DE2224081A1 - Vorrichtung zur Durchführung von HF-Bearbeitungsvorgängen - Google Patents

Vorrichtung zur Durchführung von HF-Bearbeitungsvorgängen

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DE2224081A1 DE19722224081 DE2224081A DE2224081A1 DE 2224081 A1 DE2224081 A1 DE 2224081A1 DE 19722224081 DE19722224081 DE 19722224081 DE 2224081 A DE2224081 A DE 2224081A DE 2224081 A1 DE2224081 A1 DE 2224081A1
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Description

Dipi.-Ing, Heinz Barclehle 2224081
Patentanwalt
D-8 Mönchen 26, Postfadi 4
Telefon 0611/ 29 25 55
München, den
17. Mai 1972
Mein Zeichenj P 1429
Anmelders USM Corporation
Plemington/New Jersey
Zustelladresse:
Balch Street
Beverly/Mass. ol915
USA
Vorrichtung zur Durchführung von HF-Bearbeitungsvorgängen
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Durchführung von HF-Bearbeitungsvorgängen an Werkstücken aus einem Material mit hohem dielektrischem Verlust, bestehend aus einer DruökbeaufSchlagungsvorrichtung mit zwei Platten, zwischen denen ein zu bearbeitendes Werkstück angeordnet werden kann und von denen eine relativ zur anderen beweglich ist, um das so angeordnete Werkstück mit Druck zu beaufschlagen, und einer HF-Energiequelle mit einem Resonanzhohlraum, um ein elektrisches HF-Feld zwischen den Platten zu erzeugen, das auf das mit Druck beaufschlagte Werkstück einwirkt.
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Unter dem Auedruck "HF-Bearbeitungsvorgänge" aind Schweissvorgänge* dih. Vorgänge» bei denen zwei Teile aus schweissbarem Material, z.B. thermoplastischem Material oder zwei Teile aus nicht schweissbarem Material mit einer durch wärmeaktivierbaren Klebstoffschicht zwischen diesen durch die Anwendung von Wärme und Druck verbunden werden, und auch Prägevorgänge zu verstehen, d.h» Vorgänge, bei denen die Oberfläche eines Werkstücks aus thermoplastischem Material ein gewünschtes Muster uhd/oder ein gewünschtes Aussehen mittels ejLner Prägeplatte unter Anwendung von Wärme und Druck erhalten soll, wobei die Wärme durch die Erzeugung eines elektrischen HF-Feldes zugeführt wird» Vorrichtungen zur Durchführung derartiger Schweiss» und Prägevor* gänge werden allgemein als HF^Schweisavorricfttungen be* zeichnetf
Ea sind Schweissvqrrichtungen bekanni?, 4
Presse mit zwei Platen* von denen eine relativ z]X der andere?! beweglich ist, und einen HF-Generator aufweisen^ der an die Platten angeschlossen ist, die auch aj.s Elektroden der Presse dienen^ Die Presse und der Generator können als gesonderte Einrichtungen ausgebildet sein* Bines der Probleme bei einer Schweissvorrichtung dieser Art besteht darin, dass der HF-Generator auf 4i· Presse Abgestimmt werden muss, mit der er zusammenwirkt« Di· Abstimmung des HF-Generators wird ausserdem durch die Art des zu bearbeitenden Werkstücks beeinflusst* Es ist daher notwendig, das Generatorausgangssignal jedesmal neu abzustimmen, wenn sich die Art des zu bearbeitenden Werkstücks ändert« Ein weiterer Nachteil d^r üblichen Schweissvorrichtunjcen besteht darin, dass in den meisten Ländern genaue Vorschriften
BAD ORIGINAL
209850/0778
eingeführt wurden oder in, der Vorbereitung sind, um den Betrieb von HF-Generatoren zu kontrollieren und Störungen z.B, des Funkverkehrs auf einem Minimum zu halten»
Die Vorschriften erfordern entweder, dass die Störstrahlung in sehr engen Grenzen gehalten wird oder dass die Strahlung eine bestimmte Frequenz mit sehr geringen Toleranzen haben muss. Die Störstrahlung auf die vorgeschriebenen Grenzen zu beschränken, ist schwierig und kann zu erheblichen Kosten führen. Die Beschränkung auf eine bestimmte Frequenz kann ebenfalls beschwerlich sein und zu der Notwendigkeit weiterer Einrichtungen führen, z.B. Lichtbogenunterdrückungseinrichtungen. Dadurch können die Kosten der Vorrichtung erheblich erhöht werden und ausserdem wird der Wirkungsgrad der Vorrichtung hierdurch oft vermindert.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Nachteile der Vorrichtungen, die oben erläutert wurden, zu beseitigen. Gelöst wird diese Aufgabe gemäss der Erfindung dadurch, dass die Platten in dem Resonanzhohlraum eingeschlossen sind, wenn die Vorrichtung einen HF-Bearbeitungsvorgang an einem Werkstück durchführt» Durch das Einschliessen der Platten in dem Resonanzhohlraum wird die Störstrahlung der HF-Energie auf ein Minimum reduziert, wenn nicht völlig beseitigt, Ausserdem bilden die Platten und der Hohlraum zusammen eine Induktivitäts-Kapazitäts-Anordnung, so dass die individuelle Abstimmung des Generators auf jedes Werkstück beseitigt wird,
20985Q/0778 ι
Um einen Zugang zu den in dem Resonanzhohlrauin eingeschlossenen Platten zu schaffen, besteht der Hohlraum zweckmässigerweise aus zwei Teilen, von denen einer je einer Platte zugeordnet ist und von denen einer relativ zum anderen beweglich ist. Bei der Vorrichtung gemäss der Erfindung bewirkt zweckmässigerweise die Bewegung der beweglichen Platte gegen die andere Platte auch, dass ein Hohlraumteil sich gegen den anderen bewegt, so dass der Hohlraum vor der Erzeugung eines elektrischen HF-Feldes geschlossen wird« Im Betrieb werden die Hohlraumteile und die Platten voneinander wegbewegt, damit ein zu bearbeitendes Werkstück zwischen den Platten angeordnet werden kann. Danach werden die Platten und die Hohlraumteile geschlossen, so dass der Hohlraum geschlossen und das zwischen den Platten angeordnete zu bearbeitende Werkstück mit Druck beaufschlagt wird. Vorzugsweise wird ein Hohlraum von einer Halterung getragen, die eine Kolbenstange aufweist, die einer druckmittelbetätigten Einrichtung für die bewegliche Platte zugeordnet ist, und der andere Hohlraumteil wird von einer Halterung für die andere Platte getragen. Vorzugsweise besteht die Halterung für die andere Platte aus einem lasttragenden Teil, das an dem Gestell der Vorrichtung befestigt ist und die andere Platte trägt. Das lasttragende Teil ist so angeordnet, dass es sich längs eines rohrförmigen Kanals, der in der Mitte des Hohlraums von Wänden des Hohlraums gebildet wird, erstreckt. Auf diese Weise ist das lasttragende Teil gegen eine Strahlung der HF-Energie abgeschirmt. Zusätzlich zu dem lasttragenden Teil oder als Alternative hierzu kann die Halterung für die andere Platte aus einem elektrisch nichtleitendem Material, z.B. einem Keramikmaterial, bestehen und sich durch den Hohlraum
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durch dicht sitzende Öffnungen in Wänden des Hohlraums erstrecken. Vorzugsweise besteht die Halterung aus mehreren Stützen, die am Umfang der anderen Platte angeordnet sind.
Um eine wirksame elektrische "Dichtung" an der Verbindung zwischen den beiden Hohlraumteilen sicherzustellen, können Kontakte mit jedem Hohlraumteil elektrisch verbunden werden. Die Anordnung ist derart, dass die Bewegung der beweglichen Platte den Kontakt des der beweglichen Platte zugeordneten Hohli-aumteils mit dem anderen Kontakt in Berührung bringt und dadurch den Hohlraum schliesst. Zweckmässigerweise ist der der beweglichen Platte zugeordnete Kontakt relativ zu der Platte und dem zugeordneten Hohlraumteil verschiebbar, wobei Federn vorgesehen sind,um diesen Kontakt gegen den anderen zu drücken. Zusätzliche Federfinger können zwischen den Kontakten angeordnet werden, die aus elektrisch leitendem Material bestehen.
Die Vorrichtung gemäss der Erfindung schafft eine lasttragende Anordnung, die aus zwei Platten besteht und die auch den Resonanzhohlraum für die Zuführung von HF-Energie zu einem zwischen den Platten angeordneten Werkstück trägt.
Um der Vorrichtung Energie zuzuführen, ist zweckmässigerweise eine Wand des Hohlraums an einen Eingang angeschlossen, mittels dem dem Hohlraum Energie zugeführt werden kann, wobei die Aussenseite des Hohlraums geerdet ist* Der Eingang ist an die Wand über einen Kondensator angeordnet, der sich zweckmässigerweise in dem Hohlraum befindet. Zusätzlich ist eine
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Rückkopplungsspule ebenfalls in dem Hohlraum angeordnet und mit der Energiequelle verbunden, von der dein Hohlraum Energie zugeführt wird.
Um bestimmte HF-Bearbeitungsvorgänge an Werkstücken durchzuführen, muss ein erwärmtes Werkzeug verwendet werden· Zu
diesem Zweck kann wenigstens eine der Platte mit üblichen
Heizelementen versehen sein, so dass die Platte auf einer
gewünschten Temperatur gehalten werden kann. Zweckmässigerweise ist die erhitzte Platte diejenige, von der das Werkzeug beim Betrieb der Vorrichtung getragen wird. Vorzugsweise befindet sich ausserdem die erhitzte Platte an der
"neutralen" Seite der Plattenanordnung, d.h. an der von dem Energieeingang entfernten Platte.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachstehend anhand der Figuren 1 bis 3 erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 eine perspektivische Darstellung der Vorrichtung gemäss der Erfindung,
Fig. 2 einen Vertikalschnitt der Vorrichtung der Fig. 1,
und
Fig. 3 einen Teil einer Halterung einer Platte der Vorrichtung·
Fig. 1 und 2 zeigen eine Vorrichtung zur Durchführung von HF-bearbeitungsvorgängen an Werkstücken aus Material mit hohem dielektrischem Verlust. Die Vorrichtung weist einen Resonanzhohlraum 10 auf, der an seinen inneren Oberflächen elekbiiscb
BAD ORIGINAL
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leitend ist. Der Hohlraum hat eine Öffnung 12, um, wenn die Vorrichtung im Ruhezustand ist, einen Zugang in den Hohlraum für die zu bearbeitenden Werkstücke 14 zu schaffen. Die Vorrichtung weist auch eine untere Platte 16 (Fig. Z) auf, die in dem Hohlraum auf einer Tragvorrichtung 18 angeordnet ist, sowie eine obere Platte 20, die relativ zu der ersten Platte 16 in der Höhe verstellbar ist, um in dem Hohlraum ein Werkstück zwischen den Platten zu pressen. Die Platten 1-6, 20 sind somit in dem Hohlraum 10 eingeschlossen.
Der Hohlraum weist zwei Teile 22, 23 auf, die relativ zueinander bewegbar sind, um, wenn die Vorrichtung im Ruhezustand ist, die Öffnung 12 zu bilden. Das Teil 20 ist ein zusammengesetzter Deckel, der, wenn die Plattenan einem Werkstück angreifen und es pressen, die Hohlraumöffnung 12 schliesstr, um ein elektrisches Feld in dem Hohlraum zu halten» Das elektrische Feld wird dem Hohlraum über einen Eingang Zk- von einer nicht gezeigten Energiequelle zugeführt, die direkt mit <3sm Hohlraum gekoppelt ist. Die untere Platte 16 ist mit dem Hohlraum elektrisch verbunden und die obere Platte 20 ist ebenfalls mit dem Hohlraum über den zusammengesetzten Deckel 20 elektrisch verbunden, um das elektrische Feld in dem Hohlraum auf das Werkstück 14 einwirken zu lassen, so dass das Werkstück erhitzt wird. Wenn ausserdem ein HF-Prägevor^ang an dem Werkstück durchzuführen ist, wird eine Prägeplatte 25 an der oberen Platte 20 befestigt, die das erhitzte Werkstück prägt, wenn die Platten mit Druck beaufschlagt werden.
BAD OBlGINAL
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Der Hohlraumteil 23 hat einen schachtelartigen Aufbau mit Seitenwänden 40 und einem Boden 42, die aus einem elektrisch leitenden Material, z.B. Kupfer, bestehen, sowie innere Seitenwände 44, die von dem zentralen Teil des Bodens 42 ausgehen und eine zentrale Stützachse 46 umsehliessen, die einen Teil der Tragvorrichtung 18 bildet und von der die untere Platte 16 getragen wird. Die Wände 44 schirmen die Stützachse 46 gegen das elektrische Feld in dem Hohlraum ab. Stützwände 48 verbinden das obere Ende der Wände 44 mit dem Umfang der unteren Platte i6.Die Platte 16 trägt so den gesamten Hohlraum 23, der mit keinem anderen Teil der Vorrichtung tragend verbunden ist, so dass der Hohlraum von dem restliehen Teil der Vorrichtung isoliert ist und das elektrische Feld einschliesst. Das eingeschlossene elektrische Feld strahlt nicht wesentlich in den benachbarten Raum der Vorrichtung, da der Hohlraum völlig geschlossen ist.
Die Tragvorrichtung 18 weist zusätzlich zu der Stützachse 46 weitere Stützen 50 auf, die sich durch dicht sitzende Öffnungen 51 (Fig. 3) in dem Boden 42 und den Stützwänden 48 erstrecken, um die untere Platte 16 an ihrem Umfang zu tragen. Obwohl beabsichtigt ist, dass die Stützachse 46 in der Vorrichtung den Hauptanteil der unteren Platte i6 trägt, verhindern die Stützen 5ö eine Verformung der Platte nahe ihrem Umfang, Es ist auch möglich, die Stützachse 46 und die Stützen 50 gesondert oder in einer anderen Kombination zu verwenden«
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Die Stützachse 46 kann aus irgendeinem für ihre Tragfestigkeit ausgewählten Material hergestellt sein, da die umgebenden Wände 44, 48 des Hohlraums die Stützachse gegen das elektrische Feld in dem Hohlraum abschirmen, so dass die Stützachse keinen Teil des elektrischen Feldes von dem Hohlraum zu dem umgebenden Raum der Vorrichtung leitet. Die Stützen 50, die durch den Hohlraum verlaufen, müssen aus einem elektrisch nichtleitendem Material, z.B. Keramikmaterial hergestellt sein, um zu verhindern, dass sie das elektrische Feld von dem Hohlraum zu dem äusseren Raum des Hohlraums leiten« Die Öffnungen 51 in dem Boden 42 und den Wänden 48, durch die sich die Stützen 50 erstrecken, sollten ausreichend dicht sitzen, um mit den Stützen 50 zusammenzuwirken und das elektrische Feld in dem Hohlraum einzuschliessen.
Die untere Platte 16 wird von der Tragvorrichtung 18 getragen, um eine starre Plattform zu schaffen, gegen die die bewegliche Platte 20 das Werkstück 14 drücken können. Die Platte 16 besteht aus einem festen, starren Material, z.B. Stahl. Die Platte 16 trägt an ihrer Oberseite eine Abdeckplatte 60 aus Silikonglas od.dgl., die sich über die Kanten der Platte 16 zu den Wänden 40 des Hohlraums erstreckt und so als Isolierplatte und Abdeckung des schachtelartigen Aufbaus dient, um Staub und andere Fremdteile abzuhalten. Die Platte 16 und die Abdeckplatte 60 tragen, wenn die Vorrichtung in Betrieb ist, eine zweite Abdeckplatte-62, die sich im wesentlichen über die Platte 16 erstreckt. Die zweite Abdeckplatte 62 besteht aus Silikon-
ORIGINAL
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gummi od.dgl. und bildet eine plawhisclio OborfJnohP, uitP der das Werkstück 14 angeordnet werden kann. Die erste und zweite Abdeckplatte beeinflussen auch die elektrische Kapazität zwischen den Platten 16, 20.
Die obere Platte 20 ist relativ zur unteren Platte i6 in der Höhe verstellbar und wird durch* eine von einem Druckstrü~ mungsmittel betätigte Kolben- und Zylinderanordnving 63 bewegt, um das Werkstück 14 zwischen den Platten zu pressen. Elektrisch betriebene Heizelemente 64 sind in der Platte 20 eingebettet und direkt an eine nicht gezeigte elektrische Energiequelle angeschlossen, um die Platte zu erhitzen. Die Elemente 64 sind in der Platte 20 ausreichend weit von der inneren Oberfläche 65 der Platte 20 eingebettet, so dass keine HF-Energie die Elemente infolge des bekannten Skin-Effekts erreicht, demzufolge die HP-Energie sich auf der Oberfläche von Leitern fortbewegt. Es sind somit keine Filter oder anderen Vorrichtungen erforderlich, um elektrisch angeschlossene externe Bauelemente (in diesem Falle die elektrische Energiequelle für die Heizelemente 64) gegen die HF-Energie in dem Hohlraum zu schützen. Eine Wnx-mo-j eu>ii o platte 70 aus Asbest ist an der Oberseite der Platte 20 befestigt, um den Wärmedurchgang von der Platte 20 zu den ande ren Teilen der Vorrichtung zu verhindern.
Wie zuvor erwähnt wurde, wird, wenn eine HF-Prägung durchgeführt werden soll, eine Prägeplatte 25 an der beweglichen Platte 20 befestigt, die an dem Werkstück 14 eingreift, wenn sie gegen die Platte 16 bewegt wird. Die an dem Werkstück
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angreifende Oberfläche 66 der Prägeplatte trägt das Must er und/oder das Aussehen, das man durch Prägung der Oberfläche des Werkstücks 14 verleihen will. Da die Prägeplattenoberflache 66 näher an die Platte 16 herankommt als die beweg-» liehe Platte 20, verändert die Fläche der Prägeplattenober~ fläche 66 die Kapazität zwischen den Platten durch Änderung der kapazitiv wirksamen Fläche der aus parallelen Platten bestehenden Anordnung, die die Kapazität bildet.» Die Prägeplattenfläche bildet somit die wirksame Plattenfläche.» Sin Flansch 69 verbindet die Prägeplatte 25 elektrisch mit den) zusammengesetzten Deckel 22, wie später beschrieben wird»
Der zusammengesetzte Deckel 22 besteht aus einer Stahlplatte 72, die mit einer Kolbenstange 68 der Kolben-» und Zylinderanordnung 63 verbunden ist und an deren Unterseite die Wärmeisolierplatte 70 befestigt ist» An der Unterseite der Platte 72 ist auch sich über deren gesamten Umfang erstreckend eine Winkelsehiene "jh befestigt, die die Seitenwände J6 des Deckels bildet» Die Schiene ist aus einem elektrisch leitenden Material hergestellt, z,B. Aluminium. Zwischen der Schiene Jh und der oberen Platte 20 erstrecken sieh an jeder Seite der Platte vier Prof!!schienen 78 aus elektrisch leitendem Material, z.B. Kupfer. Durch die Schienen 78 ist die obere Platte 20 elektrisch siit der Schiene "Jh des Deckels verbunden» Die Schienen ?8 sind an der Schiene *jk und der Platte 20 durch Befestigungswinkel 8O, 82 befestigt, Die inneren Kanten der Schienen J& sind auch mit den Flanschen 69 der Prägeplatte 25 verbunden, Das Profil der Winkel 78 ist derart, dass der Deckel 22 sich verbiegen kann* ma sich jeder
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thermischen Expansion der oberen Platte 20 anzupassen, wenn sie durch die Heizelemente 64 erhitzt wird.
Durch Zapfen- und Schlitzverbindungen (nicht gezeigt) an der Winkelschiene Jk ist in der Höhe verschiebbar ein Kontakt 84, ebenfalls aus elektrisch leitendem Material, z.B. Aluminium, befestigt. Der Kontakt erstreckt sich um die gesamte Schiene 74 und ist mit dieser elektrisch durch Federfinger 86 verbunden, die ebenfalls aus elektrisch leitendem Material, z«B« Kupfer, bestehen» Die Federfinger 86, die als kontinuierliche Streifen ausgebildet sind, sind an den Seitenwänden 76 angeschraubt, die durch die Schiene ^h gebildet sind. Der Kontakt 84 hat einen nach aussen gerichteten Flansch 90, der eine horizontale Kontaktfläche bildet, die mit einer horizontalen Kontaktfläche an einem nach aussen gerichteten Flansch 92 eines zweiten Kontakts 9^ zusammenwirken kann, der an den oberen Enden der Seitenwände 40 des Hohlraums 23 befestigt ist. Der zweite Kontakt besteht ebenfalls aus elektrisch leitendem Material, z.B. Aluminium. Um eine zuverlässige elektrische "Dichtung" zwischen den Flanschen 90, 92 · sicherzustellen, sind Federfinger 96 in Form von kontinuierlichen Streifen aus elektrisch leitendem Material, z.B. Kupfer, zwischen den Flanschen vorgesehen. Die Finger 96 sind an der Unterseite des Flansches 90 angeschraubt. Der Kontakt 84 wird gegen den Kontakt 9h durch Federn 100 nach aussen gedrückt, die auf die Oberfläche des Flansches 90 des Kontakts 84 drücken.
Wenn die Vorrichtung in Betrieb ist, bewirkt eine Verschiebung der beweglichen Platte 20 gegen die untere Platte 16,
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dass der Kontakt 84 den Kontakt 94 berührt. Eine weitere
relative Bewegung zwischen den Platten nach Berührung der Kontakte bewirkt eine relative Bewegung zwischen der oberen Platte 20 und dem Kontakt 84 entgegen der Wirkung der Federn 100, so dass eine zuverlässige elektrische "Dichtung" zwischen den Kontakten sichergestellt wird. Wenn der Deckel 22 geschlossen ist, besteht eine vollständige elektrische Verbindung zwischen dem Boden 42 und den Wänden 4o, 44, des Hohlraums einerseits und den Wänden 7k des Deckels
andererseits über die Kontakte °Λ» 84 und die Federfinger 96, 86. Auf diese Weise wird das elektrische Feld in dem
Hohlraum eingeschlossen.
Die Vorrichtung ist mit einer elektrischen HF-Energiequelle (nicht gezeigt) versehen, die eine Oszillatortriode ist.
Die Anode der Triode ist direkt mit einer Wand 48 des Hohlraums (oder einer Wand 44) über den Eingang 24 durch einen Koppelkondensator 102 verbunden, der in dem Hohlraum 10
aufgenommen ist. Der grösste Anteil der HF-Energie am Eingang 24 wird in Form eines sich schnell ändernden elektrischen Feldes zwischen der Oberfläche der Platte 16
einerseits und der Prägeplatte 25 und der beweglichen
Platte 20 andererseits abgestrahlt. Die Prägeplatte und
die bewegliche Platte 20 sind elektrisch mit den Wänden
des Hohlraums verbunden.
Nur die innere Oberfläche eines jeden der elektrisch verbundenen Elemente ist aufgrund des bekannten Skin-Effekts in Betracht zu ziehen, da die gesamte HF-Energie im Hohlraum auf der Oberfläche der Hohlraumwände und der Platten
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bleibt bzw, in dem von dem Hohlraum umschlossenen Raum zirkuliert. Ein Teil dieser Energie wird durch eine Abnahmebzw. Koppelspule 106 aufgenommen, die elektrisch an das Gitter der Oszillatortriode angeschlossen ist, um eine Rückkopplung für die HP-Energiequelle zu schaffen. Die Spüle 106 ist vorzugsweise eine orientierte Spule, d.h. eine rahmenförmige Spule (wie Fig. 2 zeigt), so dass die Rückkopplung durch Drehen der Spule geändert werden kann, um in bekannter Weise die Generatorleistung zu beeinflussen.
Die Aussenseite des Hohlraums ist durch eine Erdungsplatte 104 geerdet.
Die innere leitende Oberfläche des Hohlraums 10 bildet bei den in der Vorrichtung verwendeten hohen Frequenzen eine Induktivität. Die Anordnung aus den parallelen Platten, Abdeckplatten, dem Werkstück und der Prägeplatte bildet eine Kapazität parallel zu dem Hohlraum. Die Vorrichtung stellt damit einen Parallelresonanzkreis dar, der direkt mit dem HF-Generator gekoppelt ist«
Experimentell wurde festgestellt, öass eine direkte Proportionalität zwischen der wirksamen Fläche der Platten und der Leistung der Vorrichtung bei Anwendung auf ein Werkstück bei einer HF-Energiequelle erreicht wird, bei der die Oszillatortriode eine Anodenlast aufweist und aus einer Vakuumröhre mit Gleichstromeigenschafter. besteht, wobei der Anodenstrom 2 A, der Gitterstrom I/2 A, die Anodenspannung 3^00 V beträgt und die Verstärkung mu = 30 ist, und wobei
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weiterhin der Hohlraum 10 etwa folgende Abmessungen hati
Bodenwand k2 43 χ 43 cm
Wände kO 273 mm Höhe
Wände k8 1\h mm Breite
Abdeckplatten 60 und 62 3 mm Dicke
Wände hk 2^7 mm Höhe
Ausserdem beträgt die Kapazität 106 0,0005 Mikrofarad.
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Claims (11)

Patentansprüche
1. !vorrichtung zur Durchführung von HF-Bearbeitungsvorgängen an Werkstücken aus einem Material mit hohem dielektrischem Verlust, bestehend aus einer Druckbeaufschlagungsvorrichtung mit zwei Platten, zwischen denen ein zu bearbeitendes Werkstück angeordnet werden kann -und von denen eine relativ zur anderen beweglich ist, um das so angeordnete Werkstück mit Druck zu beaufschlagen und einer HF-Energiequelle mit einem Resonanzhohlraum, um ein elektrisches HF-Feld zwischen den Platten zu erzeugen, das auf* das mit Druck beaufschlagte Werkstück einwirkt, dadurch gekennzeichnet, dass die Platten (i6,2O) in dem Resonanzhohlraum (1O) eingeschlossen sind, wenn die Vorrichtung einen HF-BearbeitungsVorgang an einem Werkstück durchführt.
2· Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlraum (10) aus zwei Teilen (22,23) besteht, von denen jeder einer der Platten (l6,2O) zugeordnet ist und von denen einer (22) relativ zu dem anderen (23) beweglich ist, um einen Zugang zu den Platten (16,2O) zu schaffen, und dass die Bewegung der beweglichen.Platte (20) gegen die andere Platte (i6) bewirkt, dass der eine Hohlraumteil (22) gegen den anderen Teil (23) bewegt wird, so dass der Hohlraum geschlossen wird, bevor ein elektrisches HF-Feld erzeugt wird.
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3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der eine Hohlraumteil (22) von einer Halterung (68) der beweglichen Platte (2O) und der andere Hohlraumteil (23) von einer Halterung (46) der anderen Platte (16) getragen wird,
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3» dadurch gekennzeichnet, dass Kontakte (84,9-4) mit jedem Hohlraumteil (22,23) elektrisch verbunden sind, wobei die Verbindung derart ist, dass bei einer Bewegung der Platte (20) der Kontakt (84) des Hohlraumteils (22), der der beweglichen Platte (20) zugeordnet ist, den anderen Kontakt (94) berührt und so die Verbindung der beiden Teile (22,23) elektrisch abgedichtet und dadurch der Hohlraum (1O) geschlossen wird.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass Federfinger (96) zwischen den Kontakten (84,94) angeordnet sind·
6. Vorrichtung nach Anspruch 4 oder 5? dadurch gekennzeichnet, dass der Kontakt (84), der der beweglichen Platte (20) zugeordnet ist, zu der Platte (20) und dem Hohlraumteil (22) relativ verschiebbar ist, und dass Federn (IOO) vorgesehen sind, die den Kontakt (84) gegen den anderen Kontakt (94) drücken.
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7. Vorrichtung nach Anspruch 1, oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass eine (16) der Platten (i6,2O) von einer Stützachse (46) getragen wird, die sich längs eines rohrförmigen Kanals erstreckt, der von den Wänden (44) des Hohlraums (1O) gebildet wird.
8. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass eine (i6) der Platten (i6,2O) von Stützen (50) aus elektrisch nichtleitendem Material -getragen wird, und dass sich die Stützen durch den Hohlraum (1O) durch dicht sitzende Öffnungen (51) in Wänden (42,48) des Hohlraums erstrecken.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Wand (48;44) des Hohlraums (1O) an einen Eingang (44). einer Energiequelle angeschlossen ist, die eine Oszillatortriode aufweist.
10« Vorrichtung nach Anspruch 9> dadurch gekennzeichnet, dass der Eingang (24) an eine in dem Hohlraum (1O) aufgenommene Kapazität (102) angeschlossen ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass eine Koppelspule (IO6) in dem Hohlraum (10) aufgenommen ist und mit dem Gitter der Oszillatortriode verbunden ist, um eine Rückkopplung für die HF-Energiequelle zu schaffen.
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