DE3305739C2 - - Google Patents
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- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Verarbeitungseinrichtung
gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Eine solche
Verarbeitungseinrichtung eignet sich z. B. zur Anwendung bei
einem System zum sehr genauen Ausrichten einer Maske und
eines Halbleiterplättchens in einer Halbleiterherstellungs
einrichtung.
Bei einer Halbleiterherstellungseinrichtung, insbesondere
einer Musterdruck- bzw. Übertragungseinrichtung ist es üblich,
fotoelektrisch Richtmarken zu erfassen, um damit die
Relativlage einer Maske und eines Halbleiterplättchens zu
messen. Der hierbei verwendete Ausdruck "Marke" ist so zu
verstehen, daß er nicht nur die ausschließlich für das Ausrichten
hinzugefügten Markierungen betrifft, sondern auch
den Körper selbst, wie beispielsweise Teile von Schaltungselementen
oder ganze Schaltungselemente, soweit sie für das
Ausrichten herangezogen werden.
Zur fotoelektrischen Erfassung ist ein Verfahren bekannt,
bei dem als Lichtquelle beispielsweise eine Laserstrahlquelle
verwendet und das von den Richtmarken bei ihrer überlappenden
Abtastung gestreute Licht mittels einer Fotodiode
oder eines Fotovervielfachers empfangen und fotoelektrisch
umgesetzt wird, wobei die Relativlage der Richtmarken aus
dem elektrischen Signal ermittelt wird. Weiterhin ist ein
Verfahren bekannt, bei dem mittels einer Bildaufnahmevorrichtung
wie einer Bildaufnahmeröhre oder einer Fotosensor-
Anordnung die Bilder der Richtmarken aufgenommen werden und
die ganzen Richtmarken-Bilder fotoelektrisch umgesetzt und
in eine Signalverarbeitungs- bzw. Signalaufbereitungseinrichtung
eingegeben werden, wobei die Relativlage der Richtmarken
durch einen Rechenvorgang ermittelt wird.
Bei dem System, bei dem die Marken mittels eines Strahlpunkts
längs ein- und derselben Spur abgetastet werden, ist
es jedoch häufig schwierig, zwischen unechten Signalen aufgrund
von an dem Körper anliegenden Staubteilchen und Aluminiumpartikeln
und echten Signalen bezüglich der Richtmarken
zu unterscheiden. Ferner ist bei dem System, bei dem die
Bildaufnahmevorrichtung verwendet wird, nach der Eingabe der
gesamten Bildfläche eine komplizierte Signalaufbereitung erforderlich,
was zu einer langen Verarbeitungszeit und damit
einem verzögerten Druckprozeß oder aber zu sehr hohen Kosten
oder großen Abmessungen der Einrichtung geführt hat. In der
japanischen Patentanmeldung Nr. 66 898/1977 wurden zwar Maßnahmen
zum Überwinden der sich aus den unechten Signalen ergebenden
Schwierigkeiten vorgeschlagen, jedoch sind noch
Verbesserungen möglich.
Eine dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 entsprechende
Verarbeitungseinrichtung ist aus der US-PS 43 15 201 bekannt.
Bei dieser Verarbeitungseinrichtung erfolgt die Ausrichtung
zwischen einer Maske und einem Halbleitersubstrat
unter Heranziehung von auf diesen beiden Elementen vorhandenen
Markierungen. Die Ausrichtung ist abgeschlossen, wenn
die Markierungen der Maske und des Halbleitersubstrats in
eine vorbestimmte gegenseitige räumliche Beziehung gebracht
sind. Hierzu wird das Ausgangssignal der Mustererfassungseinrichtung
hinsichtlich der Detektion der den Markierungen
zuzurechnenden Signalanteile aufbereitet, um die Markierungslagen
zu erfassen und die räumliche Anordnung zwischen der
Maske und dem Halbleitersubstrat so lange zu korrigieren,
bis das Erfassungssignal den vorbestimmten Verlauf besitzt,
d. h. die Ausrichtung abgeschlossen ist.
Allerdings kann das Ausgangssignal erhebliche Störanteile
beinhalten, die durch auf dem Körper vorhandene Staubteilchen
u. dgl. hervorgerufen sein können. Diese Störanteile erschweren
die Erfassung der durch das tatsächliche Muster
hervorgerufenen Signalkomponenten oder können sogar zu Fehlausrichtungen
führen, wenn die Störanteile als durch das
Muster hervorgerufene Signalkomponenten eingestuft werden.
Aus der DE-OS 25 45 753 ist eine Anordnung bekannt, die eine
Objekterkennung ermöglichen soll. Hierbei werden Bilder des
zu erkennenden Objekts mit einem Bild eines ähnlichen
Objekts verglichen. Die miteinander zu vergleichenden Bilder
werden durch eine Fernsehkamera erzeugt, wobei zunächst ein
Fernsehbild des Modellobjekts aufgezeichnet wird und die dabei
erzeugten Videosignale in einem Videospeicher gespeichert
werden. Die Fernsehkamera wird anschließend auf das zu
erkennende Objekt gerichtet, um ein zweites Fernsehbild zu
erzeugen, während gleichzeitig das zuvor im Videospeicher
gespeicherte Bild ausgelesen und die ausgelesenen Daten mit
den von der Fernsehkamera erzeugten Signalen Zeile für Zeile
verglichen werden. Zusätzlich ist ein Speicher vorgesehen,
der für jede Zeile des Fernsehbilds eine Adresse speichert
und zudem Daten enthält, die anzeigen, ob die zugehörigen
Zeilen der beiden Fernsehbilder miteinander zu vergleichen
sind oder ob kein Vergleich dieser Zeilen stattfinden soll.
Hierdurch soll es ermöglicht werden, den Vergleich auf eine
ausgewählte Zahl von Abtastzeilen zu begrenzen. Bei den zum
Vergleich ausgewählten Zeilen erfolgt der Vergleich für alle
Daten vom Beginn bis zum Ende der jeweils gewählten Zeilen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Verarbeitungseinrichtung
derart auszugestalten, daß die Wahrscheinlichkeit
einer durch Störsignale hervorgerufenen fehlerhaften
Mustererfassung verringert ist.
Diese Aufgabe wird mit den im Patentanspruch 1 genannten
Merkmalen gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen
angegeben.
Bei der erfindungsgemäßen Verarbeitungseinrichtung ist somit
eine Erwartungssignal-Erzeugungseinrichtung vorhanden, die
ein zusätzliches Erwartungssignal erzeugt, das denjenigen
Bereich bezeichnet, in dem die Wahrscheinlichkeit des Vorliegens
eines dem Muster entsprechenden Signals im Detektionssignal
hoch ist. Dieses Erwartungssignal wird zusammen
mit dem Detektionssignal zur Bildung eines dem Muster entsprechenden
Signals zusammengefaßt. Durch diese zusätzliche
Bereitstellung eines Erwartungssignals können Bereiche, in
denen die Wahrscheinlichkeit von durch das Muster hervorgerufenen
Signalkomponenten gering sind, z. B. ausgeblendet
oder mit einem höheren Schwellwert verglichen werden, so daß
in diesen Bereichen vorhandene Störungen wirksam unterdrückt
werden. Dies führt insgesamt zu einer Erhöhung der
Zuverlässigkeit der Mustererfassung und damit zu einer deutlichen
Verringerung der Fehlerwahrscheinlichkeit.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen
angegeben.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen
unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert.
Die bei diesen Ausführungsbeispielen verwendeten
Richtmarken sind in der US-PS 41 67 677 beschrieben, jedoch
kann die Signalaufbereitung auch mit anders gearteten Marken
ausgeführt werden.
Es zeigt:
Fig. 1 eine Querschnittsansicht eines Bildaufnahmesystems
bei einem ersten Ausführungsbeispiel
der Verarbeitungseinrichtung,
Fig. 2 ein grundlegendes Blockschaltbild, das das
elektrische System bei dem ersten Ausführungsbeispiel
zeigt,
Fig. 3 (1) bis (3) Draufsichten auf Marken,
Fig. 3 (4) bis (8) Signalkurvenformen,
Fig. 4, 5 und 6 einzelne Blockschaltbilder, die
die jeweiligen Schaltungsblöcke nach Fig. 2
in Einzelheiten zeigen,
Fig. 7 eine Querschnittsansicht eines Lichtaufnahmesystems
bei einem zweiten Ausführungsbeispiel
der Verarbeitungseinrichtung,
Fig. 8 ein Blockschaltbild, das das elektrische
System bei dem zweiten Ausführungsbeispiel zeigt,
Fig. 9 (1) bis (3) Draufsichten auf Marken,
Fig. 9 (4) bis (6) Signalkurvenformen,
Fig. 10 ein Blockschaltbild, das einige elektrische
Schaltungsblöcke in Einzelheiten zeigt, und
Fig. 11 (1) und (2) Signalkurvenformen.
Fig. 1 zeigt ein Bildaufnahmesystem bei einem ersten
Ausführungsbeispiel der Verarbeitungseinrichtung.
Zunächst wird
dieses System und dann die
Signalaufbereitung beschrieben.
Nach Fig. 1 wird mittels eines Halters eine Maske
MA festgehalten, die ein zu druckendes Muster trägt.
Ein mit einer fotoempfindlichen Schicht versehenes Halbleiterplättchen
WA ist an einem Objektträger S befestigt
und kann mittels diesem in einer horizontalen Ebene vor
und zurück sowie nach links und rechts bewegt und gedreht
werden. Mit M und M′ sind Richtmarken an der Maske bezeichnet,
während mit W und W′ Richtmarken an dem Halbleiterplättchen
bezeichnet sind. Die
Marken M und W und die Marken M′ und W′ sind miteinander auszu
richten.
Ferner sind mit OL und OL′ Mikroskop-Objekte bezeichnet,
während mit D₁ und D′₁ Blenden bezeichnet sind, die an
den zum Objekt entgegengesetzt gelegenen Brennebenen
der Objektive OL und OL′ angeordnet sind. Mit HM
und HM′ sind Halbspiegel, die schrägstehend
jeweils auf der optischen Achse angeordnet sind, mit
L₁, L₂, L′₁ und L′₂ sind Kondensorlinsen für die Beleuchtung
und mit LS und LS′ sind Beleuchtungslampen
bezeichnet. Die Bilder der Beleuchtungslampen LS
und LS′ werden jeweils mittels der Kondensorlinsen L₁
und L₂ bzw. L′₁ und L′₂ an den Stellen der Blenden D₁
bzw. D′₁ abgebildet. Mit D₂ und D′₂ sind Beleuchtungsfeld-
Blenden für das Einschränken der Lichtstrahlen an Stellen
bezeichnet, an denen mittels der Kondensorlinsen L₁ bzw.
L′₁ die Lichtquellen abgebildet sind.
Die Objektive OL und OL′, die Blenden D₁ und D′₁, die
Halbspiegel HM und HM′, die Kondensorlinsen L₁, L₂, L′₁
und L′₂ und die Lichtquellen LS und LS′ bilden zusammen
ein Reflexions-Beleuchtungssystem.
Mit L₃, L₄, L′₃ und L′₄ sind Relaislinsen bezeichnet,
während mit P und P′ Lichtabfangplatten bezeichnet sind,
die die Funktion haben, die von der Maske und dem Halbleiterplättchen
zwangsläufig reflektierten Bilder der Beleuchtungslichtquellen
abzudecken. Die Objektive OL und
OL′, die Relaislinsen L₂, L₄, L′₃ und L′₄ und die Lichtabfangplatten
P, P′ bilden zusammen ein Lichtempfangssystem.
Die von der Lichtquelle LS abgegebene Lichtstrahlen
werden mittels der Kondensorlinse L₁ gesammelt, wonach
sie mittels der zweiten Kondensorlinse L₂ auf der Ebene
der Blende D₁ abgebildet und mittels des Objektivs OL
zu parallelen Strahlen umgelenkt werden, welche die Maske
MA und das Halbleiterplättchen WA beleuchten. Die von
der Marke M der Maske und der Marke W des Halbleiterplättchens
gestreuten und reflektierten Lichtstrahlen werden
mittels des Objektivs OL und der Relaislinse L₃ abgebildet,
wonach sie erneut mittels der zweiten Relaislinse
L₄ auf der Bildempfangsfläche einer Bildaufnahmeröhre
1 abgebildet und von dieser fotoelektrisch umgesetzt
werden.
Fig. 2 zeigt die Grundform des Signalaufbereitungssystems,
wobei die Einzelheiten jeder Schaltung
in dem System später beschrieben werden.
In Fig. 2 ist mit 1 eine Bildaufnahmevorrichtung
zum fotoelektrischen Umsetzen bezeichnet, die die gleiche
wie die in Fig. 1 gezeigte ist. Mit 2 ist eine an die
Bildaufnahmevorrichtung 1 angeschlossene Schaltung be
zeichnet, die aus einem Videosignal V ein Erwartungsimpulssignal
(Erwartungssignal) Pp erzeugt, das nur einen Bereich anzeigt,
in dem die Wahrscheinlichkeit des Vorliegens der Richtmarken
hoch ist. Mit 3 ist eine Schaltung bezeichnet,
mit der das von der Bildaufnahmevorrichtung 1 erhaltene
Videosignal (Detektionssignal) V mit einem Potential eines geeigneten Schwellenwerts
im Sinne einer Umsetzung in bezug auf die Amplitude
bewertet und in ein digitales Signal umgesetzt
wird. Mit 4 ist eine logische Multiplizierschaltung bzw.
UND-Schaltung bezeichnet, mit der das Erwartungsimpulssignal
Pp als Ausgangssignal der Schaltung 2 mit einem
Lageinformations-Impulssignal Ps, das das Ausgangssignal
der Schaltung 3 ist, logisch multipliziert und ein
Meßimpulssignal P M ausgegeben wird. Mit 5 ist eine an
die logische Multiplizierschaltung 4 angeschlossene Schaltung
zum Messen des Abstands zwischen Richtmarkensignalen
in dem Impulssignal P M bezeichet.
Bei dem vorstehend beschriebenen Aufbau sei beispielsweise
der Fall betrachtet, daß ein Masken-Markenbild gemäß
der Darstellung in Fig. 3 (1) und ein Halbleiterplättchen-
Markenbild gemäß der Darstellung in Fig. 3 (2) fotoelektrisch
mittels der Bildaufnahmevorrichtung 1 umgesetzt
werden, um eine Bildfläche AS gemäß der Darstellung in
Fig. 3 (3) zu erhalten, und das durch eine einzelne Horizontalabtastung
H erzielte Videosignal V in die Schaltungen
2 und 3 eingegeben wird. In die Erwartungssignal-
Erzeugungsschaltung 2 wird von der Horizontalabtastung
der ganzen Bildfläche AS nur ein die Abtastlinie H enthaltender
Nutzbereich B für die Messung eingegeben, um
das Erwartungsimpulssignal Pp zu erhalten, bei welchem
aus dem Videosignal V ein Bereich herausgezogen ist,
in dem die Wahrscheinlichkeit hoch ist, daß ein Richtmarkensignal
S 1a enthalten ist. Ferner wird das Videosignal
V in der Signalumsetzung- bzw. Amplitudenbewertungsschaltung
3 hinsichtlich der Amplitude nach dem Potential
mit dem geeigneten Schwellenwert bewertet, um das Lagein
formations-Impulssignal Ps zu erhalten. Dieses Lageinfor
mations-Impulssignal Ps enthält ein Richtmarkensignal
S 1c und ein unechtes bzw. Fehlersignal S 2c , das sich
durch Staubteilchen oder Aluminiumpartikel ergibt.
Das bei diesem Ausführungsbeispiel verwendete Markenmuster
hat eine Neigung von 45° in bezug auf die Horizontalabtastlinie,
so daß daher das Erwartungsimpulssignal Pp
und das Richtmarkensignal S 1a in dem Lageinformations-
Impulssignal Ps bei jeder Horizontalabtastung mit einem
Horizontalsynchronisiersignal V sync als Bezugssignal
auf der Zeitachse hinsichtlich der Lage voneinander abweichen;
daher wird als Verfahren zur Korrektur gemäß der
Darstellung in Fig. 3 (1) ein Triggermarkenmuster T auf
der Maske bereitgestellt und die Synchronisierung mittels
eines Triggermarkensignals S 2a vorgenommen, das sich
aus dem Triggermarkenmuster T ergibt. Wenn der Abfall
des Triggermarkensignals S 3a ermittelt wird, beginnt
die Erwartungssignal-Erzeugungsschaltung 2 zu arbeiten,
und gibt das Erwartungsimpulssignal Pp ab, wobei die
Zeitsteuerung so gewählt ist, daß das Erwartungsimpulssignal
auf der gleichen Zeitachse wie das Lageinformations-
Impulssignal Ps liegt.
Wenn diese Signale Ps und Pp in die logische Multiplizierschaltung
4 eingegeben werden, erhält man das Meßimpulssignal
P M (Fig. 3 (8)), bei welchem aus dem Lageinforma
tions-Impulssignal Ps allein das Richtmarkensignal S 1c
herausgezogen ist. Wenn das Meßimpulssignal P M in die
Meßschaltung 5 eingegeben wird und die jeweiligen Impulsabstände
von Impulsen S 1d des Meßimpulssignals P M bei
jeder Horizontalabtastung gemessen werden sowie auf gleichartige
Weise der Durchschnittswert der Abstände der Impulse
S 1d auch bezüglich aller Horizontalabtastungen in dem
Bereich B ermittelt wird, dann stellt dieser Durchschnittswert
den Abstand zwischen den Richtmarken dar, so daß
daher danach das Ausmaß der Abweichung zwischen der Maske
und dem Halbleiterplättchen nach einem Verfahren berechnet
werden kann, das gleichartig demjenigen nach dem
Stand der Technik ist.
Fig. 4 zeigt den Innenaufbau der Erwartungssignal-
Erzeugungsschaltung 2 zum ausführlichen Erläutern der Funktion
derselben. In Fig. 4 ist mit 21 ein A/D-Wandler
zur Analog/Digitalumsetzung des Videosignals V bezeichnet;
mit 22 ist ein an den A/D-Wandler 21 angeschlossener
Addierer zum Summieren des Umsetzungswerts bezeichnet;
mit 23 ist ein Speicher zum Speichern des mittels des
Addierers 22 summierten Werts bezeichnet; mit 24 ist
ein Vergleicher zum Amplitudenunterscheidung bzw. Amplitudenbewertung
des aus dem Speicher 23 ausgelesenen summierten
Werts mittels eines Potentials mit einem geeigneten
Schwellenwert und zum Erzielen des Erwartungsimpulssignals
Pp bezeichnet; mit 25 ist eine Erwartungssignal-Steuerschaltung
bezeichnet, die an den A/D-Wandler 21 angeschlossen
ist und einen Befehl zum Einleiten der Analog/
Digitalumsetzung abgibt sowie dem Speicher 23 zur
Zeitsteuerung der Summierung einen Schreibbefehl zuführt;
mit 26 ist eine Zeitgeberschaltung für die Erfassung des
Horizontalsynchronisiersignals V sync im Videosignal
V und für die Erzeugung von Taktimpulsen bezeichnet, welche die
Zeitsteuerung des gesamten Systems bestimmen; mit 10
ist ein Mikrocomputer zur Steuerung des Systems bezeich
net.
Bei dem vorstehend beschriebenen Schaltungsaufbau enthält
der Speicher 23 eine Anzahl von Speichereinheiten, die
der Anzahl der Aufteilungen einer Horizontalabtastung
unter gleichen Abständen entspricht. Diese Speicherein
heiten werden so zugeordnet, daß die Abfallstelle des
Triggermarkensignals S 3a für das Triggermuster an erster
Stelle steht. Aus dem Videosignal V, aus dem durch den
Befehl aus der Steuerschaltung 25 das Horizontalsynchronisiersignal
V sync ausgeschieden wurde, wird nur derjenige
Bereich des Videosignals, der die Lageinformation enthält,
der Analog/Digitalumsetzung unterzogen und in den Addierer
22 eingegeben. In den anderen Eingang des Addierers 22
wird der im Speicher 23 gespeicherte Summenwert eingegeben,
dadurch aufaddiert und wieder in den Speicher 23
eingeschrieben. Wenn der in dem Speicher 23 gespeicherte
Inhalt als ein zeitlich serielles Signal ausgedrückt
wird, wird er zu einem Signal SV gemäß der Darstellung
in Fig. 3 (5). Ein Bereich bzw. Signalteil S 4, in
welchem bei dem zusammengesetzten Signal SV kein Signalanteil
enthalten ist, wird nicht in den Speicher 23 eingespeichert.
Die Zeitachse wird auf das Lageinformations-
Impulssignal Ps ausgerichtet, wobei die Synchronisierung
an dem Anstiegsteil des Triggermarkensignals S 3a erfolgt.
Ein Bereich bzw. Signalteil S 2b , in dem das in dem Videosignal
V enthaltene Fehlersignal S 2a , das sich aus Staubteilchen
und Aluminiumpartikeln ergibt, über den Bereich
B gesammelt ist, wird der Mittelwertbildung unterzogen,
so daß er daher im Vergleich zu einem summierten Signalteil
S 1b mit dem Richtmarkensignal S 1a einen niedrigen
Pegel annimmt. Demgemäß wird mittels des Mikrocomputers
10 ein Schwellenwertpotential bestimmt, mit dem der Signalteil
S 2b ausgeschaltet werden kann, und mittels des
Vergleichers 24 mit dem Signal SV verglichen, so daß
als Ausgangssignal des Vergleichers das Erwartungssignal
Pp erzielt wird. Die Steuerschaltung 25 steuert das Einleiten
der Umsetzung durch den A/D-Wandler 21 mit Taktimpulsen,
die durch gleichmäßiges Aufteilen der Periode
des Horizontalsynchronisiersignals V sync mittels der
Zeitgeberschaltung 26 erzielt werden; ferner steuert
die Steuerschaltung das Auslesen des in dem Speicher
23 gespeicherten Summenwertes, wobei zur Zeitsteuerung
des Abfragens in der Zeitgeberschaltung 26 das Signal
herangezogen wird, das aus dem Abfallen des Triggermarkensignals
S 3a erzielt wird, welches die Triggermarke an
zeigt.
Fig. 5 zeigt den Innenaufbau der Amplitudenbewertungsschaltung
3 zur ausführlichen Erläuterung der Funktion
derselben. In Fig. 5 ist mit 10 der Mikrocomputer
für die Steuerung des Systems bezeichnet; mit 32 ist
ein D/A-Wandler zum Umsetzen eines von dem Mikrocomputer
10 angegebenen geeigneten Schwellenwertpotentials in
ein analoges Signal bezeichnet, während mit 31 ein Vergleicher
bezeichnet ist, der eine Amplitudenbewertung
des Videosignals V gemäß dem Schwellenwertpotential ausführt.
Bei der vorstehend beschriebenen Gestaltung wird
das in den Vergleicher 31 eingegebene Videosignal V mit
einem Potential verglichen, dessen von dem Mikrocomputer
10 angegebener geeigneter Schwellenwert der Digital/Analogumsetzung
mittels des D/A-Wandlers 32 unterzogen und
an den zweiten Eingang des Vergleichers 31 angelegt
wird; dadurch wird das Lageinformations-Impulssignal
Ps erzielt. Das Lageinformations-Impulssignal Ps enthält
das Richtmarkensignal S 1c , das sich aus den Staubteilchen
und Aluminiumpartikeln ergebende Fehlersignal S 2c und
das Triggermarkensignal S 3c .
Das Lageinformations-Impulssignal Ps und das Erwartungsimpulssignal
Pp werden auf die vorstehend beschriebene
Weise gebildet und in die logische Multiplizierschaltung
4 eingegeben, wodurch das Meßimpulssignal P M als Ausgangssignal
erzielt wird.
Fig. 6 zeigt ausführlich den inneren Schaltungsaufbau
des in Fig. 1 gezeigten Schaltungsblocks der Meßschaltung
5. In Fig. 6 ist mit 51 ein Oszillator bezeichnet,
der Meßtaktimpulse erzeugt, während mit 52 ein an den
Oszillator 51 angeschlossener Zähler zum Zählen der Meßtaktimpulse,
mit 53 ein Zwischenspeicher
zum vorübergehenden Speichern des Inhalts des Zählers
52, mit 54 ein Addierer zum Addieren des
Inhalts des Zwischenspeichers 53 mit dem Inhalt eines
Speichers 55 zum Speichern des Ausgangssignals des Addierers
54, mit 56 eine Steuerschaltung zum
Steuern der Messung und mit 10 der Mikrocomputer
zur Steuerung des Systems bezeichnet ist.
Wenn bei dem vorstehend beschriebenen Schaltungsaufbau
das sich aus einer Horizontalabtastung H ergebende Meßimpulssignal
P M in die Messungs-Steuerschaltung 56 eingegeben
und der erste Anstieg oder der erste Abfall
eines Impulses S 1d des Signals ermittelt wird, wird an
den Zähler 52 ein Befehl zum Zurückstellen des Inhalts
abgegeben; wenn der Anstieg oder der Abfall des Richtmarkensignals
S 1c erfaßt wird, wird der bisher von dem Zähler
52 gezählte Wert in den Zwischenspeicher 53 übertragen,
wonach dieser Wert und der sich aus einer anderen Horizontalabtastung
ergebende, in dem Speicher 55 gespeicherte
Zählwert mittels des Addierers 54 addiert werden. In
dem Speicher 55 werden die Werte gesammelt, die bei den
in dem nutzbaren Meßbereich B enthaltenen aufeinanderfolgenden
Horizontalabtastungen gemessen werden. Dieser
gesammelte Messungswert wird in den Mikrocomputer 10
eingegeben, durch den der Durchschnittswert berechnet
und dann der Abstand zwischen den Richtmarken ermittelt
wird.
Fig. 7 zeigt ein fotoelektrisches Erfassungssystem
bei einem weiteren Ausführungsbeispiel der Verarbeitungsein
richtung.
Bei dem System nach Fig. 1 werden die Markenbilder abgetestet,
wogegen bei dem System nach Fig. 7 die Marken
direkt abgetastet werden. In Fig. 7 ist nur eine
Seite des Systems abgebildet.
In Fig. 7 ist mit MA eine Maske bezeichnet und mit
WA ein Halbleiterplättchen bezeichnet, während mit M
und W Marken an der Maske bzw. an dem Halbleiterplättchen
und mit OL ein Mikroskop-Objektiv bezeichnet
ist. Andererseits ist mit LAS eine Lichtquelle bezeichnet,
die Laserstrahlen abgibt, während mit L₅ eine
Kondensorlinse und mit MD eine Spiegeltrommel
bezeichnet ist, die mit hoher Drehzahl umläuft. Die
Laserlichtstrahlen werden auf jeweils eines der Spiegelelemente
m 1 der Spiegeltrommel MD gebündelt. Mit L₆ und L₇ sind
Relaislinsen bezeichnet. Da durch die Relaislinsen das
Spiegelelement m 1 und eine Blende D₁ miteinander konjugiert
sind, tasten die Laserlichtstrahlen die Marken
M und W in der Weise ab, als ob diese an dem Brennpunkt
des Objektivs OL vibrieren würden. Die Bauelemente von
dem Objektiv OL bis zu der Lichtquelle LAS bilden zusammen
ein Abtastungs-Beleuchtungssystem.
Andererseits ist mit HM ein Halbspiegel bezeichnet, während
mit L₈ und L₉ weitere Relaislinsen bezeichnet sind
und mit 11 ein fotoelektrisches Wandlerelement bzw. ein
fotoelektrischer Wandler bezeichnet ist. Die Lichtempfangsfläche
des fotoelektrischen Wandlers ist im wesentlichen
mit den Marken M und W konjugiert. P′′ ist eine Lichtabfangplatte
zum Abdecken des an dem Reflexionsort für
die Laserlichtstrahlen durch die Spiegeltrommel MD zwangsweise
reflektierten Bilds. Zusätzlich zu dem Halbspiegel
HM, den Relaislinsen L₈ und L₉, der Lichtabfangplatte
P′′ und dem fotoelektrischen Wandler 11 bilden die Relaislinse
L₇, die Blende D₁ und das Objektiv OL zusammen
ein Lichtempfangssystem.
Bei dem vorstehend beschriebenen Aufbau bewirkt der Umlauf
der Spiegeltrommel MD, daß das gesammelte Laserlicht
abgelenkt wird und über die Relaislinsen L₆ und L₇ und
das Objektiv OL gelangt, so daß es die Marken M und W
an der Maske bzw. dem Halbleiterplättchen überstreicht.
Von den von den Marken M und W reflektierten Lichtstrahlen
werden die regelmäßig reflektierten Lichtstrahlen danach
von der Lichtabfangplatte P′′ abgefangen, während die
unregelmäßig reflektierten Lichtstrahlen mittels des
Objektivs OL und der Relaislinse L₇ konvergiert und
von dem Halbspiegel HM reflektiert werden, durch die
Relaislinsen L₈ und L₉ hindurchlaufen und an dem fotoelektrischen
Wandler 11 gesammelt werden, der Änderungen
der einfallenden Lichtmenge in elektrische Signale um
setzt.
Fig. 8 zeigt die Grundform der Verarbeitungseinrichtung.
Die Einzelheiten jeder Schaltung in dem
System werden nachfolgend beschrieben. In Fig. 8
ist mit 11 der fotoelektrische Wandler für das Erfassen
eines Lichtsignals bezeichnet, das von einem auszurichtenden
Objekt her zurückkehrt. Der fotoelektrische Wandler
11 ist an einen Vorverstärker 12 angeschlossen, dessen
Ausgangssignal in eine erste und eine zweite Amplitudenbewertungsschaltung
13 und 14 eingegeben wird. Die Ausgangssignale
der Schaltungen 13 und 14 sowie ein Befehlssignal
von einem Mikrocomputer 20 werden in eine Meßschaltung
15 eingegeben, wobei der Mikrocomputer 20 auch Befehle
an die Schaltungen 13 und 14 abgibt.
Wenn bei dem vorstehend beschriebenen Aufbau Richtmarken
M an einer Maske gemäß der Darstellung in Fig. 9 (1)
und Richtmarken W an einem Halbleiterplättchen gemäß
der Darstellung in Fig. 9 (2), an dem Staubteilchen C
und Aluminiumpartikel A abgelagert sind, mittels Laser
strahlen L unter Übereinandersetzen dieser Marken gemäß
der Darstellung in Fig. 9 (3) überstrichen werden, wird
aus dem mittels des fotoelektrischen Wandlers 11 erfaßten
Lichtsignal nach der Verstärkung durch den Vorverstärker
12 ein Lageinformationssignal S gewonnen. Das Lageinformationssignal
S enthält ein sich aus den Richtmarken ergebendes
Signal S 4a sowie zusätzlich ein unechtes bzw.
Fehlersignal S 5a , das sich aus den Aluminiumpartikeln
A und den Staubteilchen C ergibt.
Da jedoch im allgemeinen der Zusammenhang zwischen dem
Durchmesser der Laserstrahlen und der Linienbreite des
Markenmusters optimal gewählt werden kann (wie beispielsweise
durch die Wahl der axialen Lage und des Brechvermögens
der Kondensorlinse L₅ im Zusammenhang mit der
Linienbreite), kann die Signalstärke des Signals S 4a
unter einem hohen Pegel verglichen mit dem Signal S 5a
für den Bereich erfaßt werden, der der beliebigen Linienbreite
entspricht. In der ersten Amplitudenbewertungsschaltung
13, in die das Lageinformationssignal S eingegeben
wurde, wird von dem Mikrocomputer 20 ein Schwellenwert
Ep vorgeschrieben, mit dem durch Amplitudenbewertung
allein das Signal S 4a für die Richtmarken erkannt wird,
während gemäß der Darstellung in Fig. 9 (4) das Fehlersignal
S 5a unterdrückt wird. Demgemäß wird als Ausgangssignal
der Schaltung 13 allein das Erwartungsimpulssignal
Pp für das Richtmarkensignal S 4a erhalten.
Aus der vorstehenden Beschreibung ist ersichtlich, daß
bei dem Erwartungsimpulssignal Pp eine Amplitudenbewertung
gemäß einer Amplitude erfolgt, die verhältnismäßig nahe
dem Spitzenwert des Lageinformationssignals S liegt;
daher ist die Impulsbreite des Erwartungsimpulssignals
Pp schmal im Vergleich zu der Impulsbreite eines Richtmarkensignals
S 4b eines Lageinformations-Impulssignals Ps.
Da ferner der nahe dem Spitzenwert liegende Teil des
Signals S 4a gegenüber einer Beeinflussung durch optische
Verformung empfindlich ist, ist es schwierig, die Abstände
zwischen den Richtmarken mit hoher Genauigkeit mittels
des Erwartungsimpulssignals Pp zu messen, das durch die
Amplitudenbewertung dieses Signalteils erzielt wird.
Daher wird in der zweiten Amplitudenbewertungsschaltung
14 an demjenigen Teil des Signals S 4a für die Richtmarken,
der frei von der Beeinflussung durch die optische Verformung
ist, eine Amplitudenbewertung mittels eines Ampli
tuden-Schwellenwertes Es vorgenommen, wobei auch das sich
aus den Staubteilchen C und den Aluminiumpartikeln A
ergebende Fehlersignal S 5a in Impulse umgesetzt wird,
wodurch das Lageinformations-Impulssignal Ps erzielt
wird. Darauffolgend werden das Lageinformations-Impulssignal
Ps und das Erwartungsimpulssignal Pp in die Meßschaltung
15 eingegeben, wobei die Impulsabstände nur für
Impulse in dem Lageinformations-Impulssignal Ps gemessen
werden, die gleichzeitig mit den Impulsen des Erwartungsimpulssignals
Pp auftreten, nämlich für das Impulssignal
S 4b , das die Richtmarken anzeigt.
Fig. 10 zeigt zur ausführlichen Erläuterung der Funktion
den Innenaufbau der Meßschaltung 15 in dem Blockschaltbild
nach Fig. 8. In Fig. 10 ist mit 61 ein
Oszillator bezeichnet, der Meßtaktimpulse erzeugt, während
mit 62 eine Steuerschaltung bezeichnet ist, die
als Eingangssignale die Signale Ps und Pp empfängt und
die entsprechend dem Befehl von dem Mikrocomputer 20
die Steuerung der Messung herbeiführt. Die Steuerschaltung
62 ist an den Oszillator 61 angeschlossen und gibt Rücksetzbefehle
an einen ersten und einen zweiten Zähler
63 und 64, die die Taktimpulse zählen, Setzbefehle an
einen ersten und einen zweiten Zwischenspeicher 65 und
66, die zeitweilig die Inhalte der Zähler 63 bzw. 64
speichern, und Übertragungsbefehle an einen ersten und
einen zweiten Speicher 67 und 68 ab, die die Meßwerte
für die Markenmuster-Abstände speichern. Die jeweiligen
beiden Sätze aus dem Zähler, dem Zwischenspeicher und
dem Speicher dienen dazu, gesondert den Anstieg und den
Abfall des Impulssignals S 4b zu messen, das die Richtmarken
anzeigt.
Es sei als Beispiel der Fall betrachtet, daß gemäß der
Darstellung in Fig. 11 (1) ein Lageinformationssignal
Ps₁, in dem Signale S₁₂ und S₁₄ von den Richtmarken und
Fehlersignale S₁₁ und S₁₃ enthalten sind, und daraus
ein Erwartungsimpulssignal Pp₁ gemäß der Darstellung
in Fig. 11 (2) erzielt wird. Tatsächlich wird die Messung
fortgesetzt, bis sechs Erwartungsimpulssignale Pp₁ erzielt
sind, jedoch wird zur Erläuterung nur der Anfangszustand
beschrieben. D. h., ein Abfallabstand Wf des Richtmarkensignals
kann so gemessen werden, daß nur das Abfallen
der Impulssignale S₁₂ und S₁₄ des Signals Ps₁ beachtet
wird, in dem gleichzeitig Signale S₁₅ und S₁₆ erfaßt
werden. D. h., bei dem Signal bzw. Impuls S₁₅, der der
erste Impuls des Signals Pp₁ ist, wird der erste Zähler
63 rückgesetzt; in dem ersten Speicher 67 wird die Adresse
angewählt, die den Bereich zum Speichern des ersten Abstands
bezeichnet; vom Abfallen des gleichzeitig mit
dem Impuls S₁₅ erfaßten Impulses S₁₂ an wird der erste
Zähler 63 gestartet; auf das Abfallen des Impulses S₁₄
hin, der zugleich mit dem Impuls S₁₆ erfaßt wird, welcher
den nächsten Erwartungsimpuls darstellt, wird der bisherige
Zählwert des ersten Zählers 63 in den ersten Zwischenspeicher
65 übertragen und ferner in den ersten Speicher
67 eingeschrieben. Wenn somit in gleicher Weise
nur der Teil des Signals Ps beachtet wird, der gleichzeitig
mit den Impulsen des Erwartungsimpulssignals Pp
auftritt, wird der Abfallabstand allein aus dem Signal
S 4b gemessen, während das in dem Lageinformations-Impulssignal
Ps vorhandene Fehlersignal S 5b ausgeschaltet wird.
Zum Messen eines Anstiegsabstands Wr der Impulse S₁₂
und S₁₄ gemäß der Darstellung in Fig. 11 (1) wird
auf den Anstieg aller der mit dem Signal Ps₁ erfaßten
Impulse der Inhalt des zweiten Zählers 64 zu dem zweiten
Zwischenspeicher 66 übertragen, während die Einspeicherung
in den zweiten Speicher 68 durch das Erwartungsimpulssignal
Pp₁ erfolgt. Das Einleiten der Messung wird durch
den Anstieg des gleichzeitig mit einem Impuls des Signals
Pp₁ erfaßten Impulses des Signals Ps₁ bestimmt. Nach
Fig. 11 wird der zweite Zähler 64 auf den Anstieg des
Impulses S₁₁ hin gelöscht, um das Zählen zu beginnen,
jedoch wird bis zu dem Abfall des Impulses S₁₁ kein Impuls
des Signals Pp₁ erfaßt, so daß daher bei dem darauffolgenden
Erfassen des Anstiegs des in dem Signal Ps vorliegenden
Impulses S₁₂ der Inhalt des zweiten Zählers 64 erneut
gelöscht wird und das Zählen erneut begonnen wird. Wenn
vor dem Abfallen des Impulses S₁₂ der Impuls S₁₅ in dem
Signal Pp₁ erfaßt wird, wird daraus das Einleiten der
Messung bestimmt, wonach dann der zweite Zähler 64 nicht
mehr gelöscht wird. Darauffolgend wird auf den Anstieg
des Impulses S₁₃ hin der Inhalt des zweiten Zählers 64
zu dem zweiten Zwischenspeicher 66 übertragen, jedoch
zählt der zweite Zähler 64 weiter. Da bis zu dem Abfall
des Impulses S₁₃ kein Impuls des Signals Pp₁ erfaßt wird,
erfolgt keine Einspeicherung in den zweiten Speicher
68. Ferner wird auf den Anstieg des Impulses S₁₄ hin
der bisherige Zählwert wieder in den zweiten Zwischenspeicher
66 übertragen, während durch das gleichzeitige Erfassen
des Impulses S₁₆ der Inhalt des zweiten Zwischenspeichers
66 in den zweiten Speicher 68 eingespeichert wird.
Dieser Speicherwert stellt den Abstand Wr dar.
An den auf die vorstehend beschriebene Weise erfaßten
Anstiegs- und Abfallabständen der den Richtmarken entsprechenden Signale
wird nach einem herkömmlichen Verfahren
der Mittelwert gebildet, wodurch die Abstände
zwischen den Richtmarken ermittelt werden.
Während der Herstellung der Maske kann ferner der Abstand
zwischen der Triggermarke T und der Richtmarke M sehr
genau festgelegt werden. Falls daher mittels der Meßschaltung
5 gleichermaßen wie die Abstände der Richtmarken
dieser Abstand gemessen wird, kann mit diesem Meßwert
als Bezugswert der Meßwert für die Abstände zwischen
den Richtmarken korrigiert werden, was zu der Möglichkeit
führt, eine genauer der tatsächlichen Versetzung entsprechende
Messung auszuführen.
Falls nach Fig. 3 (1) eine Maske verwendet wird, die eine Triggermarke
T besitzt, während die Richtmarke M weggelassen
ist, und als Richtmarke die Marke T statt der Marke
M verwendet wird, kann die Messung der Relativlage auf
die gleiche Weise wie bei der Verwendung der Marke M
bewerkstelligt werden. Mit dem System mit dem vorstehend
beschriebenen Aufbau kann ferner eine hochgenaue Lagemessung
auch dann vorgenommen werden, wenn nicht ein Muster
wie dasjenige bei dem Ausführungsbeispiel verwendet wird,
sondern ein Muster, das die Ermittlung der Relativlage
zwischen der Maske und dem Halbleiterplättchen erlaubt.
Bei dem Ausführungsbeispiel der Verarbeitungseinrichtung
erfolgt
die Synchronisierung dadurch, daß zusätzlich zu dem herkömmlichen
Richtmarkenmuster ein Triggermarkenmuster
bereitgestellt wird; es ist jedoch auch ein System möglich,
bei dem ein von dem herkömmlich verwendeten Triggermarkenmuster
freies Richtmarkenmuster herangezogen wird
und das Merkmal der Form, in der das Muster unter einem
vorbestimmten Winkel geneigt ist, zu dem Zweck genutzt
wird, durch eine Steuerschaltung in einer vorbestimmten
Ablauffolge den Summierungs-Anfangszeitpunkt während
jeder Horizontalabtastung zu befehlen; ferner ist
ein Verfahren möglich, bei dem der Anfangszeitpunkt der
Horizontalabtastung mittels einer besonderen Bildaufnahmevorrichtung
verändert wird.
Bei dem zweiten Ausführungsbeispiel kann ferner eine
Grobausrichtung, bei der keine hohe Genauigkeit erforderlich
ist, durch Verwenden allein des Erwartungsimpulssignals
Pp bewerkstelligt werden; wenn nach Fig. 7 ein Ultra
schall-Ablenkelement 6 zwischen die Laserlichtquelle
LAS und die Kondensorlinse L₅ gesetzt wird, um das Licht
in einer zur Zeichnungsebene senkrechten Richtung abzulenken,
ergibt sich eine Lageabweichung und Abtastung der
Marken durch das Laserlicht, so daß daher mittels eines
Systems, das dem in Verbindung mit dem ersten Ausführungsbeispiel
beschriebenen elektrischen System gleichartig
ist, das Erwartungsimpulssignal abgenommen werden kann.
