DE2903641C2 - Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben erscheinenden Muster - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben erscheinenden Muster

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Description

a) Auf den Träger werden eine reflektierende Schicht und darauf eine Photolackschicht aufgebracht;
b) die Photolackschicht wird unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig belichtet und anschließend entwickelt;
c) die reflektierende Schicht wird in den nicht mehr mit der Photolackschicht bedeckten Musterteilen durch chemisches Ätzen entfernt;
d) die restliche Photolackschicht wird entfernt;
e) auf die mustertragende Seite des Trägers wird eine Abstandsschicht aus im sichtbaren Wellenlängenbereich absorptionsfreiem Material aufgebracht;
f) auf die Abstandsschicht wird wenigstens eine weitere reflektierende Schicht aufgebracht;
g) auf die reflektierende Schicht wird eine Photolackschicht aufgebracht;
h) die Photolackschicht wird unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig belichtet und anschließend entwickelt;
i) die reflektierende Schicht wird in den nicht -to mehr mit der Photolackschicht bedeckten Musterteilen durch chemisches Ätzen entfernt:
k) die restliche Photolackschicht wird entfernt.
2. Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben erscheinenden Muster, das durch wenigstens einige auf einem Träger nebeneinander befindliche Interferenzfilter für unterschiedliche Wellenlängenbereiehe des Lichtes gebildet ist, bei dem die Interferenzschicht jedes Interferenzfilters durch wenigstens eine Abstandsschicht gebildet ist, die aus anorganischem Material besteht, durchgehend und von gleicher Stärke ist und auf der sich voneinander getrennte, das Muster bildende Bereiche wenigstens einer refleklierenden Schicht befinden, nach Patent Nr. 26 58 623. gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
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a) Auf den Träger werden eine reflektierende Schicht und darauf eine Photolackschicht aufgebracht;
b) die Photolackschicht wird unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig belichtet Und anschließend entwickelt;
c) die reflektierende Schicht wird in den nicht mehr mit der Photolackschicht bedeckten Musterteilen durch lonenstrahlätzen entfernt;
d) die restliche Photolackschicht wird entfernt;
e) auf die mustertragende Seite des Trägers wird eine Abstandsschicht aus im sichtbaren Wellenlängenbereich absorptionsfreiem Material aufgebracht;
f) auf die Abstandsschicht wird wenigstens eine weitere reflektierende Schicht aufgebracht;
g) auf die reflektierende Schicht wird eine Photolackschicht aufgebracht;
h) die Photolackschicht wird unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig belichtet und anschließend entwickelt;
i) die reflektierende Schicht wird in den nicht mehr mit der Photolackschicht bedeckten Musterteilen durch lonenstrahlätzen entfernt;
k) die restliche Photolackschicht wird entfernt
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß beim chemischen Ätzen kontinuierlich ein schneller und gründlicher Grenzflächenaustausch des Ätzmediums erfolgt.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Zur Strukturierung der das Muster der Aufzeichnung bildenden reflektierenden Schichten wird gemäß dem Patent Nr. 26 58 623 bevorzugt das Hochfrequenz-Sputterätzen angewandt Der Träger wird hierbei in einer Vakuumapparatur mittels Kathoden aus einem zur Erzeugung von reflektierenden Schichten geeigneten Material, beispielsweise Silber, im Hochvakuum beschichtet Anschließend wird die reflektierende Schicht mit einer Photolackschicht beschichtet, die unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig belichtet und entwickelt wird. Die nicht mit der Photolackschicht bedeckten Musterteile der reflektierenden Schicht werden nun unter umgekehrter Polung durch lonenbeschuß wieder abgetragen.
Dieses Verfahren weist aber den Nachteil auf, daß neben den für die Abtragung verantwortlichen Ionen auch schnelle Elektronen auftreten. iJiese energiereichen Elektronen bewirken beim Abtragungsprozeß eine chemische Veränderung der verbleibenden Photolackschicht in Form einer Aushärtung des Photolacks durch Vernetzung. Die verhärtete Photolackschicht wird dadurch weitgehend unlöslich, so daß sich nach dem Abtragungsvorgang die verbliebene verhärtete Photolackschicht nicht mehr in Form einer echten Lösung entfernen läßt. Man erreicht durch Lösungsmittel-Immersion lediglich eine Aufquellung der Photolackschicht und muß durch mechanisch wirkende Maßnahmen (z. B. Ultraschall oder Wischen) den AblöseVörgäng einleiten. Durch derartige mechanische Maßnahmen bei der Entfernung der Photolackschicht läßt sich eine Beschäm digung der darunterliegenden verbleibenden reflektierenden Schicht nicht immer vermeiden/ die ohnehin beispielsweise als Silberschicht nur eine Dicke von wenigen Atomlagen aufweist. Da beim Herstellungspre
