DE2653824A1 - Desensibilisator fuer lithographische druckplatten sowie verfahren zu dessen anwendung - Google Patents

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DiL E WIEGAND DIPL-ING. W. NIbVAANN DR- M. KÖHLER DIPL-ING. C. GERKHAR¹JT

MÜNCHEN HAMBURG / D O O 0 Z H

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¥ 42 707/76 - Ko/Ja 26.November 1976

Fuji Photo Film Co., Ltd. Minami Ashigara-Shi, Kanagawa (Japan)

Desensibilisator für lithographische Druckplatten sowie Verfahren zu dessen Anwendung

Die Erfindung betrifft einen verbesserten Desensibilisator für lithographische Druckplatten.

Eine lithographische Druckplatte wird üblicherweise bildweise an aktinische Strahlung ausgesetzt und dann einer Entwicklungsbehandlung mit einem geeigneten Lösungsmittel unterzogen.,* sodaß entweder die belichteten Bereiche oder die unbelichteten Bereiche entfernt werden und dadurch ein druckfarbenannehmendes Bild zum Druck erhalten wird.

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Eine Druckplatte, welche durch Entfernung der nichtbelichteten Bereiche während der Entwicklung hergestellt wird und welche ein druckfarbenaufnehmendes Bild entsprechend dem belichteten Bereich gegenüber einer hydrophilen Trägeroberfläche aufweist, wird als negativ arbeitende Platte bezeichnet, während im Fall der positiv arbeitenden Platte der unbelichtete Bereich druckfarbenaufnehmend wird, nachdem der belichtete Bereich bei der Entwicklung entfernt wurde. Beide Arten der Druckplatten erfordern die Stufen der Belichtung und Entwicklung, wobei jedoch die Anfordernisse an den Entwickler in Abhängigkeit von der Zusammensetzung und den Eigenschaften der verwendeten lichtempfindlichen Schicht variieren, welche üblicherweise ein lichtempfindliches Material, einen Binder, Additive und dgl. umfaßt. Verschiedene Entwickler sind bekannt und umfassen den in der US-PS 3 751 257 beschriebenen wässrigen Entwickler für lichtempfindliche Diazomassen, einen wässrigen in der US-PS 3 4-58 311 beschriebenen alkalischen Entwickler zur Verwendung bei der Entwicklung von lichtpolymerisierbaren Massen, einen Entwickler vom organischen Lösungsmitteltyp mit dem Gehalt eines oberflächenaktiven Mittels zusammen mit einer Säure entsprechend der US-PS 3 701 657 zur Verwendung für lichthärtbare Polymermassen.

Nach der Entwicklung mit irgendeinem dieser Entwickler kann der Entwickler von der Oberfläche der Druckplatte durch Spülen mit Wasser entfernt werden. Falls der Entwickler hauptsächlich ein organisches Lösungsmittel, welches die lichtempfindliche Schicht durch Auflösung oder Überführung in einen praktisch gelösten Zustand entfernt, umfaßt, besteht bei der Spülung mit Wasser nach der Entwicklung zur Entfernung des verbliebenen Entwicklers die Neigung, daß die im Entwickler gelöste lichtempfindliche Masse sich aggregiert und auf der Plattenoberfläche abscheidet,

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Έ-ine derartige Abscheidung nimmt die Druckfarbe während des .anschließenden Drucks auf, sodaß eine Verschmutzung verursacht wird. Es ist infolgedessen, falls man einen hauptsächlich ein organisches Lösungsmittel enthaltenden Entwickler anwendet, allgemeine Praxis, die lichtempfindliche Schicht ZU quellen und sie in Form von Filmstücken zu entfernen, wozu hauptsächlich auf die US-PS 3 136 637 verwiesen wird. Ein derartiges Verfahren erfordert eine physikalische Einwirkung, um die Filmstücke nach der Quellung der Schicht zu entfernen, hat jedoch den markanten Vorteil, daß der Entwickler nicht mit der vom Träger zu entfernenden Masse verunreinigt wird. Ein weiteres Verfahren ist bereits bekannt, bei dem ein" wässriges Kolloid anstelle von Wasser zum Spülen zwecks Entfernung oder Ersatz des hauptsächlich ein organisches Lösungsmittel enthaltenden verbliebenen Entwicklers verwendet wird, bei dem die lichtempfindliche Schicht durch Auflösung entfernt wird. Bei diesem Verfahren wird kein Wasser zum Spülen gefordert und es ist dadurch gekennzeichnet, daß, falls man die Platte mit einer ausreichenden Menge einer Kolloidlösung für den auf der Platte verbliebenen verschmutzten Entwickler wischt und ihn trocknet, der kolloidale Bestandteil als Schutzgummi für die Nichtbildbereiche wirkt. Jedoch kann ein einfaches wässriges Kolloid lediglich unter sorgfältig gesteuerten Bedingungen verwendet werden und, falls man von diesen Bedingungen abweicht, zeigen die Nichtbildbereiche eine Neigung zum Anziehen der Druckfarbe, sodaß die sogenannte Hlntergrundverschmutzung verursacht wird. Versuche zur Verbesserung dieser Nachteile, wie sie in den US-PS 3 738 850 und 3 745 028 beschrieben sind, waren zur Verringerung der Verschmutzung während des Druckes nicht ausreichend wirksam und die Ergebnisse hängen von den Herptellungsbedingungen der verwendeten lichtempfindlichen Platte au. Diese Abhängigkeit wird durch die Tatsache belegt, daß gelegentlich eine Ver·

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schmutzung auftritt.

