DE3018569C2

DE3018569C2 - Verfahren zur Herstellung einer Elektrode eines Farbbildröhren-Elektronenstrahlerzeugungssystems

Info

Publication number: DE3018569C2
Application number: DE3018569A
Authority: DE
Inventors: Shigeharu Mobara Hatayama; Mamoru Mobara Ikeda; Masaaki Togane Yamauchi
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1979-05-18
Filing date: 1980-05-14
Publication date: 1984-03-15
Also published as: JPS55154044A; GB2052845B; DE3018569A1; JPS63895B2; US4366414A; GB2052845A

Description

dadurch gekennzeichnet,

d) die Metallplatte (28) zwischen einer ersten Formschablone (30) mit der gleichen Kontur wie die erste Nut (21) und einer zweiten Formschablone (31) mit der gleichen Kontur wie die zweite Nut (22) unter Ausrichtung der Achse ^er zweiten Formschablone (31) auf die Achse der ersten Formschablone (30) einlegt,

e) die erste Oberfläche und die zweite Oberfläche der Metallplatte (2ίί) mi.· einem bestimmten Abstand (25) zwischen der ersten Formschablone (31) durch gleichzeitiges Pressen der ersten Formschablone (30) auf die erste Oberfläche und der zweiten Formschablone (31) auf die zweite Oberfläche prägt, und

f) die durchgehende Öffnung (26) zum Durchlaß des Elektronenstrahls in einem Teil ausbildet, wo sich die erste Nut (21) und die zweite Nut (22), in der Richtung senkrecht zur Oberfläche der Metallplatte (28) gesehen, kreuzen.

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer Elektrode eines Farbbildröhren-Elektronenstrahlerzeugungssystems nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs.

Ein solches Verfahren ist aus der ES-PS 4 75 316 bekannt.

Der Stand der Technik wird zunächst anhand der F i g. 1 bis 4 der Zeichnung erläutert; darin zeigt

Fig. I eine Schnittdarstellung einer Farbfernsehbildröhre;

Fig. 2 eine Schnittdarstellung eines im Halsteil der Farbfernsehbildröhre angeordneten Elektronenstrahlerzeugungssystems;

F i g. 3A und 3B ein Beispiel der ersten Gitterelektrode, wobei F i g. 3A eine Aufsicht derselben und F i g. 3B eine Schnittdarstellung nach der Linie III B-111B in Fig. 3A zeigen; und

Fig.4A und 4B Aufsichten der beiden Bestandteile der in F i g. 3A und 3B dargestellten Elektrode.

Gemäß F i g. 1 weist eine Farbbildröhre 1 einen Leuchtschirm 2 mit einer Mehrzahl von Leuchtstoffelementen entsprechend den drei Primärfarben und ein im Halsteil der Röhre angeordnetes Elektronenstrahlerzeugungssystem 3 auf. Dieses strahlt drei Elektronen strahlen entsprechend den drei Primärfarben aus, welche durch eine Mehrzahl von Öffnungen in einer Farbwahielektrode 4 durchgehen und auf dem Leuchtschirm 2 auftreffen. Die vom System 3 ausgestrahlten

ίο Elektronenstrahlen werden von einem durch eine Ablenkspule 5 gebildeten magnetischen Ablenkfeld abgelenkt und tasten die Oberfläche des Leuchtschirm? 2 ab. Als Ergebnis der auf dem Leuchtschirm 2 auftreffenden Elektronenstrahlen wird ein Bild reproduziert.

Gemäß Fig.2 enthält das Elektronenstrahlerzeugungssystem 3 Kathoden 6,6', 6", eine erste Gitterelektrode 9, eine zweite Gitterelektroden 10 und 11, dritte Elektroden 12 und 13 und eine vierte Elektrode 14.

