DE3807251A1 - Kapazitiver schallwandler - Google Patents
Kapazitiver schallwandlerInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen kapazitiven Schallwandler, welcher
aus einer Membraneinheit und mindestens einer feststehenden Gegenelektrodenstruktur
aus halbleitenden Material besteht. Der Wandler
dient als Mikrofon der Umsetzung von Schalldruckänderungen in elektrische
Signale. Kapazitive Mikrofone nach dem bisherigen elektrostatischen
Prinzip bestehen aus einer Membran und zumindest einer feststehenden
Gegenelektrode. Die Membran besitzt eine bestimmte Zugspannung,
mit der die akustischen Eigenschaften der Mikrofonkapsel beeinflußt
werden können. Die Gegenelektrode ist mit Kanälen und Bohrungen versehen,
einerseits, damit die Luft aus dem vom Membran und Gegenelektrode
begrenzten Luftspalt in ein Rückvolumen des Wandlers abströmen kann und
andererseits, um die Dämpfungsverluste im Luftspalt zu reduzieren, die
die Empfindlichkeit des Mikrofons herabsetzen und den Frequenzgang ungünstig
beeinflussen. Die Signalwandlung geschieht durch Auswertung der
relativen Kapazitätsänderung des Wandlers.
Die neueren Verfahren der Halbleitertechnologie erlauben die Herstellung
von Miniaturwandlern auf mikromechanischem Wege, beispielsweise
auf der Basis von Silizium. In der Literaturstelle KAPAZITITVE SILIZIUMSENSOREN
FÜR HÖRSCHALLANWENDUNGEN, erschienen 1986 im VDI-Verlag,
ISB 3-18-141610-9, wird der Aufbau eines Silizium-Mikrofones beschrieben.
Dieser auf mikromechanischem Wege hergestellte Wandler besitzt die
Abmessungen von ca. 1,6×2×0,6 mm³. Die aktive Membranfläche besteht
aus der mit einer Metallschicht überzogenen Siliziumnitrid-Schicht,
der, durch einen Luftspalt getrennt, eine ebenfalls aus Silizium hergestellte
Gegenelektrode gegenübersteht.
Bei halbleitertechnologisch hergestellten Miniaturmikrofonen ergeben
sich besondere Nachteile, die durch Dämpfungsverluste im sehr engen
Luftspalt bedingt sind. Wird die Membran von einem periodischen Wechseldruck
zu Schwingungen angeregt, so bildet sich im Luftspalt eine
Strömung. Der Strömungswiderstand ist jedoch um so höher, je schmaler
der Luftspalt ist, da die Verluste in erste Linie durch Reibung an den
Wänden zustande kommen. Der Strömungswiderstand ist außerdem frequenzabhängig;
er nimmt mit steigenden Frequenzen zu, so daß die Empfindlichkeit
zu höheren Frequenzen hin stark absinkt. Da die Dämpfungsverluste
nicht linear mit einer Spaltverengung zunehmen sondern progressiv,
so ist der negative Einfluß bei Mikrofonen der beschriebenen Art
besonders hoch. Die Möglichkeit, die Gegenelektrode zu durchlöchern ist
wegen ihrer geringen Größe und wegen fehlender Technologie zur Zeit
nicht gegeben. Bei dem in der Literaturstelle angegebenen Mikrofon
sinkt daher die Empfindlichkeit aufgrund von Luftspaltverlusten auf
Werte unter -60 dB, bezogen auf 1V/Pa und der Frequenzgang ist auf einige
Kilohertz begrenzt.
Luftspaltdämpfungen, die zwischen Membran und Gegenelektrode auftreten,
ließen sich durch Verringerung der lateralen Abmessungen der Gegenelektrode
verringern. Laterale Abmessungen sind hier die Abmessungen senkrecht
zur Strömungsrichtung der Luft. Durch solche Verkleinerungen
sinkt jedoch auch die Ruhekapazität des Wandlers. Die untere Grenze
derselben liegt im Hinblick auf die Höhe des in einer Niederfrequenz-Schaltung
gewonnenen Signals bei etwa 1 pF. Eine Verkleinerung der Gegenelektrodenmaße,
die zu einer Verringerung des Strömungswiderstandes
führen könnte, kommt daher bei dieser geringen Ruhekapazität nicht mehr
in Betracht.
