DE2903641C2 - Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben erscheinenden Muster - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben erscheinenden MusterInfo
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- G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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Description
a) Auf den Träger werden eine reflektierende Schicht und darauf eine Photolackschicht
aufgebracht;
b) die Photolackschicht wird unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig belichtet
und anschließend entwickelt;
c) die reflektierende Schicht wird in den nicht mehr mit der Photolackschicht bedeckten
Musterteilen durch chemisches Ätzen entfernt;
d) die restliche Photolackschicht wird entfernt;
e) auf die mustertragende Seite des Trägers wird eine Abstandsschicht aus im sichtbaren Wellenlängenbereich
absorptionsfreiem Material aufgebracht;
f) auf die Abstandsschicht wird wenigstens eine weitere reflektierende Schicht aufgebracht;
g) auf die reflektierende Schicht wird eine Photolackschicht aufgebracht;
h) die Photolackschicht wird unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig belichtet
und anschließend entwickelt;
i) die reflektierende Schicht wird in den nicht -to mehr mit der Photolackschicht bedeckten
Musterteilen durch chemisches Ätzen entfernt:
k) die restliche Photolackschicht wird entfernt.
2. Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in
wenigstens zwei unterschiedlichen Farben erscheinenden Muster, das durch wenigstens einige auf
einem Träger nebeneinander befindliche Interferenzfilter für unterschiedliche Wellenlängenbereiehe
des Lichtes gebildet ist, bei dem die Interferenzschicht jedes Interferenzfilters durch wenigstens
eine Abstandsschicht gebildet ist, die aus anorganischem Material besteht, durchgehend und von
gleicher Stärke ist und auf der sich voneinander getrennte, das Muster bildende Bereiche wenigstens
einer refleklierenden Schicht befinden, nach Patent Nr. 26 58 623. gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
60
a) Auf den Träger werden eine reflektierende Schicht und darauf eine Photolackschicht
aufgebracht;
b) die Photolackschicht wird unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig belichtet
Und anschließend entwickelt;
c) die reflektierende Schicht wird in den nicht mehr mit der Photolackschicht bedeckten
Musterteilen durch lonenstrahlätzen entfernt;
d) die restliche Photolackschicht wird entfernt;
e) auf die mustertragende Seite des Trägers wird eine Abstandsschicht aus im sichtbaren Wellenlängenbereich
absorptionsfreiem Material aufgebracht;
f) auf die Abstandsschicht wird wenigstens eine weitere reflektierende Schicht aufgebracht;
g) auf die reflektierende Schicht wird eine Photolackschicht aufgebracht;
h) die Photolackschicht wird unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig belichtet
und anschließend entwickelt;
i) die reflektierende Schicht wird in den nicht mehr mit der Photolackschicht bedeckten
Musterteilen durch lonenstrahlätzen entfernt;
k) die restliche Photolackschicht wird entfernt
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß beim chemischen Ätzen kontinuierlich ein schneller und gründlicher Grenzflächenaustausch
des Ätzmediums erfolgt.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers gemäß dem Oberbegriff des
Anspruchs 1.
Zur Strukturierung der das Muster der Aufzeichnung bildenden reflektierenden Schichten wird gemäß dem
Patent Nr. 26 58 623 bevorzugt das Hochfrequenz-Sputterätzen angewandt Der Träger wird hierbei in
einer Vakuumapparatur mittels Kathoden aus einem zur Erzeugung von reflektierenden Schichten geeigneten
Material, beispielsweise Silber, im Hochvakuum beschichtet Anschließend wird die reflektierende Schicht
mit einer Photolackschicht beschichtet, die unter Verwendung einer Belichtungsmaske mustermäßig
belichtet und entwickelt wird. Die nicht mit der Photolackschicht bedeckten Musterteile der reflektierenden
Schicht werden nun unter umgekehrter Polung durch lonenbeschuß wieder abgetragen.
Dieses Verfahren weist aber den Nachteil auf, daß neben den für die Abtragung verantwortlichen Ionen
auch schnelle Elektronen auftreten. iJiese energiereichen Elektronen bewirken beim Abtragungsprozeß eine
chemische Veränderung der verbleibenden Photolackschicht in Form einer Aushärtung des Photolacks durch
Vernetzung. Die verhärtete Photolackschicht wird dadurch weitgehend unlöslich, so daß sich nach dem
Abtragungsvorgang die verbliebene verhärtete Photolackschicht nicht mehr in Form einer echten Lösung
entfernen läßt. Man erreicht durch Lösungsmittel-Immersion lediglich eine Aufquellung der Photolackschicht
und muß durch mechanisch wirkende Maßnahmen (z. B. Ultraschall oder Wischen) den AblöseVörgäng einleiten.
Durch derartige mechanische Maßnahmen bei der
Entfernung der Photolackschicht läßt sich eine Beschäm
digung der darunterliegenden verbleibenden reflektierenden Schicht nicht immer vermeiden/ die ohnehin
beispielsweise als Silberschicht nur eine Dicke von wenigen Atomlagen aufweist. Da beim Herstellungspre
zeß ein solches Entfernen der verbliebenen Photolackschicht
mehrmals erforderlich ist, kann die Ausschußrate beträchtlich ansteigen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers
der oben genannten Gattung anzugeben, die die oben genannten Nachteile vermeiden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kennzeichnenden Merkmale der Ansprüche 1 und 2
gelöst
Bei einer Verfahrensweise durch chemisches Ätzen wird kontinuierlich ein schneller und gründlicher
Grenzflächenaustausch des Ätzmittels vorgeschlagen, so daß die bei chemischen Ätzungen charakteristische
Unterätzung wesentlich reduziert wird, die die Ausbildung feinster Muster unmöglich machen würde.
Eine derartige Unterätzung tritt durch ein Abheben der Kanten der Photolackschicht von der darunterliegenden,
zu schützenden Schicht dann ein, wenn der Ätzvorgang infolge einer verminderten Aktivität der
nicht ausgetauschter Grenzflächen des Ätzmediums eine zu lange Zeit in Anspruch nimmt.
Ein derartiger schneller und gründlicher Grenzflächenaustausch des Ätzmittels wird beispielsweise
dadurch erreicht, daß die chemische Ätzung auf einer Zentrifuge durchgeführt und das Ätzmittel als Sprühstrahl
kontinuierlich zugeführt wird. Versuche haben ergeben, daß die Qualität der Musterwiedergabe von
derart chemisch geätzten Schichten im Vergleich zu Schichten, die durch Hochfrequenz-Sp'Jtterätzen hergestellt
wurden, als identisch anzusehen ist, da die beim bevorzugten Ätzverfahren auftretende Unterätzung an
den Musterkanten kleiner als 0,1 μπι gehalten werden
kann.
Als weiteres Verfahren zur Ab.ragung der nicht mit
einer Photolackschicht bedeckten Mu: erteile einer reflektierenden Schicht wird eine Ionenstrahlätzung
vorgeschlagen. Bei diesem Ätzverfahren werden die in der Plasmaentladung vorhandenen Elektronen durch
Anlegen geeigneter elektrischer oder magnetischer Felder daran gehindert, die Oberfläche der verbleibenden
Photolackschicht zu erreichen, so daß nach dem Abtragungsvorgang eine einwandfreie Entfernung dieser
Photolackschicht von der reflektierenden Schicht mittels Lösungsmittel gewährleistet ist.
Am Beispiel eines Aufzeichnungsträgers mit einer fünffarbigen Aufzeichnung sei aufgezeigt, bei welchen
Prozeßschritten das chemische Ätzverfahren bzw. das Ionenstrahlätzverfahren mit Erfolg angewandt werden
kann.
Farbe
zu entfernende
Schicht
Schicht
Entremungsverfahren
schwarz
rot I
rot I
grün
grün und rot II
blau
Cr
Fe3O3
Fe3O3
Ag
Ag
Ag
Ag
Ag
Strip-Verfahren
Chemisches Ätzen
oder
Ionenstrahlätzen
Ionenstrahlätzen
Ionenstrahlätzen
Beim Herstellungsprozeß mittels des vorgeschlagenen chemischen Ätzverfahrens können die folgenden
Prozeßschritte nacheinander im Naßverfahren auf einer >>
Zentrifuge ausgeführt werden:
1. Entwickeln der belichteten Musterteile der Photo-Iackschicht.
2. Entfernen der nicht mehr mit der Photolackschicht
-" bedeckten Musterteile der reflektierenden Schicht durch chemische Ätzung,
3. Entfernen der verbliebenen Photolackschicht durch ein Lösungsmittel und
4. Reinigen für den folgenden Prozeßschritt
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen im folgenden:
1. Bei der Abtragung der von der Photolackschicht freien Musterteile der reflektierenden Schicht wird
die verbleibende Photolackschicht durch die vorgeschlagenen Verfahren der chemischen Atzung
oder der Ionenstrahlätzung chemisch nicht verändert. Die nachfolgende Entfernung der
verbliebenen Photolackschicht kann daher durch echte Auflösung in einem Lösungsmittel ohne
mechanische Einwirkung erfolgen, so daß eine wesentliche Ausschußverminderung erzielt wird.
2. Das vorgeschlagene chemische Ätzverfahren ermöglicht ein räumliches und zeitliches Zusammenfassen
von Prozeßschritten, so daß neben einer erheblichen Zeitersparnis das Transport- und
Verschmutzungsrisiko vermieden werden kann. Weiterhin ist der technische Aufwand relativ
gering.
3. Bei der Ionenstrahlätzung tritt keine Unterätzung auf; bei der chemischen Ätzung mit Grenzflächenaustausch
des Ätzmediums ist die Unterätzung kleiner als 0,1 μίτι, so daß bei beiden Ätzverfahren
sehr scharfe Musterkanten erzielt werden.
Claims (1)
1. Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in
wenigstens zwei unterschiedlichen Farben ersehetnenden Muster, das durch wenigstens einige auf
einem Träger nebeneinander befindliche Interferenzfilter für unterschiedliche Wellenlängenbereiche
des Lichtes gebildet ist, bei dem die Interferenzschicht jedes Interferenzfilters durch wenigstens
eine Abstandsschicht gebildet ist, die aus anorganischem Material besteht, durchgehend und von
gleicher Stärke ist und auf der sich voneinander getrennte, das Muster bildende Bereiche wenigstens
einer reflektierenden Schicht befinden, nach Patent Nr.2658623, gekennzeichnet durch folgende
Verfahrensschritte:
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2903641A DE2903641C2 (de) | 1979-01-31 | 1979-01-31 | Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben erscheinenden Muster |
BR8000480A BR8000480A (pt) | 1979-01-31 | 1980-01-25 | Processo para fabricar uma base porta-gravuras com elevada densidade de informes |
CH64580A CH643956A5 (de) | 1979-01-31 | 1980-01-28 | Verfahren zur herstellung eines aufzeichnungstraegers mit einer aufzeichnung hoher informationsdichte. |
IL59251A IL59251A (en) | 1979-01-31 | 1980-01-29 | Process for the production of a recording carrier |
US06/116,494 US4359519A (en) | 1979-01-31 | 1980-01-29 | Process for forming a high resolution recording medium |
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FR8002040A FR2448167A2 (fr) | 1979-01-31 | 1980-01-30 | Support d'enregistrement pour l |
ZA00800545A ZA80545B (en) | 1979-01-31 | 1980-01-30 | Process for the manufacture of an image carrier carrying high resolution images |
GB8003346A GB2043295B (en) | 1979-01-31 | 1980-01-31 | Process for producing a high information density pattern |
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---|---|---|---|
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Publications (2)
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---|---|
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