DE2541915A1 - Korpuskularstrahlenmikroskop mit ringzonensegmentabbildung - Google Patents

Korpuskularstrahlenmikroskop mit ringzonensegmentabbildung

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DE2541915A1 DE19752541915 DE2541915A DE2541915A1 DE 2541915 A1 DE2541915 A1 DE 2541915A1 DE 19752541915 DE19752541915 DE 19752541915 DE 2541915 A DE2541915 A DE 2541915A DE 2541915 A1 DE2541915 A1 DE 2541915A1
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Description

Max-Planck-Geseilschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. 3400 G-öttin^en, Bunsenstr. 10
Korpuskularstrahlenmikroskop mit Ringzonensegmentabbildung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Korpuskularstrahlenmikroskop mit einer Einrichtung zum Erzeugen mindestens eines Korpuskularstrahlenblindels» das auf ein Segment einer ringförmigen, bezüglich einer Mifcroskopaohse im wesentlichen konzentrischen Eingaone beschränkt ist und am Ort eines auf der Achse angeordneten und vergrößert abzubildenden Objektes in einem Winkel von mindestens 30 zur Mikroskopachse verläuft, ferner mit einem korpuskularoptischen Linsensystem» welches im Strahlengang des Korpuskularstrahlenbündels vor dem Objekt mindestens einen Beleuchtungskondensor und hinter dem Objekt ein weiteres abbildendes Linsensystem enthält, das zumindest ein Objektiv (und gewöhnlich, außerdem eine Zwischenlinse und ein Projektiv) bildet, weiterhin mit mindestens einer Stigmatoranordming zur Korrektur von Bildfehlern- in -dem
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im Querschnitt auf das Ringzonensegment beschränkten Zbrpuskularstrahlenbündel, einer Objekthalterung und einer bei einer Endbildebene angeordneten Bildaufnahmeeinrichtung.
Ein Korpuskularstrahlenmikroskop der oben genannten Art ist aus der DT-OS 2 165 089 bekannt. Es dient insbesondere zur Erzeugung mehrerer Aufnahmen eines Objektes mit durch Strahlungsrichtungen, die über einen möglichst großen Raumwinkel verteilt sind. Hit solchen Aufnahmen kann die dreidimensionale DichteVerteilung im Objekt rekonstruiert v/erden, wie es z.B. in den Veröffentlichungen von W. Hoppe und D.J. DeRosir und Mitarbeitern bekannt ist (s. z.B. Naturwissenschaften £5 (1968) S. 333 bis 336; Optik 2£ (1969) S. 617 bis 621; Nature 2T7 (1968) S. 130-133 und J.Mol.Biol. £2 (1970), S. 355-369).
]?ür eine hohe Bildauflösung ist eine möglichst weitgehende Korrektur der Abbildungsfehler erforderlich. Dies läßt sich mit verhältnismäßig geringen Schwierigkeiten erreichen, wenn für die den verschiedenen Durchstrahlungsrichtungen zugeordneten Strahlengänge jeweils eigene, voneinander im wesentlichen unabhängige korpuskularoptische Abbildungssysteme zugeordnet sind. Andererseits ist es im Hinblick auf die Verringerung des apparativen Aufwandes wünschenswert, für alle Strahlengänge ein gemeinsames korpuskularoptisches Grundabbildungssystem vorzusehen und nur für die Korrektur der einzelnen Strahlengänge spezielle Maßnahmen zu treffen.
Die vorliegende Erfindung geht aus von einem mit Ringzonensegmentabbildung arbeitenden Korpuskularstrahlenmikroskop der eingangs genannten Art und setzt sich zur Aufgabe, ein solches Korpuskularstrahlenmikroskop hinsichtlich der Korrektur von Abbildungsfehlern zu verbessern.
Diese Aufgabe wird durch die im Patentanspruch 1 unter Schutz gestellte Erfindung gelöst.