Die Erfindung hat sich die Aufgabe gestellt, ein mit den Mitteln der
Halbleitertechnologie hergestelltes Miniaturmikrofon zu schaffen, bei
welchem die aktive Fläche der Membran hinsichtlich eines guten
Wirkungsgrades wie bei bisher bekannten Mikrofonen erhalten bleibt, die
im Luftspalt auftretenden Dämpfungsverluste jedoch durch eine geeignete
Gestaltung der Gegenelektrode so verringert werden, daß die Nachteile
bisher bekannter Mikrofone vermieden werden. Diese Aufgabe wird mit den
im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmalen gelöst.
Eine in ihren lateralen Abmessungen wesentlich verkleinerte Gegenelektrode,
die zwangsläufig auch zu geringeren Dämpfungsverlusten führt,
kann verwendet werden, wenn man davon abgeht, das Ausgangssignal des
Wandlers durch die relative Änderung seiner Ruhekapazität zu gewinnen.
Erfindungsgemäß lassen sich daher kleinere Ruhekapazitäten verwenden,
wenn man durch die Bewegungen der Membran die Eingangskapazität eines
aktiven Elementes steuert.
Feldeffekttransistoren besitzen Gate-Kanal-Kapazitäten im Bereich von
10-15F, also von 1/1000 der oben beispielsweise genannten Membran-Gegenelektrodenkapazität
von 1 pF. Wird also die Drain-Kanal-Source-Struktur
eines Feldeffekttransistors einer Membran gegenüber angeordnet,
so werden die Strömungsverluste aufgrund der benötigten sehr geringen
Abmessungen der Gegenelektrodenstruktur weitgehend eleminiert.
Dieser Effekt tritt bereits auf, wenn die Breite der Gegenelektrodenstruktur
ungefähr ein Zehntel der Abmessungen der aktiven Membranfläche
beträgt.
Ein kapazitiver Schallwandler nach der Erfindung wird anhand einer
Zeichnung nachfolgend und beispielsweise beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 den prinzipiellen Aufbau eines nach der Erfindung
arbeitenden Schallwandlers,
Fig. 2 ein Kleinsignal-Ersatzschaltbild
Fig. 3 ein mechanisches Ersatzschaltbild
Fig. 4 eine Frequenzgangdarstellung
Fig. 5 eine schematische Darstellung eines Schallwandlers
nach der Erfindung.
Fig. 6 eine beispielweise Anordnung mehrerer Schallwandler
auf einem Wafer.
Der prinzipielle Aufbau eines kapazitiven Schallwandlers nach der Erfindung,
im folgenden FET-Mikrofon genannt, ist in der Fig. 1 dargestellt.
Eine beispielsweise mit Aluminium metallisierte Membran befindet
sich, getrennt durch einen Luftspalt d L über einer Drain-Kanal-Source-Struktur,
die im folgenden Gegenelektrodenstruktur genannt wird.
Die Kanalzone dieser Struktur ist mit einer Oxid-Schutzschicht überzogen.
Ein schwach p-dotiertes Siliziumsubstrat bildet die Kanalzone L,
die stark n-dotierten Elektroden bilden Drain und Source des FETs. Es
handelt sich hier beispielsweise um einen N-Kanal-Anreicherungstyp. Die
Spannung U GS, angelegt zwischen der Membran und dem Source-Anschluß bestimmt
den Arbeitspunkt des Feldeffekttransistors.
Das FET-Mikrofon wird zweckmäßigerweise in einer Source-Schaltung betrieben.
Diese ist in der Fig. 3 ebenso dargestellt, wie das dazugehörigende
Kleinsignal-Ersatzschaltbild. Die Betriebsspannung U B wird dem
Mikrofon über den Drain-Widerstand R d zugeführt, der auf dem die Gegenelektrode
bildenden Chip gleich integriert werden kann. Am Drain-Anschluß
wird die Mikrofonausgangsspannung U a abgegriffen; die Membran
ist gegenüber Source mit der Spannung U GS vorgespannt. In der dargestellten
Kleinsignalersatzschaltung der Fig. 3 wird die Stromquelle mit
der mechanisch-elektrischen Steilheit S me durch die Membranauslenkung X
gesteuert. Der eingeprägte Strom erzeugt im Drain-Widerstand R d einen
Spannungsabfall, der der Ausgangsspannung U a entspricht.
Zur Berechnung von Frequenzgang und Empfindlichen des FET-Mikrofons
wird das in Abb. 2 gezeigte mechanische Ersatzschaltbild zugrunde gelegt.
