träger
und im verkitteten Zustand zeigen sie häufig schon Zerfallsreaktionen,
wenn z. B. nur Feuchtigkeit in sie eindringt. Weiterhin muß man ihre
äußerst geringe Dicke, die immer in der Größenordnung der
Lichtwellenlänge liegt, ebenfalls als höchst empfindlich ansehen, was
jede Manipulation mit solchen Schichtsystemen zunächst
undurchführbar macht.
Aus der US 4 373 775 ist ein Verfahren zur
Herstellung eines Dünnschicht-Interferenzfilters zur Verwendung in
einem in zwei Richtungen wirkenden optischen Koppler bekannt, bei
dem auf ein Substrat ein aus dichroitischen Schichten bestehendes
Interferenzschichtsystem unmittelbar aufgebracht wird. Jedes Substrat
ist nur einmal verwendbar, weil das Interferenzschichtsystem dadurch
vom Substrat gelöst wird, daß letzteres aufgelöst wird. Dieses
Verfahren ist materialaufwendig und umständlich handhabbar.
Die EP 0 442 801 A1 beinhaltet u. a. ein Herstellungsverfahren für
dielektrische Vielschichtfilter, bei dem auf eine glätte Trägeroberfläche
eine definierte Polyimidschicht aufgebracht, getrocknet und gehärtet
wird. Auf diese wird der Vielschichtfilter aufgetragen und zusammen
mit der Polyimidschicht abgelöst. Die Polyimidschicht ist für die
Stabilität des Vielschichtfilters erforderlich. Da sie zum
Vielschichtfilter gehört, müssen ihre Dicke und Brechzahl der
gewünschten Interferenzfunktion angepaßt sein, was die Möglichkeiten
solcher Systeme einengt. Deshalb ist ein derart gestalteter
Vielschichtfilter nicht in allen Fällen, besonders nicht bei optisch
symmetrischen Interferenzschichtsystemen, verwendbar.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, die genannten Mängel abzustellen
und ein Verfahren zur Herstellung eines optischen
Interferenzschichtsystems anzugeben, dessen optische Eigenschaften und
Stabilität nicht durch einen Träger beeinflußt werden. Das Verfahren
soll eine möglichst sichere Handhabung des Interferenzschichtsystems
gewährleisten.
Erfindungsgemäß wird ein derartiges Interferenzschichtsystem gemäß
dem Kennzeichen des ersten Patentanspruchs hergestellt. Dabei besitzt
ein optisches Interferenzschichtsystem, das aus einer oder mehreren
übereinander angeordneten dielektrischen und/oder metallischen
Schichten besteht, vorteilhafterweise einen Schichthalter, der die optische
Funktionsfläche des Schichtsystems frei läßt und nur in der Randzone des
Schichtsystems mit diesem verbunden ist. In diesem Bereich sind also nur
die zur Interferenz erforderlichen Schichten des freitragend angeordneten
Schichtpakets optisch wirksam. Es ist günstig, den Schichthalter als
Glasring auszubilden.
Bei der Realisierung der Erfindung stellt sich heraus, daß durch solche
Bauelemente ganz neue technische Möglichkeiten entstehen, die dadurch
begründet sind, daß das optische Bauelement durch seine äußerst geringe
Masse gestattet, als hochempfindlicher Sensor eingesetzt zu werden. Zum
Beispiel kann ein Lichtstrahl, der von einem solchen Bauelement
reflektiert wird, außerordentlich empfindlich Schallwellen registrieren,
die eine derartige optische Membran zum Schwingen bringen.
Hauptursache ihr die scheinbare Undurchführbarkeit des
Erfindungsgedankens ist die nach dem Stand der Technik übliche Praxis,
das Interferenzschichtsystem im Herstellungsprozeß, der meist im
Hochvakuum stattfindet, möglichst komplett zu erzeugen, damit die
angewandten in-situ-Kontrolltechniken, die meist selbst
Interferenzmethoden sind, eine sichere und reproduzierbare Produktion
ermöglichen. Dieses Herstellungsverfahren zielt deshalb immer auf das
Übereinanderbringen von chemisch abgesättigten Schichten ab, deren
Zusammenhalt sowohl vertikal als auch horizontal praktisch nur durch
van-der-Waals-Kräfte besorgt wird, wobei alle geschilderten nachteiligen
Konsequenzen auftreten.
Die Erfindung beschreitet nun einen anderen Weg. Die das
Schichtsystem erzeugenden Moleküle werden nicht beim
Herstellungsprozeß im Hochvakuum abgesättigt, sondern ihre chemische
Affinität wird dadurch erhalten, daß bei einem weiteren technologischen
Schritt eine allgemeine Reaktion dafür sorgt, daß das ganze Schichtpaket
vertikal und horizontal durch chemische Bindungen verbunden (vernetzt)
wird. Diese chemische Verbindung verleiht dem Interferenzschichtsystem
die nötige Stabilität, so daß hiermit tatsächlich manipuliert werden kann
und freitragende interferenzoptische Bauelemente herstellbar sind.
