DE3872502T2 - Glasartiger film und diesen verwendendes, im waermeverfahren arbeitendes optisches aufnahmemedium. - Google Patents
Glasartiger film und diesen verwendendes, im waermeverfahren arbeitendes optisches aufnahmemedium.Info
- Publication number
- DE3872502T2 DE3872502T2 DE8888121734T DE3872502T DE3872502T2 DE 3872502 T2 DE3872502 T2 DE 3872502T2 DE 8888121734 T DE8888121734 T DE 8888121734T DE 3872502 T DE3872502 T DE 3872502T DE 3872502 T2 DE3872502 T2 DE 3872502T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- film
- glass
- evaporation
- glassy
- optical recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 claims description 5
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 68
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 35
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 35
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L difluorolead Chemical compound F[Pb]F FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L stannous fluoride Chemical compound F[Sn]F ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/23—Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron
- C03C3/247—Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron containing fluorine and phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24302—Metals or metalloids
- G11B2007/24312—Metals or metalloids group 14 elements (e.g. Si, Ge, Sn)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24318—Non-metallic elements
- G11B2007/2432—Oxygen
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24318—Non-metallic elements
- G11B2007/24326—Halides (F, CI, Br...)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2531—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising glass
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2532—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising metals
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/913—Material designed to be responsive to temperature, light, moisture
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
- Y10T428/24917—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft einen auf einem Substrat aus Glas, Metall oder dergleichen gebildeten glasigen Film. Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein optisches Wärme-Aufzeichnungsmedium.
- Es gibt eine bekannte Methode zur Bildung eines Glasfilms auf einem Substrat aus verschiedenen Materialien wie Glas, Metall, Kunststoff und Keramik.
- Ein erstes Verfahren ist eines, welches Vakuum-Aufdampfung verwendet. Ein als die Verdampfungsquelle verwendetes Glasmaterial kann beispielsweise das bekannte No. 8329-Glas von Schott Inc. sein, welches mittels Elektronenstrahlverfahren einer Verdampfung unterzogen wird, um einen Film zur Verbesserung der chemischen Beständigkeit und des Verschleißwiderstands eines Substrats zu bilden (Schott Inc.'s Druckschrift: Glass 8329 for evaporation). Weiterhin kann anstelle des Elektronenstrahlverfahrens häufig auch das Widerstandsheizverfahren eingesetzt werden, bei dem eine Verdampfungsquelle auf einem Schiffchen aus Mo, Ta, W und dergleichen durch Stromleitung erhitzt wird, um eine Verdampfung zu bewirken.
- Ein zweites Verfahren, welches anstelle von Aufdampfung eingesetzt wird, kann eines unter Verwendung eines Hochfrequenz-Zerstäubungsverfahrens sein, bei dem Ar-Gas mit einem Hochfrequenzausgangssignal beaufschlagt und veranlaßt wird, auf ein Target zur Bildung eines Films auf einem Substrat aufzutreffen. Ein bekanntes Beispiel für das Targetmaterial kann Corning 7059 (Glas-Kode) sein. Das 7059-Glas kann einen aufgestäubten Film mit einem Brechungsindex von 1,544 (λ = 0,6328 Micrometer) liefern, so daß es möglich ist, einen Glasfilm-Wellenleiter unter Verwendung eines Substrats aus Quarz, Pyrex oder Sodaglas zu bilden.
- Allerdings haben oben beschriebene Glasmaterialien, die üblicherweise als Verdampfungsquelle oder Target eingesetzt wurden, folgende Nachteile.
- (1) Die Glaserweichungstemperatur ist hoch, so daß eine hohe Energie für die Verdampfung erforderlich ist (Erweichungstemperatur: 960º C für "8329", 844º C für "7059"). Im Fall der Verdampfung mittels Elektronenstrahl, beispielsweise, sind ein Hochleistungsstrahl und eine erhöhte Pumpenkapazität erforderlich, um eine große Filmbildungsgeschwindigkeit zu erzielen. Weiterhin sind im Fall des Widerstandsheizverfahrens ein starker Strom und hohe Spannung zum Heraufsetzen der Heiztemperatur sowie in ähnlicher Weise eine erhöhte Pumpleistung ertorderlich. Diese Tendenzen werden bei einer höheren Erweichungstemperatur noch verstärkt.