Diese Elektroden werden durch Glasstäbe 8 gehalten und sind im wesentlichen senkrecht zum Leuchtschirm 2 angeordnet. In der Fig.2 ist ein integriertes Elektronenstrahlerzeugungssystem dargestellt, in dem drei Systeme zur Ausstrahlung von drei Elektronenstrahlen entsprechend den drei Primärfarben einstückig ausgebildet sind. Dieses integrierte System .kann mit gleicher Wirkung durch drei getrennte Systeme zur getrennten Ausstrahlung von Elektronenstrahlen ersetzt werden. Im Betrieb wird die erste Gitterelektrode 9 normaler-

JO weise auf Nullpotential gehalten, die zweiten Gitterelektroden 10 und 11 werden auf dem Potential von 600 bis 700 V gehalten und mit einer Fokussierspannung gespeist. Die dritten Gitterelektroden 12 und 13 und die vierte Gitterelektrode 14 stellen eine elektronische Hauptlinse dar. Das in der Zeichnung dargestellte Elektronenstrahlerzeugungssystem ist ein In-Iine-Elektronenstrahlerzeugungssystem in dem die Kathoden 6, 6' und 6" parallel zum Leuchtschirm 2 ausgerichtet sind. Die erste Gitterelektrode 9 hat drei in der gleichen Richtung wie der Ausrichtungsrichtung der Kathoden an dazu entsprechenden Stellen angeordnete Strahlendurchlassöffnungen. In der folgenden Beschreibung wird die Ausrichtungsrichtung der Kathoden als die horizontale Richtung bezeichnet, und die dazu senkrechte Richtung wird als die vertikale Richtung bezeichnet.

In einer In-line-Farbbildröhre ist das magnetische Ablenkfeld zur Ablenkung der vom Elektronenstrahlerzeugungssystem ausgestrahlten Elektronenstrahlen einer Kissenverzeichnung und einer Tonnenverzeichnung unterworfen, um Selbstkonvergenz zu erreichen. Als Ergebnis wird jeder Elektronenstrahl verzeichnet, wenn er durch das magnetische Ablenkfeld durchgeht, so daß an den Umfangsteilen, insbesondere an den Ecken des Leuchtschirms 2, der auf dem Leuchtschirm auftreffende Elektronenstrahl von einem Halophänomen in der vertikalen Richtung aufgrund seiner Überfokussierung in dieser Richtung begleitet wird, so daß die Schärfe des reproduzierten Bildes verringert wird. Wenn die

bo Fokussierspannung justiert wird, um zu versuchen, die Fokussiercharakteristik (d. h. die Schärfe des reproduzierten Bildes unter dem Einfluß des Halos) an den Umfangsteilen des Leuchtschirms zu verbessern, wird die Fokussiercharakteristik im mittleren Teil des

b5 Leuchtschirms verschlechtert, wodurch die Fokussiercharakteristik auf dem Leuchtschirm insgesamt verringert wird.

Mit der Absicht, eine gleichmäßige Fokussiercha-

rakteristik auf dem ganzen Leuchtschirm zu erreichen, wird eine Elektrode mit einem Kreuzschlitz, wie sie in den Fig.3A und 3B dargestellt ist, als die erste Gitterelektrode 9 des Elektronenstrahlerzeugungssystem verwendet Dies ist aus der ES-pS 4 75 316 bekannt Die Darstellungen in Fig.3A und 3B zeigen die erste Gitterelektrode einer von getrennten Elektronenstrahlerzeugungssystemen, die alternativ auch als jedem Elektronenstrahl entsprechender Teil der ersten Gitterelektrode eines integrierten Elektronenstrahlerzeugungssystem betrachtet werden kann. Bei einem Beispiel zur Bildung dieser ersten Gitterelektrode 9, wie es in den F i g. 4A und 4B veranschaulicht ist, werden zwei Platten 17 und 18 mit rechteckigen Schlitzen 15 und 16 in der Weise angeordnet, daß sich die Schlitze 15 [5 und 16 unter einem rechten Winkel kreuzen, und diese Platten 17 und 18 werden miteinander an mit χ in F i g. 3A markierten Schweißpunkten verschweißt, wodurch eine Strahldurchlaßöffnung 19 im mittleren Teil der Einheit gebildet wird. Beim Einbau dieser ersten Gitterelektrode wird die Platte 17 mit dem horizoniaipn Schlitz 15 an der Kathodenseite angeordnet, und die Platte 18 mit dem vertikalen Schlitz 16 wird an dsr Seite der zweiten Gitterelektrode angeordnet Bei dieser ersten Gitterelektrode wird die Dickenverteilung der Platten 17 und 18 in der Richtung, in der der Elektronenstrahl durchgeht, geeignet entsprechend der Auslegung der betroffenen Farbröhre bestimmt, um die Fokussiercharakterstik zu verbessern.

Die Funktion des Kreuzschlitzes ergibt sich aus der j₍₎ ES-PS 4 75 316. Die Funktion und die Wirkung einer dem Kreuzschlitz äquivalenten nicht-rotationssymmetrischen Öffnung sind in der GB-PS 14 2t 865 offenbart

Die erste Gitterelektrode 9 mit einem solchen Kreuzschlitz hat, wenn sie aus den beiden miteinander r> verschweißten Platten 17 und 18 hergestellt ist, die Nachteile, daß hohe Herstellungskosten unvermeidlich sind und die Fokussiercharakteristik durch eine Verformung infolge des Verschweißens und eines Zusammenbaufehlers verschlechtert ist Insbesondere im Fall eines integrierten Elektronenstrahlerzeugungssystem ist es schwierig, die beiden Platten 17 und 18 eng aneinander zu verschweißen, da sich oft ein Spalt zwischen den beiden Platten ergibt. Dies verursacht einen Zustand, der einer Änderung der Dicke der 4» Schlitzplatten ähnlich ist, wodurch die Fokussiereigenschaften erheblich verschlechtert werden.

Um die durch das Verschweißen der beiden Platten 17 und 18 verursachten Nachteile zu beseitigen, führten die Erfinder verschiedene Untersuchungen und Versuche ■,< > bezüglich der Gestalt der ersten Gitterelektrode aus einer einzelnen Platte und deren Herstellung durch. Es ist theoretisch möglich, jedoch praktisch schwierig, und für eine Massenproduktion ungeeignet, eine Elektrode der in den Fig. 3A und 3B gezeigten Gestalt durch y, einstückiges Preßformen einer einzelnen Platte herzustellen, wie es in den Fig.5A und 5B gezeigt ist. Insbesondere stößt die Oberseite einer unteren Formschablone mit einer Kontur des horizontalen Schlitzes 15' und die Unterseite einer oberen Formschablone mii der Kontur des vertikalen Schlitzes 16' am Schlitzboden 20 zusammen, und der resultierende Stoß zerbricht die Formschablonen. Außerdem ist es praktisch unmöglich, zu erreichen, daß die unteren und oberen Oberflächen der oberen und unteren Formscha- bj blonen miteinander am Schlitzboden 20 vollständig übereinstimmen.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Verfahren der eingangs genannten Art so zu verbessern, daß bei möglichst geringem Aufwand und ohne Bruchgefahr von Formschablonen eine Elektrode mit einem Kreuzschlitz aus einer einzelnen Platte herstellbar ist

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs angegebenen Merkmale gelöst

Die Elektrode läßt sich also aus einer einzigen Metallplatte unaufwendig und zuverlässig in Massenproduktion herstellen.

Die Erfindung wird anhand der Fig.6 bis 12 der Zeichnung näher erläutert; darin zeigen

Fig.6A und 6B Darstellungen einer nach einem ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellten ersten Gitterelektrode, wobei F i g. 6A eine Aufsicht und F i g. 6B eine Schnittdarstellung nach der Linie VIB-VIB in F i g. 6A zeigen;

Fig.7A und 7B Darstellungen einer nach einem zweiten Ausführungsbeispiel des f-;;ndungsgemäßen Verfahrens hergestellten ersten Gitterelektrode, wobei Fig.7A eine Aufsicht und Fig.7B eine Schnittdarstellung nach der Linie VIIB-VI1B in F i g. 7A zeigen;

