DE2650389A1 - BATHROOM FOR CHEMICAL NICKEL DEPOSITION - Google Patents

Description

Bad für die chemische NickelabscheidungElectroless nickel plating bath

Die Erfindung betrifft die autokatalytische chemische Abscheidung von Nickel und insbesondere schafft die Erfindung ein für diesen Zweck geeignetes Abscheidungsbad. The invention relates to the autocatalytic chemical deposition of nickel, and more particularly provides that Invention a deposition bath suitable for this purpose.

Die chemische Abscheidung betrifft die reduktive Metallisierung einer aktiven Oberfläche in Abwesenheit einer äußeren elektrischen Stromzufuhr. Ein solches Verfahren und hierfür geeignete Zusammensetzungen sind bekannt und im Handel vielfach zu haben.Chemical deposition refers to the reductive metallization of an active surface in the absence of one external electrical power supply. Such a procedure and compositions suitable therefor are known and are widely available commercially.

Bekannte Lösungen für die chemische Nickelabscheidung enthalten vier Hauptbestandteile, gelöst in Wasser. Diese sindWell-known solutions for electroless nickel deposition contain four main components dissolved in water. These are

Dr.Ha/MaDr Ha / Ma

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(1) eine Quelle für Nickelionen,(1) a source of nickel ions,

(2) ein Reduktionsmittel dafür, z.B. ein Hypophosphit,(2) a reducing agent therefor, e.g. a hypophosphite,

(3) ausreichend Säure oder Alkali zur Einstellung des für die gewünschte Wirkung der Lösung erforderlichen pH-Werts, und(3) Sufficient acid or alkali to adjust what is required for the desired effect of the solution pH, and

(4) ein komplexbildendes Mittel für das Nickel, in einer zur Verhinderung der Ausfällung aus der Lösung ausreichenden Menge.(4) a complexing agent for the nickel, sufficient to prevent precipitation from solution Lot.

Die chemischen Nickelabscheidungsbäder, die sowohl ein Oxidations- als auch ein Reduktionsmittel enthalten, besitzen eine begrenzte Stabilität und neigen zu einer spontanen Zersetzung unter Reduktion des gesamten in der Lösung befindlichen Nickels. Man nimmt an, daß ein für die Auslösung dieser Zersetzung möglicher Mechanismus darin besteht, daß in die Abscheidungslösung Ionen oder Metallteilchen des katalytischen Metalls, z.B. Palladium in Ionenform oder kolloidaler Form, wie es zur Katalyse eines Substrats vor der Nickelabscheidung verwendet wird, eingeschleppt werden. Dieses in der Lösung befindliche katalytische Metall unterstützt wahrscheinlich die Bildung von kleinen Mengen metallischer Nickelteilchen, welche dann die chemische Abscheidung in der Lösung anstatt auf der zu metallisierenden Oberfläche bewirken.The chemical nickel plating baths, which contain both an oxidizing agent and a reducing agent, have a limited stability and tend to decompose spontaneously with a reduction of the total in the Dissolved nickel. It is believed that one possible mechanism for initiating this decomposition is consists in introducing ions or metal particles of the catalytic metal, e.g., palladium, into the deposition solution in ionic or colloidal form, such as is used to catalyze a substrate prior to nickel deposition, be introduced. This catalytic metal in the solution is likely to aid the formation of small amounts of metallic nickel particles, which then take place in the solution instead of being deposited on the chemical deposition the surface to be metallized.

Um eine spontane Zersetzung eines Metallisierungsbads zu vermeiden, werden diesem üblicherweise Stabilisatoren zugesetzt, welche eine Beständigkeit gegen die spontane Zersetzung bewirken und den brauchbaren Konzentrationsund Temperaturbereich der Lösung erhöhen, ohne ihre Fähigkeit zur Abscheidung von Nickel durch Reduktion anIn order to avoid spontaneous decomposition of a metallization bath, it is usually stabilizers added, which cause resistance to spontaneous decomposition and the useful concentration and Increase the temperature range of the solution without reducing its ability to deposit nickel