Die Erfindung soll an einem bisher sehr schwierigen Problem der
Interferenzschichtenoptik unter Zuhilfenahme der schematischen
Fig. 1 und 2 erläutert werden.
Dabei zeigen:,
Fig. 1 die verlustfreie Teilung eines Lichtstrahls,
Fig. 2 die Intensitätsverteilung der Lichtanteile.
Ein monochromatischer Lichtstrahl, z. B. ein Laserstrahl, soll an einer um
45° geneigten Fläche F im Intensitätsverhältnis 1 : 1 durch ein
dielektrisches Schichtsystem praktisch verlustfrei geteilt werden. Dabei
muß diese 1 : 1-Teilung für beide möglichen Polarisationsschwingungen P
und S realisiert, also Rp = Rs = 50% und Tp = Ts = 50% sein (Fig. 1). Nun läßt
sich zeigen, daß für die im sichtbaren Spektrum technisch realisierbaren
Schichtbrechzahlen eine Lösung des oben genannten Problems existiert,
wenn das Schichtsystem freitragend und gewissermaßen symmetrisch in
das Außenmedium Luft eingebettet ist (Fig. 2).
Dabei sind λ die Wellenlänge des monochromatischen Lichtes; k1 = 1,13
und k2 = 1,05. Die Brechzahlen von SiO2 und TiO2 sind bekanntlich in
gewissen Grenzen einstellbar, wenn man den Sauerstoffanteil der Oxide
verändert.
Die Darstellung dieses oder anderer Systeme gelingt nun dadurch, daß
die Herstellung des Schichtpaktetes aus SiO2 und TiO2 im Hochvakuum
durch die Verdampfung der Suboxide SiO und TiO in einer
Wasserdampf-Restgasatmosphäre bei ca. 10-2 Pa bei
Schichtträgertemperaturen um 20°C erfolgt. Vor dem Aufdampfen des
eigentlichen Schichtpaketes wird eine wasserlösliche Unterlagenschicht
aus Natriumchlorid oder Kaliumbromid auf den Schichtträger, der
z. B. aus Glas besteht, aufgebracht, die ein leichteres nachfolgendes
Ablösen des Schichtpaketes vom Schichtträger ermöglicht.
Durch die Anwesenheit des Wasserdampfes während der Verdampfung
bilden sich mit den Suboxiden SiO und TiO Hydroxide, die die
Reaktionsbereitschaft des Schichtpaketes gewissermaßen konservieren.
Nach dem Belüften tempert man den Schichtträger bei 400°C und
erreicht dadurch die o. g. Vernetzung. Anschließend klebt man mit Hilfe
eines Epoxidharzes auf das Schichtpaket den, z. B. ringförmigen Halter,
der ebenfalls aus Glas bestehen kann, und gibt das so präparierte System
in destilliertes Wasser. Dabei löst sich die Natriumchlorid- oder
Kaliumbromidunterlage auf und das Schichtpaket kann mit dem
Schichthalter zusammen vom Schichtträger abgezogen werden.
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung eines optischen Interferenzschichtsystems,
dadurch gekennzeichnet, daß auf einen durchgehenden Schichtträger
eine lösliche Unterlagenschicht aufgebracht wird, daß auf die
Unterlagenschicht bei einer Schichtträgertemperatur von etwa 20°C ein
Schichtpaket aus Suboxiden in einer Wasserdampfatmosphäre bei etwa
10-2 Pa abgeschieden wird, daß das auf diese Weise gewonnene
Schichtsystem bei etwa 400°C unter Luft oder Sauerstoff getempert
wird, daß danach ein die optische Funktionsfläche des Schichtsystems
freilassender Schichthalter auf das Schichtpaket aufgeklebt wird und
daß schließlich das Schichtpaket vom Schichtträger durch Auflösen
der Unterlagenschicht getrennt wird.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Unterlagenschicht aus Natriumchlorid oder Kaliumchlorid besteht.
3. Verfahren gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der
Schichtträger aus Glas besteht.