Eine Hauptaufgabe der Erfindung besteht in einem verbesserten Desensibilisator für eine lithographische Druckplatte.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem verbesserten Desensibilisator, der zur Entfernung einer entwicklerhaltigen lichtempfindlichen Masse verwendet werden kann, ohne daß irgendeine Spülung mit Wasser erforderlich ist, und zwar bei einem Verfahren, wo ein Entwickler, der hauptsächlich ein organisches Lösungsmittel enthält und der zur Entfernung der Nichtbildbereiche der lichtempfindlichen Massen durch Auflösung oder Quellung dieser Massen nach der bildweisen Aussetzung der lichtempfindlichen lithographischen Masse an aktive Strahlung fähig ist.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem verbesserten Desensibilisator mit der günstigen Fähigkeit des Ersatzes des Entwicklers nach der Entwicklung und gleichzeitig der Wiederherstellung und Verfestigung der hydrophilen Eigenschaften der Nichtbildbereiche.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem verbesserten Entwickler zur Anwendung bei einem Verfahren zur Herstellung des Entwicklers durch Ersatz mit dem Desensibilisator nach der Entwicklung, bei dem keine Abscheidung der von dem Nichtbildbereich entfernten lichtempfindlichen Massen auf dem Bildbereich verursacht wird.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Desensibilisator mit einer breiten Anwendungsbreite mit verschiedenen Druckplatten, die unter differierten Bedingungen hergestellt wurden.

Infolge ausgedehnter Untersuchungen zur Entwicklung von Desensibilisatoren mit einer weiten Breite für unter unterschiedliche! Herstellungsbedingungen hergestellte Platten werden die vorstehend aufgeführten verschiedenen Aufgaben

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nun erreicht, indem Borsäure, Salpetersäure oder ein Salz hiervon oder Kaliumborhydrid oder Natriumborhydrid mit einem -wässrigen kolloidalen Material unter sauren Bedingungen kombiniert werden.

In völlig unerwarteter Weise erwies sich der gemäß der Erfindung erhaltene Desensibilisator als völlig wirksam zur Entfernung der Verschmutzung selbst auf einer dem Druck mehr als 10 Monate nach der Herstellung unterzogenen lichtempfindlichen Platte. Dieses vorteilhafte Verhalten war sogar noch stärker ausgeprägt, wenn ein mehrwertiger Alkohol zugesetzt wurde. Es wurde festgestellt, daß die Desensibilisatormassen äußerst vorteilhaft das Problem der Abscheidung der lichtempfindlichen Masse auf dem Bildbereich nach der Entfernung des Nichtbildbereiches lösen.

Es wurde auch festgestellt, daß die Desensibilisatoren gemäß der Erfindung nicht nur die Funktion eines Ersatzmittels für den Entwickler besitzen, sondern auch die Funktion eines Schutzgummis haben, der weitgehend auf dem Fachgebiet des lithographischen Druckes eingesetzt wird.

Der Desensibilisator gemäß der Erfindung besteht aus einer wässrigen Lösung mit einem pH-Wert von etwa 1,2 bis etwa 7,0, der als wesentliche Komponenten (i) eine hydrophile kolloidale Verbindung, (ii) einen mehrwertigen Alkohol und (iii) Borsäure, Salpetersäure oder ein Salz hiervon oder Kaliumborhydrid oder Natriumborhydrid enthält.

Das im Rahmen der Erfindung eingesetzte hydrophile Kolloid muß wasserlöslich und als solches filmbildend sein. Ein wichtiger Faktor liegt in der Viskosität der wässrigen Lösung der Desensibilisatormasse. Die geeignete Viskosität kann im Bereich von etwa 5 bis etwa 120 cp bei 25⁰C liegen und die bevorzugte Viskosität liegt im Bereich von etwa 5 bis etwa 120 cp bei 25⁰C. Da es bisweilen allgemeine Praxis

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für verschiedene mit lithographischen Druckplatten angewandte Behandlungsmittel ist, als Konzentrat geliefert zu werden und vor dem Gebrauch verdünnt zu werden, ist der vorstehend angegebene Viskositätsbereich für die wässrige Lösung des hydrophilen Kolloids diejenige während des Gebrauchs. Geeignete, derartige Erfordernisse erfüllende hydrophile Kolloide umfassen Naturprodukte und Derivate hiervon, wie Gummiarabikum, Dextrin, Cellulosederivate, beispielsweise Carboxymethylcellulose, Carboxyäthylcellulose, Hydroxyäthylcellulose, Methylcellulose und dgl., synthetische polymere Materialien, wie Polyvinylalkohol und Derivate hiervon, Polyvinylpyrrolidon, in wässriger Lösung lösliche Acrylsäurecopolymere, Copolymere von Vinylmethyläther und Maleinsäureanhydrid, Copolymere von Vinylacetat und Maleinsäureanhydrid und dgl.. Diese Mate-' rialien können einzeln oder in Kombination eingesetzt werden. Die bevorzugten Materialien sind Gummiarabikum, Dextrin und Cellulosederivate, vorzugsweise Carboxymethylcellulose und besonders bevorzugt eine Carboxymethylcellulose mit einem Polymerisationsgrad von etwa 500 oder darunter.

