DE3440364C2 - - Google Patents
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- G01N30/90—Plate chromatography, e.g. thin layer or paper chromatography
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Description
Die Erfindung betrifft eine chromatographische Schichtplatte und
ein Schichtplattensystem
für die Überdruckvielschichtchromatographie.
In den letzten Jahren haben sich die chromatographischen Methoden in gro
ßem Maße entwickelt. Als Ergebnis dieser Entwicklung entstand die Hoch
leistungsflüssigkeitschromatographie, in der Fachliteratur als HPLC be
zeichnet, (siehe z. B. Kirkland, J. J.; Moderne Practice of Liquid Chroma
tography, Wiley, New York, 1971), sowie die Hochleistungsdünnschicht
chromatographie, in der Fachliteratur als HPTLC bezeichnet, (siehe z. B.
Bertsch, W., Hara, S., Kaiser R. E., Zlatkis, A.; Instrumental HPTLC,
Hüthig, Heidelberg, 1980). Ein wesentliches Merkmal der HPTLC ist die
Verwendung von feinkörnigen Schichtplatten und die Instrumentierung. Das
erste Merkmal ist gleichzeitig mit einem Nachteil dieser Methoden ver
bunden, da bei feinkörnigen Schichtplatten eine entsprechende Auflösung
nur bei kurzen Entfernungen gewährleistet werden kann.
Diese Schwierigkeit wurde durch die Entwicklung der Überdruckschicht
chromatographie, in der Fachliteratur als OPLC gekennzeichnet, gelöst,
welche die Vorteile der HPLC, der HPTLC und der klassischen TLC ver
einigt. Dieses Verfahren wird in einer Überdruckultramikrokammer durch
geführt, worin die Sorbentschicht (z. B. Kieselgel oder Talkum), vor
zugsweise durch Druckwasserpolster festgehalten wird, welches zur Eli
minierung des Dampfraumes über der Schicht führt. Das Laufmittel wird
durch die Mikropumpe dosiert, welches dieses durch regelbaren Überdruck
in die Sorbentschicht einführt (siehe z. B. HU-PS 1 73 149, GB-PS 15 70 760).
Durch Veränderung des Ortes und der Form der Einführungsöffnungen kann
die Bewegung des Laufmittels linear in einer Richtung oder in zwei Rich
tungen, sowie zirkular und triangular (antizirkular) geführt werden. Die
OPLC zeigt die folgenden Vorteile im Vergleich zu der klassischen TLC und
zur HPTLC:
- - Bei der Entwicklung wird nur ein geringer Zeitaufwand benötigt.
- - Die schnelle Bewegung des Laufmittels vermindert die Diffusion und die Größe der Substanzflecken und erhöht dadurch die theoretische Bodenzahl.
- - Die Entwicklung kann auch mit viskosen Stoffen bzw. mit Laufmittelmi schungen, die den Sorbenten schlecht benetzen, durchgeführt werden (Um kehrphasensysteme).
Zur optimalen Durchführung der linearen OPLC muß der Schichtplattenrand,
vorzugsweise durch Imprägnierung oder Überschichtung mit einem Kunststoffilm
abgeschlossen werden, um das Abfließen des Laufmittels wegen des Über
druckes zu verhindern. Um eine lineare Laufmittelfront zu gewährleisten, muß
um die Einführungsöffnung herum ein Kanal ausgestaltet werden. Zu diesem
Zweck wird auf der Sorbentschicht eine Einsatzplatte aufgelegt (welche auch
zum Schützen des Wasserpolsters dient und welche ausgetauscht werden kann),
an der in der Nähe der Einführungsöffnung und an der dem Sorbenten zuge
wandten Seite ein oder mehrere Kanäle zur Abführung des Laufmittels ausge
staltet sind (siehe die ungarische Patentanmeldung CI-1 995).
In der zu der Durchführung der OPLC dienenden Mikrokammer kann nur eine
Schichtplatte entwickelt werden. Dann besteht jedoch ein großer Nachteil, da
zum Vergleich der Farbreaktionen der Substanzflecken zur Auswahl des ent
sprechenden Laufmittels bei den verschiedenen Sorbentschichten wie bei der
klassischen TLC auch bei der OPLC eine große Anzahl von Schichtplatten ent
wickelt werden muß. Es besteht als das Bedürfnis, die Verwendbarkeit der
OPLC durch das gleichzeitige Entwickeln mehrerer Schichtplatten zu erhöhen.