Fig.8A und 8B Darstellungen einer nach einem dritten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellten ersten Gitterelektrode wobei Fig.8A eine Aufsicht und Fig.8B eine Schnittdarstellung nach der Linie VIIIB-VIIIB in F ig. 8A zeigen;

Fig.9A bis 9F Darstellungen des Ausführungsbeispiels des Verfahrens zur Herstellung der in Fig.8A und 8B gezeigten Elektrode, wobei die F i g. 9A, 9C und 9E Aufsichten im Laufe der Herstellschritte und Fig.9B, 9D und 9F Schnittdarsteüungen nach den Linien IXB-IXB bzw. IXD-IXD bzw. IXF-IXF in den Fig.9Abzw.9Cbzw.9Ezeigen;

Fig. IOA und IOB Perspektivdarstellungen der zur Ausbildung der Kreuzschlitze bei der Herstellung der Elektrode nach den F i g. 8A und 8B verwendeten Prägeformen:

Fig. H eine Perspektivdarstellung einer zur Ausbildung einer Elektronenstrahldurchlaßöffnung bei der Herstellung der in Fig.8A und 8B dargestellten Elektrode verwendeten Stanzform; und

Fig. 12A und 12B eine nach einem Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellte erste Gitterelektrode für ein integriertes Elektronenstrahlerzeugungssystems, wobei Fig. 12A eine Aufsicht und Fig. 12B eine Schnittdarstellung nach der Linie XIIB-XIIB in Fig. 12A zeigen.

Eine nach einem ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellte erste Gitterelektrode 9 ist in den Fig.6A und 6B dargestellt. Diese e sie Gitterelektrode 9 hat eine Oberfläche, in der eine im wesentlichen rechteckige Nut 21 einer bestimmten Breite und Tiefe ausgebildet ist, die sich in der horizontalen Richtung erstreckt, und in deren anderen Oberfläche eine im wesentlichen rechteckige Nut 22 einer bestimmten Breite und Tiefe ausgebildet ist, die sich in der vertikalen Richtung erstreckt. Die Nuten 21 und 22 sind durch Prägen mit einem bestimmten Abstand 25 zwischen den Böden 23 und 24 der Nuten gebildet. Eine im wesentlichen quadratische Elektronenstrahldurchlaßöffnung 26, deren vier Seiten fast gleich wie oder etwas kleiner als die Breite W der horizontalen Nut 21 sind, ist an einer Stelle gebildet, wo sich die Nuten 21 und 22 gegenseitig in Aufsicht der Elektrode 9 überlappen. Die Nuten 21 und 22 sind jeweils im wesentlichen symmetrisch bezüelich der

Mittelachse der Elektronenstrahldurchlaßöffnung 26. Aus Vereinfachungsgründen wird die aus den Nuten 21 und 22 in der Öffnung 24 erhaltene Form auch als Kreuzschlitz bezeichnet. In diesem Ausführungsbeispiel haben die Nuten 21 und 22 im wesentlichen die gleiche Breite W. Diese Elektrode 9 wird im Elektronenstrahlerzeugungssystem 3 in der Weise angeordnet, daß ihre Oberfläche mit der horizontalen Nut 21 der Kathode 6 zugewandt ist.

Durch Aufbau der Elektrode 9 in der Weise, daß sie einen Kreuzschliiz der vorstehend erwähnten Form hat, ist es möglich, die Nuten 21 und 22 mit dem Abstand 25 dazwischen auszubilden, wobei man das Ergebnis erhält, daß ein Bruch der oberen Formschablone und der unteren Formschablone durch Zusammenprall beim Prägevorgang verhindert wird, wodurch die Massenproduktion der Elektrode 9 erleichtert wird. Nach dem Bilden der Nuten 21 und 22 durch Prägen wird die Eiekironenstrahldürchiaßöffnun⁰ ^* Hmvh ^ΐ9Π7ρη auf einer Stanzpresse gebildet, wodurch die Elektrode 9 erhalten wird.