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damit in Kontakt befindlichen katalytischen Oberflächen zu zerstören. Solche Stabilisierungsmittel sind bekannt. Viele dieser Stabilisierungsmittel sind jedoch Katalysatorgifte und verhindern eine Abscheidung in Konzentrationen von mehr als einigen Teilen pro Million Lösung. Andere verschlechtern die Eigenschaften der abgeschiedenen Metallisierung, indem sie matte, spröde Abscheidungen mit schlechter Korrosionsbeständigkeit ergeben.to destroy catalytic surfaces in contact therewith. Such stabilizing agents are known. However, many of these stabilizers are catalyst poisons and prevent deposition in concentrations of more than a few parts per million solution. Others worsen the properties of the deposited Metallization by producing dull, brittle deposits with poor corrosion resistance.

Die vorliegende Erfindung schafft eine Lösung zur chemischen Abscheidung von Nickel· und dessen Legierungen, wobei diese Lösung eine durch Jod substituierte organische Verbindung als Stabilisator enthält» Ein solcher Stabilisator soll in der Lösung zu mindestens ein Teil pro Million Teile der Lösung löslich sein. Die Löslichkeit in der Lösung kann durch die Verwendung von mit Jod substituierten organischen Verbindungen mit einer polaren Substitution zusätzlich zu der Jodsubstitution verbessert werden. Der Zusatz der Jodverbindungen zu den Metallisierungsbädern beeinträchtigt die Eigenschaften der abgeschiedenen Metallisierung nicht.The present invention provides a solution for the chemical deposition of nickel and its alloys, with these Solution contains an organic compound substituted by iodine as a stabilizer »Such a stabilizer should be soluble in the solution to at least one part per million parts of the solution. The solubility in the solution can through the use of iodine substituted organic compounds with a polar substitution in addition to iodine substitution. The addition of iodine compounds to the metallization baths does not affect the properties of the deposited metallization.

Mit Ausnahme der Zugabe der vorstehend beschriebenen, joetsubstituierten organischen Verbindung ist die Zusammensetzung des Abscheidungsbadsdie übliche. Das Nickel wird dem Bad in Form eines Salzes, z.B. als Nickelsulfat, zugegeben. Ein komplexbildendes Mittel, z.B. Hydroxyessigsäure, und ein Reduktionsmittel, z.B. Hypophosphit, ein Aminboran oder Borhydrid wird der Lösung ebenfalls zugegeben, sowie ein Mittel, welches den erforderlichen pH-Wert der Lösung ergibt. Andere üblicherweise in chemischen Vernickelungsbädern verwendete Substanzen können ebenfalls zugegen sein, z.B. Substanzen zur Verbesserung der Eigenschaften der Metallabscheidung oder zur ErhöhungWith the exception of the addition of the joet-substituted organic compound described above, the composition is of the deposition bath is the usual one. The nickel is added to the bath in the form of a salt, e.g. as nickel sulfate. A complexing agent such as hydroxyacetic acid and a reducing agent such as hypophosphite Amine borane or borohydride is also added to the solution, as well as an agent which the required pH of the solution results. Other substances commonly used in chemical nickel plating baths can also be present, e.g. substances to improve the properties of the metal deposition or to increase it

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der Benetzbarkeit der zu metallisierenden Oberfläche, oder Substanzen, die als sekundärer Stabilisator wirken.the wettability of the surface to be metallized, or substances that act as secondary stabilizers.

Typische erfindungsgemäße Lösungen für die chemische Vernickelung enthalten Bestandteile in den folgenden Konzentrationsbereichen:Typical solutions for electroless nickel plating according to the present invention contain ingredients in the following Concentration ranges:

Bestandteilcomponent

Beispiele
1 2 3 4Examples
1 2 3 4

Nickelsulfat-Hexahydrat (g/l)Nickel sulfate hexahydrate (g / l) 2020th 3030th - 30- 30 3030th Nickelchlorid-hexahydrat (g/l)Nickel chloride hexahydrate (g / l) —- —- 2424 — · 30- · 30 Cuprochlorid (ppm)Cuprous chloride (ppm) —- —- —- Hydroxyessigsäure (100 %)(g/l) Hydroxyacetic acid (100 %) (g / l) 2828 6060 5 —— —-»5 —— —- » Äthylendiamin (g/l)Ethylenediamine (g / l) —- 6,6, 1515th Natriumborhydrid (g/l)Sodium borohydride (g / l) —- 2 —2 - Natriumhypophosphit-
Monohydrat (g/l) Sodium hypophosphite
Monohydrate (g / l) 3030th —- —- Dimethylamiriboran (g/l)Dimethylamiriborane (g / l) —- ,5 —, 5 - —- Ammoniumhydroxid (bis pH)Ammonium hydroxide (up to pH) 44th 1414th 5 4,55 4.5 Natriumhydroxid (bis pH)Sodium hydroxide (up to pH) —- —- Sättigungsaturation Essigsäure, (bis pH)Acetic acid, (up to pH) —- ppm bisppm to 1 Liter1 liter Jod-StabilisatorIodine stabilizer 11 aufon Wasserwater

Es sei bemerkt, daß die vorstehend angegebenen Konzentrationen bevorzugt, jedoch nicht kritisch sind. Änderungen sind ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen möglich. Die Konzentration der als Stabilisator dienenden jodsubstatuierten organischen Verbindung ist häufig nicht kritisch da die meisten dieser Verbindungen nicht soweit löslich sind, um eine zur Verzögerung der Metallisierungsgeschwindigkeit erforderliche Menge zu ergeben. Wenn jedoch die Jodverbindung in der Lösung sehr stark löslich ist, z.B.It should be noted that the concentrations given above are preferred, but not critical. Changes are possible without departing from the scope of the invention. The concentration of the iodine-substituted substances used as a stabilizer Organic compound is often not critical as most of these compounds are not as soluble to give an amount necessary to retard the rate of plating. However, if the Iodine compound is very soluble in the solution, e.g.

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in einer Menge von mehr als 250 Teilen pro Million Teile Lösung, und zwar infolge einer polaren Substitution oder dergleichen, ist bei den höheren Konzentrationen eine gewisse Vorsicht geboten, um eine Verzögerung der Abscheidungsgeschwindigkeit zu verhindern. Zur Bestimmung der für eine wirksame Stabilisierung ohne Verzögerung der Abscheidungsgeschwindigkeit erforderlichen optimalen Konzentration der Jodverbindung können einfache Routineversuche durchgeführt werden. Für schlecht lösliche Verbindungen kann die maximale Konzentration die Sättigungskonzentration sein oder über diese hinausgehen, wenn der Überschuß zur Auffrischung der Jodverbindung dann zur Verfügung steht, in dem Maße, in dem diese aus der Lösung ausgeschleppt wird.in an amount greater than 250 parts per million of solution due to polar substitution or the like, a certain degree of caution should be exercised at the higher concentrations in order to delay the deposition rate to prevent. To determine the necessary for effective stabilization without delay The deposition rate required optimal concentration of the iodine compound can be simple routine experiments be performed. For poorly soluble compounds, the maximum concentration can be or exceed the saturation concentration if the Excess for replenishing the iodine compound is then available to the extent that it is out of solution is towed out.

Innerhalb der vorstehend angegebenen allgemeinen Bereiche kann im einzelnen die Konzentration von nur 1 Teil pro Million bis zu der Menge betragen, welche die Abscheidung verzögert, und zwar in typischer Weise bis zu 2500 Teilen pro Million oder mehr, je nach der verwendeten spezifischen Jodverbindung, obwohl die Konzentration des Stabilisators vorzugsweise zwischen 10 und 1500 Teilen pro Million Lösung und am besten zwischen 25 und 250 Teilen pro Million variiert. Wie vorstehend gesagt_s sind viele jodsubstituierte organische Verbindungen in der wäßrigen Abscheidungslösung nur sehr schlecht löslich. Gemäß der Erfindung braucht die Verbindung jedoch nur soweit löslich zu sein, als zur Stabilisierung der Lösung erforderlich ist, was für viele in den Rahmen der Erfindung fallende Verbindungen eine Löslichkeit von nur mindesten 1 Teil pro Million Teile Lösung erfordert.Specifically, within the general ranges given above, the concentration can be as low as 1 part per million up to that amount which retards deposition, typically up to 2500 parts per million or more, depending on the specific iodine compound used, though the concentration of the stabilizer preferably varies between 10 and 1500 parts per million of solution, and most preferably between 25 and 250 parts per million. As I said above _s many iodine substituted organic compounds are only very sparingly soluble in the aqueous deposition solution. According to the invention, however, the compound only needs to be soluble to the extent necessary to stabilize the solution, which for many compounds falling within the scope of the invention requires a solubility of only at least 1 part per million parts of solution.