Durch die Erfindung wird die Aufgabe gelöst eine Schichtplatte bzw. ein
Schichtplattensystem für die Überdruckvielschichtchromatographie zu schaf
fen.
Dies wird erfindungsgemäß durch die im Anspruch 1 angegebenen Merkmale
bzw. in einem der Ansprüche 11 bis 14 erreicht. Durch die erfindungsgemäße
Gestaltung der Schichtplatte können in der OPLC-Kammer gleichzeitig mehre
re Schichtplatten entwickelt werden.
Bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Ansprüchen 2 bis 10 bzw.
15 bis 18 angegeben.
In dem erfindungsgemäßen Schichtplattensystem können erfindungsgemäße
Schichtplatten, die eine Durchbrechung aufweisen, mit einer untersten be
kannten Schichtplatte vereinigt sein, welche nicht durchbrochen ist.
Werden jedoch in einem Schichtplattensystem nur solche Schichtplatten ver
einigt, welche eine Durchbrechung aufweisen, so muß als untenliegende
Abschlußplatte eine Kunststoffolie, z. B. aus Polyäthylen oder Teflon verwendet
werden.
Für eine lineare Entwicklung ist es unerläßlich, daß ein den Anforderungen ent
sprechendes Ausbreiten des Laufmittels auf den einzelnen Schichtplatten ge
währleistet ist, was man durch verschiedene Methoden sicherstellen kann:
- - In der Sorbentschicht kann man eine oder mehrere Kanäle zum Abführen des Laufmittels auskehlen, z. B. durch Entfernen des Sorbenten entlang einer geraden Linie und bis zur Tiefe der Trägerplatte.
- - Der Kanal kann auch auf der hinteren Seite der als Einsatzplatte dienenden oberen Schichtplatte ausgestaltet werden. (In diesem Falle kann die Lauf mittelzuführung auf die oberste Schichtplatte durch die Einsatzplatte ge währleistet werden.)
- - Die Schichtplatte kann mit einem parallel zur Laufmittelfront sich erstreckenden Längsspalt durchbrochen werden.
- - Jede Schichtplatte kann mit einer Einsatzplatte bedeckt werden, welche mit einer Durchbrechung und einem Kanal oder einer Kante versehen ist.
Im erfindungsgemäßen Schichtplattensystem können Schichtplatten mit unter
schiedlichen Sorbentschichten vereinigt werden, wodurch die zu untersuchenden
Substanzen gleichzeitig auf mehreren Sorbentschichten untersucht werden
können.
Im erfindungsgemäßen Schichtplattensystem können die zu untersuchenden
Substanzen gleichzeitig auf mehreren Schichtplatten entwickelt und dann je
Schichtplatte mit unterschiedlichen Reagenzien sichtbargemacht und ausge
wertet werden.
Bei einer linearen Entwicklung geht man so vor, daß man
die an den Rändern abgeschlossenen Überdruck-Schichtplatten, die aus einer Sor
bentschicht bestehen, aus einer flexiblen Trägerplate einzeln in die Überdruck
ultramikrokammer in der Weise einlegt, daß die abgeschlossenen Ränder
übereinanderliegen und die mit Sorbent beschichteten Flächen der Platte
jeweils in gleicher Richtung übereinanderliegen. In dieser Anordnung
drückt man nur auf die oberste Schichtplatte die Einsatzplatte auf, und die
jeweils obenliegende Schichtplatte dient als Einsatzplatte der darunterlie
genden Schichtplatte. So wird jede Sorbentschicht unter Druck gesetzt und
die vorzugsweise durch Imprägnierung oder Überschichtung abgeschlossenen
Ränder sind für das Laufmittel nicht durchlässig. Um den Zufluß des Lauf
mittels auf jede Schichtplatte sicherzustellen, müssen die einzelnen
Schichtplatten außer den untersten ersten Schichtplatten (Fig. 1a),
am Einführungsort des Laufmittels in entsprechender Form und Größe
durchbrochen sein (Fig. 1b-1f). Bei einer linearen Entwicklung in einer
Richtung muß man die Durchbrechung 4, 6 am unteren Teil der Schichtplatte,
d. h. nahe desjenigen abgeschlossenen Randes 2 der Sorbentschicht anordnen,
welcher "paarlos" ist, d. h. dem nicht abgeschlossenen Rand der Sorbent
schicht in Richtung der Laufmittelfront gegenüberliegt.
Nach den Fig. 1b bis 1f sind die Durchbrechungen 4, 6 jeweils symmetrisch zur
Längsmitte desjenigen abgeschlossenen Randes 2 ausgebildet, in dessen
Nähe die Durchbrechung 4, 6 liegt. Nach Fig. 1b und 1c hat die Durchbrechung 4
die Form eines kreisrunden Loches, welches nach Fig. 1c in der Längsmitte
eines nutförmigen Kanals 5 angeordnet ist, der parallel zu dem dem
nicht-abgeschlossenen Rand der Sorbentschicht 1 gegenüberliegenden Rand
verläuft. Nahe des Kanals 5 ist ein zweiter parallel zu diesem verlaufender
Kanal ohne Durchbrechung an der dem nicht-abgeschlossenen Rand der Sor
bentschicht 1 zugewandten Seite des die Durchbrechung 4 aufweisenden
Kanals 5 ausgebildet. Nach den Fig. 1d bis 1f ist die Durchbrechung 6 als pa
rallel zu dem dem nicht-abgeschlossenen Rand der Sorbentschicht 1 gegen
überliegenden abgeschlossenen Rand verlaufender Schlitz ausgebildet, der
nach Fig. 1e durch eine Durchbrechung 4 in Form eines kreisrunden, den
Schlitz beidseitig verbreiternden Loches in der Längsmitte des Schlitzes
ergänzt ist. Nach Fig. 1f ist der Randabschnitt der Sorbentschicht 1, der parallel zu dem dem
nicht-abgeschlossenen Rand gegenüberliegenden abgeschlossenen Rand 2
verläuft, als Konzentrierungszone 7 aus
inaktivem Sorbenten ausgebildet, in welcher die Durchbrechung 6 als Schlitz
angeordnet ist.
Bei einer linearen Entwicklung in zwei Richtungen ist eine Durchbrechung in
der Mitte der Schichtplatte (Fig. 2a-2c) zu verwenden. Die in Fig. 2
gezeigten Schichtplatten sind länglich rechteckig in der Größe zweier an
einandergesetzter Quadrate und ihre Sorbentschicht 1 ist jeweils an dem
eine Längsseite des Rechtecks bildenden Rand 2 abgeschlossen und an den
Schmalseiten nicht-abgeschlossen. Nach Fig. 2a ist eine Durchbrechung 4 in Form
eines kreisrunden Loches im geometrischen Mittelpunkt der Schichtplatte
ausgebildet. Nach Fig. 2b ist die Platte aus Fig. 2a durch drei nutförmige
Kanäle 5 ergänzt, die senkrecht zu den abgeschlossenen Rändern 2 verlaufen
und deren mittlerer Kanal 5 das Loch 4 in seiner Längsmitte enthält. Nach
Fig. 2c hat die Durchbrechung 6 die Form eines in der Längsmitte der Platte
senkrecht zu den längsseits abgeschlossenen Rändern 2 sich erstreckenden Schlitzes,
der innerhalb eines Mittelabschnitts der Sorbentschicht 1 aus inaktivem
Sorbenten als Konzentrierungszone 7 ausgebildet ist.
Das entstehende Kanalsystem ermöglicht einen praktisch widerstandsfreien
Zufluß des Laufmittels auf den übereinanderliegenden Schichtplatten, und
dadurch eine gleichzeitige und gleichwertige Entwicklung.
Die Schichtplatten verwendet man in ähnlicher Weise wie bei der bekannten
OPLC: die Ränder 2 der Sorbentschicht 1 sind abgeschlossen, die Substanz 3
wird über die Plattenbreite hin vor der Durchbrechung 4 und 6 aufgetragen.