zeß ein solches Entfernen der verbliebenen Photolackschicht mehrmals erforderlich ist, kann die Ausschußrate beträchtlich ansteigen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers der oben genannten Gattung anzugeben, die die oben genannten Nachteile vermeiden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kennzeichnenden Merkmale der Ansprüche 1 und 2 gelöst
Bei einer Verfahrensweise durch chemisches Ätzen wird kontinuierlich ein schneller und gründlicher Grenzflächenaustausch des Ätzmittels vorgeschlagen, so daß die bei chemischen Ätzungen charakteristische Unterätzung wesentlich reduziert wird, die die Ausbildung feinster Muster unmöglich machen würde.
Eine derartige Unterätzung tritt durch ein Abheben der Kanten der Photolackschicht von der darunterliegenden, zu schützenden Schicht dann ein, wenn der Ätzvorgang infolge einer verminderten Aktivität der nicht ausgetauschter Grenzflächen des Ätzmediums eine zu lange Zeit in Anspruch nimmt.
Ein derartiger schneller und gründlicher Grenzflächenaustausch des Ätzmittels wird beispielsweise dadurch erreicht, daß die chemische Ätzung auf einer Zentrifuge durchgeführt und das Ätzmittel als Sprühstrahl kontinuierlich zugeführt wird. Versuche haben ergeben, daß die Qualität der Musterwiedergabe von derart chemisch geätzten Schichten im Vergleich zu Schichten, die durch Hochfrequenz-Sp'Jtterätzen hergestellt wurden, als identisch anzusehen ist, da die beim bevorzugten Ätzverfahren auftretende Unterätzung an den Musterkanten kleiner als 0,1 μπι gehalten werden kann.
Als weiteres Verfahren zur Ab.ragung der nicht mit einer Photolackschicht bedeckten Mu: erteile einer reflektierenden Schicht wird eine Ionenstrahlätzung vorgeschlagen. Bei diesem Ätzverfahren werden die in der Plasmaentladung vorhandenen Elektronen durch Anlegen geeigneter elektrischer oder magnetischer Felder daran gehindert, die Oberfläche der verbleibenden Photolackschicht zu erreichen, so daß nach dem Abtragungsvorgang eine einwandfreie Entfernung dieser Photolackschicht von der reflektierenden Schicht mittels Lösungsmittel gewährleistet ist.
Am Beispiel eines Aufzeichnungsträgers mit einer fünffarbigen Aufzeichnung sei aufgezeigt, bei welchen Prozeßschritten das chemische Ätzverfahren bzw. das Ionenstrahlätzverfahren mit Erfolg angewandt werden kann.
Farbe
zu entfernende
Schicht
Entremungsverfahren
schwarz
rot I
grün
grün und rot II
blau
Cr
Fe3O3
Ag
Ag
Ag
Strip-Verfahren
Chemisches Ätzen
oder
Ionenstrahlätzen
Ionenstrahlätzen
Ionenstrahlätzen
Beim Herstellungsprozeß mittels des vorgeschlagenen chemischen Ätzverfahrens können die folgenden Prozeßschritte nacheinander im Naßverfahren auf einer >> Zentrifuge ausgeführt werden:
1. Entwickeln der belichteten Musterteile der Photo-Iackschicht.
2. Entfernen der nicht mehr mit der Photolackschicht -" bedeckten Musterteile der reflektierenden Schicht durch chemische Ätzung,
3. Entfernen der verbliebenen Photolackschicht durch ein Lösungsmittel und
4. Reinigen für den folgenden Prozeßschritt
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen im folgenden:
1. Bei der Abtragung der von der Photolackschicht freien Musterteile der reflektierenden Schicht wird die verbleibende Photolackschicht durch die vorgeschlagenen Verfahren der chemischen Atzung oder der Ionenstrahlätzung chemisch nicht verändert. Die nachfolgende Entfernung der verbliebenen Photolackschicht kann daher durch echte Auflösung in einem Lösungsmittel ohne mechanische Einwirkung erfolgen, so daß eine wesentliche Ausschußverminderung erzielt wird.
2. Das vorgeschlagene chemische Ätzverfahren ermöglicht ein räumliches und zeitliches Zusammenfassen von Prozeßschritten, so daß neben einer erheblichen Zeitersparnis das Transport- und Verschmutzungsrisiko vermieden werden kann. Weiterhin ist der technische Aufwand relativ gering.
3. Bei der Ionenstrahlätzung tritt keine Unterätzung auf; bei der chemischen Ätzung mit Grenzflächenaustausch des Ätzmediums ist die Unterätzung kleiner als 0,1 μίτι, so daß bei beiden Ätzverfahren sehr scharfe Musterkanten erzielt werden.

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben ersehetnenden Muster, das durch wenigstens einige auf einem Träger nebeneinander befindliche Interferenzfilter für unterschiedliche Wellenlängenbereiche des Lichtes gebildet ist, bei dem die Interferenzschicht jedes Interferenzfilters durch wenigstens eine Abstandsschicht gebildet ist, die aus anorganischem Material besteht, durchgehend und von gleicher Stärke ist und auf der sich voneinander getrennte, das Muster bildende Bereiche wenigstens einer reflektierenden Schicht befinden, nach Patent Nr.2658623, gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
DE2903641A 1979-01-31 1979-01-31 Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben erscheinenden Muster Expired DE2903641C2 (de)

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