- (2) Glasarten, die man als Filme ausbilden kann, sind beschränkt, so daß noch kein Glasfilm mit einem hohen Brechungsindex erhalten worden ist. (Brechungsindex eines Glasfilms: nd = 1,47 for "8329", n0,6328 = 1,544 für "7059".) Schott "8329" und Corning "7059" enthalten als Hauptkomponenten SiO&sub2; und B&sub2;O&sub3;, die nicht zur Erhöhung des Brechungsindex beitragen. Weiterhin wurden praktisch keine Glasmaterialien außer den zwei oben angegebenen Glasmaterialarten zur Filmbildung eingesetzt, so daß praktisch kein Raum für die Auswahl des Brechungsindex eines Films vorhanden ist.
- Ein Hauptziel der vorliegenden Erfindung ist es, die oben erwähnten Probleme des Standes der Technik zu lösen und einen glasigen Film anzugeben, der sich einfach herstellen läßt und einen hohen Brechungsindex aufweist.
- Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, ein optisches Wärmeaufzeichnungsmedium anzugeben, welches einfach herstellbar und in der Lage ist, bei geringer optischer Energie eine Wärmeaufzeichnung vorzunehmen.
- Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, ein optisches Wärme-Aufzeichnungsmedium anzugeben, welches sich durch hervorragende mechanische und chemische Beständigkeit auszeichnet.
- Gemäß der Erfindung wird ein auf einem Substrat gebildeter glasiger Film geschaffen, der als prinzipielle Elemente Sn, P, Pb, O und F enthält.
- Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung kann eine lichtabsorbierende Substanz weiterhin in einem derartigen glasigen Film enthalten sein, um ein optisches Wärme- Aufzeichnungsmedium zu erhalten.
- Der glasige Film gemäß der Erfindung setzt sich zusammen aus einem Glasmaterial, welches durch Niederschlag aus der Dampfphase einschließlich Aufdampfen und Aufstäuben leicht zu einem Film gebildet werden kann. Außerdem weist der so gebildete glasige Film einen hohen Brechungsindex von mehr als 1,65 auf.
- Es war übrigens bekannt, daß Gläser des Pb-Sn-P-O-F-Systems einen niedrigen Schmelzpunkt aufweisen, und sie zur Verwendung als Direktformungsmaterial für asphärische Linsen vorgesehen wurden (z. B., Physics and Chemistry of Glasses, Band 25, Nr. 6, Dezember 1984). Es war allerdings nicht bekannt, daß das Aufdampfen oder Aufstäuben eines Glases dieses Systems zu einem optischen Film mit einem relativ hohen Brechungsindex und guter chemischer Beständigkeit führt, oder es wurde keine Untersuchung bezüglich der Möglichkeit extensiver Verfügbarkeit und Entwicklung eines solchen Films gemacht. Die vorliegende Erfindung basiert auf der Entdeckung, daß ein Pb-Sn-P-O-F- Glas ein Material ist, welches sich zur Schaffung eines Films mit hervorragenden optischen Eigenschaften einschließlich eines hohen Brechungsindex eignet.
- Der erfindungsgemäße glasige Film kann vorzugsweise eine Dicke von 40 um oder darunter, insbesondere 10 Mikrometer oder weniger, aufweisen. Der glasige Film kann vorzugsweise eine Dicke von 10 nm oder darüber besitzen.
- Der glasige Film kann in geeigneter Weise prinzipielle Komponenten einschließlich 30 - 90 Gew.-% Sn, 1 - 20 Gew.-% P, 0,1 - 20 Gew.-% Pb, 2 - 30 Gew.-% O und 5 - 35 Gew.-% F enthalten. Der bevorzugte F-Anteil kann 5 - 25 Gew.-% betragen, und der bevorzugte Sn-Anteil kann 50 - 80 Gew.-% betragen. Weiterhin ist es zweckmäßig, daß der Gesamtanteil der prinzipiellen Elemente von Sn, P, Pb, O und F 90 Gew.-% oder mehr beträgt. In anderen Worten, andere glasbildende Elemente und unvermeidliche Verunreinigungen können bis zu insgesamt etwa 10 Gew.-% enthalten sein.
