DE2505774B2 - Justiervorrichtung für eine Laseranordnung aus einem Leistungslaser und einem Justierlaser - Google Patents
Justiervorrichtung für eine Laseranordnung aus einem Leistungslaser und einem JustierlaserInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Justiervorrichtung für eine Laseranordnung aus einem Leistungslaser und einem im
sichtbaren Bereich strahlenden Justierlaser, deren Strahlen einander kollinear überlagert sind, mit einem
im Weg mindestens eines dieser Strahlen angeordneten Strahlablenker, der mindestens zwei ebene Spiegelflächen
aufweist, die miteinander einen Winkel von 45° einschließen, dessen Winkelhalbierende von dem Strahl
unter 45° derart geschnitten wird, daß dieser insgesamt um 90° umgelenkt wird, insbesondere für ein Laserbeschußmikroskop.
Beim Arbeiten mit einem Leistungsiaser, dessen Strahlung in der Regel im unsichtbaren Bereich liegt und/oder gepulst ist, ist es erwünscht, den Strahlenverlauf dieses Leistungslasers durch einen kollinear überlagerten sichtbaren Strahl eines Justier- oder Hilfslasers zu markieren und für Justierzwecke sichtbar zu machen, und ferner diese einander kollinear überlagerten Strahlen zu manipulieren, d. h. winkel- und lagemäßig verändern zu können, ohne die Laser selbst bewegen zu müssen. Besonders hohe Anforderungen an die Genauigkeit dieser Markierung und Manipulation werden dann gestellt, wenn der Leistungslaser in ein Mikroskop eingekoppelt werden soll, insbesondere zur Anwendung auf dem mikrobiologischen Gebiet zur gezielten Zerstörung bzw. Beeinflussung von Zellen und anderem biologischem Probenmaterial.
Beim Arbeiten mit einem Leistungsiaser, dessen Strahlung in der Regel im unsichtbaren Bereich liegt und/oder gepulst ist, ist es erwünscht, den Strahlenverlauf dieses Leistungslasers durch einen kollinear überlagerten sichtbaren Strahl eines Justier- oder Hilfslasers zu markieren und für Justierzwecke sichtbar zu machen, und ferner diese einander kollinear überlagerten Strahlen zu manipulieren, d. h. winkel- und lagemäßig verändern zu können, ohne die Laser selbst bewegen zu müssen. Besonders hohe Anforderungen an die Genauigkeit dieser Markierung und Manipulation werden dann gestellt, wenn der Leistungslaser in ein Mikroskop eingekoppelt werden soll, insbesondere zur Anwendung auf dem mikrobiologischen Gebiet zur gezielten Zerstörung bzw. Beeinflussung von Zellen und anderem biologischem Probenmaterial.
Aus «Applied Optics«, 1970, Seite 1210, ist eine
Anordnung der eingangs genannten Art bekannt, bei der der Strahlablenker ein Pentaprisma ist, welches
dazu verwendet wird, um zu kontrollieren, ob der Strahlengang des Hilfslasers kollinear zum Strahlengang
des Leistungslasers verläuft. Jedoch ist weder die Herstellung der Kollinearität noch die Manipulation,
d.h. Lageveränderung der kollinear überlagerten Strahlen durch Bewegen des Pentaprismas möglich,
sondern erfordert entsprechende Einstellungen der Laser selbst. Auch ist die bekannte Anordnung nicht
dafür geeignet, den Hilfslaserstrahl dem Leistungslaserstrahl ständig, d. h. auch während des Betriebes des
Leistungslasers zu überlagern, vielmehr wird zuerst mittels des Pentaprismas der spätere Strahlenverlauf
des Leistungslasers durch den Hilfslaserstrahl markiert, die Freigabe dieses Strahlengangs für den Leistungslaser
erfordert aber das Entfernen des Pentaprismas und damit auch das Auskoppeln des Hilfslaserstrahls.
