DE3521680A1

DE3521680A1 - Verfahren und vorrichtung zum trocknen von gelplatten

Info

Publication number: DE3521680A1
Application number: DE19853521680
Authority: DE
Inventors: Samuel Oakland Calif. Burd; George G. San Anselmo Calif. Fernwood
Original assignee: Bio Rad Laboratories Inc
Current assignee: Bio Rad Laboratories Inc
Priority date: 1984-09-20
Filing date: 1985-06-18
Publication date: 1986-03-27
Also published as: US4612710A; CA1263230A; GB8514185D0; GB2164735B; JPH0576579B2; GB2164735A; DE3521680C2; JPS6179151A

Description

-7-Beschreibung

Die Erfindung betrifft Laborverfahren und Laboreinrichtungen zum Trocknen von ebenen Gelplatten nach elektrophoretischen Trennungen; sie betrifft insbesondere das Fixieren von Gelen und der Position der Banden darin zum Zwecke der Aufbewahrung (Konservierung) und genauen Analyse des elektrophoretischen Musters.

In den bereits existierenden Einrichtungen zum Fixieren von Gelplatten durch Dehydratation werden im allgemeinen sowohl Wärme als auch Vakuum angewendet, um die Feuchtigkeit aus dem Gel zu verdampfen. Eines von mehreren Beispielen in der publizierten Literatur für eine solche Einrichtung ist diejenige, wie sie von Hoefer in der US-PS 4 020 563 beschrieben ist.

Das Trocknen eines Gels wird erschwert durch die Tatsache, daß das Gel beim Trocknen zu einem für ein Fluid bzw. eine Flüssigkeit undurchlässigen spröden Feststoff vitrifiziert wird. Beim lokalisierten Erhitzen oder Verdampfen trocknet somit eine Oberfläche oder ein Bereich einer Gelplatte, die Feuchtigkeit in den benachbarten Bereichen muß ihren Weg um die getrockneten Bereiche herum finden, um entweichen zu können. Häufig kann die Feuchtigkeit im Innern des Gels eingeschlossen werden. Wenn die eingeschlossene Feuchtigkeit verdampft und sich weiter ausdehnt, nimmt der Druck im Innern des Gels zu und die seitlichen Spannungen steigen, was dazu führt, daß das trocknende Gel reißt. Wenn winzige Risse auftreten, dehnen sie sich außerdem schnell aus, da der unter Druck stehende eingeschlossene Dampf zu entweichen sucht.

Gegenstand der Erfindung sind eine Vorrichtung und ein

Verfahren zum Trocknen einer Gelplatte mit verbesserten Ergebnissen gegenüber dem Stand der Technik. Sowohl in der Vorrichtung als auch in dem Verfahren wird eine Vakuumquelle, die unterhalb einer horizontal auf einem Träger aufliegenden Gelplatte angeordnet ist, kombiniert mit einer beschwerten Heizplatte, die auf der Oberseite der Platte ruht, wodurch die Platte unter dem Einfluß der Schwerkraft zusammengedrückt wird. Die die Platte verlassende verdampfte Feuchtigkeit strömt nach unten

,Q in einer gleichmäßigen Rate an allen Punkten in der Gelplatte von der Wärmequelle weg und der Kontaktdruck des Heizelements ist konstant innerhalb des Trocknungsverfahrens, wenn das Gel in seiner Dicke abnimmt. Parallele Wärme- und Druckgradienten werden aufrechterhalten, um

. ρ- eine gleichmäßige Trocknung des Gels ohne Einschluß von Feuchtigkeit oder Druckanreicherung im Innern des Gels zu bewirken. Das Ergebnis ist eine beträchtliche Verbesserung der Beständigkeit einer Gelplatte gegen Rißbildung während der Dehydratation.

Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 eine perspektivische Ansicht einer beispielhaf_o_ ten Trocknungsvorrichtung gemäß der VOrliegen-

den Erfindung mit weggebrochenen Teilen, bei der die Heizplatte in einen mit einem Scharnier versehenen Deckel eingearbeitet ist, der in der offenen Position gezeigt wird;

Fig. 2 eine Schnitt-Seitenaufrißansicht des Deckels und der Heizplatte der Ausführungsform gemäß Fig. 1 entlang der Linie 2-2 derselben;

__ Fig. 3 eine Schnitt-Frontaufrißansicht des Deckels und ob

der Heizplatte der Ausführungsform gemäß Fig. 1 entlang der Linie 3-3 derselben; und

Fig. 4 eine Frontaufrißansicht der in Fig. 1 gezeigten Vorrichtung in auseinandergezogener Anordnung entlang der Linie 4-4 derselben.

In der Fig. 1 ist ein Gelplattentrockner 10 gezeigt, der eine beispielhafte Ausführungsform der Erfindung darstellt. Der Trockner besteht aus einer Basis 11 und einem Deckel Beide haben im allgemeinen eine rechteckige Form, wobei der Deckel mittels eines Scharniergelenks entlang einer der langen Seiten, welche die Rückseite der Vorrichtung bildet, drehbar an der Basis befestigt.ist.

In der Basis ist ein offener Behälter 13 vorgesehen für die Aufnahme eines porösen Trägerpolsters 14 mit einer ebenen horizontalen oberen Oberfläche 15 mit ausreichenden Dimensionen, um eine feuchte Gelplatte zu tragen. Die Größe und Gestalt des Trägerpolsters sind nicht kritisch, vorausgesetzt, daß seine Oberfläche 15 mindestens die gleiche Ausdehnung hat wie die Gelplatte. Während eines typischen Trocknungsverfahrens wird das Gel zwischen Schutzfolien gelegt, die sich über seine Ränder hinaus erstrecken. Bei bevorzugten Ausführungsformen der Trocknungsvorrichtung ist daher die Polsteroberfläche sowohl langer als auch breiter als das Gel, so daß ein Rand verbleibt, der das Gel in einer ausreichenden Breite umgibt, um die überschüssige Breite der Schutzfolien aufzunehmen .

Da die in der Elektrophorese verwendeten Gelplatten im allgemeinen rechteckig sind, sind der Behälter 13 und das Trägerpolster 14, die in der Zeichnung dargestellt sind, ebenfalls rechteckig, wobei der Behälter eine ebene Bodenoberfläche 16 und gerade Seitenwände 17 aufweist. Die Bodenoberfläche weist eine zentrale öffnung 18 auf, durch die ein Vakuum erzeugt wird. Die öffnung 18 steht, wie gezeigt ist, an der Seite oder der Rückwand der Basis mit einer äußeren Rohrverbindung 18a für

-ιοί den Anschluß an eine Vakuumleitung, die zu einer Vakuumquelle führt, in Verbindung. Es kann eine übliche Laborvakuumanlage verwendet werden. Beim typischen Betrieb ist das Vakuum ein Teilvakuum von mindestens 58,42 cm (23 inches) Quecksilber (absoluter Druck von weniger als etwa 200 Torr, entsprechend 26,66 kPa) .

Um eine einheitliche Trocknungsrate über die gesamte Oberfläche der Gelplatte zu erzielen, muß die Abzugskraft des Vakuums aus der Vakuumöffnung 18 so verteilt sein, daß sie die gesamte Länge und Breite des Gels umfaßt. Um diesen Verteilungseffekt zu fördern, sind die oberen und unteren Oberflächen des Trägerspolsters 14 durch offene Poren oder Durchgänge 19 miteinander verbunden, die ausreichend eng oder so gewunden sind, daß ein Strömungswiderstand entsteht, der den Bereich erweitert, aus dem das Gas oder der Dampf in die Vakuumöffnung abgezogen wird. Daher muß das Polster aus Materialien, wie porösem Polyethylen oder anderen starren Kunststoffschäumen, einem gesinterten Metall oder miteinander verbundenen Glasperlen bestehen. Außerdem sind in der Bodenoberfläche 16 des Behälters eine oder mehr Rillen 20 vorgesehen, die sich in Richtung auf die Seitenwände 17 erstrecken und in die Vakuumöffnung 18 öffnen. Diese erlauben das Strömen des Dampfes zu der Vakuumöffnung mit einem beträchtlich niedrigeren Strömungswiderstand als die Poren 19 in dem Trägerpolster und dadurch die Aufrechterhaltung eines im wesentlichen einheitlichen Druckes entlang des Bodens des Behälters, während Dampf durch das Polster abgezogen wird. Bei bevorzugten Ausführungsformen sind die Rillen radial und symmetrisch um die Vakuumöffnung herum angeordnet, wie in Fig. 1 gezeigt. Als Folge davon wird die verdampfte Feuchtigkeit, die das Gel verläßt, in einer einheitlichen Rate entlang der gesamten seitlichen Ausdehnung des Gels gerade nach unten abgezogen, so daß das Gel wäirend des gesamten Trocknungsverfahrens frei von