Geeignete verwendbare mehrwertige Alkohole umfassen Äthylenglykol und Polyäthylenglykol mit einem Kondensationsgrad von 2 bis 500, Propylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Sorbit, Pentaerithrit, Glycerin und dgl.. Geeignete verwendbare mehrwertige Alkohole sind solche, die wasserlöslich sind und ein bevorzugter Bereich für die Anzahl der Hydroxylgruppen beträgt 2 bis 6. Diese mehrwertigen Alkohole können einzeln oder in Kombination verwendet werden, beispielsweise eine Kombination mehrwertiger Alkohol, die unterschiedlich ist, oder die gleich ist, jedoch unterschiedliche Molekulargewichte besitzen.

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Die allgemeinen Regeln einer derartigen Kombination können jedoch hier nicht spezifisch angegeben werden, da die geeigneten Kombinationen von den Eigenschaften des eingesetzten kolloidalen Materials abhängig sind. Der mehrwertige Alkohol arbeitet wirksam, wenn er in einer Konzentration von etwa 1 bis etwa 30 Gew.%, stärker bevorzugt 5 bis 20 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der Gesamtmasse, vorliegt. Die eingesetzte Menge des hydrophilen Kolloids hängt von der Viskosität des erhaltenen Desensibilisators ab und auf der Basis derselben beträgt der allgemeine Bereich etwa 0,5 bis 20 Gew.%, auf Trockenbasis.

Die geeignete Menge an Borsäure, Salpetersäure oder einem Salz hiervon oder Kaliumborhydrid oder Natriumborhydrid hängt etwas von der Art der Verbindung, der Art des hiermit verwendeten hydrophilen Kolloids und des pH-Bereiches der Lösung ab und liegt aufgrund der Ergebnisse allgemein im Bereich von etwa 0,5 bis etwa 20 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der Gesamtmasse. Ein stärker bevorzugter Bereich beträgt 1 bis 10 Gew.%. Geeignete Salze der Borsäure oder Salpetersäure sind die wasserlöslichen und umfassen die Natrium-, Kalium-, Ammonium-, Magnesium-, Nickel-, Zinksalze und ähnliche Salze. Spezifische Beispiele für geeignete Salze der Borsäure oder Salpetersäure umfassen Natriumborat, Natriumnitrat, Kaliumborhydrid, Natriumborhydrid, Kaliumnitrat, Ammoniumborat, Ammoniumnitrat, Magnesiumnitrat, Zinknitrat, Nickelnitrat und dgl.. Diese Materialien können einzeln oder in Kombination verwendet werden. Falls zwei Salze oder mehr verwendet werden sollen, liegt die Gesamtmenge der Salze im vorstehend aufgeführten Bereich.

Der erfindungsgemäß eingesetzte Desensibilisator wird vorzugsweise so hergestellt, daß er beim Gebrauch einen pH-Wert zwischen etwa 1,2 und etwa 7,0 und starker bevorzugt zwischen 2 und 5 besitzt. Um den pH-Wert einzustellen, kann eine anorganische oder organische Säure zugesetzt werden.

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Geeignete verwendbare anorganische Säuren umfassen Salzsäure, Schwefelsäure, Borsäure, Salpetersäure, Phosphorsäure, Hydrofluorsäure,Hydrozirkonfluorsäure, Hydrosilicofluorsäure und dgl. und geeignete organische Säuren umfassen Oxalsäure, Zitronensäure, Weinsäure, Milchsäure, Hydroxyessigsäure, Essigsäure, Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Gallussäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure und dgl..

Die Zugabe eines oberflächenaktiven Mittels, insbesondere eines anionischen oder nichtionischen oberflächenaktiven Mittels ist gleichfalls vorteilhaft, jedoch nicht wesentlich.

Geeignete Beispiele für anionische oberflächenaktive Mittel umfassen Salze von langkettigen aliphatischen Säuren, Salze von Schwefelsäureestern höherer Alkohole, Salze von Phosphorsäureestern langkettiger aliphatischer Alkohole, Sulfonsäuresalze von zweibasischen aliphatischen Säureestern, Salze von aliphatischen Säuresulfonamiden, Salze von Alkylarylsulfonsäuren, Salze von Naphthalinsulfonsäure-Formaldehydkondensaten und dgl.. Geeignete Beispiele für nichtionische oberflächenaktive Mittel umfassen Polyoxyäthylenalkyläther, Polyoxyathylenalkylphenoläther, Polyoxyäthylenalkylester, Sorbitanalkylester, Polyoxypropylenpolyoxyäthylenäther und.dgl« Diese oberflächenaktiveiMitteln können einzeln oder als Gemische verwendet werden. Die bevorzugte Menge dieser Materialien beträgt weniger als etwa 10 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, wenn auch diese Grenze nicht besonders kritisch ist.