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A - 4 -
Durch die Verwendung eines Kondensor- und Objektivlinsensystems mit mindestens zwei dicht hintereinander gelegenen Feldmaxima bei einem Korpuskularstrahlenmikroskop mit Ringzonensegmentabbildung lassen sich insbesondere der Öffnungsfehler erster und zweiter Ordnung, teilweise auch der Öffnungsfehler dritter Ordnung, der Farbfehler nullter Ordnung und zum Teil der Farbfehler erster Ordnung sowie bestimmte außeraxiale Fehler korrigieren. Bei Ausführungsformen, die eine Vielzahl von auf Ringzonensegmente beschränkten und im Bereich des Objekts auf einem Kegelmantel verlaufenden Strahlengängen enthalten, ergibt sich ein sehr kompakter und konstruktiv verhältnismäßig einfacher Aufbau, was insbesondere bei Verwendung von supraleitenden Abschirmlinsen von großem Vorteil ist.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert; es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung des Strahlenganges eines Elektronenmikroskopes gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 2 eine mehr ins einzelne gehende Darstellung eines Supraleiter-Abschirmlinsensystems für ein Elektronenmikroskop gemäß der Erfindung;
Fig. 3 eine Darstellung eines Teiles des Linsensystems gemäß Fig. 2 und der von diesem erzeugten magnetischen Feldverteilung;
Fig. 4 eine Schnittdarstellung eines Teiles eines Elektronenmikroskopes gemäß einer weiteren Ausführungs form der Erfindung;
Fig. 5 eine schematische Darstellung einer Stigmatoranordnung für ein Korpuskularstrahlenmikroskop gemäß der Erfindung;
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Pig. 6 eine Darstellung einer anderen Betriebsart der Stigmatoranordnung gemäß Fig. 5;
5*ig. 7 "und 8 graphische Darstellungen zur Erläuterung der Berechnung der Linsenfelder für ein Linsensystem gemäß 2 und 3.
Die Erfindung wird im folgenden an Hand von Elektronenmikroskopen erläutert, sie ist jedoch nicht hierauf beschränkt und läßt sich selbstverständlich auch auf lonenstrahlmikroskope anwenden.
In Fig. 1 ist schematisch der Strahlengang eines Elektronenmikroskops gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung dargestellt. Das gezeigte Elektronenmikroskop enthalt eine nur schematisch dargestellte Strahlquelle 10, die in üblicher Weise ausgebildet sein kann und vorzugsweise eine Feldemissionskathode enthält. Die Strahlquelle 10 emittiert ein längs einer Mikroskopachse 11 verlaufendes Elektronenbündel 12, das der Reihe nach,eine erste magnetische Kondensorlinse 14, eine zweite magnetische Kondensorlinse 16, eine Beleuchtungsfeldblende 18, ein elektrostatisches Ablenksystem 20, von dem hur zwei der insgesamt vier Ablenkplatten dargestellt sind, mit dem das Elektronenbündel in einer beliebigen Richtung senkrecht zur Mikroskopachse abgelenkt werden kann, um das Elektronenstrahlbündel in eine gewünschte Anzahl verschiedener, diskreter Strahlengänge abzulenken, einen Beleuchtungsstigmator 22, der in der Praxis dann benötigt wird, wenn ein sehr kleiner Objektbereich (kleiner als 1 mn Durchmesser) bei Beleuchtungsaperturen von 10 bis 10 durchstrahlt werden soll, eine magnetische Anpassungslinse 24, einen Vorfeldkondensor 26, ein Objektiv 28,
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eine Zv/ischenlinse 30 und ein Projektiv 32 durchläuft. Das Projektiv 32 entwirft ein vergrößertes Bild eines im Strahlengang zwischen dem Vorfeldkondensor 26 und dem Objektiv 28 angeordneten Objekts 34 in einer Endbildebene 36, bei der eine nicht dargestellte Bildaufnahmeeinrichtung angeordnet ist, z.B. eine photographische Platte oder eine elektronische Bild oder eine elektronische Bildaufnahmeanordnung mit einem Bildwandler oder einer Pernsehaufnähmeröhre und dergl. Der Strahlengang verläuft, wie üblich, im Vakuum.