Man kann auch eine Schicht mit Konzentrierungszone 7 verwenden, wobei
diese Konzentrierungszone aus inaktivem Sorbent besteht.
Nach einer anderen Durchführungsweise kann eine entspre
chende Kante oder ein nutförmiger Kanal 8 auf der Rückseite 9 der Schicht
platte ausgestaltet werden (Fig. 3a und 3b).
Die erfindungsgemäße Schichtplatte bzw. das Schichtplattensystem kann aus
allen bekannten flexiblen und/oder weniger flexiblen und glatten Trä
gerplatten (z. B. Kunststoff, Aluminium oder Glasplatte) hergestellt werden,
welche zur klassischen oder Überdruck-TLC geeignet sind. Die Anzahl der
gleichzeitig zu entwickelnden Schichtplatten ist im Prinzip nicht nach oben
begrenzt (Fig. 4). In den zur Zeit bekannten Vorrichtungen können 2 bis 8 Schicht
platten gleichzeitig entwickelt werden. Die Größe der Schichtplatten und die
Art der Entwicklung (in einer Richtung oder in zwei Richtungen, kreis
förmig, u. ä.) spielt keine Rolle. Man kann gleichzeitig auch Schichtplatten
mit unterschiedlichen Sorbentschichten entwickeln, wenn die Sor
bentschichten einen nahezu gleichen Widerstand für das Laufmittel und eine
nahezu geometrische Form aufzeigen.
Nach einer bevorzugten Durchführungsmethode geht man so
vor, daß man die mit einer Durchbrechung 4 und auf der Rückseite mit einem
oder zwei Kanälen 8 versehenen Schichtplatten in der Ultramikrokammer so
übereinanderlegt, daß die oberste Schichtplatte mit einer Einsatzplatte mit
einem Kanal an der Unterseite bedeckt und als unterste erste Schicht
platte eine klassische Überdruckschichtplatte ohne Durchbrechung verwendet.
Nach einer anderen bevorzugten Durchführungsmethode geht
man so vor, daß man eine entsprechende Anzahl von mit einer Durchbrechung
4 und einem Kanal versehenen Schichtplatten, entweder an einer oder an
drei Seiten einfaßt (Fig. 5). Wenn wie gemäß Fig. 5 die Aufliegestellen der
Schichtplatten 1, 19 durch eine entsprechende Formgebung des Einsatzes 10
der Ultramikrokammer 11 im voraus ausgebildet sind, können die Schicht
platten genau übereinander gelegt werden. Nach Fig. 5 sind die Schicht
platten aus Trägerplatten 19 und darüberliegender Sorbentschicht 1
unter Zwischenschaltung der von dem Einsatz 10 gebildeten Einsatzplatten
übereinander angeordnet, wobei zwischen der Sorbentschicht 1 jeder
Schichtplatte und der jeweils darüberliegenden Einsatzplatte ein Druck
wasserpolster 12 ausgebildet ist. Das Laufmittel wird durch das Einführrohr
13 zugeführt, in dessen Verlängerung die Durchbrechungen 4 der Schicht- und
Einsatzplatten ausgebildet sind.
Bei der Vereinigung der Schichtplatten in einem Schicht
plattensystem kann man in der Weise vorgehen, daß eine entsprechende An
zahl von Schichtplatten und Einsatzplatten, welche mit einer Durchbrechung
und einem Kanal versehen sind, an einem oder drei Rändern zusammengehal
ten werden oder aus einer Schichtplatte und einer Einsatzplatte eine Einheit
gebildet wird, wobei die Einheiten mit einem lösbaren
Verschluß in gewünschter Anzahl vereinigt werden können.
Zur Einstellung der richtigen Position der Schichtplatten und Einsatzplatten
zueinander und zu der Kammer kann die obenstehende Einsatzplatte mit
einem Führungsansatz, wie einem Zapfen oder Stift versehen werden, auf
denen die folgenden Platten aufgereiht werden können.
Zu einer Überentwicklung verwendet man in der OPLC-Technik Schicht
platten, welche an allen vier Rändern abgeschlossen sind. Mit der erfindungs
gemäßen Schichtplatte bzw. dem Schichtplattensystem ist es ebenfalls mög
lich eine Überentwicklung durchzuführen. Zu diesem Zweck muß die Schicht
platte für das Abführen des Laufmittels ähnlich wie an der Zuführung
jedoch an den gegenüberliegenden Teilen der Schichtplatten, mit einer
zweiten Durchbrechung 14 und einem Kanal 15 versehen werden (Fig. 6).
Zur Erstellung der erfindungsgemäßen Schichtplatten kann man anorganische
(Silikagel, Aluminiumoxid, Talkum u. ä.) und organische (Zellulose, Polyamid
u. ä.) Sorbenten, sowie als inaktiven Sorbenten Kieselgur, Cellit u. ä. ver
wenden.
Durch die gleichzeitige Verwendung von mehreren erfindungsgemäßen
Schichtplatten in einer Vorrichtung kann die Kapazität der Vorrichtung, und
dadurch die Anzahl von Bestimmungen deutlich erhöht werden.
Die Tatsache, daß durch die Verwendung der erfindungsgemäßen Schicht
platten bzw. des Schichtplattensystems gleichzeitig zwei oder mehr
Schichtplatten entwickelt werden können, bedeutet eine wichtige Berei
cherung der OPLC und ermöglicht eine breite Verwendung dieser analyti
schen Methode z. B. auf dem Gebiet der Pflanzenzüchtung sowie in Klinik-
und Gewebelaboratorien.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele näher erläutert.
Eine 20 × 20 cm große Kunststoffplatte aus Terephtalat beschichtet man in
einer Dicke von 0,20 mm mit Silikagel mit einer Korngröße von 5 µm und
mit einem Polyakrylamid-Klebstoff mit einem mittleren Molekulargewicht.
Der Polyakrylamid-Klebstoff besitzt einen Trockenstoffgehalt von 1,8%. Der
Rand der beiden einander gegenüberliegenden Seiten wird in einer Breite von
5 mm freigelassen und nachträglich mit einer Kunststoffdispersion mit einem
wasser- und lösungsmittelbeständigen Kunststoffilm überschichtet. Die
Schichtplatte wird in der Mitte durch einen querverlaufenden Spalt oder Schlitz
mit einer Länge von 160 mm und einer Weite von 2 mm durchbrochen.
Auf vier Stücke der oben beschriebenen Schichtplatte trägt man von der Durch
brechung 15 mm und von der Seiten 10-10 mm entfernt je 15 Substanzproben
von gleicher Menge vom Farbtest CAMAG II auf. Nach der Trocknung der
Substanzproben legt man die Schichtplatten genau übereinander. Als untere
Schichtplatte verwendet man eine, die gleich imprägniert und mit Substanz
proben versehen ist, jedoch nicht durchbrochen ist. Das erhaltene Schicht
plattensystem legt man in eine Überdruckultramikrokammer und läßt mit
Methylenchlorid entwickeln. Die Strömungsgeschwindigkeit des Laufmittels
beträgt 185 cm3/h, die Laufzeit dauert 4,5 min. Auf den Schichtplatten er
reicht man eine gleiche Frontentfernung gleiche R f -Werte und gleiche
Diffusion.
Eine 20 × 40 cm große und 0,20 mm dicke Aluminiumplatte beschichtet man
in einer Dicke von 0,25 mm mit Silikagel mit einer durchschnittlichen
Korngröße von 5 µm und mit einem Polyvinylacetat-Klebstoff, welcher einen
Trockenstoffgehalt von 2% besitzt. Der Rand der beiden einander gegen
überliegenden Seiten wird in einer Breite von 3 mm freigelassen und nach
träglich mit einer Kunststoffdispersion mit einem wasser- und lösungs
mittelbeständigen Kunststoffilm überschichtet. Die Schichtplatte wird in der
Mitte durch einen Spalt oder Schlitz mit einer Länge von 182 mm und einer
Weite von 0,8 mm durchbrochen.
Auf zwei Stück der oben beschriebenen Schichtplatten trägt man von der
Durchbrechung 15 mm und von den Seiten 10-10 mm entfernt je 15 Substanzpro
ben aus einer Mischung von 2 l verschiedenen Einweißaminosäuren in einer
Menge von je 1 µg Aminosäure pro Substanzflecken auf. Nach der Trocknung
der Auftragflecken legt man die Schichtplatten genau übereinander. Als
untere Schichtplatte verwendet man eine, die gleich imprägniert und mit
Substanzproben versehen, jedoch nicht durchbrochen ist. Das erhaltene
Schichtplattensystem legt man in eine Überdruckultramikrokammer und läßt
mit einer Mischung aus n-Butanol/Eisessig/Wasser in einem Verhältnis von
4 : 1 : 1 entwickeln. Die Laufzeit dauert 65 min.
Nach der Entwicklung werden die Schichtplatten einzeln getrocknet. Eine
Schichtplatte besprüht man mit 0,2%iger Ninhydrinreagens (enthält 0,2 g
Ninhydrin, 80 cm3 Methanol, 20 cm3 Essigsäure, und 0,05 g CUSO4 × 5
H2O), und behandelt 5 Minuten bei einer Temperatur von 100°C. Das erhal
tene farbige Chromatogram wird mit einem Chromatogramspektrofotometer
ausgewertet. Bei den 2 × 15 Proben haben wir eine Abweichung von ±1,5%
gefunden. Die andere Schichtplatte besprüht man mit Sakaguchireagens, um
das Arginin spezifisch auszuzeigen und quantitativ zu bestimmen.
Die dritte Schichtplatte besprüht man mit o-Phtaldialdehydreagens und das
erhaltene Chromatogram wertet man mit einem Chromatogramspektrofoto
meter in UV-Licht aus.
Man geht analog zu dem Beispiel 1 vor, jedoch mit dem Unterschied, daß auf
die vier Schichtplatten unterschiedliche Sorbenten aufgetragen werden: die
untere Schichtplatte wird mit Silikagel mit einer durchschnittlichen Korn
größe von 5 µm, und die zweite Schichtplatte mit neutralem Aluminiumoxid
mit einer durchschnittlichen Korngröße von 5 µm, die dritte mit Magne
siumsilikat mit einer durchschnittlichen Korngröße von 5 µm, und die vierte
mit Kieselgur mit einer durchschnittlichen Korngröße von 5 µm beschichtet.
Unter den angegebenen Bedingungen haben wir geringe Unterschiede in der
Frontentfernung, sowie in den für den Sorbenten charakteristischen
R f -Werten und Fleckendurchmessern erhalten.
Eine 20 × 20 cm große Kunststoffplatte aus Terephtalat beschichtet man in
einer Dicke von 0,15 mm mit Silikagel mit einer durchschnittlichen
Korngröße von 3 µm, und mit einem Polyakrylamid-Klebstoff mit großem
Molekulargewicht, welches einen Trockenstoffgehalt von 1,7% besitzt. Drei
Ränder der Schichtplatte imprägniert man mit einer Kunststoffdispersion.
Die vorbereitete Schichtplatte durchbricht man einer Länge von 185 mm
und einer Weite von 1 mm, in der Nähe der paarlosen imprägnierten Seite.
Auf fünf Stück der oben beschriebenen Schichtplatten trägt man von der
Durchbrechung 15 mm und von den Seiten 10-10 mm entfernt je 15 Substanz
proben aus gleicher Menge des Petrolätherextraktes einer Kamillen
blumendroge auf. Nach der Trocknung der Auftragsflecken legt man die
Schichtplatten genau übereinander. Als untere Schichtplatte verwendet man
eine, die gleich imprägniert und mit Substanzproben versehen, jedoch nicht
durchbrochen ist. Das erhaltene Schichtplattensystem legt man in eine Über
druckultramikrokammer und läßt mit Benzol entwickeln. Die Laufzeit
beträgt 15,5 min. Nach der Entwicklung werden die Schichtplatten einzeln
getrocknet, dann mit konzentrierter Schwefelsäure, welche 0,2% Vaniline
enthält, besprüht, bei 105°C 5 Minuten behandelt und anschließend visuell
mit einem Chromatogramspektrofotometer ausgewertet. Die erhaltenen Er
gebnisse über die ätherischen Ölkomponenten der Kamille können bei
chemotaxonomischen und Züchtungsuntersuchungen verwendet werden.
Man geht analog zu dem Beispiel 4 vor, jedoch mit dem Unterschied, daß als
Schichtplatten mit einer Konzentrierungszone versehene Schichtplatten
verwendet werden, welche als inaktiven Bereich Kieselgur und als aktiven
Bereich Silikagel mit einer durchschnittlichen Korngröße von 3 µm enthalten.
Aufgrund des konzentrierenden Effektes können wir die ätherischen
Ölkomponenten der Kamille als scharfe Streifen, im Vergleich mit dem
Beispiel 4, mit einer deutlich erhöhten Auflösung erhalten.
Man geht analog zu dem Beispiel 4 vor, jedoch mit dem Unterschied, daß auf
der unteren Seite der Schichtplatten je zwei laufmittelführende Kanäle
ausgestaltet werden, wobei die Laufmittelführung der obenliegenden Schicht
platte von einer Ansatzplatte gewährleistet wird, welche mit einem lauf
mittelführenden Kanal versehen ist. Als untere Schichtplatte verwendet man
eine Überdruckplatte ohne Durchbrechung.
Man geht analog zu dem Beispiel 4 vor, jedoch mit dem Unterschied, daß
jede Schichtplatte mit einer Einsatzplatte bedeckt wird, welche mit einer
Durchbrechung und einem Kanal versehen ist.
Eine 10 × 20 cm große und 0,15 mm dicke Aluminiumfolie beschichtet man
in einer Dicke von 0,20 mm mit Silikagel mit einer durchschnittlichen Korn
größe von 5 µm und mit einem Polyakrylamid-Klebstoff mit einem mittleren
Molekulargewicht. Der Polyakrylamid-Klebstoff besitzt einen
Trockenstoffgehalt von 1,5%. Drei Ränder der Schichtplatten imprägniert
man mit einer Kunststoffdispersion in einer Breite von 3 mm. Die Schicht
platte durchbricht man in einer Länge von 80 mm und einer Weite von 0,5
mm in der Nähe der paarlosen imprägnierten Seiten.
Auf die Schichtplatten trägt man von dem Spalt 15 mm entfernt je 15
Substanzproben aus der Chloroformlösung von aus menschlichem Urin mit
Dimedone abgeschiedenen Formaldimeone (Abfallprodukt von 25 ml Urin wird
in 1 cm3 Chloroform gelöst und in 1 µl verwendet) auf. Vier Stück der
obigengemäß vorbereiteten Schichtplatten werden zwischen fünf mit Durch
brechung und Kanal versehene Einsatzplatten gelegt und in einer
Überdruckultramikrokammer mit einer Mischung von Benzol/Äthylacetat in
einem Verhältnis von 95 : 5 entwickelt. Die Laufzeit beträgt 12 Minuten, der
äußere Polsterdruck ist 1,2 MPa. Als Reagens wird eine 0,2%ige
Methanollösung von 2,6-Dichlorochinonchloramid verwendet, und nach Trock
nung wird mit einer 10%igen Wasserlösung von Na2CO3 behandelt. Nach
qualitativer und quantitativer Auswertung kann man die Ergebnisse zu
diagnostischen Untersuchungen verwenden.
Man geht analog zu dem Beispiel 8 vor, jedoch mit dem Unterschied, daß die
fünf Einsatzplatten ebenfalls mit Durchbrechung bzw. Kanal zur Abführung des
Laufmittels versehen sind. Mit diesem Schichtplattensystem wird eine Über
laufentwicklung durchgeführt, welche eine stärkere Trennung sicherstellt.
Claims (18)
1. Schichtplatte für die Überdruckvielschichtchromatographie, dadurch ge
kennzeichnet, daß die mit Sorbent beschichtete Schichtplatte am Einfüh
rungsort des Laufmittels eine Durchbrechung (4, 6) aufweist.
2. Schichtplatte nach Anspruch 1 für die Überdruckvielschichtchromatogra
phie mit linearer Entwicklung in einer Richtung, dadurch gekennzeichnet,
daß die Durchbrechung (4, 6) der an drei Rändern abgeschlossenen
Schichtplatte in der Nähe des paarlosen abgeschlossenen Randes ausgebil
det ist.