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Gemäß der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die JodverMndung auch mit mindestens einer zusätzlichen polaren Gruppe zur Förderung der Löslichkeit sbustituiert und zweckmäßig ist das Jod direkt an ein Kohlenstoffatom gebunden. Beispiele für solche polaren Gruppen sind z.B. Chlor, Brom und Fluor; Nitro, Nitroso, SuIfonat, Carboxyl, Amino, einschließlich substituierter Amine, Hydroxyl, Cyano (wenn in solchen Konzentrationen verwendet, daß die Lösung nicht vergiftet wird), usw.. Typische als Stabilisatoren verwendbare jodsubstituierte organische Verbindungen sind z.B. Jodacetanilid, Jodessigsäure, Allyljodid, Jodalphionsäure, p-Jodanilin, o-Jodanisol, Jodbenzol, Jodbenzoesäure, Methenamin, Jodbenzylat, Jodchlorhydroxychinolin, Jodbromhydroxychinolin, 3-Jod-1,2-dihydroxypropan, Jodäthyl-allcphanat, Jodoform,3>5-Dijodtyrosin, Jodhexamidin, Dihydrochlorid-3,513-trijodthyronin, 7-Jod-8~hydroxy-chinolin-5-sulfonsäure, ot-JodisovaHerylharnstoff, 3-Jodmethyl-1-methyl-2-mercaptoimidazol, p-Jodphenylsulfonylchlorid, Natrium-jodphthalein, Jodpyracet, Jodpyrin, Jodosobenzcö, o-Jodosobenzoesäure und m-Jodsalicylsäure. Unter den vorstehend genannten Verbindungen sind die bevorzugtesten einkernige aromatische Säuren,According to the preferred embodiment of the invention is the iodine compound is substituted with at least one additional polar group to promote solubility and conveniently the iodine is attached directly to a carbon atom. Examples of such polar groups are e.g. Chlorine, bromine and fluorine; Nitro, nitroso, sulfonate, carboxyl, Amino, including substituted amines, hydroxyl, cyano (when used in such concentrations that the solution is not poisoned), etc. Typical iodine-substituted organic that can be used as stabilizers Compounds are e.g. iodoacetanilide, iodoacetic acid, allyl iodide, iodoalphionic acid, p-iodoaniline, o-iodoanisole, Iodobenzene, iodobenzoic acid, methenamine, iodobenzylate, iodochlorohydroxyquinoline, iodobromohydroxyquinoline, 3-iodine-1,2-dihydroxypropane, Iodoethyl allphanate, iodoform, 3> 5-diiodotyrosine, Iodohexamidine, dihydrochloride-3,513-triiodothyronine, 7-iodine-8 ~ hydroxy-quinoline-5-sulfonic acid, ot-iodoisovaHerylurea, 3-iodomethyl-1-methyl-2-mercaptoimidazole, p-iodophenylsulfonyl chloride, sodium iodophthalein, iodopyracet, Iodopyrine, iodosobenzco, o-iodosobenzoic acid and m-iodosalicylic acid. Among the aforementioned compounds are the most preferred mononuclear aromatic acids,

Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird die Jodverbindung in Kombination mit einem bekannten Stabilisator als Stabilisator verwendet. Vielleicht die am meisten verwendete!Stabilisatorgruppen sind die zweiwertigen, schwefelhaltigen Verbindungen, die in Mengen von einer Spur bis zu einer die Abscheidung verhindernden Menge, d.h. in Mengen von weniger als 50 Teilen pro Million Teile Lösung (ppm) zur Anwendung kommen. Viele Schwefelstabilisatoren sind in der US-Patentschrift 3 361 540 beschrieben, auf die hier Bezug genomman wird. TypischeIn a preferred embodiment of the invention, the iodine compound is used in combination with a known one Stabilizer used as a stabilizer. Perhaps the most widely used! Stabilizer groups are the divalent, sulfur-containing compounds, in amounts ranging from a trace to a deposition-preventing Amount, i.e. in amounts of less than 50 parts per million parts of solution (ppm) are used. Lots of sulfur stabilizers are described in U.S. Patent 3,361,540, incorporated herein by reference. Typical

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Beispiele für solche Schwefelverbindungen sind Natriumsulfid, Kaliumsulfid, Natriumthiocyanat, Kaliumdithionat, Natriumthiosulfat, Thioharnstoff, 2-Mercaptobenzothiazol, 1,2-Äthandithiol, 2,2'-Thiodiäthanol, Dithioglycol und ThioglycoüLsäure.Examples of such sulfur compounds are sodium sulfide, potassium sulfide, sodium thiocyanate, potassium dithionate, Sodium thiosulfate, thiourea, 2-mercaptobenzothiazole, 1,2-ethanedithiol, 2,2'-thiodiethanol, dithioglycol and Thioglycolic acid.

Noch andere bekannte Stabilisatoren außer den zweiwertigen Schwefelverbindungen werden in Kombination mit dem erfindungsgemäßen Stabilisator verwendet. Eine andere Gruppe von Stabilisatoren umfaßt die wasserlöslichen Cyanidverbindungen, wie sie in der US-Patentschrift 3 310 430 beschrieben sind. Typische solche Verbindungen sind Natriuin- und Kaliumcyanid, Glyconitril, Iminodiacetonitril und 3,3^I-Iminodipropionitril. Die Cyanidverbindung wird in etwa der gleichen Menge wie die zweiwertige Schwefelverbindung verwendet. Eine andere Gruppe von Stabilisatoren sind acetylinische Alkohole, wie sie in der US-Patentschrift 3 457 089 beschrieben sind. Solche Verbindungen umfassen Äthynylcyclohexanol, Methylbutynol, Dimethylhexynol und dergleichen. Schließlich bildet das Bleiion (Pb⁺⁺) einen weiteren wirksamen Stabilisator in Mengen von unter 50 ppm.Still other known stabilizers besides the divalent sulfur compounds are used in combination with the stabilizer of the present invention. Another group of stabilizers includes the water-soluble cyanide compounds as described in US Pat. No. 3,310,430. Typical such compounds are sodium and potassium cyanide, glyconitrile, iminodiacetonitrile and 3,3 ^I- iminodipropionitrile. The cyanide compound is used in about the same amount as the divalent sulfur compound. Another group of stabilizers are acetylic alcohols such as those described in US Pat. No. 3,457,089. Such compounds include ethynylcyclohexanol, methylbutynol, dimethylhexynol, and the like. Finally, the lead ion (Pb ⁺⁺ ) forms another effective stabilizer in amounts below 50 ppm.

Chemische Metallisierungslösungen variieren in ihrer Stabilität etwas zufällig. Das ist darauf zurückzuführen, daß das Einsetzen der spontanen Zersetzung des Bades oft nicht nur auf den vorstehend beschriebenen Mechanismus, sondern auch auf die Anwesenheit von Verunreinigungen oder Staubteilchen in der Lösung zurückzuführen ist, die sich schwierig überwachen oder entfernen lassen. Um daher Ergebnisse zu erzielen, die wirklich den Stabilisierungseinfluß des zugesetzten Stabilisators wiedergeben, wurde die Zersetzung des Bades beschleunigt, indem man mit 1 Liter des Testbads bei 93⁰C (200⁰F) in AnwesenheitChemical plating solutions vary somewhat randomly in their stability. This is because the onset of spontaneous decomposition of the bath is often due not only to the mechanism described above, but also to the presence of impurities or dust particles in the solution which are difficult to monitor or remove. Therefore, in order to achieve results that truly reflect the stabilizing influence of the added stabilizer, the decomposition of the bath was accelerated by 1 liter of Testbads at 93 ⁰ C (200 ⁰ F) in the presence of