Dem Objektiv 28 sind zwei Eeldkorrektoren 38 und 40 sowie eine Stigmatoranordnung 42 zugeordnet. Die Feldkorrektoren 38 und 40 enthalten mehrere (z.B. 8 oder 16) kleine Magnetspulen, die mit radial zur Mikroskopachse 11 verlaufenden Achsen um de Mikroskopachse verteilt sind und zur Erzeugung eines Multipolfeldes dienen. Die Korrektur betrifft die das Objektiv bildenden magnetischen Rundlinsen als Ganzes und ist daher für alle Strahlengänge, die mittels des Ablenksystems 20 einstellbar sind, gleich. In der Praxis wird das Elektronenbündel mittels des Ablenksystems 20 immer um den gleichen Winkel bezüglich der Mikroskopachse, aber in verschiedene Azimuthrichtungen bezüglich der Mikroskopachse abgelenkt, so daß die Mittelachsen der verschiedenen Strahlengänge sich in einem bestimmten Punkt im Objekt 34 schneiden und auf einer Kegelmantelfläche liegen, deren Spitze mit dem erwähnten Schnittpunkt zusammenfällt.
Die in Pig. 1 nur schematisch dargestellten Stigmatoren 22 und 42 dienen im Gegensatz zu den Feldkorrektoren 38 und 40 zur individuellen Korrektur des Elektronenbündels in den verschiedenen Strahlengängen. Die Stigmatoren 22 und 42 enthalten bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Pig. 1 eine Anzahl von Elektroden, die die Porm von achsparallelen, streifenförmigen Bereichen eines Zylindermantels haben können und
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zur Erzeugung eines elektrostatischen Multipolfeldes in bekannter Weise elektrisch erregbar sind. Der Beleuchtungsstigmator 22 ist vorzugsweise ein elektrischer Oktopol, v/ährend der Stigmator 42 ebenfalls mindestens 8, vorzugsweise jedoch 16 oder mehr Elektroden enthält.
Die Spannungen an den Elektroden der Stigmatoren 22 und 42 werden mit der Strahlablenkung durch das Ablenksystem 20 umgeschaltet und für jeden Strahlengang so bemessen, daß sich die gewünschte Bündelkorrektur ergibt.
In den Figuren 2 und 3 ist etwas genauer eine Ausführungsform desjenigen Teiles des Elektronenmikroskopes gemäß Fig. 1 dargestellt, welcher den Beleuchtungsstigmator 22, die Anpassungslinse 24, den Vorfeldkondensor 26, das Objektiv 28, das Objekt 34, die Feldkorrektoren 38 und 40 sowie den Stigmator 42 enthält. Der Vorfeldkondensor 26 und das Objektiv 28 werden durch eine Supraleiter-Abschirmlinse 44 mit zwei ringförmigen Spalten 46 und 48 gebildet, durch die ein Magnetfeld mit zwei Maxima 50 und 52 (Fig. 3) erzeugttwird. Die Abschirmlinse enthält einen Mantel 54 aus Supraleitermaterial, z.B. ein Sinterkörper aus Nb^Sn oder einem anderen harten Supraleiter. Die Spalte 46 und 48 sind durch einen supraleitenden Zwischenring 56 getrennt. In der Praxis sind die Spalte 46 und 48 durch ringförmige Körper 58 bzw. 60 (Fig. 3) aus bei Betriebstemperatur nicht supraleitendem Material (z.B. Kupfer) vakuumdicht verschlossen. Die Körper 58 und 60 dienen außer zur Abdichtung auch zur mechanischen Halterung und Kühlung des Zwischenrings 56.
Im Mantel 54 befindet sich eine im Betrieb supraleitende Magnetspulenanordnung, die vorzugsweise mindestens zwei/in gleichem Sinne erregte Hauptspulen 62 und 64 sowie mindestens eine Korrekturspule 66 enthält. Durch die Bemessung, Anordnung und Erregung der Spulen 62, 64 und 66 in Verbindung mit der Bemessung der Spalte 46 und 48 sowie des Zwischenringes 56
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stehen eine Vielzahl von Parametern zur Verfügung, mit denen sich ein gewünschter Feldverlauf erreichen läßt.
. 4 zeigt einen Teil eines anderen Ausführungsbeispiels eines Elektronenmikroskopes gemäß der Erfindung. Der dargestellte Teil entspricht etwa dem Bereich zwischen dem zweiten Kondensor 16 und der Zwischenlinse 30 in Pig. 1 und enthält eine ferromagnetische Rundlinse 16', die der zweiten Kondensorlinse 16 in Fig. 1 entspricht, ein elektromagnetisches Ablenksystem 20" mit vier Ablenkspulen, eine auswechselbare und justierbare BeLeuchtungsfeldblende 18', zwei aneinander angrenzende ferromagnetische Rundlinsen 26', 28', die das Magnetfeld für den Vorfeldkondensor urddas Objektiv erzeugen, eine Objekthalterung 34', Feldkorrektoren 38' und 40· sowie eine elektromagnetische Stigmatoranordnung 42', auf die an Hand der Figuren 5 "und 6 noch näher eingegangen wird. Die Rundlinsen 26 · und 28' haben eine gemeinsame Feldplatte
27', so daß eine "Doppelspaltlinse11 ähnlich wie die gemäß
cLm^ccii
Fig. 2 und 3 gebildet wird,/die ein Magnetfeld mit zwei nahe beieinander liegenden Maxima erzeugt werden kann, wie es in Fig. 3 dargestellt ist.
Der Begriff "nahe beieinander" soll bedeuten, daß der Abstand der Feldmaxima 50, 52 höchstens etwa das Drei- bis Fünffache des arithmetischen Mittelwertes der halben Halbwertsbreiten der die Maxima bildenden Magnetfeldanteile ist. Diese Magnetfeldanteile werden bei der Ausführungsform gemäß Fig. 2 und 3 jeweils durch einen Spalt 58 bzw. 60 erzeugt und bei der Ausführungsform gemäß Fig. 2 durch die Rundlinsen 26' und 28·. Die Magnetfeldanteile sind in Fig. 3 durch die gestrichelten Kurven dargestellt.
Zwischen der den zweiten Kondensor bildenden Rundlinse 16· und. der Rundlinse 26· können, wie in Fig. 4 dargestellt ist, zwei weitere Anordnungen 68 und 70 zum Erzeugen je eines magnetischen Multipolfeldes angeordnet sein, die in ihrer
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Funktion etwa dem Beleuchtungsstigmator 22 in Pig. 2 entsprechen.
In Pig. 5 sind die Spulen des Stigmators 42! in einer quer zur Hikroskopachse 11 verlaufenden Schnittebene dargestellt. Jede Spule ist mit einem entsprechenden Anschluß einer programmierbaren Stromquelle 72 verbunden, die jeder Spule für jeden Strahlengang, der durch das Ablenksystem 20 eingestellt ist, einen bestimmten Strom zuführt. Die Ströme werden für jeden Strahlengang gesondert einjustiert, und im Routinebetrieb liefert dann die programmierbare Stromquelle 72 für jeden eingestellten Strahlengang genau die richtigen Ströme. In Fig. 5 ist außerdem beispielsweise ein mögliches magnetisches Potentialfeld eingezeichnet, das am Ort des Elektronenstrahls 12 einen magnetischen Quadrupol mit gewünschten Parametern liefert.
Pig. 6 zeigt eine andere mögliche magnetische Potentialverteilung zur Erzeugung eines Stigmator-Quadrupols.
In der Tabelle am Ende der Beschreibung sind zehn Parametersätze für ein System aus zwei magnetischen Rundlinsen der an Hand der Figuren 2 und 4 erläuterten Art aufgeführt.
Das Linsensystem v/ird beschrieben durch die Induktion B (z) auf der Mikroskopachse 11
2 B .
B(z) = y 2i
1 sinh2 (
i=1 1 + -1=· sinh2 (1ά arsinhC. )
t. <l η. χ
i i
Eine solche Feldgestalt läßt sich für Werte von V zwischen etwa 1 und 3 gut mit ferromagnetischen Linsen oder supraleitenden Abschirmlinsen mit mehreren Spalten realisieren. Die Lage zß des ersten stigmatischen Zwischenbildes (siehe Fig. 1) ist 150 mm · fL.
Die Werte in der Tabelle sind für eine Beschleunigungsspannung V= 100 kV gerechnet.
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Die relativistisch, korrigierte Beschleunigungsspannung V* be2 Q 2
g
trägt -V* = V + eY2/2 mQc2. Pur V = 100 kV ergibt sich
= 109,885 kV.
Pur νχ* Φ 100.kV ist Vx* = 109,885 In der Tabelle bedeuten:
B . = maximale Induktion auf der Achse für den durch den
Ol
betreffenden Spalt erzeugten Peldanteil ("Spaltanteil") ;
Zt. = Lage des i-ten Peldmaximums des iten Spaltanteils bezogen auf das in Strahlrichtung erste Maximum Cz1I = 0);
h. = halbe Halbwertsbreite des i-ten Spaltanteils;
stf. = Gestaltparanßber des i-ten Spaltanteils (siehe Pig.8);
<y0 = Winkel der Bündelachse bezüglich der Mikroskopachse im Objekt;
V = Beschleunigungsspannung der.Elektronen;
Zn = Ort des Lichtquellenbildes (Leuchtfeldblende 18)
Die Systeme mit den in der Tabelle angegebenen Daten liefern eine Abbildung, die frei ist vom Öffnungsfehler bis einschließlich der zweiten Ordnung und vom Farbfehler der nullten Ordnung. Die angegebenen Systeme können dadurch abgewandelt v/erden, daß man den in den Längen, Induktionen und der Beschleunigungsspannung enthaltenen Paktoren fT, f„ bzw. f-y* einen von 1 verschiedenen Wert gibt, dabei gleichzeitig aber den Ausdruck f-^ · fg/ Vfγ* = 1 hält. Die abgewandelten Systeme haben die gleichen Eigenschaften wie die Ausgangssysteme .
Das System Nr. 1 ist so berechnet, daß das Objekt von einer Lichtquelle (Beleuchtungsfeldblende 18) bei zQ = - 500 mm · f aus untereinem Winkel von 45 beleuchtet werden kann, falls man ein schmales Bündel ausblendet. Bei den anderen Systemen liegt zQ wesentlich näher bei der ersten Linse des Vorfeldkondensor-Objektiv-Systems.
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- Vd -
Ein Vergleich der Parameter der Systeme Hr. 1 bis 5 ,zeigt, daß man auch bei Änderung der Gestaltparameter X., des Winkels O^ oder der Gegenstandsebene Z„ die obigen Bedingungen erfüllen kann. Dies ermöglicht eine Einstellung einer fehlerarmen Abbildung auch dann, wenn die in der Tabelle angegebenen Daten infolge von Fertigungsungenauigkeiten und anderen FehlerquelLen nicht genau realisiert werden.
Die Systeme 1 bis 5 der Tabelle arbeiten mit Feldern eines Typs, wie er in Fig. 7 durch die ausgezogene Kurve dargestellt ist. Dieser Feldtyp hat einen exponentiellen Verlauf und entspricht einem Wert von X *=* 1. Die Systeme 6 bis 10 arbeiten mit einem Glaserschen Glockenfeld, wie es in Fig. 7 durch die gestrichelte Kurve dargestellt istr. Ein solches Feld erhält man für Z —> O.
In Fig. 8 ist die Abhängigkeit des Gestaltparameters T von den Abmessungsparametern b, 1, s und w einer magnetischen Ringlinse mit einem einzigen Spalt dargestellt. Die Bedeutung der Abmessungsparameter ist aus der schematischen Darstellung in Fig. 8 rechts ersichtlich. Tabelle 8 gilt nur in erster Näherung für eine Rundlinse mit mehreren Spalten, da sich die von den einzelnen Spalten erzeugten Felder gegenseitig etwas beeinflussen.
Bei der Berechnung der Systemparameter, wie sie in der Tabelle aufgeführt sind, bestimmt man zuerst ein Modellfeld, das den vorgegebenen Abbildungsbedingungen genügt. Aufgrund der Feldparameter (Feldstärke, Abstand und Halbwertsbreite der Feldmaxima) bestimmt man dann mittels eines Potentialprogrammes die konstruktiven Parameter der Linsen, z.B. die Gestalt der Supraleiterflächen der Abschirmlinse gemäß Fig. 2 und 3.
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Tabelle
Parametersätze für ein System aus zwei magnetischen Rundlinsen mit Kegelschneidenfokussierung und Freiheit vom Farbfehler nullter Ordnung
Das Linsensystem "wird beschrieben durch die Induktion B/_,\ auf der Achse: v Z_ 1 + sr^-1 sinh (
_ίτ V hi
Beschleunigungsspannung der Strahlelektronen TOO kV.
System ITr. -„/mm 0*0 B01^T B02^T 2Li/111111 2^/121111 h./mm h^/min
-0,16000-fL 45° 0,89375-fB 1,19021·ίΒ 0,0 8,463Vf1 4,0000-fL 2,2535-fL 1,05 1,10
2 0,0 . 4.5° 0,93335· £B 1,163045· fB o, O1 8,27313·% 4, 0000·% 2,35964· fl 1 ,5 1 ,5
3 0,0 4.0° 0,992103· fB 1,39941? fB o, 0 9,76606·^ 4, 0000·% 2,1893· fL
4 ' 0,0 45° 0,95655· fB 1,212478· fB 0, 0 8,44976·% 4, 0000·% 2,22646- 1 ,1 1 ,2
5 0,0 50° 0,888582· fB 1,016263· fB o, 0 7,42979·% 4, 0000·% 2,28583·
6 0,0
7 0,0
8 . 0,0
9 0,0
10 0,0
34° 0,89449·% 1,60756·% 0,0 19,02918·% 4,0000·% 1,96096·%
40° 0,855973·% 1,446501·% 0,0 13,34168·% 4,0000·% 1,949®·%
45° 0,821607·% 1,276782·% 0,0 10,05662·% 4,0000·% 1,95589·%
50° 0,783505·% 1,075343·% 0,0 7,64739·% 4,0000·% 1,99376·%
55° 0,73329·% 0,855829·% 0,0 5,94336·% 4,0000·% 2,10648·%
0 cn
0 -P--
0 CD
0 on
0

Claims (10)

  1. Patentansprüche
    / 1.jKorpuskularstrahlenmikroskop mit einer Einrichtung zum Erzeugen mindestens eines Korpuskularstrahlenbündels, das auf ein Segment einer ringförmigen, bezüglich einer Mikroskopachse im wesentlichen konzentrischen Ringzone beschränkt ist und am Ort eines auf der Achse angeordneten und vergrößert abzubildenden Objektes in einem ¥inkel von mindestens 30 zur Mikroskopachse verläuft, ferner mit einem korpuskularoptischen System, welches im Strahlengang des Korpuskularstrahlenbündels vor dem Objekt mindestens einen Vorfeldkondensor und hinter dem Objekt ein weiteres abbildendes Linsensystem enthält, das zumindest ein Objektiv (und gewöhnlich außerdem eine Zwischenlinse und ein Projektiv) bildet, weiterhin mit mindestens einer Stigmatoranordnung zur Korrektur von Bildfehlem in dem im Querschnitt auf das Eingzonensegment beschränkten Korpuskularstrahlenbündel, einer Objekthalterung und einer bei einer Endbildebene angeordneten Bildaufnahmeeinrichtung, dadurch gekennzeichnet , daß der Vorfeldkondensor (26) und das Objektiv (28) eine bezüglich der Mikroskopachse (11) im wesentlichen rotationssymmetrische magnetische Linsenanordnung (Pig. 2 und 4) zum Erzeugen zweier Eeldmaxima (50, 52) enthalten, deren Abstand höchstens das Fünffache des arithmetischen Mittelwertes der halben Halbwertsbreiten der die Maxima bildenden Magnetfeldanteile ist, enthält.