Wenn die Relativlage der Marke an einem ersten Körper
und der Marke an einem zweiten Körper gemessen wird,
umfaßt das Verfahren gemäß dem vorangehend beschriebenen
ersten Ausführungsbeispiel einen Schritt des wiederholten
Abtastens der beiden Marken in der Weise, daß eine Lageabweichung
hervorgerufen wird, und des Erfassens der
Signale für die beiden Marken, einen Schritt des wiederholten
Sammelns der Teilsignale aus der Abtastung, einen
Schritt des Abteilens von Teilen mit unterschiedlichen
Eigenschaften in den gesammelten Signalen, wodurch die
den Marken entsprechenden Teile festgelegt werden, und
einen Schritt des Herausziehens eines für die Lagemessung
erforderlichen, sich aus den beiden Marken ergebenden
echten Signals aus den Signalen durch Bezugnahme auf
die abgeteilten Teile der Signale. Insbesondere zur Erfassung
des Falls, daß die Abtastung unter Lageversetzung
der Marken erfolgt, können eine der Marken sowie die
für die Lageeinstellung erforderliche Marke auf optische
oder elektrische Weise identifiziert werden und es können
in einem vorbestimmten Intervall beabstandete Triggermarken
mit einbezogen werden, wobei ein Schritt zur Korrektur
der Messung ausgeführt wird, bei dem der Meßwert für
dieses Intervall als Bezugswert dient. Das Verfahren
nach dem zweiten Ausführungsbeispiel umfaßt einen Schritt
der Abtastung auf im wesentlichen der gleichen Abtastlinie
und des Aufnehmens der sich aus den beiden Marken
ergebenden Signale, einen Schritt der Amplitudenbewertung
dieser Signale mit Schwellenwerten unterschiedlichen
Pegels und einen Schritt des Herausziehens eines für
die Lagemessung erforderlichen echten Signals aus dem
mit dem niedrigeren Schwellenwert bewerteten Signal unter
Bezugnahme auf das mit dem höheren Schwellenwert bewertete
Signal.
Somit kann mit der Verarbeitungseinrichtung
die Relativlage
zwischen mehreren Körpern, die unechte bzw. Fehlersignale
abgeben, in genauer Weise gemessen werden; darüber hinaus
ist keine große Änderung des Beleuchtungssystems vorzunehmen.
Falls somit die Signalaufbereitung bei
einer Halbleiterherstellungseinrichtung oder dergleichen
verwendet und zum Ausrichten eingesetzt wird, können
Mängel wie das Auftreten einer Fehlausrichtung aufgrund
des Vorhandenseins von Staubteilchen und Aluminiumpartikeln
auf dem Halbleiterplättchen und eine Verlängerung
der Regelzeit für die Ausrichtung ausgeschaltet werden,
wobei die für das Reinigen jedes Halbleiterplättchens
erforderliche Zeit beträchtlich verkürzt werden
kann.
Claims (12)
1. Verarbeitungseinrichtung zum Verarbeiten von Lageerfassungssignalen,
mit einer Mustererfassungseinrichtung zum Erfassen
eines Musters an einem Körper und zum Erzeugen eines
Detektionssignals, wobei die Mustererfassungseinrichtung die
Erfassung in einer Abtastrichtung durchführt, gekennzeichnet
durch eine Erwartungssignal-Erzeugungseinrichtung (2; 13) zum
Bilden eines Erwartungssignals (P p ) auf der Basis des Detektionssignals,
das denjenigen Bereich des Detektionssignals
während einer Abtastung bezeichnet, in dem die Wahrscheinlichkeit
des Vorliegens eines dem Muster entsprechenden Signals
hoch ist; und durch eine Mustersignal-Erzeugungseinrichtung
(3 bis 5; 14, 15) zum Bilden eines dem Muster entsprechenden
Signals aus dem Detektionssignal und dem Erwartungs
signal.
2. Verarbeitungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Erwartungssignal-Erzeugungseinrichtung
(2) eine Summiereinrichtung (22, 23) zum Summieren des
Detektionssignals und Bilden eines Summensignals und eine
Bewertungseinrichtung (24) zum Bewerten des Summensignals
mittels eines vorbestimmten Schwellenwerts aufweist.
3. Verarbeitungseinrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Bewertungseinrichtung (24) eine
Amplitudenbewertungsschaltung ist.
4. Verarbeitungseinrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Erwartungssignal-Erzeugungseinrichtung
(2) eine Abfrageeinrichtung zum zeitlich aufeinanderfolgenden
Abfragen des Detektionssignals und eine
Umsetzeinrichtung (21) für die Analog/Digitalumsetzung
des Ausgangssignals der Abfrageeinrichtung aufweist.
5. Verarbeitungseinrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Mustererfassungseinrichtung
(1) einen Bildaufnehmer, der ein Videosignal
erzeugt, und eine Beleuchtungsvorrichtung zum Beleuchten
des Musters aufweist.
6. Verarbeitungseinrichtung nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß der Bildaufnehmer (1) eine Bildauf
nahmeröhre aufweist.
7. Verarbeitungseinrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das Muster Markenelemente (M, W),
die in bezug auf die Abtastrichtung schräg stehen, und
den Markenelementen benachbart mindestens eine Triggermarke
(T) mit einem Rand aufweist, der die gleiche Schrägstellung
wie die Markenelemente besitzt.
8. Verarbeitungseinrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 7, gekennzeichnet durch eine Erkennungseinrichtung
zum Erkennen eines ersten Rands des Musters (M, W, T)
bei dessen Abtastung.
9. Verarbeitungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Erkennungseinrichtung ein Signal
zu einer vorbestimmten Zeit vor einem ersten Impuls
aufgrund eines Markenelements des Musters (M, W, T) erzeugt.
10. Verarbeitungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Erwartungssignal-Erzeugungseinrichtung
(13) eine erste Bewertungseinrichtung zum Bewerten
des Detektionssignals mit einem ersten Schwellenwert (Ep)
aufweist, der höher als eine Rauschkomponente ist, und
daß die Mustersignal-Erzeugungseinrichtung (14, 15) eine zweite
Bewertungseinrichtung zum Bewerten des Meßsignals mit
einem zweiten Schwellenwert (Es) umfaßt, der niedriger als
der erste Schwellenwert ist.
11. Verarbeitungseinrichtung nach Anspruch 10, dadurch
gekennzeichnet, daß die Mustersignal-Erzeugungseinrichtung
(14, 15) als dem Muster entsprechendes Signal diejenigen Impulse
des Ausgangssignals der zweiten Bewertungseinrichtung
festlegt, die gleichzeitig mit den Impulsen des Ausgangssignals
der ersten Bewertungseinrichtung auftreten.
12. Verarbeitungseinrichtung nach einem der Ansprüche
1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Körper aus einer
Maske (MA) mit einem integrierten Halbleiterschaltungsmuster
und einem Halbleiterplättchen (WA) besteht, das
mit einer fotoempfindlichen Schicht versehen ist.
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