- 352168G -11-seitlichen Spannungen bleibt.

Die Gelplatte mit Schutzschichten sowohl auf der Oberseite als auch auf der Unterseite wird so auf die Oberseite des Trägerpolsters 14 gelegt, daß alle ihre Kanten innerhalb derjenigen des Polsters liegen. Die Platte wird dann mit einer flexiblen Deckfolie 21 in Form einer Lasche bedeckt, die sich über den gesamten Behälter 13 erstreckt und den Rand 2 2 überlappt, der durch die oberen Ränder

IQ der Seitenwände 17 gebildet wird. Die Deckfolie und der Behälter bilden auf diese Weise eine geschlossene Kammer, die das Vakuum hält. Die Deckfolie besteht aus einem Material, das ein Vakuum halten kann, aber dennoch ausreichend verformbar ist, um um den Rand 22 herum eine Abdichtung zu bilden, wenn der Druck im Innern der Kammer herabgesetzt wird.

Die Dicke des Trägerblockes 14 ist so groß, daß seine obere Oberfläche eine ausreichende Höhe hat, um das Gel mit der Deckfolie in vollen Kontakt zu bringen (über die obere Schutzschicht), bevor das Vakuum angelegt wird. Der durch die Deckfolie auf das Gel ausgeübte Druck, wenn die Kammer evakuiert wird, ist dann gleichmäßig entlang der gesamten Kontaktfläche zwischen der Gelplatte und der Abdeckung.

Die Abdeckung 21 wird vorzugsweise aus einem transparenten Material zugeschnitten, so daß der Bediener der Vorrichtung das Trocknungsverfahren überwachen kann. Ein Beispiel gO für ein solches Material ist ein klarer Siliconkautschuk. Die in der Zeichnung dargestellte Abdeckung ist an einer Seite an der Basis befestigt, so daß die Abdeckung angehoben werden kann, um den Trägerblock und die Gelplatte leicht einführen und herausnehmen zu können.

Der Deckel 12 der Vorrichtung trägt eine hängende Heizplatte 23. Die Platte wird in dem Deckel mittels einer

losen reibungsfreien Befestigung zurückgehalten, die der Platte einen ausreichenden Freiheitsgrad in Richtung senkrecht zum Deckel erlaubt, so daß dann, wenn der Deckel geschlossen wird, die untere Oberfläche der Platte auf der Oberseite der flexiblen Deckfolie 21 unter ihrer vollen Schwerkraft und nichts anderem ruht. Ein Beispiel für eine solche Verbindung ist die in den Zeichnungen dargestellte, die aus einer Reihe von Stützen 24 besteht, die sich von der inneren Oberfläche des Deckels nach IQ unten erstrecken und von denen jede in eine erhabene Öffnung oder in einen sich nach oben von der Heizplatte erstreckenden Ring paßt. In einer zweckmäßigen Anordnung ist eine solche Stütze in der Nähe jeder der vier Ecken des Deckels angeordnet.

Eine der vier Stützen- und Ring-Kombinationen ist in der Fig. 2 im Detail dargestellt. Bei der gezeigten Ausführungsform ist der Ring eine Öffnung 2 5 in einem L-förmigen Vorsprung 26, der sich von der Heizplatte 23 in der Nähe der Ecke der Platte nach oben erstreckt. Die Öffnung hat einen größeren Durchmesser als der Schaft 27 der Stütze, so daß ein lockerer Sitz für das reibungslose Gleiten des Vorsprungs an dem Schaft nach unten erhalten wird. Die verbreiterte Basis der Stütze 28, die einen größeren Durchmesser als die Öffnung 2 5 hat, begrenzt den Weg der Wanderung des Arms, wodurch die Heizplatte in dem Deckel zurückgehalten wird, wenn der Deckel angehoben wird.