Aus der DE-OS 16 14 336 sind verschiedene Spiegel- und Prismenanordnungen bekannt, mit denen ein Hilfslaserstrahl einem Leistungslaserstrahl kollinaer überlagert wird. Es ist aber auch bei diesen bekannten Anordnungen nicht möglich, ohne Bewegen der Laser selbst lediglich durch Verstellen der Spiegel oder Prismen die Kollinearität herzustellen und/oder die kollinear überlagerten Strahlen gemeinsam zu manipulieren.
Aus der DE-OS 16 14 336 sind verschiedene Spiegel- und Prismenanordnungen bekannt, mit denen ein Hilfslaserstrahl einem Leistungslaserstrahl kollinaer überlagert wird. Es ist aber auch bei diesen bekannten Anordnungen nicht möglich, ohne Bewegen der Laser selbst lediglich durch Verstellen der Spiegel oder Prismen die Kollinearität herzustellen und/oder die kollinear überlagerten Strahlen gemeinsam zu manipulieren.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine einfache Justiervorrichtung der eingangs genannten Art zu schaffen, mit
der eine lage- und winkelmäßige Manipulation und Justierung der Laserstrahlen unter Einhaltung ihrer
gleichzeitigen kollinearen Überlagerung mit hoher Genauigkeit möglich ist und die sich besonders für die
Ankopplung und Einjustierung der Laserstrahlen in ein
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Spiegelflächen durch einzelne ebene Spiegel
dargestellt werden, die gemeinsam um zwei aufeinander senkrecht stehende Achsen drehbar sind, die sich
annähernd in der Ebene des im Strahlenverlauf ersten Spiegels schneiden und von denen die eine Achse
parallel zur Winkelhalbierenden der Ebenen dieser beiden Spiegel und die andere Achse in der Ebene des
ersten Spiegels verläuft, und daß davon unabhängig der
im Strahlenverlauf zweite Spiegel um zwei aufeinander senkrecht stehende Achsen drehbar ist, die beide in der
Ebene dieses zweiten Spiegels verlaufen.
Hierdurch wird der Vorteil erzielt, daß durch die angegebenen, voneinander unabhängigen Bewegungen
der beiden Spiegel bzw. des zweiten Spiegels voneinander unabhängige winkel- und lagemäßige Versetzungen
in zwei zueinander senkrechten Koordinatenrichtupgen durchgeführt und dadurch die Laserstrahlen mit sehr
großer Genauigkeit in jede beliebige, für die jeweilige Verwendung bzw. Justierung erforderliche räumliche
Lage gebracht werden können. Ein zusätzlicher Vorteil besteht darin, daß die Anordnung gleichzeitig eine
90°-Umlenkung des Laserstrahls bewirkt, was für viele Ankopplungszwecke zom Erzielen einer kompakten
Anordnung vorteilhaft ist
Bei einer Weiterbildung der Erfindung trägt von den an der Strahlablenkung und/oder -umlenkung beteiligten
Spiegeln mindestens ein Teil ehe für die Wellenlänge des Leistungslasers und zusätzlich eine für
die Wellenlänge des Justierlasers selektiv reflektierende Reflexionsschicht Dadurch läßt sich vor allem eine
übermäßige Erwärmung des Spiegelmateriais durch absorbierte Laserstrahlung verhindern. Ferner bleiben
die Spiegel transparent für weißes Licht, so daß eine Auflichtbeleuchtung in den Strahlengang eingeblendet
werden kann. Von den beiden Reflexionsschichten kann die eine auf der einen und die andere auf der anderen
Seite eines Spiegels angeordnet sein, es ist aber auch mit modernen Bedampfungstechniken möglich, beide
Schichten auf der gleichen Oberfläche anzubringen.
Die 90°-Umlenkung der Strahlen gestattet es in einfacher Weise, zusätzliche Ein- und/oder Ausblendungen
vorzunehmen. Insbesondere kann der erste Spiegel für den Strahl des Leistungslasers geringfügig durchlässig
sein und in Verlängerung des auf ihn treffenden Strahles ein Strahlennachweisgerät zur Energie- oder
Leistungsmessung angeordnet sein. Der zweite Spiegel kann für außerhalb der Wellenlänge des Leistungslasers
liegendes Licht durchlässig sein, und in Verlängerung des von ihm reflektierten Strahles kann eine Auflichtbeleuchtungsquelle
für das Mikroskop angeordnet sein.
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist auch ein einfaches Mittel vorgesehen, um die laufende
konstante Überlagerung des Justierlaserstrahles mit dem Leistungslaserstrahl herzustellen und zu kontrollieren.
Sie besteht darin, daß der Leistungslaser ein UV-Laser mit für UV-Licht selektiv reflektierenden
Resonanzspiegeln ist, und daß dieser längs seiner optischen Achse vom Justierlaser durchstrahlt wird.
Verläuft bei dieser Anordnung der Justierlaserstrahl nicht exakt kollinear mit der optischen Achse des
Leistungslasers, so erzeugt die, wenn auch geringfügige Restreflexion des Justierlaserstrahls an den Resonatorspiegeln
des Leistungslasers Nebenreflexe, die leicht beobachtbar sind und deren Verschwinden als Kriterium
für die exakte Überlagerung der beiden Laserstrahlen verwendet werden kann.
Eine Ausführungsforrn der Erfindung wird anhand der
Zeichnung näher erläutert.
Die Zeichnung zeigt schematisch eine Draufsicht auf diese Ausführungsform.
Das Gesamtgerät besteht im wesentlichen aus zwei Gehäusen, dem langgestreckten Lasergehäuse 1, in dem
die Laser und die optischen Einrichtungen zur Strahlablenkung untergebracht sind, und dem damit fest
verbundenen, hier nur schematisch als Rechteck angedeuteten Mikroskopgehäuse 2. Letzteres ist nur der
deutlicheren Darstellung halber in einer um 90° gedrehten Anordnung gezeigt, in Wirklichkeit verläuft
die optische Achse der Mikroskopanordnung senkrecht
s zur Zeichenebene nach hinten.
In dem Lasergehäuse 1 befinden sich parallel nebeneinander ein Justierlaser 3 und ein Leistungslaser
7. Der Justierlaser 3 ist insbesondere ein He-Ne-Laser, der im roten, d.h. sichtbaren Wellenlängenbereich
to strahlt Durch Umlenkspiegel 4,5, von denen einer oder
beide beweglich sein können, wird ein Strahl 6 so umgelenkt daß er die Resonatorspiegel 8 und das
lasernde Medium 9 des Leistungslasers durchläuft, der vorzugsweise ein Stickstoff-Laser ist und im UV strahlt.
is Durch Manipulieren an den Umlenkspiegeln 4, 5 bzw.
Positionieren des Leistungslasers 7 oder Justierlasers 3
kann der Justierlaserstrahl 6 exakt mit dem Strahl des Leistungslasers 7 überlagen werden, so daß aus dem
Leistungslaserstrahl ein überlagerter Strahl 10 austritt.
Der Strahl 10 trifft auf einen ersten ebenen Spiegel 11,
der in solchem Winkel (von ca. 67,5°) zum Strahl 10 steht, daß er diesen um 45° zu einem zweiten ebenen
Spiegel 12 reflektiert, der den Strahl wiederum unter 45° zurückwirft so daß der zweite umgelenkte Strahl
10' unter einem Winkel von 90° zur ursprünglichen Richtung in das Mikroskopgehäuse 2 eintreten kann.
Hier wird der Strahl durch einen weiteren Umlenkspiegel 14 um 90° umgelenkt so daß er in der optischen
Achse des Mikroskops verläuft, die man sich, wie erwähnt, nicht in der Zeichenebene, wie dargestellt,
sondern senkrecht zur Zeichenebene verlaufend denken muß. Der Strahl wird dann durch die Objektivoptik, von
der hier stellvertretend nur zwei Blenden 15 angedeutet sind, auf ein Objekt fokussiert.