  2. 2. Korpuskularstrahlenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Linsenanordnung (Fig. 2 und 3) eine Supraleiter-Abschirmlinsenanordnung mit einer supraleitenden Abschirmzylinderanordnung (54) ist, die mindestens zwei ringförmige und je ein Feldmaximum (50, 52) erzeugende Spalte (46, 48) aufweist.
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    ORIGINAL INSPECTED
  3. 3. Korpuskularstrahlenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Linsenanordnung (I1Ig. 4) zwei aneinander angrenzende ferromagnetische Rundlinsen (261, 28') rait einer gemeinsamen mittleren Feldplatte (271) enthält.
  4. 4. Korpuskularstrahlenmikroskop nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens einem Linsenspalt der Linsenanordnung ein FeIdkorrektor (33 bzw. 40) zugeordnet ist, der ein einstellbares Hultipolfeld zur Korrektur von Abweichungen der Linsengeometrie von der Rotationssymmetrie erzeugt.
  5. 5. Korpuskularstrahlenmikroskop nach Anspruch 1, 2j/oder
    4, dadurch gekennzeichnet, daß im Strahlengang vor dem Vorfeldkondensor (26) ein Beleuchtungs-. stigmator (22) angeordnet ist, der ein Multipolfeld am Ort des Korpuskularstrahlenbündels (12) liefert.
  6. 6. Korpuskularstrahlenmikroskop nach Anspruch 1, 2, 3, oder 5» dadurch gekennzeichnet, daß im Strahlengang hinter dem Objektiv (28) ein Stigmator (42) angeoi^dnet ist, der ein Multipolfeld am Ort des Ko rpuskularstrahlenbündäs erzeugt.
  7. 7. Korpuskularstrahlenmifcroskop nach einem der vorhergehenden Ansprößlie, d a ä i' r e I gekennzeichnet, daS im Strahlengang vor dem Yorfelcöcondensor (26) ein Ablenksystea (20) ζόμ wahlweisen Ablenken des Eorpuskularstrahlenbündels (12) in einen von mehreren Strahlengängen^ die das Objekt (34) unter verschiedenen Sichtungen durchsetzen, angeordnet ist«
  8. 8. Korpuskularstrahleniiikroskop nach Anspruch 7 und Anspruch 6 und/oder 5» gekennzeichnet durch eine Steuereinrichtung mit einer programmge-
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    steuerten Stromquelle (72) für jeden Stigmator (22, 42, 42») die für jede Einstellung des Ablenksystemes tautomatisch die Einstellung der Stigmatorparameter für den "betreffenden Strahlengang bewirkt.
  9. 9. Korpuslcularstrahlenmikro skop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Beleuchtungsstigmator (22) und dem Vorfeldkondensor (26) eine korpuskularoptische Anpassungslinse (24), insbesondere eine runde Einzellinse, angeordnet ist.
  10. 10. Korpuskularstrahlenmikroskop nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß im Strahlengang vor dem Ablenksystem (20) eine Beleuchtungsfeldblende (18) angeordnet ist.
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