R S(w) und M S(w) stellen die Strahlungsimpedanz Z mS der Membran
dar, M M die Masse und C M die Nachgiebigkeit der Membran, die mit der
Schnelle v m schwingt. Das rückwärtige Luftvolumen wird durch die Nachgiebigkeit
C V repräsentiert. Die Eingangskraft K=p×A setzt sich aus
der Membranfläche A und dem vor dem Membran herrschenden Wechseldruck p
zusammen.
Aufgrund der Frequenzabhängigkeit der Strahlungsimpedanz müssen für das
Ersatzschaltbild zwei Gültigkeitsbereiche unterschieden werden. Unterhalb
von etwa 155 kHz gilt für die Strahlungsimpedanz Z mS:
Z mS=R S+jwM S,
mit R S=2,245×10-16kg sec × w² und M S=3,163×10-16kg.
Oberhalb 155 kHz ergibt sich für die Strahlungsimpedanz:
Z mS=R S+jwM S,
mit R S=2,840×10-4kg/sec und M S=(240,5 kg/sec²)/w².
Die Membranelemente dynamische Masse M M und Nachgiebigkeit C M haben
die Werte:
M M=7,384×10-10kg und
C M=1/30T (Zugspannung T in N/m im Bereich 20 . . . 200 N/m).
Für die Nachgiebigkeit des rückwärtigen Luftvolumens V gilt:
C V=V/ ρ₀C²A eff².
Als effektive Querschnittsfläche A eff wird die Membranfläche angesetzt,
A eff=a². Das Volumen ergibt sich durch die Waferdicke, die die Rückvolumenhöhe
darstellt. Sie beträgt 280 µm. Somit folgt für C V:
C V=2,866×10-3sec²/kg.
Masse, Nachgiebigkeit und Reibungsverluste der Luft im Luftspalt können
vernachlässigt werden, da die Breite des Luftspaltes, der Breite der
Drain-Kanal-Source-Struktur entsprechend wesentlich kleiner ist als die
lateralen Abmessungen der Membran und der Öffnungen des Rückvolumens.
Die Rückwirkung des elektrischen Teils des FET-Mikrofons auf seine mechanischen
Eigenschaften entfällt, da die Membran das elektrische Feld
im Luftspalt durch die Vorspannung U GS niederohmig treibt. Bei herkömmlichen
Kondensatormikrofonen in Niederfrequenzschaltung kann jedoch die
Wirkung der angeschlossenen Schaltung auf das mechanische Verhalten des
Wandlers nicht vernachlässigt werden. Eingangswiderstand und -kapazität
des Vorverstärkers erzeugen eine Dämpfung und eine transformierte
"elektrische" Nachgiebigkeit, die in das Schwingungsverhalten der Membran
und damit in das Verhalten des gesamten Wandlers eingehen.
Für die mechanische Impedanz Z m folgt:
Z m=K/v m=Z mS+jwM M+1/jwC ges,
wobei C ges=(1/C M+1//C V)-1.
Mit v m=jwx und Membranfläche A folgt:
U a=-S me×R D=-S me R D V m /jw=-S me R D pA /jwZ m.
Für die Mikrofonempfindlichkeit M e und ihren Frequenzgang folgt
daraus:
M e=U a /p=-S me R D A/jwZ m
=-S me R D AC ges×1/(1-w²M M C ges+jwZ mS C ges)
Man erkennt, daß die Mikrofonempfindlichkeit proportional mit der mechanisch-
elektrischen Steilheit S me und dem Drainwiderstand R D ansteigt.
Diese lassen sich jedoch nicht beliebig vergrößern, da die verfügbare
Höhe der Betriebsspannung U B und die maximal einstellbare
elektrische Membranvorspannung U GS (Durchschlagfeldstärke im Kanal)
Obergrenzen darstellen. Eine große Gesamtnachgiebigkeit C ges bedingt
eine "weiche" Membrane (hohe Nachgiebigkeit C M) und ein großes Rückvolumen
(C V). Auch hier sind gewisse Grenzen gesetzt. Die kleine Membranfläche
A von Subminiaturwandlern stellt ein inhärentes Problem dar.
Eine grafische Darstellung der Abhängigkeit der Empfindlichkeit M e von
der Frequenz zeigt die Abb. 4 für verschiedene mechanische Membranspannungen
und Rückvolumina.