Um den umgelenkten Strahl 10' exakt nach Lage und Richtung so zu justieren, daß er nach der Umlenkung
mit der optischen Achse des Mikroskops zusammenfällt, kann er mit den Spiegeln 11 und 12, die beweglich sind,
bezüglich beider Raumachsen nach Lage und Richtung verändert werden. Man erkennt aus der Zeichnung, daß
die Ebenen der Spiegel 11 und 12 auf der Zeichenebene
etwa senkrecht stehen und miteinander einen Winkel λ einschließen, der 45° beträgt und dessen Winkelhalbierende
13 zur Richtung des ankommenden Strahles 10 ebenfalls unter einem Winkel α von etwa 45° steht. Die
beiden Spiegel 11 und 12 sind auf einem (nicht dargestellten) gemeinsamen Halter montiert, der um
zwei zueinander senkrechte Achsen drehbar ist, nämlich um eine erste Achse a, die parallel zur
so Winkelhalbierenden 13 verläuft, und um eine zweite
Achse b, die senkrecht zur Achse a und zur Zeichenebene steht. Durch dieses gemeinsame Schwenken
beider Spiegel 11 und 12 kann der umgelenkte Strahl 10' annähernd parallel zu sich selbst verschoben
werden. Zusätzlich ist der Spiegel 12 relativ zu dem Halter ebenfalls um zwei Achsen schwenkbar, von
denen die eine Achse c z. B. in der Zeichenebene unter 45° zur Ebene des Spiegels 11 verläuft und die andere
Achse d parallel zur Achse b liegt Hierdurch kann der
umgelenkte Strahl 10' nach beiden Raumrichtungen verkippt werden. Die Schnittpunkte der Achsen a und b
sowie c und d liegen vorzugsweise in derjenigen Oberfläche des zugehörigen Spiegels 11 bzw. 12, an der
die Reflexion erfolgt Man kann den Spiegeln für die
beiden Komponenten des überlagerten Strahles 10, d. h. für die Wellenlänge des Leistungslasers und die des
Justierlasers, selektiv reflektierende Oberflächenbeschichtungen geben. Diese sitzen vorzugsweise auf
derselben, dem ankommenden Strahl zugewendeten Oberfläche der Spiegel. Es ist aber auch möglich, den
einen Belag auf der Vorderseite und den anderen auf der Rückseite der Spiegel anzubringen. Dadurch würde sich
z. B. eine Versetzung des an der Rückseite des Spiegels 11 reflektierten Justierlaserstrahles 6' gegenüber dem
an der Vorderseite reflektierten Strahlanteil ergeben, wobei diese Versetzung aber nach der erneuten
Reflexion am Spiegel 12 wieder verschwindet
Um feststellen zu können, wann durch Verschwenken der Spiegel 11 und 12 die zur optischen Achse des
Mikroskops exakt kollineare Lage der Laserstrahlen erreicht ist, kann man entweder am Ort der mit dem
Mikroskop zu beobachtenden Probe oder anstelle der Objektivoptik einen Spiegel 16 anbringen. Bei exakt
senkrechtem Auftreffen des Laserstrahles läuft dieser in sich selbst zurück, was^an jeder beliebigen Stelle des
Strahlenganges, z. B. auf einer zwischen Leistungslaser 7 und Strahlablenker 11, 12 angeordneten Blende 18
oder unter Verwendung geeigneter optischer Mittel z. B. Strahlteiler, an jeder beliebigen Stelle beobachte
werden kann.
Der Spiegel 11 kann so ausgebildet sein, daß er einer
geringen Teil des ankommenden Leistungslaserstrahl! 10 durchläßt, der dann mit einem Energiemonitor 22
ständig überwacht werden kann. Dieser befindet sich ir einem mit dem Gehäuse 1 fest verbundenen Gehäuse-
to Fortsatz 21.