Die Länge jedes Schafts und somit der Höhenbereich der gO Heizplatte 23 werden so gewählt, daß dann, wenn der Deckel 12 über der Basis 11 geschlossen wird, die Platte mit der Deckfolie 21 in Kontakt steht und jede Öffnung 2 5 einen Abstand von beiden Grenzen des Schaftes hat, die so verbleiben, wenn das Gel während der Trocknung in gg der Dicke schrumpft. Als Folge davon übt die Heizplatte eine konstante Schwerkraft auf das Gel während des Trocknungsverfahrens aus.

Die Heizplatte 2 3 und die damit verbundenen Kontrolleinrichtungen sind in Fig. 3 dargestellt. Die Heizplatte kann irgendeinen konventionellen Aufbau haben, der eine im wesentlichen gleichmäßige Wärmeübertragung auf die Gelplatte gibt. Ein Heizelement vom elektrischen Widerstands-Typ ist beispielsweise besonders geeignet. Typische derartige Elemente können aus einem elektrischen Draht bestehen, der zwischen Siliconkautschukfolien eingewoben ist, oder sie können irgendeinen anderen üblichen Aufbau für ein Heizpolster haben. Bei der in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsform hat die Platte eine Laminatstruktur, bestehend aus einem ebenen Heizelement 29, das mit einer Platte aus einem wärmeleitfähigen Material 30, wie z.B. Aluminium oder Kupfer, verbunden ist. Die Platte fördert die gleichmäßige Verteilung der durch das Heizelement erzeugten Wärme und wenn sie oberhalb des Elements, wie dargestellt, angeordnet ist, steht die Temperatur des Elements mit den Thermostaten 31, 32, 33 in Verbindung. Die Platte 30 verleiht der Heizplatte auch Masse, die sich zu der Kraft addiert, mit der die Platte mit der Deckfolie 21 oberhalb der Gelplatte in Kontakt steht.

Das Gesamtgewicht der Platte ist nicht kritisch und kann stark variieren. Im allgemeinen liefert eine Platte mit einem Gewicht von etwa 0,5 bis etwa 5 g/cm² Kontaktoberfläche, vorzugsweise von etwa 0,75 bis etwa 3 g/cm², die besten Ergebnisse. Platten mit einem Gewicht von etwa 1,1 bis etwa 1,3 g/cm² haben sich als besonders zweckmäßig erwiesen.

Die Kontrolle der Temperatur der Heizplatte kann nach konventionellen Methoden erzielt werden. Die in den Zeichnungen dargestellte Ausführungsform enthält eine Reihe von Thermostaten 31, 32, 33, um die Vorrichtung flexibel zu machen, so daß sie an die Bedürfnisse von Gelen unterschiedlicher Dicken und Konzentrationen angepaßt werden kann. Eine besonders vorteilhafte Anordnung umfaßt eine

niedrige Wärmeeinstellung und eine hohe Wärmeeinstellung sowie einen Überhitzungsschutz und somit die drei gezeigten Thermostaten. So ist beispielsweise ein Thermostat für niedrige Wärme, der auf 60⁰C eingestellt ist, geeignet für Gele, die autoradiographisch analysiert werden sollen, oder für ähnliche Systeme, die dazu neigen, bei höheren Temperaturen an Genauigkeit zu verlieren, während der Thermostat für einen hohen Wärmewert auf 80⁰C eingestellt werden kann für die Verwendung in anderen Systemen. Die

IQ Wahl des herrschenden Thermostaten kann durch einen Schalter 34 außen auf der Vorrichtung gesteuert werden, wie in Fig. 1 gezeigt. Der dritte Thermostat kann so eingestellt werden, daß die Heizeinrichtung abgeschaltet wird, wenn die Temperatur ein vorgegebenes Maximum von beispielsweise

-^g 90⁰C übersteigt. Dieser dient als überhitzungsschutz für den Fall, daß der Kontrollthermostat, der in Betrieb ist, versagt. Weitere gegebenenfalls vorhandene Merkmale umfassen einen Zeitgeber 35 für das Heizelement und ein Anzeigelicht 36, das anzeigt, ob der Zeitgeber ein- oder ausgeschaltet ist, wodurch angezeigt wird, wenn die Trocknungsfolge beendet ist.

In der Fig. 4 ist die gesamte Vorrichtung in Form einer Frontansicht in auseinandergezogener Darstellung gezeigt, wobei der Deckel nicht mit einem Scharniergelenk versehen ist, und die außerdem die Gelplatte und Schutzschichten umfaßt. Bei dieser Darstellung ist ein Isolierpolster 37 gezeigt, das in das Innere der Basis 11 paßt, so daß es nach oben gegen die Unterseite 38 der Bodenoberfläche

«Ο des Behälters 13 drückt. Das isolierende Polster enthält eine Öffnung 39 für die Aufnahme der Vakuumleitung. In dieser Anordnung untersützt das Isolierpolster die Rückhaltung der Wärme in dem System für eine wirksamere Trocknung.

Wie in der Fig. 4 gezeigt, ist das System bestimmt für die Verwendung mit einer Gelplatte 40, die durch Schutzschich-

ten 41 bzw. 42 unterhalb bzw. oberhalb begrenzt ist, wie sie beim Trocknen und Fixieren von Gelplatten üblicherweise verwendet werden. Die Materialien für die Schutzschichten können solche sein, wie sie üblicherweise gemäß Stand der Technik verwendet werden. Die untere Schutzschicht ist eine Folie mit einer ausreichenden Porosität, um den Dampfstrom hindurch zu erlauben und um ausreichend sorptiv zu sein, um sich mit dem Gel zu verbinden, wenn das Gel trocknet. Im allgemeinen ist ein übliches Laborfilterpapier verschiedener Grade oder Cellophan geeignet. Die obere Schutzfolie 37 kann porös oder nicht-porös sein, in jedem Falle ist sie jedoch leicht verformbar. Wenn das Vakuum angelegt wird, haftet die obere Folie fest an den Rändern des Gels.

Wenn die Folie aus einem porösen Material, wie z.B.

Cellophan, hergestellt ist, haftet das Gel beim Trocknen daran. Die Folie muß deshalb klar sein, um eine visuelle Analyse zu erlauben, wenn einmal das Trocknen beendet ist. Beispiele für klare nicht-poröse Materialien sind

Saran Wrap®, Glad Wrap® und Mylar®. Nicht-haftende poröse Materialien, wie z.B. poröses Polyethylen oder poröses Polypropylen, sind von dem getrockneten Gel entfernbar und brauchen daher nicht klar zu sein. Im allgemeinen sind jedoch klare Materialien bevorzugt sowohl für die obere Schutzfolie 41 als auch für die Deckfolie 21 der Trocknungsvorrichtung, so daß das Fortschreiten der Trocknung visuell überwacht werden kann, ohne das Vakuum zu unterbrechen. In einigen Fällen kann die obere Schutzfolie vollständig eliminiert werden und die Deckfolie 21 kann als einziger Schutz für die obere Oberfläche der Gelplatte dienen.

Die vorstehende Beschreibung dient hauptsächlich der Erläuterung der Erfindung, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Es ist für den Fachmann auf diesem Gebiet klar, daß zahlreiche Modifikationen und Abänderungen der Materialien, des Aufbaus und der vorstehend be-

schriebenen Verfahren angewendet werden können, ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen wird.

Claims

Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen von Gelplatten

Patentansprüche

1 . Vorrichtung zum Trocknen einer horizontal unterstützten Gelplatte, gekenn ze ichnet durch eine beschwerte Heizplatte (23) , die auf der Oberseite der Gelplatte (40) unter dem Einfluß der Schwerkraft ruht und mindestens die gleiche Ausdehnung wie dieselbe hat; und

eine Einrichtung zur Herabsetzung des Atmosphärendruckes unterhalb der Gelplatte (40) in im wesentlichen einheitlicher Weise über die gesamte Oberfläche derselben, um verdampfte Feuchtigkeit nach unten aus der Platte (40) abzuziehen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem eine Vakuum-haltende Folie (21) aufweist, die zwischen der Heizplatte (2 3) und der Gelplatte (40) angeordnet ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Vakuum-haltende Folie (21) transparent ist.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem eine Vakuumhaltende Kammer aufweist, welche die Gelplatte (40) umschließt und oben durch eine transparente Vakuumhaltende Folie (21), die zwischen der Heizplatte

(23) und der Gelplatte (40) angeordnet ist, versiegelt ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,

dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der Heizplatte (2 3) etwa 0,5 bis etwa 5,0 g/cm² der auf der Gelplatte (40) ruhenden Oberfläche beträgt.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der Heizplatte (2 3) etwa 0,75 bis etwa 3,0 g/cm² der auf der Gelplatte (40) ruhenden Oberfläche beträgt.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizplatte (23) ein Laminat ist, das besteht aus einem ebenen elektrischen Widerstandsheizelement (29), das an eine Platte aus einem wärmeleitfähigen Material (30) gebunden ist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem eine Vakuumhaltende Kammer aufweist, welche die Gelplatte (40) umschließt und oben durch eine transparente Vakuumhaltende Folie (21), die zwischen der Heizplatte (23) und der Gelplatte (40) angeordnet ist, abgedichtet wird und in der die Heizplatte (23) unter einem drehbar an der Kammer befestigten Deckel (12) festgehalten wird.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizplatte (23) mittels einer Verbindung, die

besteht aus einer Vielzahl von Stützen (24), die jeweils gleitend in eine lose passende öffnung eingreifen, in dem Deckel (12) zurückgehalten wird.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Druckreduziereinrichtung besteht aus einer Vakuumöffnung (18), die zentral unterhalb der Gelplatte (40) angeordnet ist, und einem porösen Trägerpolster (14), das zwischen der Vakuum-];Q öffnung (18) und der Gelplatte (40) angeordnet ist, das einen ausreichenden Strömungswiderstand ergibt, um die durch die Vakuumöffnung (18) hervorgerufene Zugkraft seitlich zu expandieren.

ic
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem eine Vakuumhaltende Kammer mit einem ebenen Boden aufweist, welche die Gelplatte (40) umschließt und oben durch eine Vakuumhaltende Folie (21), die zwischen der Heizplatte (23)

„_n und der Oberseite der Gelplatte (40) angeordnet ist, abgedichtet ist und in der die Druckreduziereinrichtung besteht aus:

einer Vakuumöffnung (18) , die zentral in der Bodenoberfläche (16) der Kammer angeordnet ist;

2g einem porösen Trägerpolster (14), das zwischen der Vakuumöffnung (18) und der Gelplatte (40) angeordnet ist, das einen ausreichenden Strömungswiderstand ergibt, um die durch die Vakuumöffnung (18) hervorgerufene Zugkraft seitlich zu expandieren; und

OQ mindestens einer Rille (20) in der Bodenoberfläche (16) der Kammer, die sich von der Vakuumöffnung (18) hin zum Umfang der Bodenoberfläche (16) erstreckt, um entlang der Bodenoberfläche (16) einen im wesentlichen einheitlichen Druck aufrechtzuerhalten.
12. Vorrichtung zum Trocknen einer Gelplatte, die durch eine untere Schutzfolie mit einer ausreichenden Porosität, um einen Dampfstrom hindurchzulassen, und

einer oberen Schutzfolie mit einer ausreichenden Flexibilität, um die Kanten der Gelplatte abzudichten, begrenzt (gebunden) ist, die gekennzeichnet ist durch: eine geschlossene Kammer, begrenzt durch eine Bodenoberfläche (16), Seitenwände (17) und eine transparente flexible Abdeckung (21), die bei der Herabsetzung des Druckes im Innern der Kammer mit den Seitenwänden (17) eine Abdichtung bilden kann;
Einrichtungen zum Evakuieren der Kammer durch die Boden-

IQ oberfläche (16);

ein poröses Trägerpolster (14), das eine solche Größe hat, daß es in die Kammer paßt, und das eine ausreichende Dicke hat, um die Gelplatte (40) mit der oberen Schutzschicht im Kontakt mit der flexiblen Abdeckung