Eine zweckmäßige Ausführungsform eines kapazitiven Schallwandlers nach
der Erfindung wird anhand der Fig. 5 beschrieben. Das FET-Mikrofon besteht
aus zwei Chips, von denen der obere als Membraneinheit 1 die Membran
2 trägt und der untere als Gegenelektrodenstruktur 3 die Drain-Kanal-Source-Struktur
8 des FETs beträgt. Die Membran 2 besteht aus einer
150 nm starken Schicht 4 aus Siliziumnitrid, deren mechanische Spannungseigenschaften
durch Ionenimplantationen während des Herstellungsprozesses
beeinflußt werden können. Die Membran 2 wird von einem Stützrahmen
2.1 gehalten, welcher die Membran wallförmig umgibt und aus dem
halbleitenden Grundmaterial, vorzugsweise Silizium besteht. Sie ist auf
ihrer Unterseite mit einer 100-nm-starken Aluminiumschicht 5 bedampft.
Diese Bedampfung stellt das Gate des FETs dar. In dem unteren Chip werden
durch Plasmaätzen zwei wannenförmige Gruben 6 und 7 eingebracht,
die das Rückvolumen des Mikrofons bilden. Zwischen den Gruben befindet
sich ein 80 µm breiter Steg 8, der die Drain-Kanal-Source-Struktur 9,
10 und 11 des FETs trägt. Der Abstand des Kanals 10 zur Aluminiumschicht
der Membran 5 beträgt 2 µm. Auf der Gegenelektrodenstruktur 3
sind ferner drei nicht weiter im einzelnen dargestellte Anschlußpads 11
für Drainkontakt, Sourcekontakt und die Aluminiumschicht der Membran,
welche den Gate-Kontakt darstellt, angebracht. Eine Ausgleichsbohrung
für den statischen Luftdruck befindet sich im Siliziumoxid-Rand 12 des
Gegenelektrodenchips, sofern die Mikrofonkapsel als Druckwandler mit
akustisch abgeschlossenen Volumen arbeiten soll.
Die Prozeßschritte zur Herstellung sowohl des Chips für die Membraneinheit
als auch des Chips für die Gegenelektrodenstruktur sind dem in der
Halbleitertechnologie bewanderten Fachmann bekannt und brauchen hier
somit nicht weiter beschrieben zu werden. Um das Zusammenfügen der beiden
Halbleiterchips zu ermöglichen, wird noch auf die Siliziumoxidschicht
12 eine Aluminiumschicht 13 aufgebracht. Die beiden Chips werden
nun durch Erwärmung miteinander verbunden, wobei sich die gegenüberliegenden
Aluminiumflächen der Membraneinheit 5 und der Gegenelektrodenstruktur
13 miteinander verschmelzen.
Der in Fig. 5 beschriebene Wandler kann auch zu einem Gegentaktwandler
erweitert werden, indem eine zweite Gegenelektrodenstruktur mit einem
geeignet geformten Steg ähnlich dem Steg 8 in der durch den Wall vorgegebenen
Vertiefung der Membraneinheit 1 eingesetzt wird. In diesem Fall
muß dann die Membran 2 auf beiden Seiten eine Metallisierung erhalten.
Soll der Wandler in der beschriebenen Weise als Gegentaktwandler arbeiten
oder gemäß einer anderen zweckmäßigen Ausbildungsform eine Druckgradientencharakteristik
erhalten, so sind die vor beziehungsweise hinter
der Membran liegenden Volumina über Öffnungen mit dem äußeren
Schallfeld zu verbinden. In der Fig. 5 sind solche Öffnungen mit den
Bezugsziffern 14 und 15 beispielsweise eingezeichnet.
Bei der beschriebenen Wandlerausführung ist zunächst in der Gegenelektrodenstruktur
für die Kanalzone das N- oder P-Kanal-Anreicherungsprinzip
verwendet worden. In vorteilhafter Weise kann jedoch auch für die
Kanalzone das Verarmungsprinzip eingesetzt werden. Da hier bereits ein
Arbeitspunkt in der FET-Schaltung vorgeben ist, kann hier die gesonderte
Vorspannung für das Gate entfallen, da sie in bekannterweise über
einen im Source-Stromkreis eingesetzten Widerstand selbst erzeugt werden
kann.