Der Spiegel 12 ist bei selektiver Verspiegelung für Licht anderer Wellenlänge als die des Leistungslasers
und des Justierlasers durchlässig, so daß von einer Lichtquelle 23 ausgehendes Licht nach Durchtritt durch
eine Zwischenoptik 24, z. B. Köhlersche Beleuchtungsoptik, den umgelenkten Laserstrahl 10' überlagert und
zur Auflichtbeleuchtung des Gesichtsfeldes im Mikroskop verwendet werden kann.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (6)
1. Justiervorrichtung für eine Laseranordnung aus einem Leistungslaser und einem im sichtbaren
Bereich strahlenden Justierlaser, deren Strahlen einander kollinear überlagert sind, mit einem im
Weg mindestens eines dieser Strahlen angeordneten Strahlablenker, der mindestens zwei ebene Spiegelflächen
aufweist, die miteinander einen Winkel von 45° einschließen, dessen Winkelhalbierende von
dem Strahl unter 45° derart geschnitten wird, daß dieser insgesamt um 90° umgelenkt wird, insbesondere
für ein Laserbeschußmikroskop, dadurch
gekennzeichnet, daß die Spiegelflächen durch
einzelne ebene Spiegel (11, 12) dargestellt werden, die gemeinsam um zwei aufeinander senkrecht
stehende Achsen (a, b) drehbar sind, die sich annähernd in der Ebene des im Strahlenverlauf
ersten Spiegels (11) schneiden und von denen die eine Achse (a) parallel zur Winkelhalbierenden (13)
der Ebenen dieser beiden Spiegel (11, 12) und die
andere Achse (b) in der Ebene des ersten Spiegels (11) verläuft, und daß davon unabhängig der im
Strahlenverlauf zweite Spiegel (12) um zwei aufeinander senkrecht stehenden Achsen (c, d)
drehbar ist, die beide in der Ebene dieses zweiten Spiegels (12) verlaufen.
2. Justiereinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß von den an der Strahlenablenkung
und/oder Strahlenumlenkung beteiligten Spiegeln (11, 12) mindestens ein Teil eine für die
Wellenlänge des Leistungslasers (9) und zusätzlich eine für die Wellenlänge des Justierlasers (3) selektiv
reflektierende Reflexionsschicht trägt.
3. Justiervorrichtung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Spiegel (11)
für den Strahl des Leistungslasers (9) geringfügig durchlässig ist und daß in Verlängerung des auf ihn
treffenden Strahles (10) ein Strahlennachweisgerät (22) angeordnet ist
4. Justiervorrichtung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite Spiegel (12)
für außerhalb der Wellenlänge des Leistungslasers (9) liegendes Licht durchlässig ist und daß in
Verlängerung des von ihm reflektierten Strahles (10') eine Auflichtbeleuchtungsquelle für das Mikroskop
angeordnet ist
5. Justiervorrichtung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß am Ort des Mikroskopobjektivs
(15) ein auswechselbarer, zur Mikroskopachse senkrecht stehender Spiegel (16) mit
einer bezüglich der Mikroskopachse zentrierten, das Licht beugenden Figur (17), und im Weg des vom
Spiegel reflektierten Lichtes eine Blende (18) zur Beobachtung der Beugungsfigur angeordnet ist.
6. Justiervorrichtung nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Leistungslaser (9)
ein UV-Laser mit für Ultraviolett selektiv reflektierenden Resonatorspiegeln (8) ist und längs seiner
optischen Achse (10) vom Justierlaser (3) durchstrahlt ist
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2505774A DE2505774C3 (de) | 1975-02-12 | 1975-02-12 | Justiervorrichtung für eine Laseranordnung aus einem Leistungslaser und einem Justierlaser |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2505774A DE2505774C3 (de) | 1975-02-12 | 1975-02-12 | Justiervorrichtung für eine Laseranordnung aus einem Leistungslaser und einem Justierlaser |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2505774A1 DE2505774A1 (de) | 1976-08-19 |
DE2505774B2 true DE2505774B2 (de) | 1978-08-17 |
DE2505774C3 DE2505774C3 (de) | 1979-04-19 |
Family
ID=5938644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2505774A Expired DE2505774C3 (de) | 1975-02-12 | 1975-02-12 | Justiervorrichtung für eine Laseranordnung aus einem Leistungslaser und einem Justierlaser |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2505774C3 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1975
- 1975-02-12 DE DE2505774A patent/DE2505774C3/de not_active Expired
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0092090A1 (de) * | 1982-04-17 | 1983-10-26 | Firma Carl Zeiss | Optisches Justierelement |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2505774C3 (de) | 1979-04-19 |
DE2505774A1 (de) | 1976-08-19 |
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