Eine nach einem zweiten Ausführungsbeispiel hergestellte erste Gitterelektrode 9 ist in den Fig. 7A und 7B veranschaulicht. Auch in diesem Ausführungsbeispiel werden die horizontale Nut 21 und die vertikale Nut 22 mit einem bestimmten Abstand 25 dazwischen gebildet. Dieses Ausführungsbeispiel unterscheidet sich von dem nach F i g. 6A und 6B dadurch, daß hier die vertikale Nut 22 (oder die horizontale Nut 21) eine größere Breite W als die horizontale Nut 21 (oder die vertikale Nut 22) aufweist, deren Breite Wist. Jede Seite der Elektronenstrahldurchlaßöffnung 26 ist im wesentlichen gleich der oder etwas kürzer als die Breite W. Bei diesem Kreuzschlitzaufbau kann, wenn die Elektronenstrahldurchlaßöffnung 26 gebildet wird, der auszustanzende Teil 26 und ein Teil 27, der unausgestanzt gelassen wird, in der gleichen Ebene auf der Oberseite der unteren Formschablone gehalten werden, indem man die untere Formschablone in die Nut der verhältnismäßig großen Breite W einsetzt, wodurch die Stanzgenauigkeit verbessert wird.

Eine nach einem dritten Ausführungsbeispiel hergestellte erste Gitterelektrode ist in den Fig.8A und 8B veranschaulicht.

Bei diesem Ausführungsbeispiel werden, wie im Ausführungsbeispiel nach F i g. 7A und 7B, die horizontale Nut 21 mit der verhältnismäßig schmalen Breite W und die vertikale Nut 22 mit der verhältnismäßig großen Breite W' mit dem bestimmten Spalt 25 dazwischen gebildet. Dieses Ausführungsbeispiel unterscheidet sich vom AusfühiTJigsbeispiel nach F i g. 7A und 7B dadurch, daß bei diesem Ausführungsbeispiel die Seitenwände der Nuten 21 und 22 unter einem bestimmten Winkel θ abgeschrägt sind. Dadurch verhindert man, daß die Außenumfangskante der Oberseite der Prägeform bricht oder anderweitig beschädigt wird, wodurch die Lebensdauer der Form verbessert wird. Obwohl dieses Ausführungsbeispiel so beschrieben wurde, daß die Nuten 21 und 22 des in Fig.7A und 7B dargestellten Elektrodenbeispiels abgeschrägt sind, können auch die Nuten 21 und 22 des Elektrodenbeispiels nach Fig.6A und 6B in gleicher Weise abgeschrägt werden. Wenn es unter dem Gesichtspunkt der elektrischen Eigenschaften erwünscht ist, kann auch nur eine unter den Nuten 21 und 22 gewählte Nut mit einer solchen Abschrägung versehen sein.