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von aktiviertem Aluminium mit großer Oberfläche, z.B. 1/2 Fuß Oberfläche pro Liter Lösung, arbeitete. Das Aluminium wurde durch fünfminutiges Eintauchen in eine 50 volumprozentige Lösung konzentrierter Salzsäure, gefolgt von einer Wasserspülung, aktiviert. Unter diesen Bedingungen zersetzte sich die Abscheidungslösung des vorstehenden Beispiels 1 ohne Stabilisator innerhalb etwa 1 bis 2 Minuten, Die Zersetzungszeit ist die Zeit, die nach dem Eintauchen des Aluminiums bis zu einer beträchtlichen Nickelabscheidung in der Lösung mit oder ohne Eintauchen eines Substrats in die Lösung vergeht. Bei den ersten Versuchen wurde o-Jodbenzoesäure als Stabilisator in der Lösung von Beispiel 1 verwendet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt, wo die Zersetzungszeit für das *Plattierungsbad als Funktion der Stabilisatorkonzentration angegeben ist.of high surface area activated aluminum, e.g., 1/2 foot surface per liter of solution, worked. That Aluminum was followed by immersion in a 50 volume percent solution of concentrated hydrochloric acid for five minutes activated by a water rinse. Under these conditions, the deposition solution of the above decomposed Example 1 without stabilizer within about 1 to 2 minutes, the decomposition time is the time that occurs after immersion of the aluminum to a substantial nickel deposit in the solution with or without immersion of a substrate in the solution passes. In the first experiments, o-iodobenzoic acid was used as a stabilizer in the solution of Example 1 used. The results are shown in Table 1, which shows the disintegration time for the plating bath as a function the stabilizer concentration is given.

Beispielexample o-Jodbenzoesäureo-iodobenzoic acid 00 ZersetzungszeitDecomposition time 22 Nr.No. (m/l)(m / l) 2525th (Min.)(Min.) 7575 55 5050 190190 66th 100100 > 240> 240 77th 500500 > 240> 240 88th 2.5002,500 > 240> 240 99 1010

Zu den vorstehenden Beispielen sei bemerkt, daß die meisten Zersetzungszeiten bis auf höchstens 5 Minuten genau sind. Der Grund dafür ist, daß die Zersetzung eine subjektive Messung darstellt, da sie nicht augenblicklich erfolgt, sondern anläuft und allmählich fortschreitend über eine bestimmte Zeitdauer stärker wird, was in typischer Weise 5 bis 10 Minuten für eine vollständige Zersetzung dauert. Ein Versuch wurde unternommen, die Zersetzungszeit an einem Punkt aufzuzeichnen, wenn die Zersetzung sehr stark war; diese Art der Bestimmung ist jedoch mit einem Versuchsfehler behaftet. 70981 9/0969In relation to the above examples it should be noted that most of the decomposition times are down to a maximum of 5 minutes are accurate. The reason for this is that the decomposition is a subjective measurement since it is not instantaneous takes place, but starts up and gradually becomes stronger over a certain period of time, which typically takes 5 to 10 minutes for complete decomposition. An attempt was made record the decomposition time at a point when the decomposition was very severe; this kind of determination however, it has an experimental error. 70981 9/0969

Das vorstehende Verfahren wurde unter Verwendung anderer jodsubstituierter organischer Verbindungen in einem Nickelbad der folgenden Zusammensetzung wiederholt:The above procedure was performed using others iodine-substituted organic compounds in a nickel bath of the following composition repeated:

Nickelsulfat-Hexahydrat 20 g/lNickel sulfate hexahydrate 20 g / l

Apfelsäure 20 g/lMalic acid 20 g / l

Natriumhypophosphit 20 g/lSodium hypophosphite 20 g / l

Ammoniumhydroxyd bis 5 pHAmmonium hydroxide up to pH 5

Wasser auf 1 Liter.Water to 1 liter.