Wie aus den Herstellungsverfahren für integrierte Schaltungen bekannt
geworden ist, werden sehr viele einander gleiche Baueinheiten auf einem
sogenannten Wafer gleichzeitig hergestellt und nach abgeschlossenem
Herstellungsverfahren auseinandergetrennt. Bei der Herstellung von kapazitiven
Schallwandlern nach der Erfindung ist es nun ebenfalls möglich,
sehr viele Kleinstmikrofone auf einem Wafer herzustellen, sie
aber nicht zu vereinzeln, sondern in besonders geformten Gruppen herauszutrennen.
Durch die Reihenanordnung mehrerer nebeneinanderliegender
Mikrofonsysteme und deren elektrische Zusammenschaltung ist es möglich,
beispielsweise ein Interferenz-Richtmikrofon zu erhalten.
Ein großer Vorteil bei einem kapazitiven Wandler nach der Erfindung
liegt darin, daß einer relativ großen aktiven Membranfläche, die für
einen guten akustischen Wirkungsgrad des Wandlers gefordert wird, nur
ein kleiner Teil der Membranfläche einer Gegenelektrodenstruktur gegenüber
liegt und somit die Strömungsverluste vernachlässigbar klein werden.
Daraus ergibt sich ein großer linearer Übertragungsbereich bei
sehr guter Empfindlichkeit, wie aus der Fig. 4 zu erkennen ist. Weiterhin
ist auch das Rauschverhalten des Wandlers außerordentlich günstig,
da der durch Dämpfungen im Luftspalt hervorgerufene Rauschanteil prinzipbedingt
sehr niedrig ausfällt. Kapazitive Wandler werden zumeist in
der sogenannten Niederfrequenzschaltung betrieben und benötigen daher
einen Vorwiderstand, dessen thermisches Rauschen ebenfalls mit wachsendem
Widerstandswert zunimmt. Sinkende Wandlerruhekapazitäten bei Miniaturmikrofonen
bedingen bei gleicher unterere Grenzfrequenz jedoch
größer werdende Vorwiderstände, worin bei den bisherigen Ausführungen
ein unlösbares Problem bestand. Da das FET-Mikrofon keinen Vorwiderstand
benötigt, ist damit ebenfalls der Rauschanteil wesentlich verringert
worden.
Das Rauschverhalten kann auch dadurch verbessert werden, daß mehrere
auf dem Wafer gemeinsam entstandene FET-Mikrofone parallel geschaltet
als eine Mikrofoneinheit betrieben werden.
Claims (10)
1. Kapazitiver Schallwandler, bestehend aus mindestens zwei zusammengefügten
Halbleiterchips, welche eine Membraneinheit und eine
feststehende Gegenelektrodenstruktur verkörpern und mittels bekannter
Methoden der Halbleitertechnologie hergestellt werden,
dadurch gekennzeichnet,
daß der akustisch aktive Teil der Membraneinheit mit mindestens einer Gegenelektrodenstruktur, welche von der Membraneinheit durch einen Luftspalt getrennt ist, ein einem Feldeffekttransistor vergleichbares System bildet derart,
daß einerseits die aus halbleitendem Grundmaterial gebildete Membraneinheit eine akustisch aktive Membranfläche umfaßt, deren der Gegenelektrodenstruktur zugewandte Seite elektrisch leitend ist, und andererseits die Gegenelektrodenstruktur aus einer aus halbleitenden Grundmaterial herausgearbeiteten, durch eine Source-Drain-Anordnung begrenzten Kanalstrecke besteht, deren geometrische Breitenabmessung in der Größenordnung von einem Zehntel der lateralen Abmessung der aktiven Membranfläche liegt.
daß der akustisch aktive Teil der Membraneinheit mit mindestens einer Gegenelektrodenstruktur, welche von der Membraneinheit durch einen Luftspalt getrennt ist, ein einem Feldeffekttransistor vergleichbares System bildet derart,
daß einerseits die aus halbleitendem Grundmaterial gebildete Membraneinheit eine akustisch aktive Membranfläche umfaßt, deren der Gegenelektrodenstruktur zugewandte Seite elektrisch leitend ist, und andererseits die Gegenelektrodenstruktur aus einer aus halbleitenden Grundmaterial herausgearbeiteten, durch eine Source-Drain-Anordnung begrenzten Kanalstrecke besteht, deren geometrische Breitenabmessung in der Größenordnung von einem Zehntel der lateralen Abmessung der aktiven Membranfläche liegt.