Die Erfinder untersuchten, wie die Form der ersten Gitterelektrode 9, nämlich die Breite, Tiefe und der Abschrägungswinkel der horizontalen Nut 21 und der vertikalen Nut 22 und der Abstand 25 zwischen den Nuten 21 und 22 die Fokussiercharakteristik (d. h. die Elektronenstrahlfleckform) oder die Einsatz- bzw. Unterdrückungsspannung beeinflussen. Als Ergebnis wurde gefunden, daß bei Steigerung der Tiefe der der Kathode zugewandten horizontalen Nut 21 der Querschnitt des Elektronenstrahls mehr horizontal oval wird und bei Steigerung der Tiefe der vertikalen Nut 22 an der zweiten Gitterseite der Querschnitt des Elektronenstrahls mehr vertikal oval wird, wodurch entsprechend die Gestalt des Elektronenstrahlflecks oder die Fläche des Halos auf dem Leuchtschirm 2 geändert wird. Es wurde auch gefunden, daß in diesem Fall die Tiefe der horizontalen Nut 21 die Fläche des Halos stark beeinflußt. Außerdem wurde ermittelt, daß die Tiefe und die Breite der horizontalen Nut 21 die Einsatz- bzw. Unterdrückungscharakteristik erheblich beeinflussen und daher durch die gewünscht? Einsa·?- bzw. Unterdrückungscharakteristik einer betroffenen Bildröhre begrenzt werden, während die Tiefe und die Breite der vertikalen Nut 22 eine gewisse Spanne in der Auslegung aufweisen. Wenn die Breite der vertikalen Nut 22 verringert wird, läßt sich z. B. die Änderung der Auswirkung auf die Charakteristik durch entsprechende Verringerung der Tiefe regulieren. Es wurde auch gefunden, daß selbst wenn der Abstand 25 zwischen der horir ontalen Nut 21 und der vertikalen Nut 22 ausgebildet wird, die Querschnittsform des Elektronenstrahls an Stellen vor und hinter dem wahren Kreuzungspunkt je nach der Tiefe der vertikalen Nut 22 geändert werden kann. Weiter ändern sich die Fokussiercharakteristik und die Einsatz- bzw. Unterdrückungscharakteristik als Ergebnis der Abschrägung der Seitenwand der Nuten, doch wurde gefunden, daß eine solche Änderung durch Steigerung der Tiefe der Nuten in dem Fall unterdrückt werden kann, wo die Abschrägung die wirksame Breite der Nuten steigert, oder auch durch Verringerung der Tiefe der Nuten in dem Fall unterdrückt werden kann, wo die Abschrägung die wirksame Breite der Nuten verringert.

So wird die Form des Kreuzschlitzes je nach dem Verbesserungsgrad der Einsatz- bzw. Unterdrückungscharakteristik und der Fokussiercharakteristik, der für jede betroffene Farbbildröhre benötigt wird, bestimmt. Mit anderen Worten werden durch geeignetes Auslegen der Form des Kreuzschlitzes die Einsatz- bzw. Unterdrückungscharakteristik und die Fokussiercharakteristik im erforderlichen Maß verbessert. Es wurde beispielsweise ein Versuch für den Fall des Ausführungsbeispiels nach Fig.8A und 8B durchgeführt, wobei die horizontale Nut 21 mit der Breite von 0,7 mm und der Länge von 2 mm an ihrem Boden und der Tiefe von 0,08 mm, die vertikale Nut 22 mit der Breite von 1 mm und der Länge von 2 mm an ihrem Boden und der Tiefe von 0,11 mm und die Elektronenstrahldurchlaßöffnung von quadratischer Form mit 0,67 mm langen Seiten vorgesehen waren. Die Ergebnisse dieses Versuchs zeigten, daß die Einsatz- bzw. Unterdrükkungscharakteristik und die Fokussiercharakteristik für praktische Zwecke befriedigend waren.

Das Ausführungsbeispiel des Verfahrens zur Herstellung der Elektrode 9 nach den F i g. 8A und 8B soll nun eingehender anhand der Fig.9A bis 9F beschrieben werden. Wie in F i g. 9A und 9B gezeigt ist, wird durch eine Metallplatte 28 mit der Dicke von etwa 033 mm ein Loch 29 von etwa 6 mm Durchmesser gestanzt. Anschließend werden, wie die F i g. 9C und 9D zeigen.

