DE3833930C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Messung von Ober
flächenpotentialen gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs
1. Insbesondere befaßt sich die Erfindung mit einer Vorrichtung
zur Abtastung des Trommelpotentials in Normalpapier-Kopier
geräten.
Bei herkömmlichen Sensoren zur Messung von Oberflächen
potentialen läßt sich in funktioneller Hinsicht zwischen
aktiven und passiven Typen und in konstruktiver Hinsicht
zwischen mechanischen und elektrischen Typen unterscheiden.
Ein Sensor vom aktiven Typ verfügt über eine eigene Ein
richtung zur Erzeugung eines elektrischen Feldes, erzeugt
ein mit dem zu messenden Oberflächenpotential überein
stimmendes Potential, so daß das elektrische Feld zwischen
der zu messenden Oberfläche und der Abtastoberfläche des
Sensors den Wert Null annimmt, und mißt so das Potential
der zu messenden Oberfläche. Ein Sensor vom passiven Typ
mißt das Potential der zu messenden Oberfläche mit Hilfe
eines elektrischen Feldes, das von der zu messenden Ober
fläche ausgeht und durch Influenz die als Bezugselektrode
dienende Meßoberfläche des Sensors beeinflußt. Im Prinzip
hängt das Signal eines aktiven Sensors nicht von dem
Abstand zwischen der zu messenden Oberfläche und der
empfindlichen Oberfläche des Sensors ab, während bei
einem passiven Sensor das Ausgangssignal von diesem Abstand
abhängig ist. Bei einem mechanischen Sensor wird allgemein
eine piezoelektrische Stimmgabel als Oszillator verwendet,
und das von der zu messenden Oberfläche ausgehende elek
trische Feld wird mit Hilfe dieser mechanischen Einrich
tung moduliert und gemessen. Bei einem Sensor vom elek
trischen Typ ist ein elektrooptischer Kristall oder eine
mit akustischen Oberflächenwellen arbeitende Einrichtung
zur Messung des Potentials auf nicht-mechanischem Wege
vorgesehen.
Zur näheren Erläuterung der verschiedenen bisher bekann
ten Anordnungen soll bereits hier auf Fig. 6 bis 8
der Zeichnung Bezug genommen werden.
Ein passiver, mechanischer Oberflächenpotentialsensor
umfaßt gemäß Fig. 6 eine Elektrode 1 mit einer empfind
lichen Oberfläche, die der Oberfläche 2, deren Potential
zu messen ist, in Abstand gegenüberliegt. Ein durch eine
piezoelektrische Stimmgabel gebildeter Chopper 3 ist
zwischen der Elektrode 1 und der zu messenden Oberfläche
2 angeordnet. Ein aktiver, mechanischer Sensor umfaßt
gemäß Fig. 7 eine Elektrode 4, deren empfindliche
Oberfläche der Oberfläche 5, deren Potential zu messen
ist, in Abstand gegenüberliegt. Ein durch eine piezo
elektrische Stimmgabel gebildeter Chopper 6 ist zwischen
der Elektrode 4 und der zu messenden Oberfläche 5 ange
ordnet. Zusätzlich ist zwischen dem Chopper 6 und der
zu messenden Oberfläche 5 eine Bezugselektrode 7 vor
gesehen. Gemäß Fig. 8 umfaßt ein passiver, elektrischer
Sensor eine Elektrode 8, deren empfindliche Oberfläche
der zu messenden Oberfläche 9 in Abstand gegenüberliegt.
Die Elektrode 8 ist elektrisch mit einer Elektrode 11
eines elektrooptischen Kristalls 10 verbunden, so daß
eine dem von der Elektrode 8 empfangenen elektrischen
Feld entsprechende Spannung an die Elektrode 11 angelegt
wird. Ein durch eine Leuchtdiode gebildetes lichtaussen
dendes Teil 12 und ein durch einen Fototransistor gebil
detes lichtempfindliches Teil 13 sind ebenfalls über eine
optische Faser 14 mit dem elektrooptischen Kristall 10
verbunden.
Bei herkömmlichen mechanischen Sensoren, wie sie in Fig.
6 und 7 gezeigt sind, nimmt die Meßgenauigkeit mit der
Zeit ab. Außerdem sind diese Sensoren stoßempfindlich.
Bei passiven Sensoren gemäß Fig. 6 und 8 ist eine
schnelle und einfache Messung des Oberflächenpotentials
nicht möglich, da das Meßsignal von dem Abstand des
Sensors zu der zu messenden Oberfläche abhängig ist.
Bei dem in Fig. 8 gezeigten passiven Oberflächen
potentialsensor vom elektrischen Typ hat der elektro
optische Kristall selbst eine hohe Dielektrizitätskonstante,
und aus diesem Grund ist das in dem Kristall erzeugte
elektrische Feld nicht stark genug. Aus diesem Grund
ist der in Fig. 8 gezeigte Aufbau des Sensors zwar
theoretisch denkbar, doch ist die praktische Anwendung
schwierig. Außerdem muß bei dem Aufbau nach Fig. 8
der elektrooptische Kristall eine genau bekannte elektro
optische Kennlinie aufweisen. Dies macht es schwierig,
einen stabilen Meßbetrieb aufrechtzuerhalten.
Aus der DE-PS 34 04 608 ist ein elektrooptischer Feldstärkesensor bekannt.
Der elektrooptische Kristall wird mit polarisiertem Licht durchstrahlt und
unmittelbar in das zu messende elektrische Feld gebracht, so daß durch die
Wirkung des elektrischen Feldes in dem Kristall eine Drehung der Polarisati
onsrichtung des Lichtes erfolgt. Die von dem elektrooptischen Kristall durch
gelassene Lichtmenge wird gemessen, nachdem das Licht einen Analysator
passiert hat. Die durch die Drehung der Polarisationsebene bedingte Intensi
tätsabnahme ist im wesentlichen proportional zu der elektrischen Feldstärke
und ermöglicht so die quantitative Bestimmung der Feldstärke. Zu Eich- oder
Prüfzwecken wird der Sensor zwischen die Elektroden eines Plattenkonden
sators gebracht.
In der DE-OS 30 39 136 wird ein ähnlicher elektrooptischer Feldstärkesen
sor beschrieben, der auch zur Messung elektrischer Spannungen eingesetzt
werden kann. Bei der Spannungsmessung werden an den entgegengesetzten
Oberflächen des elektrooptischen Kristalls Elektroden angebracht, an die die
zu messende Spannung angelegt wird.
Auch bei diesen bekannten Feldstärkesensoren hängt die Genauigkeit des
Meßergebnisses davon ab, daß die Kennlinie des elektrooptischen Kristalls
genau bekannt und hinreichend stabil ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine kostengünstige Vorrichtung zur
Messung von Oberflächenpotentialen zu schaffen, bei der die Meßgenauig
keit nicht durch mechanische Faktoren beeinträchtigt wird und das Meßsig
nal nicht vom Abstand der zu messenden Oberfläche abhängt und mit dem
das Oberflächenpotential mit hoher Geschwindigkeit berührungslos gemes
sen werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch eine Vorrichtung mit den in
Patentanspruch 1 angegebenen Merkmalen.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung umfaßt ein elektrooptisches Element mit ei
ner Meßelektrode, die mittelbar oder unmittelbar dem von der zu messen
den Oberfläche ausgehenden elektrischen Feld ausgesetzt ist, und einer Be
zugselektrode zur Erzeugung einer Potentialdifferenz zwischen der Meß
elektrode und der Bezugselektrode und eine Spannungsquelle
zum Anlegen einer Wechselspannung vorgegebener Frequenz
an die Bezugselektrode. Die Stärke des elektrischen Feldes
zwischen der Meßelektrode und der Bezugselektrode wird
anhand der Intensität des von dem elektrooptischen
Element durchgelassenen Lichtes gemessen.
Die Vorrichtung enthält somit einen
aktiven Sensor mit einer Bezugselektrode, und aus diesem
Grund bleibt das Meßergebnis unverändert,
wenn sich der Abstand zwischen der zu messenden Oberfläche
und dem Sensor ändert. Dies ermöglicht eine einfache
Messung des Oberflächenpotentials mit hoher Geschwindig
keit. Da ein elektrooptisches Element verwendet wird,
hat der Sensor keine mechanisch beweglichen Teile, und
somit wird die Meßgenauigkeit nicht durch mechanische
Faktoren beeinträchtigt. Außerdem wird durch diese Bau
weise eine kompakte Konstruktion des Sensors ermöglicht.
Anhand der Intensität des durchgelassenen Lichtes wird
der Nulldurchgang der elektrischen Feldstärke zwischen der
Meßelektrode und der Bezugselektrode erfaßt.
Hinsichtlich der Kennlinie des verwendeten elektrooptischen
Elements brauchen deshalb keine strengen Bedingungen ein
gehalten zu werden, so daß durch Verwendung eines billigen
elektrooptischen Kristalls eine Kostenersparnis erreicht
werden kann.
Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfin
dung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsbeispiele der
Erfindung anhand der Fig. 1 bis 5 der Zeichnung
näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 ein Blockdiagramm eines Ausführungs
beispiels der Erfindung;
Fig. 2 einen schematischen Vertikalschnitt
durch eine elektrooptische Einrich
tung eines Potentialsensors;
Fig. 3 eine Explosionsdarstellung der elek
trooptischen Einrichtung;
Fig. 4(A) bis 4(E) Signalwellenformen beim Betrieb der
erfindungsgemäßen Vorrichtung;
Fig. 5 einen vertikalen Teilschnitt durch
einen Sensor gemäß einem anderen
Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 6, 7 und 8 jeweils eine Darstellung eines her
kömmlichen Sensors.
Gemäß Fig. 1 ist ein Sensor 21 zur Messung von Oberflächen
potentialen benachbart zu einer Oberfläche 20 angeordnet,
deren Potential gemessen werden soll.
Ein elektrooptisches Kristallelement 22 des Sensors 21
wird gebildet durch einen im wesentlichen quaderförmigen
Festkörperbaustein mit einem elektrooptischen Kristall
23 und mit einer Meßelektrode 24 sowie einer Bezugselektrode
25, die an den beiden größten Oberflächen des Kristalls
ausgebildet sind. Der elektrooptische Kristall 23 ist aus
einem Material, beispielsweise einem BaTiO3-Einkristall
hergestellt, bei dem eine Feld-Achse und eine optische
Achse, die einen primären elektrooptischen Effekt zeigen,
rechtwinklig zueinander verlaufen. Beispielsweise ist
der elektrooptische Kristall 23 als einkristalliner
Körper oder Film ausgebildet, der hauptsächlich aus
einem der folgenden Materialien besteht: BaTiO3, LiNbO3,
Ba2NaNbO15, (K, Li) NbO3, LiTaO3, (Sr, Ba) Nb2O6. Die
optische Weglänge in dem elektrooptischen Kristall 23
ist so festgelegt, daß die Polarisation in dem Kristall
etwa 90° beträgt, wenn das auf den Kristall einwirkende
elektrische Feld maximal wird. Wie nachfolgend noch näher
erläutert wird, dient der elektrooptische Kristall 23
zum Erfassen der elektrischen Feldstärke Null, und es
ist daher anders als bei dem Kristall zur Messung des
elektrischen Feldes in dem herkömmlichen Sensor keine
genaue Beziehung zwischen der Intensität des elektrischen
Feldes und dem Polarisationswinkel erforderlich. Für die
elektrooptischen Eigenschaften des Kristalls 23 gelten
daher weniger strenge Anforderungen als beim Stand
der Technik. Die Intensität des auf den elektrooptischen
Kristall einwirkenden elektrischen Feldes und die optische
Weglänge in dem Kristall zur Einstellung des Polarisations
winkels in dem elektrooptischen Kristall können beliebig
gewählt werden im Hinblick auf die Winkel der polarisieren
den Oberflächen der vor und hinter dem elektrooptischen
Kristall 23 angeordneten Polarisationsfilter, den Aufbau
einer Schaltung zur Erfassung des elektrischen Null-Feldes
in dem elektrooptischen Kristall bei Empfang eines op
tischen Signals und die erforderliche Meßgenauigkeit des
Sensors. An die Bezugselektrode 25 ist eine hohe elek
trische Wechselspannung anlegbar, wie nachfolgend be
schrieben wird. Der elektrooptische Kristall befindet
sich somit in dem elektrischen Feld, das sich zwischen
der Bezugselektrode 25 und der zu messenden Oberfläche
20 ausbildet.
Wie in Fig. 2 gezeigt ist, weist das elektrooptische Element
22 einen Polarisator 26 an seiner lichtempfangenden Ober
fläche und einen Fotodetektor 27 an seiner lichtaussen
denden Oberfläche auf. Wie aus der schematischen Ansicht
in Fig. 3 hervorgeht, sind die Polarisationsachsen des
Polarisators 26 (Pfeil A) und des Fotodetektors 27 (Pfeil
B) um 90° gegeneinander verdreht, so daß die durchgelassene
Lichtintensität minimal wird, wenn kein elektrisches Feld
auf den elektrooptischen Kristall 23 einwirkt. In Fig. 3
repräsentiert die Linie C die optische Achse für das den
Kristall durchstrahlende Licht, während der Pfeil E die
Richtung des auf den elektrooptischen Kristall 23 ein
wirkenden elektrischen Feldes repräsentiert. Gemäß Fig. 2
sind an dem Polarisator 26 und dem Fotodetektor 27 auf
den entgegengesetzten Seiten des elektrooptischen Kristalls
23 zwei Lichtleiter 28 angeordnet. Das Licht von einem
lichtaussendenden Element 29 in Form einer Leuchtdiode wird
durch einen der Lichtleiter 28 zu dem Polarisator 26
geleitet. Das Licht, das den Fotodetektor 27 durchstrahlt,
wird durch den anderen der Lichtleiter 28 zu einem durch
einen Fototransistor gebildeten lichtempfindlichen Teil
30 geleitet. Mit der oben beschriebenen Anordnung kann
unter Ausnutzung des elektrooptischen Effekts (Pockels-
Effekt) des elektrooptischen Kristalls 23 der Null-Zustand
des elektrischen Feldes festgestellt werden. Obgleich bei
dem beschriebenen Ausführungsbeispiel der Einfachheit
halber ein elektrooptischer Effekt erster Ordnung aus
genutzt wird, kann wahlweise auch ein elektrooptisches
System vorgesehen sein, bei dem elektrooptische Effekte
höherer Ordnung verwendet werden.
Eine Nachweisschaltung 31 zur Erfassung der Feldstärke Null
des elektrischen Feldes ist gemäß Fig. 1 an das licht
empfindliche Teil 30 angeschlossen. Die Nachweisschaltung
31 liefert ein Triggersignal an eine Halteschaltung 32, wenn
durch das lichtempfindliche Teil 30 bei elektrischem Feld
null ein Minimum der durch das elektrooptische Element
23 durchgelassenenLichtmenge festgestellt wird. Bei dem
Meßvorgang wird der Umstand ausgenutzt, daß das elek
trische Feld zwischen der zu messenden Oberfläche 20
und der Bezugselektrode 25, an der die Wechselspannung
anliegt, den Wert Null annimmt, wenn der Momentanwert
der Wechselspannung und das Potential der Oberfläche
20 übereinstimmen. Bei Eintreffen des Triggersignals
von der Nullfeld-Nachweisschaltung 31 hält die Halte
schaltung 32 den Momentanwert des Wechselspannungs
signals, das zu der an die Bezugselektrode 25 angelegten
Spannung proportional ist, und übermittelt diesen Momentan
wert an eine Ausgabeschaltung 33.
Eine spannungserhöhende Schaltung 34 ist elektrisch mit
der Bezugselektrode 25 des elektrooptischen Elements 22
verbunden. Die spannungserhöhende Schaltung 34 wird in
nicht gezeigter Weise gebildet durch einen spannungs
erhöhenden Transformator, einen Kondensator und einen
Widerstand und erhöht die Spannung des oszillierenden
Ausgangssignals einer Oszillatorschaltung 35 in einem
konstanten Verhältnis. Die Hochspannung, die durch die
spannungserhöhende Schaltung 34 an die Bezugselektrode
25 angelegt wird, steht daher in einem festen Verhältnis
zu dem Ausgangssignal der Oszillatorschaltung 35. Das
Ausgangssignal der Oszillatorschaltung 35 hat die gleiche
Phase wie die an die Bezugselektrode 25 angelegte Hoch
spannung und wird an die Halteschaltung 32 übermittelt.
Auf der Grundlage des Ausgangssignals von der Oszillator
schaltung 35 und des Triggersignals von der Nachweisschal
tung 31 hält die Halteschaltung 32 den Spitzenwert des
oszillierenden Ausgangssignals der Oszillatorschaltung
zu dem Zeitpunkt, zu dem das Triggersignal eintrifft.
Die Ausgabeschaltung 33 nimmt das Signal der Halteschal
tung 32 auf und erzeugt an ihrer Ausgangsklemme 36 ein
Ausgangssignal, das dem durch die Halteschaltung 32 ge
haltenen Spannungswert entspricht. Auf diese Weise kann
das Potential der zu messenden Oberfläche 20 ermittelt
werden anhand des oszillierenden Ausgangssignals der
Oszillatorschaltung zu dem Zeitpunkt, zu dem das Poten
tial der Bezugselektrode 25 mit dem der Oberfläche 20
übereinstimmt.
Nachfolgend soll die Arbeitsweise des Sensors 21 anhand
der Fig. 4A bis 4E erläutert werden.
Die an die Bezugselektrode 25 angelegte Wechselspannung
wird in Fig. 4A durch eine Kurve P repräsentiert. Das
zu messende Potential der Oberfläche 20 wird beispiels
weise durch die Linie Q in Fig. 4A angegeben. Wenn die
Beziehung zwischen dem Potential der Bezugselektrode 25
und dem zu messenden Oberflächenpotential den in Fig.
4A dargestellten Verhältnissen entspricht, so wird die
elektrische Feldstärke im Inneren des elektrooptischen
Kristalls 23 durch die Wellenform Ei in Fig. 4B angegeben.
Wenn das Potential der Bezugselektrode 25 mit dem zu
messenden Oberflächenpotential übereinstimmt, ist die
Feldstärke im Inneren des elektrooptischen Kristalls 23
gleich Null, während andernfalls in dem elektrooptischen
Kristall 23 ein inneres elektrisches Feld erzeugt wird,
das der Differenz zwischen dem Potential der Bezugs
elektrode 25 und dem der zu messenden Oberfläche 20
entspricht. Entsprechend den in Fig. 4B gezeigten
Änderungen der Stärke des elektrischen Feldes wird
die Polarisationsrichtung des durch den elektrooptischen
Kristall 23 hindurchtretenden Lichtes gedreht, und dem
entsprechend ändert sich die von dem lichtempfindlichen
Teil 30 empfangene Lichtmenge. Aufgrund der Abweichung
der Polarisationsrichtungen des Polarisators 26 und
des Fotodetektors 27 wird die von dem lichtempfindlichen
Teil 30 empfangene Lichtmenge minimal, wenn das innere
elektrische Feld des elektrooptischen Kristalls 23 den
Wert Null annimmt. Wenn das Minimum der durchgelassenen
Lichtmenge abgetastet wird, liefert die Nachweisschaltung
31 ein Triggersignal entsprechend Fig. 4C an die Halte
schaltung 32.
Gleichzeitig wird ein in Fig. 4D gezeigtes oszillierendes Ausgangs
signal S, das die gleiche Phase wie die an die Bezugs
elektrode 25 angelegte Wechselspannung aufweist (Kurve P
in Fig. 4A) von der Oszillatorschaltung 35 an die Halte
schaltung 32 übermittelt. Die Halteschaltung 32 hält den
Spitzenwert oder Momentanwert des Ausgangssignals S der
Oszillatorschaltung zu dem Zeitpunkt, zu dem das in
Fig. 4c gezeigte Triggersignal R eintrifft. Die Ausgabe
schaltung 33 liefert folglich als Ausgangssignal die
gehaltene Spannung T, die in Fig. 4E dargestellt ist.
Es soll nunmehr angenommen werden, daß sich das zu messende
Potential der Oberfläche 20 von dem Wert Q auf den Wert Q′ in
Fig. 4A ändert. In diesem Fall ändert sich die innere
elektrische Feldstärke in dem elektrooptischen Kristall
23 gemäß der strichpunktierten Kurve E′i in Fig. 4B,
entsprechend dem geänderten Oberflächenpotential. Unter
diesen Umständen erreicht die innere elektrische Feldstärke
in dem elektrooptischen Kristall 23 erst zu einem späteren
Zeitpunkt den Wert Null. Folglich ist das von der Nachweis
schaltung 31 erzeugte Triggersignal, das in Fig. 4C mit
R′ bezeichnet ist, gegenüber dem zuvor betrachteten Fall
verzögert. Der Wert des Ausgangssignals S der Oszillator
schaltung ist somit zu dem Zeitpunkt, zu dem das Trigger
signal R′ von der Halteschaltung 32 empfangen wird, um
einen der Verzögerung des Triggersignals entsprechenden
Betrag erhöht, d.h., der von der Halteschaltung 32 gehaltene
Spannungswert ist höher. Im Ergebnis wird der von der Ausgabe
schaltung 33 ausgegebene Spannungswert von dem Wert T auf
den Wert T′ in Fig. 4E erhöht.
In der oben beschriebenen Weise ermittelt der Sensor 21
das zu messende Potential der Oberfläche 20.
Da an die Bezugselektrode 25 des Sensors 21 eine Wechsel
spannung angelegt wird, läßt sich die Menge an Staub redu
zieren, die aufgrund elektrostatischer Aufladung durch
das elektrooptische Element 22 angezogen wird, und somit
kann die durch den Staub verursachte Verschlechterung
der Meßgenauigkeit vermieden werden.
Die Ansprechgeschwindigkeit des Sensors 21 kann durch
Erhöhen der Oszillationsfrequenz der Oszillatorschaltung
35 verbessert werden.
Anstelle der oben beschriebenen Anordnung, bei der die
Meßelektrode 24 direkt der zu messenden Oberfläche 20
gegenüberliegt, kann auch die in Fig. 5 gezeigte Anordnung
verwendet werden.
Gemäß Fig. 5 ist eine gesonderte Abtastelektrode 24a vor
gesehen, die elektrisch mit der Meßelektrode 24 des elek
trooptischen Elements 22 verbunden ist. Die Abtastelektrode
24a nimmt das elektrische Feld von der zu messenden Ober
fläche 20 auf. Folglich wird über die Abtastelektrode 24a
an die Meßelektrode 24 eine Spannung angelegt, die dem
an der zu messenden Oberfläche 20 erzeugten elektrischen
Feld entspricht. Auch in diesem Fall kann das zu messende
Potential der Oberfläche 20 in ähnlicher Weise wie bei
dem zuvor beschriebenen Ausführungsbeispiel anhand des
zwischen der Meßelektrode 24 und der Bezugselektrode
25 gebildeten elektrischen Feldes ermittelt werden.
Mit dem erfindungsgemäßen Sensor zur Messung von Ober
flächenpotentialen lassen sich die folgenden Vorteile
erreichen.
(a) Da es sich um einen aktiven Sensor mit einer Bezugs
elektrode handelt, ist das Ausgangssignal des Sensors
auch dann keinen Änderungen unterworfen, wenn sich der
Abstand zwischen der zu messenden Oberfläche und dem
Sensor ändert, und infolgedessen kann die Messung auf
einfache Weise auch bei hoher Geschwindigkeit vorgenommen
werden.
(b) Da der Sensor einen elektrooptischen Kristall und
keine mechanisch beweglichen Teile aufweist, wird die
Meßgenauigkeit nicht durch mechanische Faktoren beein
trächtigt.
(c) Da mechanisch bewegliche Teile durch einen elektro
optischen Kristall ersetzt sind, kann der Sensor insgesamt
eine kompakte Konstruktion aufweisen.
(d) Aufgrund einer Meßanordnung, bei der das Minimum der
elektrischen Feldstärke zwischen der Meßelektrode und
der Bezugselektrode anhand der Intensität des durchge
lassenen Lichtes ermittelt wird, brauchen an die Kenn
linie des verwendeten elektrooptischen Kristalls keine
strengen Anforderungen gestellt zu werden, so daß kosten
günstige elektrooptische Kristalle verwendet werden
können. Hierdurch werden die Gesamtkosten des Sensors
verringert.
Claims (9)
1. Vorrichtung zur Messung von Oberflächenpotentialen mit:
- - einem elektrooptischen Element (22) mit einer Meßelektrode (24), die mittelbar oder unmittelbar dem von der zu messenden Oberfläche (20) aus gehenden elektrischen Feld ausgesetzt ist, einer Bezugselektrode (25) zur Erzeugung einer Potentialdifferenz zwischen der Meßelektrode und der Be zugselektrode und einem zwischen der Meßelektrode und der Bezugselektro de angeordneten elektrooptischen Kristall (23) und
- - einer Auswerteeinrichtung (29, 30, 31, 32) zum Messen der elektrischen Feldstärke zwischen der Meßelektrode und der Bezugselektrode anhand der Intensität des von dem elektrooptischen Kristall durchgelassenen Lichtes,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß eine Wechselspannungsquelle (34, 35) zum Anlegen einer Wechsel spannung vorgegebener Frequenz an die Bezugselektrode (25) vorgesehen ist,
- - daß die Auswerteeinrichtung eine Nullfeld-Nachweiseinrichtung (31) auf weist, die anhand eines die durchgelassene Lichtmenge angebenden Signals (Ei) feststellt, ob das elektrische Feld in dem elektrooptischen Kristall (23) den Wert Null hat, und die ein das Vorliegen dieser Bedingung anzeigendes Signal (R) liefert, und
- - daß eine Halteschaltung (32) vorgesehen ist, die als Meßergebnis den Momentanwert der von der Wechselspannungsquelle (34, 35) erzeugten Wechselspannung bei Eintreffen des von der Nullfeld-Nachweiseinrichtung (31) erzeugten Signals (R) hält.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Ausgabe
schaltung (33) zur Ausgabe eines dem von der Halteschaltung (32) gehaltenen
Spannungswert entsprechenden Signals.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
elektrooptische Element (22) einen Polarisator (26) auf der Licht-Einlaßseite
und einen auf der Licht-Auslaßseite angeordneten Analysator (27) aufweist,
dessen Polarisationsrichtung von der des Polarisators abweicht.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch
eine Lichtquelle (29), die Licht zu dem elektrooptischen Element (22)
aussendet, und ein lichtempfindliches Element (30), das das von dem elek
trooptischen Element durchgelassene Licht der Lichtquelle (29) aufnimmt
und das die durchgelassene Lichtmenge angebende Signal (Ei) erzeugt.
5. Vorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet
durch eine Abtastelektrode (24a), die unmittelbar dem von der zu messenden
Oberfläche (20) ausgehenden elektrischen Feld ausgesetzt und elektrisch mit
der Meßelektrode (24) des elektrooptischen Elements verbunden ist.
6.Vorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß das elektrooptische Element einen einkristallinen Körper
oder Film (23) aufweist, der hauptsächlich aus einem der folgenden Gruppe
angehörenden Material besteht: BaTiO3, LiNbO3, Ba2NaNbO15, (K, Li) NbO3,
LiTaO3, (Sr, Ba) Nb2O6.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeich
net, daß das elektrooptische Element (22) einen polykristallinen kerami
schen Festkörper aufweist.
8. Vorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Meßelektrode (24) und die Bezugselektrode (25) unmittel
bar an der Oberfläche des elektrooptischen Kristalls (23) angebracht sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62251852A JPH0194270A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 表面電位検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3833930A1 DE3833930A1 (de) | 1989-04-27 |
DE3833930C2 true DE3833930C2 (de) | 1992-03-19 |
Family
ID=17228880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3833930A Granted DE3833930A1 (de) | 1987-10-06 | 1988-10-05 | Sensor zur messung von oberflaechenpotentialen |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4894607A (de) |
JP (1) | JPH0194270A (de) |
DE (1) | DE3833930A1 (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5025209A (en) * | 1988-06-30 | 1991-06-18 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Apparatus for detecting surface potential distribution |
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Publication number | Publication date |
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