2. Kapazitiver Schallwandler nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß als Grundmaterial für die Membraneinheit und die Gegenelektrodenstruktur
Silizium eingesetzt wird, und die aktive Fläche der
Membraneinheit aus einer Siliziumnitrid-Schicht besteht, welche
mit Aluminium bedampft und deren mechanische Spannung durch Ionenimplantation
bestimmt ist.
3. Kapazitiver Schallwandler nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß nach Art eines Gegentaktwandlers beide Seiten der aktiven
Fläche der Membran metallisiert sind und jeder Seite eine Gegenelektrodenstruktur
zugeordnet ist.
4. Kapazitiver Wandler nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß in der Gegenelektrodenstruktur für die Kanalzone das N- oder
P-Kanal-Anreicherungsprinzip verwendet wird.
5. Kapazitiver Wandler nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß in der Gegenelektrodenstruktur für die Kanalzone das N- oder
P-Kanal-Verarmungsprinzip verwendet wird.
6. Kapazitiver Wandler nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
gekennzeichnet,
durch eine durch ein abgeschlossenes Volumen der Gegenelektrodenstruktur
bedingte Durchwandlercharakteristik.
7. Kapazitiver Wandler nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
gekennzeichnet,
durch eine durch in der Gegenelektrodenstruktur außerhalb des
Kanalbereichs angeordnete Öffnungen bedingte Druckgradientencharakteristik.
8. Mehrfachwandler unter Verwendung von kapazitiven Schallwandlern
nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
gekennzeichnet,
durch die elektrische Zusammenschaltung mehrerer auf einem
Wafer in Reihe angeordneter und gleichzeitig hergestellter Wandler
zu einem Interferenz-Richtmikrofon.
9. Mehrfachwandler unter Verwendung von kapazitiven Wandlern
nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
gekennzeichnet,
durch die elektrische Parallelschaltung mehrerer auf einem
Wafer gemeinsam herausgetrennter Wandlersysteme.
10. Kapazitiver Wandler nach einem vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß auf der Gegenelektrodenstruktur weitere, Verstärkerschaltungen
bildende Bauelemente integriert sind.
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AT89103276T ATE110919T1 (de) | 1988-03-05 | 1989-02-24 | Kapazitiver schallwandler. |
EP89103276A EP0331992B1 (de) | 1988-03-05 | 1989-02-24 | Kapazitiver Schallwandler |
CA000592657A CA1298396C (en) | 1988-03-05 | 1989-03-03 | Capacitive sound transducer |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001093631A2 (de) * | 2000-05-27 | 2001-12-06 | Sennheiser Electronic Gmbh & Co. Kg | Wandler mit halbleitender membran |
EP1713299A2 (de) | 2005-04-14 | 2006-10-18 | Siemens Audiologische Technik GmbH | Mikrofonvorrichtung für ein Hörgerät |
DE102005031601A1 (de) * | 2005-07-06 | 2007-01-11 | Robert Bosch Gmbh | Kapazitives, mikromechanisches Mikrofon |
DE102005043690B4 (de) * | 2005-09-14 | 2019-01-24 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanisches Mikrofon |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5146435A (en) * | 1989-12-04 | 1992-09-08 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Acoustic transducer |
FR2697675B1 (fr) * | 1992-11-05 | 1995-01-06 | Suisse Electronique Microtech | Procédé de fabrication de transducteurs capacitifs intégrés. |
DE4314888C1 (de) * | 1993-05-05 | 1994-08-18 | Ignaz Eisele | Verfahren zum Abscheiden einer ganzflächigen Schicht durch eine Maske und optionalem Verschließen dieser Maske |
US5446413A (en) * | 1994-05-20 | 1995-08-29 | Knowles Electronics, Inc. | Impedance circuit for a miniature hearing aid |
US5452268A (en) * | 1994-08-12 | 1995-09-19 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Acoustic transducer with improved low frequency response |
US5894452A (en) * | 1994-10-21 | 1999-04-13 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Microfabricated ultrasonic immersion transducer |
