DE2414846A1 - Verfahren zur reinigung einer xenon, radon und radonabkoemmlinge enthaltenden atmosphaere - Google Patents
Verfahren zur reinigung einer xenon, radon und radonabkoemmlinge enthaltenden atmosphaereInfo
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- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
Description
United States Atomic Energy Commission, Washington, D.C. 20545,
U.S.A.
Verfahren zur Reinigung einer Xenon, Radon und Radonabkömmlinge enthaltenden Atmosphäre.
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Reinigung einer Atmosphäre, die Xenon, Radon und Radontochterelemente
(Radonabkömmlinge) enthält, die sich in der Atmosphäre befinden können, wobei insbesondere die Trennung dieser Elemente
von Krypton vorgenommen werden soll.
Radon ist ein schweres,radioaktives,gasförmiges Element,
welches bei der Alphazerlegung von Radium entsteht. Das
222
üblichste Isotop Rn ist ein Alphaemitter mit einer Halbwertszeit von 3,8 Tagen. Radon tritt von Natur aus zusammen
mit Radium in Uranerzen auf und bildet zusammen mit seinen
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kurzlebigen radioaktiven Abkömmlingen oder Töchtern Po,
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Pb, Bi und Po eine Gefahrenquelle im Uranbergbau und
bei der Bearbeitung der Erze. Die Abkömmlinge sind feste Stoffe und werden in den Lungen festgehalten, wo sie schließlich Krebs
hervorrufen können.
Im allgemeinen verwendet man eine Zwangslüftung,·um die Konzentrationen
der radioaktiven Elemente in der Atmosphäre einer Urangrube niedrig zu halten, wobei es aber häufig schwierig ist, die
Konzentrationen in angemessener Weise in sämtlichen Teilen der Grube durch dieses Verfahren abzusenken, da das gasförmige Radon
kontinuierlich aus den freigelegten Adern von Uranerz und aus den Haufen von bereits gelöstem Erz austritt.
Es wurden bereits verschiedene Verfahren entwickelt, um Radon und seine Abkömmlinge aus der Atmosphäre zu entfernen, und zwar
durch Inberührungbringen der Atmosphäre mit verschiedenen Chemikalien, die mit den Elementen reagieren und sie aus der
Atmosphäre entfernen.
Eines dieser Verfahren verwendet eine Fluorierungslösung, um das Radon und die Tochterelemente zu Fluoridverbindungen zu
oxydieren, die sich sodann in der Lösung auflösen. Die flüssige Fluorierung hat jedoch einige Probleme zur Folge. Die Flüssigkeiten
sind äußerst korrosiv und in einigen Fällen haben sie hohe Dampfdrücke. Es ist daher eine korrosxonsbeständxge Einrichtung
erforderlich, um große Luftvolumina mit der flüssigen Phase in Berührung zu bringen. Zusätzliche Einrichtungen sind
ferner erforderlich, um die Atmosphäre weiter zu reinigen (beispielsweise, um gefährliche Dämpfe zu entfernen, die von
der Fluorierungslösung aufgenommen wurden),bevor die Atmosphäre wieder in den Kreislaufgebracht werden kann. Bei einem anderen
Verfahren wird die das Radon und die Radontochtereleraente enthaltende
Atmosphäre durch eine feste Reaktionslage aus einer Fluorierungsverbindung geleitet, wie dies in der US Anmeldung
Serial No. 179,229, vom 9. September 1971 in den U.S.A. beschrieben ist. Mit diesem Verfahren werden die Elemente durch
die Fluorierungsverbindung zu ihren entsprechenden Fluoriden
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oxydiert und verbleiben in der Reaktionslage; sie werden somit
aus der Atmosphäre entfernt, die daraufhin wieder in den Kreislauf zurückgebracht werden kann. Die Fluorierungsverbindungen
gemäß dieser Anmeldung sind komplexe Fluoride, die durch Reaktion von Halogenfluoriden und Metallfluoriden, wie beispielsweise
ClF2SbFg, BrF3SbF6, BrF4SbF^1, IF4SbF6 und Br2BiF5, gebildet
werden. Ein Problem bei der Verwendung fester Reaktionsverbindungen besteht darin, daß sie Halogenfluoriddämpfe als Reduktionsprodukte bei ihren Reaktionen mit Radon freisetzen. Diese müssen
aus der radonfreien Atmosphäre entfernt werden, bevor diese wieder in den Kreislauf gebracht wird. Dieser Entfernungsvorgang
macht zusätzliche Ausrüstungen erforderlich und erhöht die Gesamtkosten für die Entfernung von Radon und Radontochterelementen aus
der Atmosphäre.