Der Desensibilisator gemäß der Erfindung ist besonders geeignet für lithographische Platten mit einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen Masse, die insbesondere die folgenden lichtempfindlichen Polymeren enthält, kann jedoch auch für andere Zwecke eingesetzt werden.

Geeignete lichtempfindliche Polymere umfassen diejenigen auf der Basis einer der folgenden lichtempfindlichen Verbindungen: Polyester, Polyamide oder Polycarbonate, die eine

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wiederkehrende Einheit -CH=CH-C- enthalten, beispielsweise

ein lichtempfindliches Polymeres mit einer lichtempfindlichen Gruppe im Polymergerüst, wie beispielsweise in den US-PS 3 030 208 und 3 707 373 angegeben, wie ein aus p-Phenylindiacrylsäure und einem Diol hergestellter lichtempfindlicher Polyester, ein lichtempfindliches Polymeres entsprechend den US-PS 2 956 878 und 3 173 787, wie ein von einem funktioneilen Glykol und einer 2-Propyliden-Malonsäureverbindung, wie Cinnamylidenmalonsäure abgeleiteter lichtempfindlicher Polyester und dgl., lichtempfindliche Polymere entsprechend den US-PS 2 690 966, 2 752 372 und 2.732 301, wie Zimtsäureester eines hydroxylgruppenhaltigen Polymeren, wie Polyvinylalkohol, Stärke, Cellulose und dgl., lichtempfindliche Polymere gemäß der US-PS 3 804 628 entsprechend der japanischen Patentveröffentlichung 11102/73 wie Homopolymere und Copolymere von Zimtsäureestern von Hydroxyalkylacrylat und dgl..

Weitere geeignete lichtempfindliche Polymere umfassen Photopolymere mit wiederkehrenden Einheiten mit einer Azidgruppe, die gleichfalls brauchbar sind, und hierzu gehören Polymere von Vinylbenzoesäureazid, wie sie in der japanischen Patentveröffentlichung 28499/65 angegeben sind, Polymere gemäß der US-PS 3 096 311 entsprechend der GB-PS 843 541 und dgl., welche sich hinsichtlich der Löslichkeit aufgrund der Einwirkung von Licht ändern, wie Polyvinylazidbenzalacetat. Darüber hinaus kann man andere Massen auf der Basis eines lichtpolymerisierbaren Materials einsetzen, wie sie beispielsweise in der US-PS 2 760 angegeben sind und solche, die einen polymeren Binder und ein Diazoharz enthalten, die in der japanischen Patentanmeldung 36207/75 angegeben sind.

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Hinsichtlich der in den vorstehenden Literaturstellen aufgeführten geeigneten lichtempfindlichen Verbindungen für negativ arbeitende Platten, die erfindungsgemäß eingesetzt werden können, werden die diesbezüglichen Angaben in den Entgegenhaltungen in die vorliegende Beschreibung insbesondere aufgenommen.

Der Desensibilisator gemäß der Erfindung kann auch mit positiv arbeitenden lithographischen Platten verwendet werden. Für Platten der Positivart brauchbare lichtempfindliche Materialien sind beispielsweise durch die Sulfonsäureester oder Sulfonsäureamide von o-Chinondiazid, wie Naphthochinon-1,2-diazid-4-(oder-5 ^sulfonsäureester eines Polyhydroxyphenylharzes, das durch Kondensation von Aceton mit Pyrogallol hergestellt wurde, Naphthochinon-1,2-diazid-4(oder-5^sulfonsäureester entsprechend der US-PS 3 635 709, ,Naphthochinon-1,2-diazid-4(oder -5)-sulfonsäureester eines Cresol-Formaldehydharzes entsprechend den US-PS 3 046 120 und 3 188 210, Naphthochinon-1,2-diazid-4(oder ^-sulfonsäureamide polymerisierter Amine, beispielsweise HpN(C^gHy₀

^18^37 ^entsprechend ^er japanischen Patentanmeldung 96575/73 wiedergegeben/Weitere verwendbare Kassen umfassen solche, die eine Heteropolysäure oder eine Isopolysäure von Metallen der Gruppen Va und VIa des Periodensystems und ein Diazoharζ enthalten, wie in der US-PS 3 211 533 angegeben und solche, wie in der japanischen Patentveröffentlichung 23684/68 angegeben, welche ein Diazoharz und einen von einem Polymermaterial von einer Hydroxylgruppe und Phthalsäureanhydrid abgeleiteten Halbester umfassen und dgl..

Geeignete Trägermaterialien für derartige lichtempfindliche Massen umfassen Aluminium,Aluminiumlegierungen, Zinn, Magnesium_/Chrom und dgl. und die Oberfläche dieser Substrate kann unter Anwendung beliebiger der folgenden Oberflächenbehandlungen behandelt sein: eine Natriumsilikatbehandlung entsprechend der US-PS 2 714 066, eine Zirkonbehandiung ent-

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sprechend der japanischen Patentveröffentlichung 22063/61, eine Polyvinylbenzolsulfonsäurebehandlung entsprechend der japanischen Patentieröffentlichung 23982/64, eine PoIyacrylsäurebehandlung entsprechend der japanischen Patentveröffentlichung 706/59, eine Phosphatglasbehandlung entsprechend der GB-PS S82 856 und dgl.. Ferner können eine Marmorkörnung, Bürstenkörnung entsprechend der japanischen Patentanmeldung 33911/73, der US-PS 3 550 320 und dgl. und eine elektrolytische Körnung entsprechend der japanischen Patentveröffentlichung 27481/71 gleichfalls für die Oberflächenbehandlung eingesetzt werden. Diese Verfahren können einzeln oder in Kombination angewandt werden oder sie können zusätzlich mit einer anodischen Oxidationsbehandlung kombiniert v/erden.

Geeignete Anodisierverfahren oder anodische Oxidierverfahren umfassen ein elektrolytisches Gleichstromverfahren in wässriger Schwefelsäurelösung gemäß der japanischen Patentveröffentlichung 27481/71, ein Phosphorsäureelektrolysierverfahren entsprechend der US-PS 3 511 661 .und eine Elektrolyse in Schwefelsäurelösung mit Eintauchbehandlung in einem PhosphorSäurebad entsprechend der DT-OS 2 404 657.

Der Desensibilisator gemäß der Erfindung wird in folgender ¥eise angewandt: Nachdem die lichtempfindliche lithographische Druckplatte an aktive Strahlung ausgesetzt und mit einem Entwickler vom organischen Lösungsmitteltyp entwickelt wurde, wird der Desensibilisator über die entwickelte Platte, die vom Entwickler noch feucht ist, ausgebreitet, beispielsweise unter Anwendung von Watte oder einem Schwamm, und schwach gerieben, wodurch der Entwickler auf der Oberfläche der Platte entfernt und durch den Desensibilisator ersetzt wird und gleichzeitig die Komponenten des Desensibilisator zur Wiederherstellung der Hydrophilizität der Platte und zum Schutz der Plattenoberfläche vor dem Angriff durch die Druckfarbe auf dem Hintergrund während des Druckes wirkt, sodaß verschmutzungs- oder schlammfreie

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-iedergaben erhalten werden können.

Geeignete im Rahmen der Erfindung verwendbare Entwickler sind wässrige Alkalilösungen, die als Entwicklungslösungen für positiv arbeitende lichtempfindliche Schichten gut bekannt sind. Beispiele für geeignete alkalische wässrige Lösungen umfassen wässrige Lösungen eines anorganischen Alkalis, wie Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Natrium-tert.-phosphat, Kalium-tert.-phosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, eine wässrige Lösung einer organischen Base wie Äthanolamin und ähnlichen Materialien. Ferner können ein organisches Lösungsmittel, ein
oberflächenaktives Mittel und dgl. gewünsentenfalls hierzu
zugegeben werden, d.h., wenn die Benetzbarkeit und das Eindringvermögen der Entwicklungslösung aufgrund einer auf die positiv arbeitende lichtempfindliche Schicht aufgezogenen
organischen Materialschicht im Vergleich zur Geschwindigkeit desselben im Fall der Anwendung der Entwicklungslösung
direkt auf die positiv arbeitende lichtempfindliche Schicht niedrig ist, wird es bevorzugt, ein organisches Lösungsmittel, beispielsweise n-Propylalkohol, oder ein oberflächenaktives Mittel, beispielsweise Natriumlaurylsulfat, zuzusetzen.

Nachdem der Ersatz mit dem Desensibilisator beendet ist, kann wie vorstehend beschrieben, die Platte mit Wasser gespült werden oder die Platte kann mit einem Stück eines
weichen Tuches abgewischt und der Trocknung überlassen werden. Im letzteren Fall kann die Behandlungsstufe abgekürzt
werden, da der Desensibilisator auch als Schutzgummi wirkt, vobei der Überzug desselben unvermeidlich in der abschließenden Stufe der Plattenherstellung ausgeführt wird.

Der Desensibilisator gemäß der Erfindung kann als Schutzgummi in der abschließenden Stufe der Plattenherstellung
oder als Gummi zur Verhinderung der Plattenverschmutzung,
wenn der Druck aus irgendwelchen Gründen unterbrochen wird,

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beispielsweise Unterbrechung des Betriebsgerätes, angewandt werden. Der Desensibilisator gemäß der Erfindung hat einen verbesserten Effekt zur Verhinderung der Plattenverschmutzung,da er die hydrophile Natur der Plattenoberfläche besser verstärkt, als eine übliche wässrige Gummiarabikumlösung. Zusammengefaßt dient der Desensibilisator gemäß der Erfindung nicht nur als verbesserte Gummilösung für den lithographischen Druck, sondern auch als Entfernungsmittel für den hauptsächlich ein organisches Lösungsmittel umfassenden verschmutzten Entwickler nach der Entwicklung.

Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend unter spezifischer Bezugnahme auf die Beispiele erläutert, ohne daß die Erfindung hierauf begrenzt ist. Falls nichts anderes angegeben ist, sind sämtliche Teile, Prozentsätze, Verhältnisse und dgl. auf das Gewicht bezogen.

Beispiel 1

Eine 2S-Aluminiumplatte, die mechanisch nach dem in der japanischen Patentanmeldung 33911/73 entsprechend der US-Patentanmeldung Serial No. 284 851 vom 30. August 1972 beschriebenen Verfahren gekörnt worden war, wurde teilweise an der Oberfläche durch Eintauchung während einer Minute in eine wässrige 2%ige Natriumhydroxydlösung bei 4O⁰C geätzt. Nach der Spülung der Platte mit Wasser wurde die Platte dann in Salpetersäure (70 Gew.%) während einer Minute eingetaucht, um die reine Aluminiumoberfläche freizusetzen. Dann wurde die Platte der anodischen Oxidationsbehandlung in einer wässrigen 20%igen Schwefelsäurelösung unter Anwendung eines Stromes von 15 Volt Gleichstrom bei einer Stromdichte von 3 A/dm während 2 Minuten unterworfen. Nach der Spülung mit V/asser wurde die Platte in

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eine 10%ige wässrige Phosphorsäurelösung während 30 Sek. bei 5O⁰C eingetaucht, erneut mit Wasser gewaschen, dann in eine 2%ige Natriumsilikatlösung (Produkt JIS-3) bei 7CPC während 2 Minuten eingetaucht, mit Wasser gespült und durch Erhitzen (60°C) getrocknet. Nachdem die Aluminiumplatte auf Raumtemperatur abgekühlt war (etwa 20-30⁰C), wurde ein Unterüberzugsgemisch der folgenden Zusammensetzung auf die Platte unter Anwendung eines Walzenüberzugsgerätes aufgezogen:

Jeweils Polyvinylpyrrolidon(K-90, Produkt

der Badischen Anilin und Soda-Fabrik) 2,5 g

Methylalkohol 1000 ml

Die überzogene Platte wurde bei 10CPC während 2 Minuten getrocknet und dann mit der folgenden lichtempfindlichen Mas se überzogen.

Polyester (Kondensationsprodukt aus p-Phenylendiäthoxyacrylat und 1,4-ß-Hydroxyäthoxycyclohexan, Molverhältnis 1:1) 115 g

Tert.-Butylphenolharz (PR-5O53O, Produkt des Sumitomo-Durez Co., Schmelzpunkt 62-72⁰C,

: 1,85 - 2,10, 10 g/100 ml Äthylalkohol 5 g

2-Benzoylmethylen-i-methyl-ß-naphthothiazolin 5,7 g

Diheptylphthalat 48 g

4,4^t-Thio-bis(3-methyl-6-tert.-butylphenol) 2,5 g

Phthalocyaninblau (Color Index Nr. CI.

Pigment Blue Nr. 15) 25 g

Monochlorbenzol 1880 g

Äthylendichlorid . 1221 g

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Die Trocknung erfolgt bei 100⁰C während 2 Minuten. Das Überzugsgewicht betrug 1,2 g auf Trockenbasis. Die auf diese Weise hergestellte Platte wurde in einem Vakuumdruckrahmen in Kontakt mit einem transparten optisch negativen Originalfilm gebracht, durch welchen die Belichtung unter Anwendung einer Lichtquelle für PS-Platten, erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd., unter der Bezeichnung "Fuji Film PS Light", welches mit der Toshiba-Metallhalogenid-rLampe MU-2000-0L mit einer Kapazität von 3 KW ausgerüstet war, während Sekunden in einem Abstand von 1 Meter zwischen der Platte und der Lichtquelle durchgeführt wurde.

Eine ausreichende Menge einer 90%igen wässrigen Milchsäurelösung wurde dann auf die lichtempfindliche Oberfläche der Platte gegossen, über die gesamte Oberfläche mit einem Stück Watte ausgebreitet und dann wurde die Oberfläche schwach während 30 Sekunden gerieben, bis der lichtempfindliche Überzug des unbelichteten Bereiches vollständig entfernt war. Der an der Oberfläche nach der Entwicklung verbliebene Entwickler wurde abgequetscht und dann wurde ein Desensibilisator der folgenden Zusammen-Setzung zu einer Menge von 100 ml/m über die Oberfläche mit einem Stück Watte ausgebreitet:

Gummiarabikum (Lösung mit 70 Be) 900 g Glycerin 100 g

Phosphorsäure (85%ige wässrige Lösung) 20 g Benzylalkohol 10 g

Noigen ET-120 (Produkt der Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Nonyläther von Polyoxyäthylen) 2 g

Natriumborat 50 g

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Nachdem die Oberfläche schwach gerieben worden war,

wurde der verunreinigte Desensibilisator in einem Stück Watte absorbiert und von der Oberfläche entfernt. Erneut wurde eine geeignete Menge (100 ml/m ) des frischen Desensibilisators über die gesamte Oberfläche der Platte ausgebreitet und dann mit einem weichen Tuch abgewischt und die Platte wurde dann bei Raumtemperatur getrocknet.