US5619476A (en) * | 1994-10-21 | 1997-04-08 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Jr. Univ. | Electrostatic ultrasonic transducer |
TW387198B (en) * | 1997-09-03 | 2000-04-11 | Hosiden Corp | Audio sensor and its manufacturing method, and semiconductor electret capacitance microphone using the same |
US5982709A (en) * | 1998-03-31 | 1999-11-09 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Acoustic transducers and method of microfabrication |
EP1093685A4 (de) * | 1998-06-05 | 2004-09-01 | Knowles Electronics Llc | Festkörperempfanger |
FI105880B (fi) | 1998-06-18 | 2000-10-13 | Nokia Mobile Phones Ltd | Mikromekaanisen mikrofonin kiinnitys |
US6088463A (en) * | 1998-10-30 | 2000-07-11 | Microtronic A/S | Solid state silicon-based condenser microphone |
EP1142442A2 (de) * | 1999-01-07 | 2001-10-10 | Sarnoff Corporation | Hörhilfegerät mit grossmembran-mikrofonelement einschliesslich leiterplatte |
US6522762B1 (en) * | 1999-09-07 | 2003-02-18 | Microtronic A/S | Silicon-based sensor system |
WO2001050814A1 (en) * | 2000-01-06 | 2001-07-12 | Sarnoff Corporation | Microphone assembly with jfet flip-chip buffer for hearing aid |
US6842964B1 (en) | 2000-09-29 | 2005-01-18 | Tucker Davis Technologies, Inc. | Process of manufacturing of electrostatic speakers |
US6647368B2 (en) | 2001-03-30 | 2003-11-11 | Think-A-Move, Ltd. | Sensor pair for detecting changes within a human ear and producing a signal corresponding to thought, movement, biological function and/or speech |
US6671379B2 (en) | 2001-03-30 | 2003-12-30 | Think-A-Move, Ltd. | Ear microphone apparatus and method |
US7065224B2 (en) * | 2001-09-28 | 2006-06-20 | Sonionmicrotronic Nederland B.V. | Microphone for a hearing aid or listening device with improved internal damping and foreign material protection |
US7142682B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-11-28 | Sonion Mems A/S | Silicon-based transducer for use in hearing instruments and listening devices |
US7415121B2 (en) * | 2004-10-29 | 2008-08-19 | Sonion Nederland B.V. | Microphone with internal damping |
US20060233412A1 (en) * | 2005-04-14 | 2006-10-19 | Siemens Audiologische Technik Gmbh | Microphone apparatus for a hearing aid |
EP1742506B1 (de) * | 2005-07-06 | 2013-05-22 | Epcos Pte Ltd | Mikrofonanordnung mit P-typ Vorverstärkerseingangsstufe |
US7317234B2 (en) * | 2005-07-20 | 2008-01-08 | Douglas G Marsh | Means of integrating a microphone in a standard integrated circuit process |
US7983433B2 (en) | 2005-11-08 | 2011-07-19 | Think-A-Move, Ltd. | Earset assembly |
DE102005056759A1 (de) | 2005-11-29 | 2007-05-31 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanische Struktur zum Empfang und/oder zur Erzeugung von akustischen Signalen, Verfahren zur Herstellung einer mikromechanischen Struktur und Verwendung einer mikromechanischen Struktur |
WO2007147049A2 (en) | 2006-06-14 | 2007-12-21 | Think-A-Move, Ltd. | Ear sensor assembly for speech processing |
US20080042223A1 (en) * | 2006-08-17 | 2008-02-21 | Lu-Lee Liao | Microelectromechanical system package and method for making the same |
US20080075308A1 (en) * | 2006-08-30 | 2008-03-27 | Wen-Chieh Wei | Silicon condenser microphone |
US20080083957A1 (en) * | 2006-10-05 | 2008-04-10 | Wen-Chieh Wei | Micro-electromechanical system package |
US20080083958A1 (en) * | 2006-10-05 | 2008-04-10 | Wen-Chieh Wei | Micro-electromechanical system package |
US7894622B2 (en) | 2006-10-13 | 2011-02-22 | Merry Electronics Co., Ltd. | Microphone |
TWI336770B (en) | 2007-11-05 | 2011-02-01 | Ind Tech Res Inst | Sensor |
US8208671B2 (en) * | 2008-01-16 | 2012-06-26 | Analog Devices, Inc. | Microphone with backside cavity that impedes bubble formation |
US8855350B2 (en) * | 2009-04-28 | 2014-10-07 | Cochlear Limited | Patterned implantable electret microphone |
EP2553944A4 (de) * | 2010-03-30 | 2016-03-23 | Cochlear Ltd | Elektret-mikrofon mit geringer rauschentwicklung |