gleichzeitig die horizontale Nut 21 und die vertikale Nut 22 durch ein Prägeverfahren mit bleibendem Abstand 25 mittels der oberen Formschablone 30 mit einer der horizontalen Nut 21 gleichen Kontur, wie in ^Fig. 1OA gezeigt ist, und der unteren Formschablone 31 mit einer der vertikalen Nut 22 gleichen Kontur, wie in Fig. 1OB gezeigt ist, ausgebildet. Bei diesem Verfahren wird eine kreisj'örmige Nut 33 um die Nuten 21 und 22 herum, wie in den Figuren gezeigt ist, gebildet, die keine besondere Bedeutung hat und daher nicht weiter erläutert wird. Bei Unterstützung des Bodens 24 der verhältnismäßig breiten vertikalen Nut 22 auf der oberen flachen Oberfläche 35 der unteren Formschablone 34 zum Ausstanzen der Elektronenstrahldurchlaßöffnung wird entsprechend Fig. 11 die Elektronenstrahldurchlaßöffnung 26 wie in Fig. 9E und 9F gezeigt, mittels einer (nicht dargestellten) oberen Formschablone mit der gleichen Abmessung wie der Elektronenstrahldurchlaßölfnung 26 durch die horizonale Nut 21 gestanzt. Im letzten Schritt wird die Metallplatte 28 zur gewünschten Außenabmessung gestanzt, wodurch man die Elektrode 9 erhält. Die Änderung der Dicke der Metallplatte 28, die beim Prägen auftritt, wird durch das Loch 29 absorbiert. Der Prägevorgang wird natürlich unter Ausrichtung der Mittelachsen der unteren Formschablone 30 und der oberen Formschablone 31 untereinander durchgeführt.

Eine nach einem Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellte erste Gitterelektrode für ein integriertes Elektronenstrahlungserzeugungssysterndes In-Iine-Typsist in Fig. 12 veranschaulicht.

Anstelle einer im wesentlichen quadratischen Elektronenstrahldurchlaßöffnung 26, wie sie in den vorstehenden Ausführungsbeispielen gezeigt ist, kann auch eine kreisförmige Elektronenstrahldurchlaßöffnung ausgebildet werden. Eine kreisförmige Elektronenstrahldurchlaßöffnung beeinflußt die Fokussiercharakteristik und die Einsatz- bzw. Unterdrückungscharakteristik unterschiedlich zur quadratischen Elektronenstrahldurchlaßöffnung, und daher muß dies bei

ίο Bestimmung der Breite und Tiefe der Nuten 21 und 22 berücksichtigt werden. Auch sind in den vorstehenden Ausführungsbeispielen die Nuten 21 und 22 von im wesentlichen rechteckiger Form in Aufsicht, die natürlich durch ihrendeine andere Form ersetzt werden kann, die eine gleiche Wirkung wie die rechteckige Form aufweist.

Man ersieht aus der vorstehenden Beschreibung, daß die erste Gitterelektrode mit dem Kreuzschlitz einstükkig aus einem einzigen Teil gebildet werden kann, so daß die Zahl der Teile verringert ist und die Notwendigkeit des Zusammenbaus durch Verschweißen beseitigt wird, wodurch sich die Möglichkeit einer Massenproduktion ergibt und damit die Herstellungskosten gesenkt werden. Außerdem lassen sich eine Verschlechterung der Eigenschaften, die aultreten kann, wenn zwei Platten übereinandergelegt werden, eine Verformung durch Schweißen oder eine Verringerung der Genauigkeit vermeiden, wodurch es ermöglicht wird, die Elektrode mit verbesserten Eigenschaften und

jo gleichmäßiger Qualität herzustellen.

Hierzu 5 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentanspruch:

Verfahren zur Herstellung einer Elektrode eines Farbbildröhren-Elektronenstrahlerzeugungssystems mit

a) einer Metallplatte mit einer oder mehreren Öffnungen zum Durchlaß eines bzw. mehrerer Elektronenstrahlen,

b) einer bzw. mehreren ersten Nuten bestimmter Breite und Tiefe, die in einer ersten Oberfläche der Metallplatte ausgebildet sind und sich in einer ersten Richtung symmetrisch zur Achse jeder der Elektronenstrahldurchlaßöffnungen erstrecken, und

c) einer bzw. mehreren zweiten Nuten bestimmter Breite und Tiefe, die in einer der ersten Oberfläche der Metallplatte entgegengesetzten zweiten Oberfläche ausgebildet sind und sich in einer .weiten, zur ersten Richtung senkrechten Richtung symnietrich zur Achse jeder der Elektronenstrahldurchlaßöffnungen erstrecken,