Nach der Entwicklung wurde ein scharfes Punktbild ohne Saum auf der Platte erhalten und die dabei erhaltene Platte wurde auf einer Druckeinrichtung befestigt und zum Drucken verwendet. Es wurden dabei Drucke mit guten Wiedergaben des Originals ohne Verschmutzung (Druckfarbenverschmutzung) an den Nichtbildbereichen und Punktzerstörung (Auspunkten) an den Dunkelbereichen (oder Schattenbereichen) erhalten.

Vergleichsbeispiel 1

3 Bögen der in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellten lichtempfindlichen lithographischen Platte wurden thermostatisch bei 100⁰C während 30 Minuten gehalten und der Abkühlung auf Raumtemperatur überlassen, worauf sie dann in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 unter Anwendung der gleichen Lichtquelle belichtet und entwickelt wurden. Die als Platte A bezeichnete erste Platte wurde mit dem Desensibilisator von Beispiel 1 unter den gleichen Bedingungen wie vorstehend behandelt. Die zweite Platte B wurde mit einem Desensibilisator behandelt, der demjenigen von Beispiel 1 entsprach, wobei jedoch der Desensibilisator kein Natriumborat enthielt. Die dritte Platte C wurde mit einer wässrigen Gummiarabikumlösung von 7⁰Be¹ behandelt. Obwohl sämtliche Platten ein ähnliches Aussehen nach der Entwicklung und Desensibi-

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lisierung hatten, zeigten sie ein völlig unterschiedliches Verhalten, wenn sie dem Drucken von 2000 Wiedergaben unterworfen wurden. Auf der Platte C fand eine Druckfarbenabscheidung auf den Hintergrundbereichen zwischen 200 und 500 Drucken statt und die Flecken wuchsen, bis sie klar zwischen 1000 und 2000 Drucken feststellbar waren. Bei der Platte B wurde eine geringe Neigung zur Fleckenbildung im Hintergrund zwischen 1000 und 2000 Wiedergaben beobachtet, während auf der Platte A, die mit dem Desensibilisator vom Beispiel 1 desensibilisiert war, überhaupt keine Verschmutzung stattfand.

Beispiele 2 bis 16

Entsprechend den Verfahren und den Bedingungen von Beispiel 1 hergestellte lithographische lichtempfindliche Platten wurden unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 hergestellt und mit einem Entwickler der folgenden Zusammensetzung entwickelt:

4-Butyrolaceton 1000 ml

Glycerin 100 ml

Phosphorsäure (85/6ige wässrige Lösung) 25 ml

Zonyl A (Produkt der E.I. Du Pont de Nemours & Co., der folgenden chemischen Formel:

) 10 g reines Wasser 100 ml

D_ann wurde jede der Platten mit einem der in der folgenden Tabelle aufgeführten Desensibilisatoren desensibilisiert.

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ORIGINAL INSPECTED

Für jeden Desensibilisator wurden 2 Platten hergestellt, von denen eine zum Drucken unmittelbar nach der Desensibilisierung verwendet wurde, während die andere zum Drucken nach einer Woche Lagerung anschließend an die Desensibilisierung verwendet wurde. Keine Hintergrundverschmutzung wurde bei sämtlichen Platten während des Drückens von 200 Wiedergaben beobachtet, ganz gleich ob die Platte zum Druck unmittelbar nach der Desensibilisierung oder nach einer Woche Lagerung eingesetzt wurde,

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Verwendeter Desensibllisatoransatz Komponente Belspiel-Nr.

2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16

Hydrophile Kolloidkomponente

Gummiarabikum (wässrige Lösung 900g900g 900g- 900g 900g 900g 900g .-- - - - - - -

von 7⁰Be')

Cellogen 7A*1 ------- 30g 30g 30g 30g 30g - _dj>^

Creme-Dextrin *2 --------- - - - 90g 90g 90g ~^~

Mehrwertifce Alkoholkomponente

ι ^!Äthylenr;lykoI -100------- - - - - - - N>

O ' Polyäthylenglykol 1000 80 τ. - 80 80 80 - - - - , cn

(Molekulargewicht 1000) " ^¹

Q . Polyäthylenglykol 4000 60 60 100 60 60 - - - 100 60 60 60 60. S£

"Ζ, ο (Molekulargewicht 4000) ' £·

j-" CD \S r~,

— °° Borsäure/Salpetersäure oder Salze hiervon, Borhydridkomponente - '

Z N) Borsäure T3 - ⁷ZB - - - - 20 20 20 - 20 20

^ °° Natriumborat - - - 15 , 25 25 - -

■rn Q Magnesiumnitrit - - 15- 25- - - - 15 - - - 15 25

£■} ^₀ Salpetersäure _·|5--_-_-_ - - - - - -

ffl _*

O -~j Nicht wesentliche Komponente

Reines Wasser 100 - . - - - - 900 900 900 900 900 900 900 900

Phosphorsäure (85^ig.wäss.Lös. )20 20 20 20 20 - 20 20 25 20 20 20

Oxalsäure _-__-20--20- - - - - -

Zitronensäure - - -6,5- - 15-

Noigen ET-120 *3 -53- 33-3- 3 - - 3 3 3'·

Monogen Υ-100*4' 3--3-_ 3- 3- - - - --'

Aerosol OS 5 ---------- 33---

Benzylalkohol 20 - - - 12 12 - 20 - - - - - -

£H ; ■ 1,9 3,2 1,7 6,9 1,7 3,5 5,1 2,1 1,6 2;o' 4,5 3,0 1,6 1,3 1,4

Cellogen 7A: Carboxymethylcellulose, Viskosität von 10 bis

20 ep bei 25⁰C einer wässrigen Lösung mit 2 Gew.%,

Produkt der Daiichi Kogyo Seiyaku Co.

Creme-Dextrin:

50%ige wässrige Lösung mit einer Viskosität von 430 cp, Produkt der Matsutani Kagaku Co.

Noigen ET-120:

Polyoxyäthylennonyläther, Produkt der Daiichi Kogyo Seiyaku Co.

Monogen Y-100:

Natriumlaurylsulfat, Produkt der Daiichi Kogyo Seiyaku Co.

Aerosol OS:

Natrium-isopropylnaphthalinsulfonat, Produkt der American Cyanamide Co.

Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen, ohne daß sie hierauf begrenzt ist, beschrieben.

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Claims (12)

1. Patentansprüche

   1+' Desensibilisator für lithographische Druckplatten, bestehend aus einer wässrigen Lösung mit einem pH-Wert zwischen etwa 1,2 und etwa 7,0 mit dem Gehalt (1) eines hydrophilen Kolloids, (2) eines mehrwertigen Alkohols und (3) mindestens einer der folgenden Verbindungen Borsäure, Salpetersäure, Salze dieser Säuren,.Kaliumborhydrid und Natriumborhydrid.
2. 2. Desensibilisator nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die wässrige Lösung eine Viskosität im Bereich von etwa 5 bis etwa 500 cp bei 25⁰C besitzt.
3. 3. Desensibilisator nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile Kolloid aus Gummiarabikum, Dextrin, einem Cellulosederivat, Polyvinylalkohol oder einem Derivat hiervon, Polyvinylpyrrolidon, einem in wässriger Lösung löslichen Acrylsäurecopolymeren, einem Copolymeren aus Vinylmethyläther und Maleinsäureanhydrid oder einem Copolymeren aus Vinylacetat und Maleinsäureanhydrid besteht.
4. 4. Desensibilisator nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der mehrwertige Alkohol aus Äthylenglykol, einem Polyäthylenglykol mit einem Kondensationsgrad von 2 bis 500, Propylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Sorbit, Pentaerithrit oder Glycerin besteht.

   709823/071 7
5. 5. Desensibilisator nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung (3) aus Borsäure oder einem wasserlöslichen Salz hiervon, Salpetersäure oder einem wasserlöslichen Salz hiervon besteht.
6. 6. Desensibilisator nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das wasserlösliche Salz aus einem Natrium-, Kalium-, Ammonium-, Magnesium-, Nickel- oder Zinksalz besteht.
7. 7. Desensibilisator nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Salz aus Natriumborat, Natriumnitrat, Kaliumnitrat, Ammoniumborat, Ammoniumnitrat, Magnesiumnitrat, Zinknitrat oder Nickelnitrat besteht.
8. 8. Desensibilisator nach Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der mehrwertige Alkohol in einer Menge von etwa 1 bis etwa 30 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der gesamten Masse, und die Verbindung (3) in einer Menge von etwa 0,5 bis etwa 20 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der gesamten Masse, vorliegt.
9. 9. Desensibilisator nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der pH-Wert zwischen 2 und 5 liegt.
10. 10. Desensibilisator nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Desensibilisator ein oberflächenaktives Mittel enthält und dieses in einer Menge von weniger als 10 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, vorliegt.

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    ^₃- 2653324
11. 11. Verfahren zur Desensibilisierung einer negativ arbeitenden lithographischen Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß der Desensibilisator nach Anspruch 1 bis 10 auf die belichtete und entwickelte Oberfläche der Platte aufgebracht wird.
12. 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß eine negativ arbeitende lithographische Druckplatte eingesetzt wird, welche als lichtempfindliche Verbindung eine oder mehrere der folgenden Materialien (a) einen lichtempfindlichen Polyester, Polyamid oder Polycarbonat, welches wiederkehrende Einheiten der Formel -CH=CH-C- aufweist,

    oder (b) ein lichtempfindliches Polymeres mit wiederkehrenden, eine Azidgruppe enthaltenden Einheiten enthält.

    709823/0717 ORIGINAL INSPECTED