DE102011002457A1 (de) * | 2011-01-05 | 2012-07-05 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanische Mikrofoneinrichtung und Verfahren zum Herstellen einer mikromechanischen Mikrofoneinrichtung |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3624315A (en) * | 1967-01-23 | 1971-11-30 | Max E Broce | Transducer apparatus and transducer amplifier system utilizing insulated gate semiconductor field effect devices |
DE2130887B1 (de) * | 1971-06-22 | 1972-09-07 | Willco Hoergeraete Med Appbau | Richtmikrophon fuer am Kopf zu tragende Kleinhoergeraete |
SE358801B (de) * | 1971-10-13 | 1973-08-06 | Ericsson Telefon Ab L M | |
JPS4859823A (de) * | 1971-11-24 | 1973-08-22 | ||
JPS5011787A (de) * | 1973-06-04 | 1975-02-06 | ||
FR2425912A1 (fr) * | 1978-05-17 | 1979-12-14 | Muller Alfred | Dispositif de coupe, en particulier coupe-boulon |
JPS55166400A (en) * | 1979-06-14 | 1980-12-25 | Nec Corp | Capacitor microphone |
JPS57193198A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-27 | Toshiba Corp | Electrostatic microphone |
US4429190A (en) * | 1981-11-20 | 1984-01-31 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Continuous strip electret transducer array |
US4558184A (en) * | 1983-02-24 | 1985-12-10 | At&T Bell Laboratories | Integrated capacitive transducer |
JPS59171298A (ja) * | 1983-03-17 | 1984-09-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロホン装置 |
US4533795A (en) * | 1983-07-07 | 1985-08-06 | American Telephone And Telegraph | Integrated electroacoustic transducer |
US4524247A (en) * | 1983-07-07 | 1985-06-18 | At&T Bell Laboratories | Integrated electroacoustic transducer with built-in bias |
DE3325961A1 (de) * | 1983-07-19 | 1985-01-31 | Dietmar Hohm | Kapazitive wandler auf siliziumbasis mit siliziumdioxid-elektret |
US4691363A (en) * | 1985-12-11 | 1987-09-01 | American Telephone & Telegraph Company, At&T Information Systems Inc. | Transducer device |
-
1988
- 1988-03-05 DE DE3807251A patent/DE3807251A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-02-24 DE DE58908250T patent/DE58908250D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-24 EP EP89103276A patent/EP0331992B1/de not_active Expired - Lifetime
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- 1989-03-03 CA CA000592657A patent/CA1298396C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-03-06 JP JP1053596A patent/JPH01316099A/ja active Pending
- 1989-03-06 US US07/319,602 patent/US4922471A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001093631A2 (de) * | 2000-05-27 | 2001-12-06 | Sennheiser Electronic Gmbh & Co. Kg | Wandler mit halbleitender membran |
DE10026474A1 (de) * | 2000-05-27 | 2001-12-06 | Sennheiser Electronic | Wandler mit halbleitender Membran |
WO2001093631A3 (de) * | 2000-05-27 | 2002-03-28 | Sennheiser Electronic | Wandler mit halbleitender membran |
DE10026474B4 (de) * | 2000-05-27 | 2005-06-09 | Sennheiser Electronic Gmbh & Co. Kg | Wandler mit halbleitender Membran |
EP1713299A2 (de) | 2005-04-14 | 2006-10-18 | Siemens Audiologische Technik GmbH | Mikrofonvorrichtung für ein Hörgerät |
DE102005017357A1 (de) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Siemens Audiologische Technik Gmbh | Mikrofonvorrichtung für ein Hörgerät |
DE102005031601A1 (de) * | 2005-07-06 | 2007-01-11 | Robert Bosch Gmbh | Kapazitives, mikromechanisches Mikrofon |
DE102005031601B4 (de) * | 2005-07-06 | 2016-03-03 | Robert Bosch Gmbh | Kapazitives, mikromechanisches Mikrofon |
DE102005043690B4 (de) * | 2005-09-14 | 2019-01-24 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanisches Mikrofon |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4922471A (en) | 1990-05-01 |
EP0331992A3 (de) | 1991-07-03 |
EP0331992B1 (de) | 1994-08-31 |
CA1298396C (en) | 1992-03-31 |
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JPH01316099A (ja) | 1989-12-20 |
DE58908250D1 (de) | 1994-10-06 |
EP0331992A2 (de) | 1989-09-13 |
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