4. Verfahren gemäß mindestens einem der voranstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß der Schichthalter ein Glasring ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4124937A DE4124937C2 (de) | 1990-09-21 | 1991-07-27 | Verfahren zur Herstellung eines optischen Interferenzschichtsystems |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4029945 | 1990-09-21 | ||
DE4124937A DE4124937C2 (de) | 1990-09-21 | 1991-07-27 | Verfahren zur Herstellung eines optischen Interferenzschichtsystems |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4124937A1 DE4124937A1 (de) | 1992-03-26 |
DE4124937C2 true DE4124937C2 (de) | 1999-08-26 |
Family
ID=6414702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4124937A Expired - Fee Related DE4124937C2 (de) | 1990-09-21 | 1991-07-27 | Verfahren zur Herstellung eines optischen Interferenzschichtsystems |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4124937C2 (de) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5729323A (en) * | 1994-07-29 | 1998-03-17 | Baush & Lomb Incorporated | Light-absorbing and anti-reflective coating for sunglasses |
DE19606812C2 (de) * | 1996-02-23 | 2000-01-20 | O I B Gmbh Optische Interferen | Verfahren zur Herstellung von interferenzoptischen Bauteilen und nach dem Verfahren hergestelltes Bauteil |
US6785052B2 (en) * | 2001-05-21 | 2004-08-31 | Jds Uniphase Corporation | Stress free and thermally stabilized dielectric fiber |
CA2386991A1 (en) * | 2001-05-21 | 2002-11-21 | Jds Uniphase Corporation | Stress free and thermally stabilized dielectric filter |
CN100504456C (zh) * | 2001-11-14 | 2009-06-24 | Jds尤尼费斯公司 | 无应力和热稳定的介质滤波器 |
CN103691962B (zh) * | 2013-12-20 | 2016-06-01 | 中山大学 | 一种尺寸可控的金属纳米颗粒的制备方法 |
CN104148656B (zh) * | 2014-07-14 | 2016-04-06 | 中山大学 | 一种片状铜粉的制备方法 |
CN104148655B (zh) * | 2014-07-14 | 2016-04-06 | 中山大学 | 一种片状银粉的绿色制备方法 |
EP3699648A1 (de) | 2019-02-22 | 2020-08-26 | Carl Zeiss Vision International GmbH | Interferenzschichtsystem ohne trägersubstrat, verfahren zur herstellung desselben und dessen verwendung |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3039362A (en) * | 1958-05-09 | 1962-06-19 | Ca Nat Research Council | Narrow band interference filter |
US4373775A (en) * | 1980-06-23 | 1983-02-15 | International Telephone And Telegraph Corporation | Fiber dichroic coupler |
JPS63189802A (ja) * | 1987-02-02 | 1988-08-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光結合部品 |
EP0442801A2 (de) * | 1990-02-13 | 1991-08-21 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Herstellungsverfahren von dielektrischen Vielschichtenfiltern |
-
1991
- 1991-07-27 DE DE4124937A patent/DE4124937C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3039362A (en) * | 1958-05-09 | 1962-06-19 | Ca Nat Research Council | Narrow band interference filter |
US4373775A (en) * | 1980-06-23 | 1983-02-15 | International Telephone And Telegraph Corporation | Fiber dichroic coupler |
JPS63189802A (ja) * | 1987-02-02 | 1988-08-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光結合部品 |
EP0442801A2 (de) * | 1990-02-13 | 1991-08-21 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Herstellungsverfahren von dielektrischen Vielschichtenfiltern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4124937A1 (de) | 1992-03-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2912943A1 (de) | Infrarot-reflektor | |
DE3611852C2 (de) | ||
DE3520813C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines integrierten optischen Lichtwellenleiters und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE4124937C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines optischen Interferenzschichtsystems | |
DE68925018T2 (de) | Verfahren zum Lichtbogen-Spleissen von hermetisch ummantelten optischen Fasern. | |
DE2538982A1 (de) | Verfahren zum ueberziehen einer linse aus synthetischen polymer mit einer dauerhaften, abriebfesten, glasartigen zusammensetzung | |
DE102009055303B4 (de) | Verbundsubstrat und Verfahren zur Ausbildung eines Metallmusters | |
CH659714A5 (de) | Verfahren zur herstellung eines dichroitischen duennfilmelements fuer einen wellenlaengenabhaengigen optischen zweirichtungskoppler. | |
EP0308602A2 (de) | Vergrabener doppelbrechender optischer Wellenleiter oder Struktur aus solchen Wellenleitern sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen Wellenleiters oder einer solchen Struktur | |
EP0559040A1 (de) | Verfahren zur Herstellung optoelektronischer Bauelemente | |
DE3909654C2 (de) | Reflexionsvermindernder Film für optische Teile aus Kunststoff | |
DE3436618C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte für Anzeigevorrichtungen | |
DE68910615T2 (de) | Magnetkopf. | |
DE537692T1 (de) | Verfahren zum herstellen optisch aktiver einmodenstreifenwellenleitern fuer optische nachrichtenuebertragung. | |
DE3421833C2 (de) | ||
DE4321301A1 (de) | Dünne Schicht aus Galliumoxid und Herstellverfahren dafür | |
DE2133129C3 (de) | Hygroskopischer Kristall mit einer gut haftenden Deckschicht, vorzugsweise einer Vergütungs- oder Spiegelschicht | |
DE3902456A1 (de) | Verbundstruktur optischer materialien | |
JPH03233501A (ja) | 光学多層膜フイルタ素子及びその製造方法 | |
DE2238097A1 (de) | Optisches element | |
DE2548904C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von lichtfiltrierendem, Wärme bzw. Radiostrahlen reflektierendem oder elektrisch beheizbarem organischen Triplexglas | |
DE2936483A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines plattenfoermigen lichtwellen-verzoegerers | |
DE3134905C2 (de) | ||
DE1244345B (de) | Verfahren zum Biegen von Glasplatten | |
DE4311564C2 (de) | Doppelbrechendes optisches Bauteil |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: G02B 5/28 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |