DE3837552A1

DE3837552A1 - Verfahren zur herstellung eines glasprodukts

Info

Publication number: DE3837552A1
Application number: DE3837552A
Authority: DE
Inventors: Kazuo Shibaoka; Takao Miwa; Toshio Akimoto; Noriaki Eto
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 1987-11-06
Filing date: 1988-11-04
Publication date: 1989-05-18
Anticipated expiration: 2008-11-05
Also published as: BE1001883A5; GB8825884D0; GB2213143A; DE3837552C2; FR2622881A1; US4891055A; GB2213143B; FR2622881B1

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Glasproduktes, das eine glatte Oberfläche besitzt. Sie betrifft speziell ein Verfahren zur Herstellung eines tiefgezogenen Glasprodukts mit einer teilweise glatten Oberfläche, beispielsweise einer Anzeige-Frontschei be eines Flachprofil-Fernsehers.

Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung einer Frontscheibe für eine Kathodenstrahlröhre wird einem geschmolzenen Glasblock durch Preßgießen eine vorbestimmte Form verliehen, und derjenige Teil des Gußstücks, der eine glatte Oberfläche haben soll, wird poliert. Alternativ wird eine Glasplatte auf eine Form gelegt und erhitzt und dann einer Formgebung durch Vakuumeinwirkung unterzogen.

Da bei dem Preßgießen eines Blocks der geschmolzene Glasblock gegen die Oberfläche einer Form gepreßt wird, bleiben auf der Oberfläche des Glasprodukts Eindrücke zurück. Aus diesem Grund muß der Teil, der eine glatte Oberfläche haben soll, nach dem Gießen poliert werden. Die Folge sind eine Vergrößerung der Zahl der Fertigungs schritte, eine Beeinträchtigung der Produktivität und eine Kostenerhöhung.

Bei der Formgebung mittels Vakuum muß der zu verformende Teil der Glasplatte auf einer höheren Temperatur gehalten werden, da die die Verformung der Glasplatte bewirkende Kraft lediglich eine Vakuumkraft ist. Wenn in diesem Zustand eine Verformung mittels Vakuum durchgeführt wird, verringert sich die Dicke des bei hoher Temperatur zu verformenden Teils beträchtlich. Außerdem bilden sich in der Nähe des zu verformenden Teils der Glasplatte Eindrücke aufgrund des Kontakts mit der Form.

Bei der Verformung mittels Vakuum oder bei einem Verfahren, bei dem eine Glasplatte geschmolzen wird, während sie zwischen einer Formpatrize und einer Formmatrize eingespannt ist, wird der flache Bereich der Glasplatte aufgrund ihrer Schwerkraft unvermeidlich gebogen, wenn sie auf die Formmatrize gelegt und erhitzt wird.

Bei einem Verfahren, bei dem eine Glasplatte zwischen einer Formpatrize und einer Formmatrize eingespannt ist und erhitzt und geformt wird, wirkt andererseits stets eine Scherkraft auf die Glasplatte. Aus diesem Grund wird beim Tiefziehen derjenige Teil der Glasplatte, der die Seitenfläche bestimmt, auseinandergezogen, so daß seine Dicke verringert wird. Dadurch wird die mechani sche Festigkeit problematisch. Deshalb läßt sich dieses Verfahren lediglich zum Formen kleiner Produkte, beispiels weise von Fluoreszenzröhren, anwenden.

Den Verfahren, bei denen eine Glasplatte wiedererhitzt und geformt wird, ist das Problem gemeinsam, daß aufgrund ungleichförmiger Temperatur zu Beginn der Abkühlung während des Abkühlens oder während der Biegung nach dem Abkühlen leicht thermische Risse auftreten. Wenn man zur Lösung dieses Problems die Glasplatte vollständig auf dieselbe Temperatur erhitzt wie den zu verformenden Teil, erhält man auf der gesamten Oberfläche des geformten Stücks eine Durchbiegung oder Eindrücke aufgrund der Erhitzung.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die vorangehend diskutierten Probleme zu lösen und ein kostengünstiges Formverfahren zur Herstellung eines tiefgezogenen Teils zur Verfügung zu stellen, das einen hohen Ebenheitsgrad aufweist und frei von Abdrücken ist und bei dem keine Dickenverringerung stattfindet.

Die Lösung dieser Aufgabe ist in Anspruch 1 angegeben.

Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen des Verfahrens gemäß der Erfindung sind Gegenstand der Unteran sprüche, auf die hiermit ausdrücklich verwiesen wird.

Bei dem Verfahren gemäß der Erfindung wird ein eine Seitenwandung bildender Bereich einer Glasplatte durch sein Eigengewicht vorgebogen, während der Bereich, der die glatte Oberfläche bilden soll, auf relativ niedriger Temperatur gehalten wird. Anschließend wird die Glasplatte unter Verwendung der Formmatrize und der Formpatrize gepreßt, um ihr die gewünschte Gestalt zu verleihen. So wird eine Dickenverringerung aufgrund der Ausdehnung beim Formen der Seitenwand vermieden, und es läßt sich unter Verwendung einer Glasplatte ein tiefgezogenes Teil mit einer glatten Oberfläche herstellen, die einen hohen Ebenheitsgrad besitzt und frei von Eindrücken ist.

Im folgenden sei die Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert:

Fig. 1 zeigt eine perspektivische Ansicht eines tiefgezoge nen Glasproduktes,

Fig. 2 zeigt einen Schnitt entsprechend der Linie A-A von Fig. 1,

Fig. 3 zeigt in einem Querschnitt den Zustand, in dem eine Glasplatte auf einer bei einem ersten Ausfüh rungsbeispiel der Erfindung verwendeten Formmatrize plaziert wird,

Fig. 4 zeigt einen Querschnitt einer Formmatrize sowie eine erhitzte Glasplatte, die durch ihr Eigengewicht auf der in Fig. 3 dargestellten Formpatrize verformt wird,

Fig. 5 zeigt in einem Querschnitt einen Zustand, in dem eine Glasplatte auf einer in einem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung verwendete Formpatrize plaziert wird,

Fig. 6 zeigt einen Querschnitt einer Formmatrize und einer Glasplatte, die erhitzt und durch ihr Eigenge wicht auf der in Fig. 5 gezeigten Formpatrize verformt wird,

Fig. 7 zeigt in einem Querschnitt einen Zustand, in dem ein geformtes Glasteil über der in Fig. 5 gezeigten Form in "schwebendem" Zustand gehalten wird,

Fig. 8 zeigt eine schematische Querschnittsansicht einer Vorrichtung, die sowohl bei dem ersten als auch bei dem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung verwendet wird.

Fig. 1 bis 7 zeigen Details des ersten und zweiten Ausfüh rungsbeispiels. Bevor Einzelheiten des ersten und zweiten Ausführungsbeispiels beschrieben werden, sei jedoch der beiden Ausführungsbeispielen gemeinsame Gesamtprozeß anhand von Fig. 8 kurz umrissen.

Zunächst wird eine Glasplatte G auf einer an einer Träger platte 10 angebrachte Form 11 gelegt. Diese Trägerplatte 10 wird auf einem Wagen 53 aus rostfreiem Stahl angeordnet. Sodann wird eine Einlaßtür 59 geöffnet, und der Wagen 53 wird in einen von einer Heizvorrichtung 52 erhitzten Ofen 51 eingeführt. In einem Vorerwärmungsraum 61 wird die gesamte Glasplatte G auf eine Temperatur erwärmt, die gleich oder höher ist als eine um etwa 100°C unter dem Verformungspunkt liegende Temperatur.

Anschließend wird der Wagen 53 von Rollen 54 in einen Raum 62 zur lokalen Erwärmung bewegt, in welchem ein Heizkörper 65 zur lokalen Erwärmung an Haltestäben 67 von der Decke des Ofens 51 herabhängt. Der Körper 65 zur lokalen Erwärmung besteht aus einem Stein 55, in den ein Heizelement 56 eingebettet ist. In dem Raum 62 zur lokalen Erwärmung wird der äußere Umfangsbereich E der Glasplatte G auf eine höhere Temperatur erwärmt als der zentrale Bereich C der Glasplatte G. Infolgedessen wird der äußere Umfangsbereich E durch sein Eigengewicht verformt.

Anschließend wird der Wagen 53 von den Rollen 54 in einen Preßraum 63 geführt. In diesem Preßraum 63 wird der Wagen 53 von einer Preßvorrichtung 58 angehoben, und die Glasplatte G wird gegen eine Formmatrize 13 aus rostfreiem Stahl gepreßt und dadurch in eine vorbestimm te Form gebracht. Danach wird der Wagen 53 wieder auf die Rollen 54 abgesenkt und in einen Kühlraum 64 bewegt. Dort wird die Glasplatte G allmählich abgekühlt. Zuletzt wird eine Ausgangstür 60 geöffnet, und der Wagen 53 wird aus dem Ofen 51 herausgeführt.

Fig. 1 bis 4 veranschaulichen das erste Ausführungsbeispiel der Erfindung. In Fig. 1 ist das äußere Erscheinungsbild eines Formteils dargestellt, das gemäß dem ersten Ausfüh rungsbeispiel hergestellt ist. Fig. 2 zeigt einen Schnitt längs der Linie A-A′ von Fig. 1. Zur Herstellung eines tiefgezogenen Teils aus einer Glasplatte wird die Glasplatte G auf der Form 11 plaziert, die an der in Fig. 3 gezeigten Trägerplatte 10 befestigt ist. Die gesamte Glasplatte G wird auf eine Temperatur erwärmt, die gleich oder größer ist als eine um etwa 100°C unter dem Verformungs punkt liegende Temperatur. Die Form 10 kann in diesem Fall Abmessungen haben, die den inneren Abmessungen des geformten Teils entsprechen, oder es kann ein Trägerteil mit ähnlichen Abmessungen verwendet und die Glasplatte G vor dem Preßformen auf eine reguläre Form 11 übertragen werden.

Der zu verformende äußere Umfangsbereich E der Glasplatte G wird auf eine Temperatur erwärmt, die gleich oder größer ist als die Temperatur (etwa 740°C für Natronkalk- Silikatglas), die einem Viskositätsindex (log eta, eta ist der Poise-Wert) von 7,5 entspricht. Der Bereich C, der die glatte Fläche des Formteils bilden soll, wird selektiv auf eine Temperatur erwärmt, die einem Viskositäts index von 14,5 (etwa 492°C) oder weniger entspricht und vorzugsweise im Bereich von 13,5 (etwa 530°C) oder weniger und 12,4 (etwa 560°C) oder mehr liegt.

Falls die Temperatur des Bereichs C, der die glatte Oberfläche bildet, gleich oder kleiner ist als die Tempera tur, die einem Viskositätsindex von 7,5 entspricht, kann die Glasplatte G Risse bekommen oder beim Formpressen zerbrechen, so daß eine befriedigende Ausformung mitunter beeinträchtigt werden kann. Nur wenn die Temperatur des die glatte Oberfläche bildenden Bereichs C gleich oder höher ist als die einem Viskositätsindex von 12,4 entsprechende Temperatur, kann die Glasplatte G eine klare glatte Oberfläche aufweisen. Um zu vermeiden, daß auf der Glasoberfläche irgendwelche Eindrücke zurück bleiben, wird der Bereich C nur vorzugsweise auf eine Temperatur gehalten, die gleich oder kleiner ist als die einem Viskositätsindex von 13,5 entsprechende Tempera tur.

Um während des Erhitzens der Glasplatte G ein Verbiegen zu vermeiden, empfiehlt es sich, einen inneren Träger 12 vorzusehen, der die Glasplatte G in der Form 11 hält, dies insbesondere dann, wenn die Glasplatte G große Abmessungen hat. Falls ein solcher innerer Träger 12 nicht vorgesehen ist, vergrößert sich der Stützabstand der Glasplatte G. Falls die Geschwindigkeit der Temperatur erhöhung bei der lokalen Erwärmung klein ist, kann es dann leicht geschehen, daß die Glasplatte G sich bei ansteigender Temperatur durchbiegt.

Der die Glasplatte G berührende Teil des inneren Trägers 12 soll eine Breite von 2 m oder weniger, vorzugsweise 1 m oder weniger haben. Falls die Breite größer ist als 2 mm und die Glasplatte G mit Raumtemperatur auf die Form 11 aufgelegt wird, wird sie durch den vorerwärmten inneren Träger 12 lokal und augenblicklich erwärmt, und es können aufgrund der Temperaturdifferenz zu dem nicht erwärmten Teil Wärmerisse entstehen.

Die Glasplatte G, deren Bereich E verformt werden soll, wird lokal erwärmt, wobei sie sich durch ihr Eigengewicht verformt, wie dies in Fig. 4 dargestellt ist. Die Dicke des zu verformenden Teils der Glasplatte E ändert sich in diesem Fall fast nicht. Die Glasplatte G wird sodann unter Verwendung einer Formmatrize 13 und einer Formpatrizen anordnung (10 und 11) gepreßt, so daß der zu verformende Bereich E, der auf eine für das Formen geeignete Temperatur vorerwärmt wurde, sich leicht verformt. Auf diese Weise läßt sich ein tiefgezogenes Glasprodukt herstellen, ohne daß durch Expansion der Seitenwand während des Formens eine Dickenverringerung stattfindet.

Falls das so hergestellte Glasprodukt direkt abgekühlt wird, können bei Abkühlung auf Raumtemperatur Verwerfungen auftreten, oder das Teil kann durch Restspannung während des Abkühlens brechen, da eine große Temperaturdifferenz von mehr als 100°C zwischen dem äußeren Umfangsbereich E und dem inneren Bereich C der Glasplatte G vorhanden ist. Aus diesem Grund wird bei dem Verfahren nach dem ersten Ausführungsbeispiel die Temperaturdifferenz innerhalb des Glasformteils auf unter 30°C abgesenkt, während das Glasformteil G auf einer Temperatur gehalten wird, die über dem Verformungspunkt des Glases liegt (einer Temperatur, die gleich oder größer ist als die einem Viskositätsindex 14,5 entsprechende Temperatur). Um in diesem Fall die Restverformung in dem Glasprodukt zu verringern, wird die Glastemperatur vorzugsweise auf eine (für Natronkalk-Silikatglas im Bereich zwischen 530°C und 560°C liegende) Temperatur eingestellt, die einem in dem Bereich von 13,5 und 12,4 liegenden Viskositätsindex entspricht. Falls die Temperaturdifferenz auf eine unter dem Verformungspunkt liegende Temperatur abgesenkt werden soll, läßt sich keine Verringerung der restlichen Verformung erreichen. Bei einer hohen Temperatur andererseits, die einem Viskositätsindex von 12,4 oder weniger entspricht, wird Glas leicht verformt. Falls die Temperaturdifferenz größer ist als 30°C, ist die bleibende Krümmung in dem Formteil G beträchtlich, so daß es sich nicht als hochpräzises Teil eignet.

Bei dem Verfahren entsprechend dem ersten Ausführungsbei spiel findet fast keine Dickenverringerung der Seitenwand statt. Es kann eine Wandstärke von 85% oder mehr der Originalstärke der Glasplatte beibehalten werden, was bei einem herkömmlichen Verfahren, bei dem eine Glasplatte zwischen eine Formpatrize und eine Formmatrize gelegt und erhitzt wird, und bei dem Verfahren der Verformung durch Vakuum nicht möglich ist. Außerdem läßt sich ein Tiefziehen von 20 mm oder mehr oder dem Vierfachen der ursprünglichen Dicke der Glasplatte durchfüh ren.

Das charakteristische Merkmal des ersten Ausführungsbei spiels läßt sich in diesem Fall am besten darlegen, wenn ein Formteil hergestellt werden soll, bei dem das Verhältnis h/x des Überhanges (x) von einer glatten Fläche einer Seitenfläche (Fig. 2) zur inneren Flächendicke (h) 1,5 oder mehr und normalerweise 4,5 oder mehr beträgt.

Es wurde ein Formteil G nach dem vorangehend beschriebenen Verfahren hergestellt mit einer ebenen Fläche von 290 × 218 mm und einem Verhältnis (h/x) = 5,67 des 80 mm betragenden inneren Flächenhöhe (h) zu dem Überhang einer Seitenfläche, wobei eine 4 mm dicke Glasplatte verwendet wurde.

Die Dicke der Seitenwandung des Formteils G betrug etwa 3,7 mm und das Verhältnis zur Dicke der ursprünglichen Platte war 0,9 oder mehr. Die glatte Oberfläche des Formteils G war frei von Eindrücken und hatte eine Verfor mung von nur etwa 100 µm. Die Verformung war auf 1/3 des Werts verringert, der sich ergab, wenn kein innerer Träger 12 vorgesehen war. Bei einem Formteil G mit einem glatten Oberflächenbereich C von 930 × 610 mm mit einer inneren Flächenhöhe (h) von 44 mm und einem Verhältnis (h/x) von 1,5 betrug die Dicke der Seitenwandung 3,8 (was einem Verhältnis zur ursprünglichen Platte von 0,99 entspricht) oder mehr, und die Größe der Verformung betrug 500 µm oder weniger. Wie vorangehend beschrieben, läßt sich mit dem Verfahren gemäß dem ersten Ausführungsbei spiel ein dreidimensionales Glasformteil G mit großem Ebenheitsgrad aus einer Glasplatte G herstellen, ohne daß die Dicke der Seitenwand abnimmt. So läßt sich ein Glasformteil G mit hinreichender mechanischer Festigkeit gewinnen, das sich für eine Röhre für ein leichtes Fernseh gerät mit flachem Profil eignet.

Fig. 5 bis 7 zeigen ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung. Auch dieses dient zur Herstellung eines Glasformteils G, wie es in Fig. 1 und 2 dargestellt ist. Wie aus Fig. 5 und 6 hervorgeht, wird ein zu verformen der Bereich E einer Glasplatte G nach denselben Prozeduren wie bei dem ersten Ausführungsbeispiel lokal erwärmt und durch sein Eigengewicht verformt. In diesem Zustand wird die Glasplatte G von einer Formmatrize 13 und einer Formpatrizenanordnung (10 und 11) gepreßt und geformt.

Bei dem zweiten Ausführungsbeispiel des Verfahrens wird beim Kühlen des Glasformteils G zur Vermeidung von Tempera tur-Ungleichförmigkeiten aufgrund der unterschiedlichen Wärmekapazität und Wärmeleitfähigkeit der Glasformanordnung (10 und 11) ein in Fig. 7 mit 40 bezeichnetes Glasträger teil durch bekannte Mittel, beispielsweise einen Druckluft zylinder 41 nach oben bewegt, so daß es sich von der Formanordnung (10 und 11) löst. Sodann wird Heißluft mit einer Temperatur (für Natronkalk-Silikatglas etwa 530°C bis 560°C oder weniger), die einem Viskositätsindex des Glases im Bereich von 13,5 bis 12,4 entspricht, auf die Glasoberfläche geblasen, und zwar mit einer Strömungsrate im Bereich von 30 l/min · m² bis 120 l/min · m². Diese Heißluft wird durch einen Heißluftausgang 30 abgege ben, die mit einem Erhitzer 32 mit einem Ventilator 33 und einer (nicht dargestellten) Temperatursteuerung verbunden ist. Die Zuführung erfolgt über eine Leitung 31. Auf diese Weise wird die Temperatur des Formteiles G gleichmäßig gemacht. Falls die Heißlufttemperatur niedriger ist als die Temperatur (530°C für das oben genannte Glas), die einem Viskositätsindex von 13,5 entspricht, bildet sich in dem Glas eine unerwünschte Restverformung, wenn die Heißluft eingeblasen wird. Falls die Heißlufttemperatur hingegen eine Temperatur (560°C für das oben genannte Glas) überschreitet, die einem Viskositätsindex von 12,4 entspricht, wird die Glastemperatur während des Temperatur-Ausgleichsvorganges erhöht und es können unerwünschte Verformungen auftreten.

Falls die Duchflußrate kleiner ist als 30 l/min · m², dauert es lange, bis eine gleichförmige Temperatur erreicht ist. Falls die Durchflußrate hingegen 120 l/min · m² überschreitet, wirkt ein großer Luftdruck auf das Glas ein, wodurch die Ebenheit des Formteils G beeinträchtigt werden kann. Es sei erwähnt, daß gegen beide Flächen des Formteils G Heißluft geblasen werden kann. In diesem Fall kann die Durchflußrate erhöht werden, wenn das Gleichgewicht zwischen der Oberseite und der Unterseite genau eingestellt wird. Die Anwendungszeit der Heißluft wird in Abhängigkeit von der Temperaturverteilung in dem Glas festgelegt. Normalerweise kann die Temperatur des gesamten Glases innerhalb von einer oder zwei Minuten ausgeglichen werden. Anschließend wird das gesamte Formstück G allmählich oder gleichmäßig abgekühlt, um das fertige Glasprodukt zu erhalten. Bei diesem Verfahren wird die Temperaturdifferenz innerhalb des Glasformteils G auf 30°C verringert, während das Glasformteil G auf einer Temperatur gehalten wird, die dem Verformungspunkt des Glases entspricht oder höher ist (bei einer Temperatur, die gleich oder größer ist als diejenige Temperatur, die einem Viskositätsindex von 14,5 entspricht). Die Temperatur des Glasproduktes kann auf eine Temperatur erhöht werden (die für Natronkalk-Silikatglas im Bereich von 530°C bis 560°C liegt), die einem Viskositätsindex im Bereich von 1,35 bis 12,4 entspricht. Falls die Tempera turdifferenz auf eine Temperatur unter dem Verformungspunkt abgesenkt werden soll, läßt sich keine Verringerung der Restverformung erzielen. Andererseits wird bei einer Temperatur, die einem Viskositätsindex von 12,4 oder weniger entspricht, Glas leicht verformt und die Prozesse werden verkompliziert. Falls die Temperaturdifferenz größer ist als 30°C, ist die bleibende Verformung in dem Formteil G beträchtlich, so daß dieses sich für Anwendungen mit hohen Genauigkeitsforderungen nicht eignet.

Bei dem Verfahren nach dem zweiten Ausführungsbeispiel findet fast keine Dickenverringerung der Seitenwand statt, und es läßt sich ein tiefgezogenes Teil herstellen, wie es sich mit herkömmlichen Verfahren, bei dem die Glasplatte zwischen eine Formmatrize und eine Formpatrize gelegt wird oder mit Hilfe eines Vakuum-Formverfahrens nicht erzielen läßt.

Es wurde nach dem vorangehend beschriebenen Verfahren eine Formteil G hergestellt mit einer flachen Oberfläche von 290 × 218 mm und einem Verhältnis (h/x) = 5,67 der 80 mm betragenden inneren Oberflächenhöhe (h) zu dem Über hang einer Seitenfläche, wobei eine 4 mm dicke Glasplatte verwendet wurde. In dem Zustand, in welchem die Temperatur des äußeren Umfangsbereiches E des Formteils G etwa 700°C und diejenige des platten Oberflächenbereichs C etwa 540°C betrug, wurde aus der Auslaßöffnung 30 Heißluft mit einer Temperatur von 530°C während etwa 2 Minuten gegen die innere Glasoberfläche geblasen, wobei die Durchflußrate etwa 60 l/min · m² betrug. Danach wurde das Formteil G in einen Kühlofen gebracht und gleichförmig auf Raumtemperatur abgekühlt. Die Verformung des so gewonnenen Formteils G betrug etwa 100 µm oder weniger. Die Dicke der Seitenwandungen war etwa 3,7 mm. Das Verhältnis zur Dicke der ursprünglichen Platte betrug 0,9 oder mehr. Auf der glatten Oberfläche des Formteils G wurden keine Eindrücke beobachtet.

Es wurde außerdem ein Formteil G mit einem glatten Ober flächenbereich C von 930 × 610, einer inneren Flächenhöhe (h) von 44 mm und einem Verhältnis (h/x) von 1,5 herge stellt. In dem Zustand, in welchem die Temperatur des äußeren Umfangsbereiches E des Formteils G etwa 700° C und diejenige des glatten Oberflächenbereiches C etwa 510°C betrug, wurde aus der Ausgangsöffnung 30 auf die innere Glasoberfläche etwa 1,5 Minuten lang Heißluft mit einer Temperatur von 550°C geblasen. Die Durchflußrate betrug etwa 100 l/min · m². Hierdurch wurde die Temperatur differenz in der Oberfläche auf 10°C oder weniger redu ziert. In diesem Zustand wurde das gesamte Teil allmählich abgekühlt. Das so gewonnene Formteil G hatte eine Verformung von 300 µm oder weniger. Die Dicke der Seitenfläche betrug 3,8 mm (was einem Verhältnis von 0,95 zur Dicke der Originalplatte entsprach). Es wurden keine Eindrücke beobachtet.

Die vorangehende Beschreibung zeigt, daß sich mit dem Verfahren nach dem zweiten Ausführungsbeispiel ein Glasform teil G mit hohem Ebenheitsgrad herstellen läßt, ohne daß die Dicke der Seitenwand merklich verringert wird und ohne daß aufgrund ungleichmäßiger Temperatur innerhalb des Formteils G unmittelbar nach dem Formen Schäden auftreten.

Claims

1. Verfahren zur Herstellung eines Glasprodukts mit einer glatten Oberfläche, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Glasplatte (E) auf eine Formpatrize (10, 11) mit den Innenabmessungen des Glasproduktes entspre chenden Abmessungen so aufgelegt wird, daß die Formpatri ze den inneren peripheren Kantenbereich der Glasplatte berührt,
daß der zu verformende äußere Umfangsbereich (E) der Glasplatte (G) auf eine Temperatur erwärmt wird, die größer ist als diejenige des zentralen Bereichs (G) der Glasplatte, so daß letztere auf der Formpatrize (10, 11) durch ihr Eigengewicht verformt wird,
und daß die auf diese Weise verformte Glasplatte (G) von einer Formmatrize (13) gepreßt wird, deren Abmessungen den Außenabmessungen des Glasproduktes entsprechen.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des zentralen Bereichs (C) der Glasplatte (G) bei dem Preßformen auf einen Wert eingestellt wird, der einem Viskositätsindex (log eta, eta = Poise) im Bereich von zwischen 14,5 und 11,5 entspricht, und daß die Temperatur des zu verformen den äußeren Umfangsbereichs (E) der Glasplatte auf einen Wert eingestellt wird, der gleich oder größer ist als die einem Viskositätsindex von 7,5 entsprechende Temperatur.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Ausformung des Glasproduktes während der allmählichen Abkühlung oder zu Beginn der Abkühlung die Temperatur des zentralen Bereichs (C) der Glasplatte (G), der die glatte Oberfläche des Glasproduktes bildet, auf eine Temperatur eingestellt wird, die einem Viskositätsindex im Bereich zwischen 14,5 und 12,4 entspricht, derart, daß die Temperaturdifferenz in dem Glasformteil auf 30°C oder weniger verringert wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Pressen temperaturgesteuerte Heißluft gegen das Glasprodukt geblasen wird, während das Glasformteil über der Formpatrize (10, 11) schwebt, und daß dadurch die Temperatur des Glasformteils vergleichmäßigt wird.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des zentralen Bereichs (C) der Glasplatte (G) beim Preßformen auf einen Wert eingestellt wird, der einem Viskositätsindex zwischen 14,5 und 11,5 entspricht, daß die Temperatur des zu verformenden äußeren Umfangsbereichs (E) der Glasplatte (G) auf einen Wert eingestellt wird, der gleich oder größer ist als die einem Viskositätsindex von 7,5 entsprechende Temperatur, und daß die Temperatur der Heißluft auf einen Wert eingestellt wird, der einem Viskositätsindex im Bereich zwischen 13,5 und 12,4 entspricht.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der Heißluft in Abhängigkeit von der Oberflächengröße des Formteils im Bereich zwischen 30 l/min · m² und 120 l/min · m² liegt.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Glasformteil gleichmäßig und allmählich abgekühlt oder abgekühlt wird, nachdem die Temperaturdifferenz in dem Glasformteil unter 30°C abgesunken ist.

8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß in einem vorbestimmten Bereich der Formpatrize (10, 11) ein innerer Träger (12) vorgesehen ist, der den zentralen Bereich (C) der Glasplatte (G) berührt und daß die Breite, mit der dieser innere Träger (12) die Glasplatte (G) berührt, 2 mm oder weniger beträgt.