"L5 zu tragen; und

eine beschwerte Heizplatte (23), die mindestens die gleiche Ausdehnung wie die Gelplatte (40) hat, die auf der Oberseite der Abdeckung unter dem Einfluß der Schwerkraft ruht.
13. Vorrichtung zum Trocknen einer Gelplatte und zum Fixieren der Gelplatte an einer darunterliegenden porösen Folie, während sie durch eine transparente, verformbare, darüberliegende Schutzfolie geschützt ist, welche

2= die obere Oberfläche und die seitlichen Ränder der Gelplatte gegenüber einem Gasstrom versiegeln kann, wenn ein Vakuum von unten her angelegt wird, gekennzeichnet durch:
eine geschlossene Kammer, die von einer ebenen, wärmeiso-

ng lierten Bodenoberfläche (16), Seitenwänden (17) und einer transparenten flexiblen Abdeckung (21), die bei Herabsetzung des Druckes im Innern der Kammer die Seitenwände (17) versiegeln kann, begrenzt ist; eine Vakuumöffnung (18), die zentral in der Bodenober-

gg fläche (16) angeordnet ist;

ein poröses Trägerpolster (14), das eine solche Größe hat, daß es in das Innere der Kammer paßt und das eine ausrei-

-δ-chende Dicke hat, um die Gelplatte mit der darüberliegenden Schutzfolie (41) im Kontakt mit der flexiblen Abdeckung (21) zu unterstützen, die einen ausreichenden Strömungswiderstand ergibt, um die Zugkraft eines durch die Vakuumöffnung (18) angelegten Vakuums seitlich zu expandieren;

eine Vielzahl von Rillen (20) in der Bodenoberfläche (16), die sich radial von der Vakuumöffnung (18) in Richtung auf die Seitenwände (17) erstrecken, um einen im wesentlichen einheitlichen Druck entlang der Bodenoberfläche (16) aufrechtzuerhalten; eine beschwerte Laminat-Heizplatte (23) , die mindestens die gleiche Ausdehnung hat wie die Gelplatte (40) , bestehend aus einem ebenen elektrischen Widerstandheizelement (29), das an eine Platte aus einem wärmeleitfähigen Material (30) gebunden ist; und einen an der Kammer drehbar befestigten Deckel (12), der die Heizplatte (23) darin lose zurückhält mit einer ausreichenden Bewegungsfreiheit, so daß dann, wenn der Deckel (12) geschlossen wird, die Heizplatte (23) auf der flexiblen Abdeckung (21) unter der Wirkung der Schwerkraft ruht.
14. Verfahren zum Trocknen einer Gelplatte und zum Verbinden der Gelplatte mit einer porösen Folie, dadurch gekennzeichnet, daß man:

a) die Gelplatte flach auf die poröse Folie legt;

b) die poröse Folie flach auf eine poröse horizontale Trägeroberfläche legt;

c) die Gelplatte mit einer verformbaren Schutzfolie bedeckt, welche die obere Oberfläche und die Seitenränder der Gelplatte gegen den Gasstrom abdichten kann, wenn ein Vakuum von unten her angelegt wird;

d) durch die poröse Trägeroberfläche von unten her ein Vakuum anlegt; und

e) die obere Oberfläche der Gelplatte mit einer beschwerten Heizplatte, die mindestens die gleiche

Ausdehnung hat wie die Gelplatte und unter dem Einfluß der Schwerkraft darauf ruht, erhitzt, bis praktisch keine Feuchtigkeit mehr in der Platte verbleibt.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der beschwerten Heizplatte etwa 0,5 bis etwa 5,0 g/cm² der auf der Gelplatte ruhenden Oberfläche beträgt.
16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der beschwerten Heizplatte etwa 0,75 bis etwa 3,0 g/cm² der auf der Gelplatte ruhenden Oberfläche beträgt.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die verformbare Schutzfolie transparent ist.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß das Vakuum in der Stufe (d) einem absoluten Druck von weniger als etwa 200 Torr (26,66 kPa) entspricht.