- Das Substrat, auf dem der erfindungsgemäße glasige Film gebildet ist, kann Glas, Metall, Kunststoff, Keramik oder ein Verbundmaterial aus diesen Stoffen enthalten.
- Der glasige Film gemäß der Erfindung kann wirksam eingesetzt werden nicht nur als Glas-Wellenleiter und als Oberflächenschutzfilm, sondern auch als optisches Wärme-Aufzeichnungsmedium. Hier bedeutet der Ausdruck "optisches Wärme-Aufzeichungsmedium" ein Medium, welches eine Aufzeichnungsschicht enthält, die bei Bestrahlung mit einem Lichtstrahl den Lichtstrahl absorbiert, um Wärme zu erzeugen, und eine thermische Änderung durch die Wärme an dem bestrahlten Abschnitt bewirkt, um eine Aufzeichnung zu erzeugen. Die thermische Änderung kann beispielsweise die Bildung einer Vertiefung durch lokales Schmelzen oder Verdampfen der Aufzeichnungsschicht oder lokale Verfärbung der Aufzeichnungsschicht sein.
- Wenn die erfindungsgemäße glasige Schicht als optisches Wärme-Aufzeichnungsmedium verwendet wird, kann in dem glasigen Film zweckmäßigerweise eine lichtabsorbierende Substanz enthalten sein.
- Effektive Beispiele für die lichtabsorbierende Substanz umfassen zweckmäßigerweise organische Färbemittel, wie zum Beispiel organische Farbstoffe und organische Pigmente, die eine Absorption im Infrarot-Wellenlängenbereich zeigen.
- Die lichtabsorbierende Substanz kann in geeigneter Weise in dem glasigen Film in einem Anteil von 1 - 80 Gew.-% bezüglich 100 Gewichtsteilen der glasbildenden Komponenten enthalten sein, vorzugsweise 1 - 50 Gewichtsteile pro 100 Gewichtsteile der glasbildenden Elemente im Hinblick auf die gewünschte mechanische Festigkeit des glasigen Films.
- Das so gemäß der Erfindung gebildete optische Wärme-Aufzeichnungsmedium weist folgende Vorteile auf.
- Der glasige Film kann bei einer relativ niedrigen Temperatur gebildet werden, so daß die lichtabsorbierende Aufzeichnungsschicht gleichzeitig gebildet werden kann, wodurch gleichzeitig ein optisches Aufzeichnungsmedium mit einer ausreichend guten chemischen Beständigkeit geschaffen wird. Der glasige Film besitzt einen Brechungsindex, der ausreichend hoch bezüglich demjenigen eines gewöhnlichen Substratmaterials ist, so daß zwischen dem Substrat und dem Film im Zeitpunkt der Aufzeichnung leicht eine Mehrfachreflexion auftreten kann. Als Folge läßt sich eine höhere Aufzeichnungsgeschwindigkeit erreichen.
- Im folgenden wird die vorliegende Erfindung im einzelnen unter Bezugnahme auf Beispiele erläutert.
- Etwa 300 g Ausgangsstoffe (SnF&sub2;, PbF&sub2; und P&sub2;O&sub5;), die zur Schaffung einer in der unten angegebenen Tabelle 1 gezeigten Zusammensetzung (a) formuliert wurden, wurden mit etwa 10 Gew.-% NH&sub4;F HF für atmosphärische Konditionierung zwecks Aufbereitung einer Charge gemischt. Die so vorbereiteten 300 g der Charge wurden in einen etwa 300 ml fassenden Tiegel aus Kieselerdeglas eingebracht und 1,5 Stunden in einem auf 460º C gehaltenen Elektroofen geschmolzen. Die geschmolzene Charge wurde dann zur Ausbildung zu einem dünnen transparenten Glas auf eine wassergekühlte Wanne aus rostfreiem Stahl gegossen. Das gegossene Glas zeigte bei einer chemischen Analyse die in Tabelle 1 gezeigte Zusammensetzung (b). Weiterhin zeigte das gegossene Glas als Ergebnis der TMA-Messung (thermisch-mechanische Analyse) eine Erweichungstemperatur von 105º C.