Die vorstehende Lösung zersetzte sich in Abwesenheit eines Stabilisators innerhalb 4 Minuten. Mit einem jodsubstitu~ ierten organischen Stabilisator erzielte man die folgenden Stabilitäten:The above solution decomposed in the absence of a stabilizer within 4 minutes. With an iodine substitute ~ The following stabilities were achieved with the organic stabilizer:

Beispiel Stabilisator Menge Zersetzungszeit Nr. (mg/1) (Min.) Example Stabilizer Amount Decomposition Time No. (mg / 1) (min.)

5-Jodsalicylsäure 150 155-iodosalicylic acid 150 15

3-Jodpropionsäure 100 103-iodopropionic acid 100 10

3-Jodpropionsäure 200 503-iodopropionic acid 200 50

2-Amino-5-dodbenzoesäure 200 202-amino-5-dodbenzoic acid 200 20

o-Jodhippursäure 100 15o-iodohippuric acid 100 15

o-Jodhippursäure 200 30o-iodohippuric acid 200 30

Jodessigsäure 100 > 60Iodoacetic acid 100> 60

Jodacetamid 100 > 60Iodoacetamide 100> 60

m-Jodbenzylamin 100 10m-iodobenzylamine 100 10

m-Jodbenzylamin 200 15m-iodobenzylamine 200 15

Es sei bemerkt, daß die erfindungsgemäßen Stabilisatoren ebenso gut mit anderen Vernickelungslösungen arbeiten, z.B. mit der Lösung von Beispiel 11 der US-PatentschriftIt should be noted that the stabilizers of the invention work equally well with other nickel plating solutions, e.g. with the solution of Example 11 of U.S. Patent

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- 1*0 -- 1 * 0 -

3 832 168, auf die hier Bezug genommen wird. Bei Verwendung von Jodbenzoesäure in den Zusammensetzungen der vorstehenden Beispiele 11 oder 2 und 3 in einer Konzentration von 250 ppm beträgt die Zeit zur Zersetzung mehr als 60 Minuten.3,832,168, incorporated herein by reference. Using iodobenzoic acid in the compositions of the above Examples 11 or 2 and 3 at a concentration of 250 ppm the time to decompose is more than 60 minutes.

Beispiel 21Example 21

Zur Bestimmung der Wirkung verschiedener der vorstehend genannten Stabilisatoren auf die Metallisierungseigenschaften eines Bades und die funktionellen Eigenschaften der daraus erhaltenen Nickelabscheidungen wurden die folgenden Verfahrensstufen durchgeführt:To determine the effect of various of the aforementioned stabilizers on the metallization properties of a bath and the functional properties of the nickel deposits obtained therefrom were the carried out in the following procedural stages:

a. Zwei- bis dreiminutiges Eintauchen eines Teils aus kohlenstoffarmem Stahl in ein als Entfetter wirkendes organisches Lösungsmittel.a. Soaking a low carbon steel part in a degreaser for two to three minutes organic solvent.

b. Trocknen und Eintauchen des Teils in eine Reinigungslösung aus 8 Unzen pro Gallone Anodic Electroclean Maxiamp während 2 bis 3 Minuten bei einer Temperatur von etwa 85°C (185°F).b. Dry and soak the part in an 8 ounce per gallon Anodic Electroclean cleaning solution Maxiamp for 2 to 3 minutes at a temperature of about 85 ° C (185 ° F).

c. Zweimaliges Spülen und Beizen in Aktivator 1424 bei einer Temperatur von etwa 74⁰C (165°F).c. Rinse and pickle twice in Activator 1424 at a temperature of about 74 ⁰ C (165 ° F).

d. Spülen und chemisch Vernickeln mit der Lösung bis zur Erzielung der gewünschten Dicke bei einer Temperatur von etwa 93°C (200⁰F).d. Rinsing and chemical nickel plating with the solution to achieve the desired thickness at a temperature of about 93 ° C (200 ⁰ F).

Das vorstehende Verfahren wurde mit den Zusammensetzungen der Beispiele 6, 8, 10 und 17 durchgeführt. In allen Fällen erhielt man Abscheidungen mit guten Eigenschaften. Es sei bemerkt, daß die MetallisierungsgeschwindigkeitThe above procedure was followed with the compositions of Examples 6, 8, 10 and 17 carried out. In all Cases gave deposits with good properties. It should be noted that the plating speed

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— Vl —- Vl -

ThTh

in bestimmten Beispielen etwas geringer war, insbesondere in den Beispielen, wo die Gesamtmenge an Stabilisator 500 Milligramm pro Liter oder mehr betrug.in certain examples was slightly lower, especially in the examples where the total amount of stabilizer 500 milligrams per liter or more.