In den Atmosphären von Kernreaktorleistungsanlagen und Kernreaktorbrennstoffwiederaufbereitungsanlagen
werden radioaktive Edelgase ebenfalls gefunden. Diese Gase bestehen im allgemeinen aus einer
Anzahl Isotopen des Kryptons und Xenons und ihre Halbwertszeit liegt zwischen Sekunden und Jahren. Viele der Krypton- und Xenon-Isotope
mit kurzen Halbwertszeiten besitzen radioaktive Tochterelemente, die relativ lange Halbwertszeiten besitzen. In einem
Siedewasserreaktor werden die Spaltgase, die in das Wasser des Reaktors entweder infolge/Dxffusion durch die Brennstoffbeschichtung
oder durch Brüche in der Beschichtung eingetreten sind, am Ausgang des Turbinenkondensators freigesetzt. Diese Gase werden
normalerweise nach einer kurzen Verzögerungszeit an die Atmosphäre abgegeben. Bei dem unter Druck stehenden Wasserreaktor werden
die Gase in der Kühlschleife entfernt und monatelang aufbewahrt, um die kurzlebigen Gase durch radioaktiven Zerfall zu eliminieren.
In jedem Fall hängt die Menge des schließlich an die Atmosphäre abgebenen Spaltgases vom Zustand des Reaktorbrennstoffs
ab und die Emissionen könnten dann stark ansteigen, wenn ein Unfall, wie beispielsweise das Schmelzen des Brennstoffs, stattfände.
Emissionen von mit flüssigem Metall gekühlten Reaktoren, Brüterreaktoren und Hochtemperatur-gasgekühlten-Reaktoren kommen
aus der gleichen allgemeinen Quelle, ändern sich aber hinsichtlich
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ihrer Natur und Menge gegenüber denjenigen Emissionen, die aus Leichtwasserreaktoren austreten.
Fabriken für flüssige Luft sind industrielle Quellen von nicht aus Spaltung erzeugtem Krypton und Xenon. Luft enthält nur 1,14
ppm Krypton und 0,087 ppm Xenon. Die Kosten bei der Herstellung von Edelgasen in Fabriken für flüssige Luft sind daher hoch und
die Versorgung insbesondere mit Xenon ist begrenzt. Es wurden verschiedene Verfahren entwickelt, um die gasförmigen Reaktorabfallstoffe
zu behandeln und die als Spaltprodukt auftretenden Edelgase wiederzugewinnen. In einer Anzahl von Anwendungsfällen wurden feste
Adsorptionslagen zur Entfernung der radioaktiven Edelgase aus verdünnten
Gasströmen bei Raumtemperatur verwendet. Diese Adsorptionslagen können entweder Holzkohle oder Molekularsiebe sein. Die
Vorteile des bei Raumtemperatur vorgenommenen Adsorptionsverfahrens bestehen darin, daß der Betrieb einfach ist und sehr verdünntes
Speisematerial verwendbar ist. Die Nachteile sind das große Volumen des erforderlichen Adsorptionsmittels und die mögliche
Feuergefahr bei Verwendung von Holzkohle. Ein bei niedriger Temperatur arbeitendes Holzkohlenverfahren kann auch für die
Wiedergewinnung von Edelgas benutzt werden. Es hat den Nachteil hoher Betriebskosten, erfordert eine Vorbehandlung des den Lagen
zugeführten Einlaßgases, und macht auch umfängliche Produktionsanlagen für flüssigen Stickstoff erforderlich, sowie einen stetigen
Fluß und eine konstante Zusammensetzung des ankommenden Speisegases. Bei niedriger Temperatur arbeitende Adsorptionslagen
sind ähnlich den Raumtemperaturlagen aber viel kleiner, da die Edelgaskapazität der Adsorptionsmittel beträchtlich dann ansteigt,
wenn die Temperatur der Lage sich derjenigen des flüssigen Stickstoffs
nähert. Halogen-Kohlenwasserstofflösungsmittel, wie beispielsweise Freon, wurden auch zur selektiven Adsorption von
Krypton und Xenon benutzt. Dieses Verfahren verwendet die hohe Löslichkeit von Krypton und Xenon in dem Lösungsmittel. In
einem kontinuierlichen Adsorptionsprozess werden Krypton und Xenon vorzugsweise aus einem ankommenden Gasstrom entfernt, und
zwar durch selektive Auflösung in einem Freonlösungsmittel bei einer relativ niedrigen Temperatur und hohem Druck.
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Die Wiedergewinnung von Xenon und Krypton durch Behandlung gasförmiger
radioaktiver Abfallstoffe mit Fluor ist in dem folgenden Artikel beschrieben: "Recovery of Xenon and Krypton in the
Treatment of Gaseous Radioactive Wastes"von J. Slivnik in "Proceedings of Symposium on Treatment of Airborne Radioactive
Wastes", Int. At. Energ. Agency, Wien, 1968, Seiten 315-321. In dieser Untersuchung wurde ein Versuch gemacht, Xenon und
Krypton mit Fluor bei hohen Drücken und erhöhten Temperaturen zu reagieren. Es wurde festgestellt, daß Xenon mit dem Fluor reagier t,,
während dies für Krypton nicht der Fall ist, was die Trennung von Xenon gegenüber Krypton gestattete. Allerdings ist Fluor kein für
diesen Zweck angenehmes. Reaktionsmittel, da es mit dem Reaktionsgas zusammen erwärmt werden muß, wobei das überschüssige Fluor
sodann zu entfernen ist.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß zur Reinigung einer Atmosphäre von Xenon, Radon und Radonabkömmlingen
(Radontochterelementen) die diese Elemente enthaltende Atmosphäre durch eine Reaktionslage von O0SbF,. geleitet wird, wodurch
Xenon, Radon und die Radontochterelemente in ihre entsprechenden
Fluoride oxydiert werden, die in der Lage verbleiben und auf diese Weise von der Atmosphäre getrennt werden, die sodann in gereinigtem
Zustand wieder in den Kreislauf gegeben wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist auch zur Trennung von Xenon gegenüber Krypton geeignet, wobei man die diese Elemente enthaltende
Atmosphäre durch eine Reaktionslage von O„SbF,, leitet, wo-
durch das Xenon zu XeFSb-F oxydiert wird und in der Reaktionslage verbleibt, während das Krypton durch die Lage hindurchläuft.
Ein besonderer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens gegenüber den bekannten Reinigungsverfahren einer Atmosphäre besteht darin,
daß die gemäß der Erfindung vorgesehene Verbindung einen hinreichend niedrigen Dampfdruck besitzt, so daß eine weitere Reinigung
der Atmosphäre nicht mehr erforderlich ist, bevor diese wieder in den Kreislauf gegeben wird. Zudem hat die Reaktion des
Edelgases mit "der Verbindung die Freigabe von Sauerstoff an Stelle
von Halogenfluorid zur Folge, was wiederum die Notwendigkeit zu-
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sätzlicher atmosphärischer Reinigungen unnötig macht, bevor die Atmosphäre wieder in den Kreislauf gegeben wird.
Die vorliegende Erfindung bezweckt also ein Verfahren zur Reinigung·
einer Atmosphäre von Radon und Radontochterelementen anzugeben. Ferner bezweckt die Erfindung, ein Verfahren zur Reinigung
einer Atmosphäre von Xenon, Radon und Radontochterelementen anzugeben.
Wie bemerkt, sieht die Erfindung zur Reinigung einer Atmosphäre von Xenon, Radon und Radontochterelementen vor, daß die Atmosphäre
durch eine Reaktionslage aus einem Material geleitet wird, welches einen niedrigen Dampfdruck besitzt, wodurch zusätzliche
atmosphärische Reinigungen unnötig gemacht werden. Die Erfindung bezweckt dabei insbesondere, ein Verfahren zur Reinigung einer
Atmosphäre von Xenon, Radon und Radontochterelementen anzugeben,
wo das Reaktionsprodukt dieser Elemente mit dem Oxydiermittel Sauerstoff ist. Schließlich bezweckt die Erfindung auch,ein Verfahren
zur Trennung von Xenon und Krypton anzugeben.
Im folgenden sollen nun bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung
beschrieben werden. Zur Erreichung der obengenannten Ziele sieht die Erfindung vor, daß eine Xenon, Radon und Radonabkömmlinge
sowie Krypton enthaltende Atmosphäre durch eine Reaktionslage geleitet wird, wobei die Reaktionslage aus
Dioxygenylhexafluoroantimonat (O„SbF,) besteht, und wobei das
Xenon, Radon und die Radonabkömmlinge mit dem 0^SbF6 reagieren,
um nicht flüchtige Fluorverbindungen zu bilden, die in der Reaktionslage verbleiben, während das Krypton durch die Lage
hindurchtritt, worauf dann die von Xenon, Radon und den Radonabkömmlingen
gereinigte Atmosphäre wieder in den Kreislauf gegeben wird.
Die Herstellung von Dioxygenylhexafluoroantimonat (O„SbF6) ist
im einzelnen in " Photochemical Synthesis of Dioxygenyl Salts" von Shamir und Binenboym in Inorganica Chimica Acta, 2, 37,
März 1968, beschrieben. Das durch die fotochemische Reaktion von
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Sauerstoff, Fluor und Antimonpentafluorid erhaltene Erzeugnis ist
ein weißes kristallines Pulver.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist bei Temperaturen von ungefähr
O0C bis ungefähr 125°C anwendbar, wobei sich OnSbF.. oberhalb
125 C zu zersetzen beginnt. .Bei diesen Temperaturen reagieren Xenon, Radon und die Radonabkömmlinge unmittelbar mit der Hexafluoroantimonatverbindung.
Bei485 bis 7oo mm Druck wurde von 23 bis 150° C keine Reaktion des Kryptons beobachtet.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird die zu reinigende Atmosphäre
durch eine Reaktionslage aus O^SbF, in Pulverform geleitet,
so daß jegliches Xenon, Radon und Radonabkömmlinge in der Atmosphäre mit der Lage in Berührung kommen und dadurch oxydiert wer-'
den, und zwar in ihre entsprechenden Fluorverbindungen, die in der Lage verbleiben und somit aus der Atmosphäre entfernt werden.
Wenn Xenon von Krypton getrennt werden soll, so wird die diese Elemente enthaltende Atmosphäre durch die Lage geleitet, wodurch
das Xenon in seine entsprechende Fluorverbindung oxydiert wird und in der Lage verbleibt, während die das Krypton enthaltende und
nun von Xenon gereinigte Atmosphäre durch die Lage hindurchtritt.
Das oxydierte Xenon und Radon können in einfacher Weise aus der Reaktionslage wiedergewonnen und von den Radonabkömmlingen getrennt
werden, und zwar durch Hydrolisierung der Reaktionslage, welche die Edelgasverbindungen enthält. Die Reaktionslage wird
auf diese Weise reduziert und aufgelöst, wie auch die Radontochterelementfluor
ide, während das Xenon und Radon als Gase freigegeben werden, die in einfacher Weise aufgefangen werden können.
Wenn die Atmosphäre, aus der Xenon, Radon und die Radontochterelemente
entfernt werden sollen, irgendwelche Feuchtigkeit enthält, so ist es erforderlich, die Atmosphäre zu trocknen, bevor
sie mit der Reaktionslage in Berührung gebracht wird, da Wasserdampf das Dioxygenylhexafluoroantimonat zersetzt und die radioaktiven
Edelgase freigibt. Dieser Trocknungsschritt kann dadurch vorgenommen werden, daß man die trockene Atmosphäre durch ein
Trocknungsmittel, wie beispielsweise anhydriertes Kalziumsulfat,
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Magnesiumperchlorat oder Kieselgel, leitet oder indem man die
Luft durch Kühlschlangen führt, um das Wasser durch Kondensation zu entfernen.
Raman-Spektralstudien haben gezeigt, daß das Xenon-Produkt
XeF Sb-F11 ein 1:2 Xenondifluorid-Antimonpentafluorid-Komplex
ist. Wenn Xenon graduell dem O0SbF hinzugefügt wird, so erscheint
im Spektrum bei 618 cm eine neue Bande (charakteristisch
für die Xenon-Fluor-Streckschwingung des XeF -Kations). Es treten auch Verschiebungen in den SbF^ -Schwingungsfrequenzen
auf. Das endgültige Spektrum enthält ausgeprägte Banden bei 618,
-1
655 und 686 cm
655 und 686 cm
Massenspektrometrxsche Analysen der Restgase in Versuchen mit Krypton-Xenon-Mischungen zeigten, daß zwei Moleküle von Sauerstoff
für jedes absorbierte Xenon-Atom freigesetzt werden:
Xe(g) + 2O0 +SbF ~(s) XeF+Sb0F11 -(S) + 20o(g)
Es wurden keine Spektral- oder Analyse-Daten für die Spurenmengen des Radonerzeugnisses ermittelt (es sind keine stabilen Isotope
222
des Radons bekannt und das Rn-Produkt ist intensiv radioaktiv), aber Radon bildet wahrscheinlich einen analogen 1:2 Radondifluorid-Antimonpentafluorid-Komplex wie folgt:
des Radons bekannt und das Rn-Produkt ist intensiv radioaktiv), aber Radon bildet wahrscheinlich einen analogen 1:2 Radondifluorid-Antimonpentafluorid-Komplex wie folgt:
Rn (g) + 2O2 +SbFg~(s) RnF+Sb3F11 -(S) + 2O2(g)
Die folgenden Beispiele veranschaulichen die Erfindung und sollen nicht als Begrenzung für den Erfindungsbereich aufgefaßt werden.
Es wurden Strömungsexperimente mit O0SbF -Pulver und Luftproben
(0,33 bis 0,76 1 bei Standardtemperatur und -druck) ausgeführt,
222 133 wobei diese Proben künstlich mit Rn und Xe verunreinigt
waren. In jedem Versuch wurde eine Radon-Luft-Mischung oder eine Xenon-Luft-Mischung durch ein U-Glasrohr geleitet, welches mit
Pulver vollgepackt war, worauf dann die Mischung durch eine mit
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"~ 9 —
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flüssigem Stickstoff gekühlte Falle geleitet wurde, um jegliches nicht reagiertes Radioisotop (Kondensieren) aufzufangen. Sodann
wurde die Radioisotopverteilung durch Messung der Gamma-Emission
wurde die Radioisotopverteilung durch Messung der Gamma-Emission
des U-Rohrs und der Kältefalle bestimmt. (Die Verteilung von
222
wurde unmittelbar bestimmt; die Verteilung von Rn wurde nach
222
3 Stunden bestimmt, wenn Rn und seine f -emittierenden Töchter
214 214
Pb und Bi im radioaktiven Gleichgewicht waren.) In drei
Versuchen mit dem Radonisotop und mit einer 5 cm langen und
6,3 mm Durchmesser aufweisenden Lage aus Pulver wurde sämtliches Radon absorbiert. In 5 Experimenten mit dem Xenonisotop und mit einer 6,5 cm langen und 5,5 mm Durchmesser aufweisenden Pulverlage wurden 67 bis 100% Xenon absorbiert. Die Ergebnisse sind in der unten stehenden Tabelle angegeben.
6,3 mm Durchmesser aufweisenden Lage aus Pulver wurde sämtliches Radon absorbiert. In 5 Experimenten mit dem Xenonisotop und mit einer 6,5 cm langen und 5,5 mm Durchmesser aufweisenden Pulverlage wurden 67 bis 100% Xenon absorbiert. Die Ergebnisse sind in der unten stehenden Tabelle angegeben.
Entfernung von Radon und Xenon aus Luft
mit O2SbF ; Umgebungstemp. 23-25°
mit O2SbF ; Umgebungstemp. 23-25°
Radioisotope | Konzentration in Luft (mci/1) |
durchschnittl. Strömungsge schwindigkeit (ml /min) |
Menge des entfernten Radioisotops (%) |
222„ Rn |
13 | 12 | 100 |
Il | 15 | 15 | 100 |
Il 133Xe |
24 9,8 |
12 15 |
100 67++ |
Il | 7,9 | 13 | 100 |
Il | 2,0 | 14 | 100 |
Il | 3,2 | 13 | 98 |
Il | 4,3 | 14 | 100 |
Die Strömungsgeschwindigkeit war bei Beginn des Versuchs schlecht gesteuert.
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Äquimolare Mischungen von Krypton und Xenon wurden teilweise
voneinander getrennt, und zwar beim Durchgang durch U-Rohre, die mit O2SbF gepackt waren. Die Mischungen wurden durch 5,8 bis
6 cm lange und 5,5 mm Durchmesser aufweisende Lagen der Verbindung geleitet, und zwar bei 23 bis 25 und bei Gesamtdrücken von
20 bis 160 mm. Die aus den Lagen austretenden Gase wurden gesammelt
und massenspektroskopisch analysiert. Die ersten Proben hatten die folgenden Zusammensetzungsbereiche: 45,5 bis 49,6% 0„,
12,7 bis 16,2% Xe und 37,7 bis 38,3% Kr. Die Prozentzahlen des Sauerstoffs fielen und die Prozentzahlen des Kryptons und Xenons
stiegen an bei darauffolgenden Gasproben, wenn das O0SbF, verarmte.
(Die Farbänderung des Pulvers von weiß zu gelb konnte zur Anzeige des Verarmungsgrades benutzt werden, da eine scharfe
Zwischenschicht zwischen den gefärbten Zonen auftrat.) Jedesmal dann, wenn Gas eingelassen wurde, konnte eine blaugrüne
Fluoreszenz in dem O0SbF^ festgestellt werden. Die Quelle dieser
Z D
Emission ist gegenwärtig nicht bekannt, aber es ist wahrscheinlich,
daß eine erregte Xenon-, Sauerstoff- oder Ozonart bei der Reaktion gebildet wird.
Eine vollständigere Trennung von Krypton und Xenon wurde durch Schütteln äquimolarer Gasmischungen mit O2SbFfi-Pulver in Pyrexkolben
erreicht, die Rührflügel besaßen. Die Mischungen wurden von Hand bei Zimmertemperatur mit Unterbrechungen geschüttelt, und
zwar über Zeitperioden von 3 bis 24 Stunden hinweg, wobei überschußmengen
des Pulvers vorhanden waren. Die Restgase wurden sodann massenspektrometrisch analysiert. Die sich ergebenden Endgasmengen
enthielten weniger als 2% Xenon.
Man erkennt, daß das erfindungsgemäße Verfahren bei der Entfernung
von Xenon, Radon und Radontochterelementen aus einer mit diesen radioaktiven Edelgasen verunreinigten Atmosphäre äußerst
wirkungsvoll ist und ebenfalls auch für die Trennung dieser Gase von Krypton.
An Stelle des Ausdrucks "Lage" sollte der Ausdruck "Bett" verwendet werden.
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Claims (4)
- PATENTANSPRÜCHE1J Verfahren zur Reinigung einer Atmosphäre von Xenon, Radon und Radontochterelementen, dadurch gekennzeichnet, daß man die .das Xenon, Radon und die Radontochterelemente enthaltende Atmosphäre durch eine Reaktionslage von O^SbF,. leitet, wobei Xenon, Radon und die Radontochterelemente zu den entsprechenden Fluoriden oxydiert werden,die in der Lage verbleiben, und auf diese Weise von der Atmosphäre getrennt werden, die sodann in gereinigtem Zustand wieder in den Kreislauf gegeben wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur im Bereich von 0 bis ungefähr 125°C liegt.
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, gekennzeichnet dadurch, daß man die das Xenon, Radon und die Radontochterelemente enthaltende Atmosphäre vor dem Einleiten in die Reaktionslage trocknet.
- 4. Verfahren, insbesondere nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, zum Trennen von Xenon von Krypton, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Xenon und Krypton enthaltende Atmosphäre durch eine Reaktionslage aus O0SbF,- leitet, wodurch Xenon zu XeFSb3F1.. oxydiert wird und in der Lage verbleibt, während das Krypton durch die Lage hindurchtritt, worauf die Lage mit Wasser in Berührung gebracht wird, wodurch die Lage hydrolisiert und das Xenon freigesetzt wird, welches sodann aufgesammelt wird.409841 /0799
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