- Ein Teil der so erhaltenen Glaszusammensetzung (b) wurde einem Vakuumaufdampftest mit Hilfe des Widerstandsheizverfahrens unterzogen. Speziell wurden etwa 0,5 g der Glaszusammensetzung (b) in ein kastenförmiges Aufheizschiffchen aus Ta abgewogen und auf eine 1 mm dicke, 2,54 x 2,54 cm (1 Quadratzoll-) Quarzglasplatte aufgedampft. Die Aufdampfung ertolgte unter drei Bedingungen, einschließlich Nr. 1 mit hoher Filmbildungsgeschwindigkeit von etwa 5 nm/s, Nr. 2 mit mittlerer Filmbildungsgeschwindigkeit von etwa 1,5 nm/s, und Nr. 3 mit relativ geringer Filmbildungsgeschwindigkeit von etwa 0,2 nm/s durch Einstellen der an das Aufheizschiffchen angelegten Spannungen. Die Verdampfungszeit betrug in jedem Fall 5 Minuten. Als Ergebnis wurde ein aufgedampfter Film mit einer Dicke von etwa 1,4 Mikrometer unter der Aufdampfbedingung Nr. 1 und mit einer Dicke von etwa 0,4 Mikrometer bzw. 0,5 Mikroineter unter den Bedingungen Nr. 2 bzw. Nr. 3 gebildet. (Die erhaltenen aufgedampften Filme wurden jeweils mit Aufdampffilmen Nr. 1, Nr. 2 bzw. 3 bezeichnet.) Die so erhaltenen Aufdampffilme 1, 2 und 3 waren sämtlich transparent, zeigten Einfärbungen in Grau-Braun, Braun bzw. Blassgelb und besaßen Brechungsindizes (nd) von 1,83, 1,81 bzw. 1,79.
- Bei der chemischen Analyse zeigten die Aufdampfungsfilme die jeweils in Tabelle 2 angegebenen Zusammensetzungen. Tabelle 2 zeigt, daß die Filmzusammensetzung sich abhängig von den Filmbildungs-Bedingungen ändert, jedoch sämtliche Komponenten in den Verdampfungsquellen in den Aufdampfungsfilmen zusätzlich zu einer Verunreinigung Si enthalten waren.
- Weiterhin zeigte die Röntgenstrahlanalyse der Aufdampfungsfilme 1, 2 und 3, daß die Aufdampfungsfilme 1 und 2 Mikrokristalle aus Sn&sub2;P&sub2;O&sub7; und PbH&sub2;P&sub2;O&sub5; enthielten, jedoch keine Metallphase von Sn oder Pb festgestellt wurde. Der Verdampfungsfilm 3 war zu dünn, so daß das Vorhandensein oder das Fehlen von Kristallen nicht identifiziert werden konnte.
- Aus den obigen Ergebnissen, die zeigen, daß die Verdampfungsfilme 1 und 2 einen großen Anteil F enthielten, jedoch keine Fluorkristalle vorhanden waren, wird gefolgert, daß F in der Glasstruktur eingebaut war. Tabelle 1 Glasbildungs-Komponenten (Gew.-%) Tabelle 2 Aufdampfungsfilm Filmbildungs-Komponenten (Gew.-%) sonst
- Der in Beispiel 1 hergestellte Aufdampfungsfilm 1 wurde mit einem Elektronenstrahl von einem Elektronenstrahl- Mikroanalysator unter den Bedingungen einer Beschleunigungsspannung von 15 kV, einem Probenstrom von 0,02 uA und einem fokussierten Elektronenstrahldurchmesser von etwa 2 um bestrahlt. Bei zwei Sekunden andauernder Bestrahlung verformten sich die Verdampfungsfilme ohne weiteres, was zu einer Vertiefung mit einem Durchmesser von etwa 2 Mikrometer führte.
- Die mit Verdampfungsfilmen 1, 2 und 3 beschichteten Ein- Quadratzoll-Substrate wurden eine Woche lang in einer Umgebung von 50º C und 98 % relativer Luftfeuchtigkeit stehengelassen, wobei keine Korrosion der Filmoberflächen beobachtet wurde und der Gewichtsverlust jeweils unter 0,01 %, das heißt innerhalb des Meßfehlerbereichs lag.
- Eine Verdampfung aus zwei Quellen wurde bewirkt, indem ein Teil der in Beispiel 1 zubereiteten Glaszusammensetzung (b) und Cu-Phthalocyanin als lichtabsorbierende Substanz eines organischen Färbemittels und das Widerstandheizverfahren verwendet wurden. Die Auf dampfung erfolgte auf einem transparenten, 1 mm dicken, 2,54 x 6,25 cm- (1 x 2,5- Zoll-) Substrat aus PMMA (Polymethylmethacrylat), und es wurden zwei kästchenförmige Ta-Heizschiffchen verwendet.
- Auf einem Ta-Schiffchen (Verdampfungsquelle 1) wurde eine 0,5-g-Probe der Glaszusammensetzung (b) plaziert, auf dem anderen Ta-Schiffchen (Verdampfungsquelle 2) wurden 0,2 g Kupferphthalocyanin plaziert. Dann wurde das System evakuiert, bis - bei Beginn der Aufdampfung - auf ein Vakuum von etwa 5 x 10&supmin;&sup5; Torr. An die Schiffchen beider Verdampfungsquellen 1 und 2 angelegte Spannungen wurden gesteuert, um eine Filmbildungsgeschwindigkeit von etwa 0,3 nm/s zu erreichen, wodurch nach 5 Minuten der Verdampfung aus den zwei Quellen ein etwa 0,1 Mikrometer dicker, blauer transparenter Aufdampfungsfilm erhalten.
- Dann wurde der Aufdampfungsfilm unter Verwendung eines Laserstrahls einem Aufzeichnungsexperiment unterzogen, bei dem eine 30 mW-Leistungs-LD (Leuchtdiode) mit einer Emissionsspitze bei 830 nm verwendet und der Lichtstrom auf einen Durchmesser von 1,0 Mikrometer fokussiert wurde (was zu einem Meß-Ausgangssignal auf dem Film von 6 mW als Ergebnis einer vorläufigen Messung führte). Der oben zubereitete blaue transparente Film wurde mit dem Laserstrahl an drei Abschnitten bei einer Bestrahlungszeit von 0,5 Mikrosekunden für jeden Abschnitt bestrahlt. Als Ergebnis der Betrachtung der mit Laser bestrahlten Abschnitte durch ein Mikroskop zeigte sich, daß jeder Abschnitt in Transparenz entfärbt worden war und eine runde Vertiefung entstanden war. Die Durchmesser der Vertiefungen betrugen 1,1 um, 1,2 um und 1,1 um, was zeigte, daß jeweils Vertiefungen mit Durchmessern von im wesentlichen demjenigen des Laserstrahls bei einer verringerten Filmdicke von etwa 0,03 um gebildet wurden.
- Es wurde die Verdampfung aus zwei Quellen in der gleichen Weise wie in Beispiel 4 wiederholt, mit der Ausnahme, daß jeweils als lichtabsorbierende Substanz Dithiolnickelkomplex und Naphthochinon-Farbstoff verwendet wurden, wodurch erstere eine grüntransparente Aufdampfungsschicht bildete, während letztere einen brauntransparenten Aufdampfungsfilm ergab, jeweils bei einer Dicke von etwa 0,1 um.
- Diese Aufdampfungsfilme wurden einem Aufzeichnungsexperiment unter Verwendung eines He-Ne-Lasers (Leistung: 5 mW) mit einer Wellenlänge von 633 nm als Lichtquelle unterzogen. Der Lichtfluß wurde auf einem Durchmesser von 1,0 um auf den Aufdampfungsfilmen fokussiert, um drei Abschnitte jedes der Filme mit einer Bestrahlungszeit von 10 usec für jeden Abschnitt zu bestrahlen. Als Ergebnis der mikroskopischen Beobachtung der mit Laser bestrahlten Abschnitte zeigte sich eine Entfärbung sowie eine Vertiefungs-Bildung in jedem Abschnitt. Die Vertiefungs-Durchmesser lagen sämtlich in dem Bereich von 1,1 bis 1,3 um, und die erhaltene Minimal-Filmdicke betrug an den Vertiefungsstellen etwa 0,03 um.