Beispiele 22 bis 26Examples 22 to 26

Übliche sekundäre Stabilisatoren wurden dem Bad von Beispiel 6 mit den folgenden Ergebnissen zugesetzt.Conventional secondary stabilizers were added to the bath of Example 6 with the following results.

Beispielexample Stabilisatorstabilizer Mengelot ZersetzungszeitDecomposition time Nr.No. (ppm)(ppm) (Min.)(Min.) 2222nd NatriumcyanidSodium cyanide 55 >120> 120 2323 Pheny-lmercuriacetat·Phenyl mercuric acetate 2020th >120> 120 2424 2-Mercaptobenzothiazol2-mercaptobenzothiazole 55 >120> 120 2525th ButyndiolButynediol 2020th >120> 120 2626th BleiacetatLead acetate 55 >120> 120

Aus Vorstehendem ergibt sich, daß der sekundäre Stabilisator die Stabilität der Bäder merklich verbessert.From the above, it can be seen that the secondary stabilizer markedly improves the stability of the baths.

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Claims (10)

PatentansprücheClaims 1) Bad für die chemische Nickelabscheidung, enthaltend eine Quelle für Nickelionen, ein Reduktionsmittel dafür, ein komplexbildendes Mittel für diese Ionen und ein Mittel zur Einstellung des erforderlichen pH-Werts, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung eine jodsubstituierte organische Verbindung als Stabilisator1) Bath for electroless nickel deposition, containing a source of nickel ions, a reducing agent therefor, a complexing agent for these ions and a Means for adjusting the required pH, characterized in that the solution is iodine-substituted organic compound as a stabilizer in einer zur Verbesserung der Stabilität der Lösung ausreichenden Menge enthält.in an amount sufficient to improve the stability of the solution. 2) Lösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Stabilisator in einer Menge von mindestens 1 Milligramm pro Liter in der Lösung löslich ist.2) Solution according to claim 1, characterized in that the stabilizer in an amount of at least 1 milligram per liter is soluble in the solution. 3) Lösung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtkonzentration des Stabilisators zwischen und 1500 Milligramm pro Liter variiert.3) solution according to claim 2, characterized in that the total concentration of the stabilizer between and 1500 milligrams per liter varies. 4) Lösung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Stabilisators zwischen 25 und 250 Milligramm pro Liter variiert.4) solution according to claim 2, characterized in that the concentration of the stabilizer between 25 and 250 milligrams per liter varies. 5) Lösung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Stabilisator noch durch polare Gruppen zusätzlich zu dem Jodsubstituenten substituiert ist.5) solution according to claim 2, characterized in that the stabilizer also has polar groups is substituted to the iodine substituent. 6) Lösung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß6) Solution according to claim 2, characterized in that das Jod in der jodsubstituierten organischen Verbindung direkt an Kohlenstoff gebunden ist.the iodine in the iodine-substituted organic compound is bound directly to carbon. 7) Lösung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Stabilisator o-Jodbenzoesäure ist.7) Solution according to claim 6, characterized in that the stabilizer is o-iodobenzoic acid. 709819/0969709819/0969 8) Lösung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Stabilisator Jodessigsäure ist.8) Solution according to claim 2, characterized in that the stabilizer is iodoacetic acid. 9) Lösung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen sekundären Stabilisator enthält.9) solution according to claim 2, characterized in that it contains a secondary stabilizer. 10) Lösung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der sekundäre Stabilisator eine Schwefelverbindung, eine acetylinische Verbindung, eine Bleiverbindung, eine Quecksilberverbindung oder eine Cyanidverbindung ist.10) solution according to claim 9, characterized in that the secondary stabilizer is a sulfur compound, an acetylinic compound, a lead compound, a mercury compound or a cyanide compound is. 709 819/0969709 819/0969