3. Schichtplatte nach Anspruch 1 für die Überdruckvielschichtchromatogra
phie mit linearer Entwicklung in zwei Richtungen, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Durchbrechung (4, 6) der an zwei gegenüberstehenden
Rändern abgeschlossenen Schichtplatte in deren Mitte ausgebildet ist.
4. Schichtplatte nach Anspruch 1 zur Überdruckvielschichtchromatographie
mit kreisförmiger Entwicklung, dadurch gekennzeichnet, daß die Durch
brechung (4, 6) der Schichtplatte, deren Ränder nicht abgeschlossen sind,
in der Mitte der Schichtplatte ausgebildet ist.
5. Schichtplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß die Schicht
platte auch an dem Abführungsort des Laufmittels eine Durchbrechung
(14) aufweist.
6. Schichtplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich
der Auftragung und der Durchbrechung eine Konzentrierungszone (7) aus
inaktivem Sorbent vorgesehen ist.
7. Schichtplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß an ihrer be
schichteten Seite in der Nähe der Durchbrechung ein Kanal (5) oder eine
Kante zum Führen des Laufmittels ausgebildet ist.
8. Schichtplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß am Einfüh
rungsort des Laufmittels ein Kanal (5) senkrecht zu der Richtung der
Entwicklung ausgestaltet ist.
9. Schichtplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Durchbrechung als kreisrundes Loch (4) und/oder als Schlitz (6)
ausgebildet ist.
10. Schichtplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Sorbent
ein organischer Sorbent, wie Zellulose, Polyamid und Cellit, oder ein an
organischer Sorbent wie Silikagel, Aluminiumoxid, Talkum oder Kieselgur
mit einer Schichtdicke von 0,05 bis 2,0 mm ist.
11. Schichtplattensystem mit einer Schichtplatte nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß eine oder mehrere, an ihren Rändern abgeschlossene
Schichtplatten mit einer Durchbrechung mit einer an ihren Rändern ab
geschlossenen Schichtplatte ohne Durchbrechung in dem System so ver
einigt ist, daß die übereinanderliegenden Schichtplatten gleichzeitig als
die Einsatzplatte der untenliegenden Schichtplatte dienen.
12. Schichtplattensystem für die Überdruckvielschichtchromatographie mit
linearer Entwicklung in einer Richtung mit einer Schichtplatte nach An
spruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichtplatte mit einer an
drei Rändern abgeschlossenen Schichtplatte ohne Durchbrechung in dem
System vereinigt ist.
13. Schichtplattensystem für die Überdruckvielschichtchromatographie mit
linearer Entwicklung in zwei Richtungen mit einer Schichtplatte nach
Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichtplatte mit einer an
zwei gegenüberstehenden Rändern abgeschlossenen Schichtplatte ohne
Durchbrechungen in dem System vereinigt ist.
14. Schichtplattensystem zur Überdruckvielschichtchromatographie mit
kreisförmiger Entwicklung mit einer Schichtplatte nach Anspruch 4, da
durch gekennzeichnet, daß die Schichtplatte mit einer Schichtplatte
ohne Abschließung der Ränder und ohne Durchbrechung in dem System
vereinigt ist.
15. Schichtplattensystem nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Schichtplatten mittels eines lösbaren Verschlusses
vereinigt sind.
16. Schichtplattensystem nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß
die mit lösbarem Verschluß vereinigten Schichtplatten von einem Rah
men zusammengefaßt sind.
17. Schichtplattensystem nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch ge
kennzeichnet, daß Schichtplatten mit unterschiedlichen Sorbenten ver
einigt sind.
18. Schichtplattensystem nach einem der Ansprüche 11 bis 17, dadurch ge
kennzeichnet, daß über den Schichtplatten mit Durchbrechung Einsatz
platten eingelegt sind, welche zum Führen des Laufmittels mit einem
Kanal versehen sind.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
HU821335A HU189133B (en) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | Special layer plate and/or layer plate system for overpressure multi-layer chromatography |
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