- 0,5 g der in Beispiel 1 zubereiteten Glaszusammensetzung und 0,4 g Kupfer-Phthalocyanin wurden abgewogen und miteinander gemischt, nachdem das Glas in der Größenordnung von 100 Maschen pulverisiert worden war. Die sich ergebende Pulvergemischprobe wurde auf ein Ta-Schiffchen aufgebracht und in einem Einzelquellen-Aufdampfungstest verwendet.
- Die Aufdampfung erfolgte bei einer Filmbildungsgeschwindigkeit von etwa 0,4 nm/s durch Steuern der angelegten Spannung, wodurch nach 4 Minuten Aufdampfung eine etwa 0,11 um dicke, blau-transparente Aufdampfungsschicht erhalten wurde.
- Unter Verwendung des ansonsten wie im Beispiel 1 hergestellten Aufdampfungsfilms wurde ein Aufzeichnungstest durchgeführt. Als ein Ergebnis der mikroskopischen Beobachtung wurde die Bildung von farblosen transparenten Vertiefungen mit einem Durchmesser von 1,1 bis 2 um und einer verringerten minimalen Dicke von etwa 0,03 um beobachtet.
- Die mit den Aufdampfungsfilmen überzogenen und der Vertiefungs-Bildung unterzogenen Substrate nach Beispielen 4, 5 und 6 wurden in einer Umgebung von 50º C und 98 % relativer Luftfeuchtigkeit stehengelassen, wobei keine Korrosion an irgendeinem der Filme beobachtet wurde und der Gewichtsverlust jeweils unter 0,01 %, das heißt innerhalb des Meßfehlerbereichs lag.
Claims (8)
1. Glasiger Film, der auf einem Substrat gebildet ist,
enthaltend Sn, P, Pb, O und F als prinzipielle Elemente.
2. Glasiger Film nach Anspruch 1,
enthaltend, in Gewichtsprozent,
- 30 - 90 Sn,
- 1 - 20 P,
- 0,1 - 20 Pb,
- 2 - 30 O,
- 5 - 35 F.
3. Glasiger Film nach Anspruch 1,
enthaltend, in Gewichtsprozent,
- 5 - 25 F.
4. Glasiger Film nach Anspruch 1,
der einen Brechungsindex von mehr als 1,65 besitzt.
5. Glasiger Film nach Anspruch 1,
der durch Dampfniederschlag hergestellt worden ist.
6. Optisches Aufzeichnungsmedium vom Wärmetyp,
umfassend
- eine Aufzeichnungseinheit in Form einer glasigen Schicht,
die Sn, P, Pb, O und F als prinzipielle glasbildende
Elemente und eine lichtabsorbierende Substanz enthält.
7. Optisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6,
bei dem die Aufzeichnungsschicht 1 - 80 Gewichtsteile
der lichtabsorbierenden Substanz pro 100 Gewichtsteile der
glasbildenden Elemente insgesamt enthält, wobei letztere,
in Gewichtsprozent, zugegen sind mit
- 30 - 90 Sn,
- 1 - 20 P,
- 0,1 - 20 Pb,
- 2 - 30 O,
- 5 - 35 F.
8. Optisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6,
bei dem die Aufzeichnungsschicht durch
Dampfniederschlag erzeugt worden ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62334990A JPH01176245A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | ガラス状薄膜 |
JP63311464A JPH02155789A (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | ヒートモード光記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3872502D1 DE3872502D1 (de) | 1992-08-06 |
DE3872502T2 true DE3872502T2 (de) | 1993-02-11 |
Family
ID=26566744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE8888121734T Expired - Fee Related DE3872502T2 (de) | 1987-12-28 | 1988-12-27 | Glasartiger film und diesen verwendendes, im waermeverfahren arbeitendes optisches aufnahmemedium. |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4946724A (de) |
EP (1) | EP0322867B1 (de) |
DE (1) | DE3872502T2 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03256240A (ja) * | 1990-03-06 | 1991-11-14 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体 |
CN1274338A (zh) * | 1997-10-02 | 2000-11-22 | 康宁股份有限公司 | 低温玻璃中的光致折射率变化 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4314031A (en) * | 1980-06-17 | 1982-02-02 | Corning Glass Works | Tin-phosphorus oxyfluoride glasses |
JPS5764596A (en) * | 1980-10-06 | 1982-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heat mode recording material |
US4529991A (en) * | 1981-05-20 | 1985-07-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for copying optical information |
JPS57189894A (en) * | 1981-05-20 | 1982-11-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Thermal recording material |
US4379070A (en) * | 1982-04-26 | 1983-04-05 | Corning Glass Works | Tin-phosphorus oxyfluoride glass containing aromatic organic compound |
JPS599094A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-18 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 情報記録用部材 |
US4405724A (en) * | 1982-11-04 | 1983-09-20 | Corning Glass Works | Mercury thallium fluorophosphate glasses |
-
1988
- 1988-12-27 US US07/290,699 patent/US4946724A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-27 EP EP88121734A patent/EP0322867B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-27 DE DE8888121734T patent/DE3872502T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4946724A (en) | 1990-08-07 |
DE3872502D1 (de) | 1992-08-06 |
EP0322867B1 (de) | 1992-07-01 |
EP0322867A3 (en) | 1990-07-18 |
EP0322867A2 (de) | 1989-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69308701T2 (de) | Transparente kristallisierte Glaskeramik mit geringem Ausdehnungskoeffizienten | |
DE4013392C2 (de) | ||
DE102004008824B4 (de) | Glaskeramik mit geringer Wärmeausdehnung sowie deren Verwendung | |
WO2002008134A1 (de) | Borosilicatglas hoher chemischer beständigkeit und dessen verwendungen | |
US5483628A (en) | Transparent glass-ceramics | |
DE2507656C2 (de) | ||
DE1621002A1 (de) | Infrarotdurchlaessiges,amorphes Glas,das Germanium und Selen enthaelt | |
EP1236695A2 (de) | Glaskeramik | |
DE1421886A1 (de) | Verfahren zur Herstellung keramikaehnlicher Produkte aus Glas durch mikroskopische Kristallisation | |
DE602004005793T2 (de) | Optisches Glas mit niedriger fotoelastischer Konstante | |
US4108673A (en) | Optical phosphate glass in which the length of the light path is temperature independent | |
EP1288171A2 (de) | Optische Farbgläser | |
DE3872502T2 (de) | Glasartiger film und diesen verwendendes, im waermeverfahren arbeitendes optisches aufnahmemedium. | |
DE60300906T2 (de) | Optisches Glas mit anomaler Dispersion | |
US5114813A (en) | Method of forming stable images in electron beam writable glass compositions | |
EP0245297A1 (de) | Optische fluorphosphatgläser. | |
DE69008846T2 (de) | Beschichtung aus der dampfphase eines fluoridglases. | |
DE1924493C3 (de) | Schnell reagierendes phototropes Glas hoher Stabilität auf Borat- oder Borosilikatbasis sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE3037004A1 (de) | Bei niedrigen temperaturen formbare glaeser | |
US3485646A (en) | Glass compositions | |
DE69304980T2 (de) | Blei-enthaltendes Fluoridglas, optische Faser und Verfahren zur deren Herstellung | |
DE69217178T2 (de) | Optisches Glas und optische Linse damit hergestellt | |
Kumar | Formation and properties of glasses in the CaF2 AlF3 P2O5 system | |
DE1696110B1 (de) | Verfahren zur herstellung von glasigen schichten auf substat materialien durch vakuumaufdampfen mittels elektronenstrahlen | |
DE4321301A1 (de) | Dünne Schicht aus Galliumoxid und Herstellverfahren dafür |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: DRES. WESER UND MARTIN, 81245 MUENCHEN |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: WESER & KOLLEGEN, 81245 MUENCHEN |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |