DE2160670A1 - Verfahren zur Herstellung von polykristallinen Halbleiterkörpern - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von polykristallinen HalbleiterkörpernInfo
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Description
DR. L MAAS
DR. W. PFEIFFER
DR. F. VOITHENLEITNER
aMÜNCHEN 23
UNQERERSTR. 25 - TEL 39 02 39
UNQERERSTR. 25 - TEL 39 02 39
DC 179Q
Dow Corning Corporation, Midland, Michigan, V.St.A.
Verfahren zur Herstellung von polykristallinen Halbleiterkörpern
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung von massiven Körpern aus polykristallinem Halbleitermaterial
durch thermische Zersetzung von Dämpfen.
Für die Herstellung von ultrareinen Halbleiterstoffen, zum Beispiel Silicium und Germanium, sind bereits viele. Verfahren
beschrieben worden. Das in der Technik am meisten angewandte Verfahren verwendet Vorrichtungen, wie sie in
der US-PS 3 011 877 angegeben sind. Dabei werden Stäbe
des zu verwendenden Halbleitermaterials zu einem umgekehrten Ü verbunden, und die Schenkel werden an eine elektrische
Energiequelle angeschlossen, um die Stäbe durch Widerstandsheizung zu erhitzen. Die Stäbe werden in einem
Glockengefäß angebracht, und in das Glockengefäß werden Dämpfe des zu zersetzenden Gases eingeleitet und zersetzt,
wodurch sich das Halbleitermaterial auf dem Stab abscheidet. Obwohl auch andere Rohstoffe verwendet werden können, werden
gewöhnlich Trichlorsilan und Wasserstoff als Beschickungsgas für die Herstellung von Silicium angewandt, und die Stäbe
werden auf eine Temperatur zwischen HOO und 1200 0C erhitzt.
Bei Germanium ist Germaniuiatetrachlorid der übliche
Ausgangsstoff, wobei wiederum Wasserstoff als Trägergas
und Reduktionsmittel dient. In diesem Fall liegt die Zersetzungstemperatur im Bereich von 700 bis 800 0C.
Zwar hat das Verfahren, bei dem die in der US-PS beschriebene Vorrichtung verwendet wird; umfangreiche technische
Anwendung gefunden, es ist jedoch mit zahlreichen Nachteilen behaftet. Erstens sind bei den meisten Anwendungen von
Halbleiterstoffen zur Herstellung von elektronischen Geräten Stücke von stabförmigem Material erforderlich. Die Siliciumstäbe,
die bei diesem bekannten Verfahren aus dem Reaktor kommen, haben U-Form, wodurch sich Materialabfälle in der
Umgebung der Biegungen ergeben. Das Brückenmaterial kann zwar zum Ziehen von Kristallen aufgeschmolzen werden, die
Ausbeute ist jedoch geringer, als wenn ein gerades Stabstück verwendet werden kann. Zweitens könnte die Abscheidungsrate
von Silicium in dem Reaktor nach der US-PS 3 011 877, bezogen
auf die dem System zugeführte Gasmenge, erheblich verbessert werden, da ein großer Teil des Gases mit den erhitzten
Stäben in der Reaktionskaramer nicht unmittelbar in Berührung kommt.
Ferner benötigt das Verfahren eine beträchtliche Menge an
elektrischer Energie und genaue Regelungseinrichtungen, da der Widerstand der Halbleiterstoffe, besonders von Silicium,,
in Abhängigkeit von der Temperatur erheblich schwankt. Zur Einhaltung einer konstanten Temperatur an der Oberfläche
eines Ziehstabs iat daher eine sehr genaue Regelung der zugeführten elektrischen Energie erforderlich. Erschwerend
kommt dazu die Gefahr eines Energieausfalls während des Ziehens eines großen Slliciumstabs hinzu. Da die Wuchsszeit
bei einigen dieser gegenwärtig erzeugten Stäbe in der Größenordnung
von einigen Wochen liegt, ist ein solches Ereignis
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BAD ORIGINAL
nicht ungewöhnlich. Ein Energieausfall verursacht häufig
eine ungleichmäßige Abkühlung der Stäbe, was zu thermischen Spannungen und Rißbildung führt. Selbst wenn der
Stab den Abkühlungsvorgang übersteht, erfordert eine Wiederaufnahme
des Verfahrens übermäßige Energiemengen, wenn sie überhaupt möglich ist.
Weitere Nachteile zeigen sich beim Versuch, den Durchmesser
der Stäbe, die in dem Reaktor erzeugt werden, zu steuern,
da eine Tendenz zu ungleichmäßigem Wachstum entlang der ü-förmigen Konfiguration besteht. Mit zunehmendem Durchmesser
der Stäbe ist es ferner außerordentlich schwierig, die Beschaffenheit der Oberfläche des Stabs zu steuern, die
stark von der Abscheidungstemperatur abhangt. Die Befestigung der Elektroden, die im allgemeinen aus Kohlenstoff bestehen,
an den Siliciurastäben stellt eine außerordentlich wichtige
Quelle der Verunreinigungen dar, die in die Reaktionskammer gelangen und in das abgeschiedene Silicium eingebaut
werden. Bei der Produktion von Silicium oder Germanium in großen Mengen ist der Raumbedarf einer großen Zahl von
Glockengefäßen im Vergleich zu Systemen anderer Art außerordentlich
hoch. Eine weitere hohe Kostenbelastung wird durch den Bruch von Glockengefäßen verursacht, da die
Glockengefäße ebenfalls aus einem Material hoher Qualität bestehen müssen.
Im Hinblick auf diese und andere Nachteile ist es nicht überraschend, daß verschiedene weitere Methoden für das
Ziehen von Halbleiterstoffen aus der Dampfphase vorgeschlagen wurden. Eine dieser Methoden ist die Abscheidung von
Silicium auf der Innenseite eines zylindrischen Quarzrohrs, wie es in den US-PS 2 398 772 und 3 020 128 vorgeschlagen
ist. Dadurch werden zwar viele der Nachteile des in der US-PS 3 011 877 beschriebenen Reaktors beseitigt, diese
Methode ist jedoch selbst wieder von Nachteilen begleitet.
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Vor allem ist der erzeugte Stab aus Halbleitermaterial ein
Zylinder statt ein massiver Stab. Die Zylinderform ist für
die Erzeugung von Kristallen für die Verwendung zur Herstellung von Kalbleitergeräten schwer zu handhaben. Für die
Einkristall-Erzeugung wird das polykristalline Material geschmolzen, und aus der Schmelze werden Einkristalle gezogen.
Bei dem sogenannten Czochralski-Verfahren wird ein
Schmelztiegel für das Einkristall-Ziehen verwendet. Jeder Tiegel kann nur einmal benutzt werden, bevor er in dem
Verfahren zerstört wird. Da die Tiegel aus Quarz gefertigt sind, ist es aus wirtschaftlichen Gründen erwünscht, den
Tiegel vollständig mit Schmelze zu fällen. Bei dem Czochralski-Verfahren besteht jedoch die Gefahr, daß in die
Kristalle Sauerstoff gelangt, was für einige Halbleitererzeugnisse ziemlich nachteilig 1st. Deshalb ist in der
Technik das Zonenschmeizverfahren zur Erzeugung von Kristallen
sehr gebräuchlich. Beim Zonenschmelzverfahren
wird eine Zone des polykristallinen Stabs an einem Ende des Stabs geschmolzen. Mit der geschmolzenen Zone wird
der Impfkristall in Berührung gebracht. Dann wird die Schmelz zone den Stab entlang geführt, wodurch der polykristalline
Stab in einen Einkristall übergeführt wird. Das Zonenschmelzverfahren kann nicht auf einen hohlen
Stab angewandt werden, wenn nicht eine besonders konstruierte Vorrichtung verwendet wird. Außerdem ist die
Verwendung von Quarz als Äbscheidungsoberfläche für Silicium, wie sie in den OS-PS 2 39S 772 und 3 O2O 128 vorgeschlagen
wird, eine Quelle für eine Verunreinigung des « polykristallinen Materials durch Sauerstoff. Dies 1st für
viele Zwecke unerwünscht, worauf bereits oben in Verbindung mit dem Czochraiski-Verfahren hingewiesen wurde.
Die Erfindung bezweckt daher ein Verfahren zum Ziehen von
polykristallinen Halbleitermaterial, mit dem die genannten Nachteile bekannter Verfahren soweit wie möglich vermieden
werden. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäp mit einem Verfahren
gelöst, mit dem massive Körper aus Halbleitermaterial,
■zum Beispiel Silicium, ausgehend von einer hohlen Form durch
Abscheidung auf ihrer Innenseite aus der Dampfphase erzeugt
werden. Bei dem erfindungsgerciäßen Verfahren in seiner einfachsten
Form wird eine zylindrische Forin verwendet, die an einem Ende verschlossen ist, so daß Gase nicht durch
den hohlen Zylinder hindurchströmen können. Durch das offene Ende des Zylinders wird eine Gasbeschickungslanze bis in
die Nähe des verschlossenen Endes geführt, und aus der Lanze treten Beschickungsgase in den Zylinder ein.
Der Zylinder wird selbstverständlich wie bei dem bekannten Verfahren erhitzt, damit jedoch genügend Wärme erzielt wird,
kann eine Vielzahl von Zylindern in einen Ofen gebracht werden. Aus der Beschickungslanze werden Beschickungsgase wie
Trichlorsilan und Wasserstoff eingeführt, so daß sie auf das
verschlossene Ende des Zylinders auftreffen und auf den angrenzenden
Zylinderwänden sowie dem Verschluß Silicium abscheiden. Da jedoch die höchste Konzentration an nichtumgesetzten
Gasen an der Verschlußoberfläche vorliegt, findet dort infolge Turbulenz die stärkste Abscheidung statt. Mit.
zunehmender Abscheidung wird die Lanze allmählich aus dem Zylinder zurückgezogen, wodurch der Zylinder vollständig
mit dem Halbleitermaterial ausgefüllt wird. Gase werden aus dem offenen Ende des Zylinders abgelassen.
Mit diesem Verfahren kann durch die Lage der Lanze und den
Druck der zugeführten Gase für eine maximale Turbulenz von Gasen an der Stelle der gewünschten Abscheidung gesorgt wer- ,
den, wodurch maximale Abscheidungsraten und ein maximaler Wirkungsgrad erzielt wird. Der Kapitalaufwand für Energieversorgung,
Reaktoren und Regelungseinrichtungen ist erheblich niedriger als bei der in der ÜS-PS 3 Oll 877 beschriebenen
Methode. Praktisch der gesamte Stab aus Halbleitermaterial
läßt sich zur Herstellung von Geräten verwerten, d.h. es gibt keine Verluste wie durch die gebogenen Teile bei
dem bekannten Verfahren. Der Außendurchmesser der so erzeugten Stäbe kann sehr genau gesteuert werden, so daß geforderte
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Maße für den Durchmesser erfüllt und genaue Durchmesser
für Einstück-Tiegelchargen für das Czochralski-Verfahren
geliefert werden können. Selbstverständlich wird auch die Beschaffenheit der Oberfläche erheblich verbessert.
Der Außenzylinder verhindert eine Verunreinigung des abgeschiedenen Siliciums durch andere Teie in der Reaktionskammer,
zum Beispiel Elektroden. Durch Verwendung von mehreren Zylindern in einem einzigen Ofen wird der Wirkungsgrad
der Energieausnutzung des Systems erheblich verbessert. Die Abkühlungsrate kann sorgfältig gesteuert werden, da die
Zylinder vollständig eingeschlossen werden können, wodurch W jegliches Reißen der Stäbe infolge ungleichmäßiger Abkühlung
verhindert werden kann. Im Fall eines Energieausfalls bietet es keine Schwierigkeiten, das System wieder in Betrieb zu
nehmen. Die Oberfläche, auf der die Abscheidung erfolgt, hat stets ungefähr die gleiche Größe, während sich im Vergleich dazu bei dem in der US-PS 3 Oll 877 beschriebenen
System der Durchmesser der Stäbe in der Reaktionskammer im Verlauf de3 AbscheidungsVorgangs erheblich ändert. Dadurch wird selbstverständlich die Verfahrenssteuerung
vereinfacht.
Durch die Figuren 1 bis 3 wird die Erfindung beispiels—
L weise näher erläutert.
Figur 1 zeigt ein Fließbild einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Figur 2 zeigt in schematischer Darstellung die gesamte Anordnung
zur Durchführung des erfindungsgeaiäßen Verfahrens,
worin die Reaktionskammer im Querschnitt dargestellt ist,
und
Figur 3 zeigt im Querschnitt einen einzelnen Siiiciumstab,
wie er in der Reaktionskammer in der in Figur 2 dargestellten Ausführung erzeugt wird.
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In den Figuren werden für gleiche oder entsprechende Teile gleiche Bezugszeichen verwendet. Das in Figur 1 dargestellte
Fließbild erläutert die Stufen einer bevorzugten Ausführungsforni
des erfindungsgemäßen Verfahrens. Das Verfahren kann
zur Erzeugung jeder gewünchten Gestalt verwendet werden, als Beispiel für die Erläuterung wurde jedoch der Zylinder gewählt.
In diesem Fall ist.es zunächst erforderlich, einen hohlen Zylinder für die Abscheidung des Halbleitermaterials
auf dessen Innenseite zu erzeugen. Der Begriff "Zylinder", wie er hierin verwendet wird, soll nicht nur exakte zylindrische
Formen bezeichnen, sondern auch Formen, die lediglich ungefähr zylindrische Gestalt haben, sowie beispielsweise
Glocken, Pyramiden, Kegel und Prismen. Es gibt zahlreiche Methoden zur Erzeugung von hohlen Körpern aus Halbleitermaterial,
zum Beispiel Silicium. Beispielsweise können hohle Körper nach den in den OS-PS 2 398 772 und 3 O2O
beschriebenen Verfahren durch Abscheidung auf der Innenseite des Quarzrohrs oder dergleichen erzeugt werden.
Vorzugsweise wird erfindungsgemäß Silicium auf der Außenseite eines Doms durch thermische Zersetzung von Silanen
in Form eines Siliciumrohrs abgeschieden. Der Dorn kann beispielsweise aus Tantal oder Graphit bestehen. Nachdem
die Abscheidung bis zu einer Dicke, die verhältnismäßig leicht zu handhaben ist, zum Beispiel O,32 cm, angewachsen
ist, wird der Dorn herausgezogen, wodurch der offene Zylinder aus Silicium zurückbleibt. Einige Graphitsorten sind ·
dafür bekannt, daß sie einen solchen thermischen Ausdehnungskoeffizienten
haben, daß sie sich beim Abkühlen wesentlich stärker zusammenziehen als das Silicium, so daß
das Graphitstück aus dem Siliciumrohr oder -zylinder einfach herausfällt. Gewünschtenfalls kann zur leichteren
Trennung ferner für eine feine amorphe Schicht aus Silicium auf der Oberfläche des Doms gesorgt werden, bevor mit
der normalen Abscheidung von polykristallinem Material zur Erzeugung des Zylinders begonnen wird. Diese Technik
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ist beispielsweise in der US-PS 3 128 154 für die Trennung
von Stoffen wie Tantal von Silicium angegeben. In einem Artikel von Sirtl und Seiter, Journal Electrochemical
Society, Bd. 113, S. 506 (1966) ist das Zumischen von
Sauerstoff und/oder Kohlenstoff zu der Chlorsilan-Wasserstoff-Beschickung
zur Erzeugung von feinem amorphem Silicium bei einer Temperatur zwischen 1050 und 1100 0C beschrieben.
Beispielsweise ergibt eine Mischung aus Trichlorsilan,
Methyldichlorsilan und Wasserstoff in einem Verhältnis von 2 : 1 : 60 eine fast amorphe und anisol
trope Abscheidung, die weniger als 1 % Siliciumcarbid als zweite Phase enthält. Eine derartige Schicht bietet
P den weiteren Vorteil,.-daß sie gewissermaßen als Sperrschicht
wirkt, welche die Diffusion von Verunreinigungen aus dem Kohlenstoff- oder Tantaldorn in das Silicium,
das darauf abgeschieden wird, verhindert.
Nachdem der Zylinder oder das Rohr aus Silicium erzeugt ist, wird sein Hohlraum an einer Stelle verschlossen.
Der Verschluß kann sich zwar an einem Ende befinden, vorzugsweise wird jedoch der Verschluß in der Mitte vorgesehen,
so daß eine Abscheidung von beiden Enden des Zylinders aus erfolgen kann. Um den Hohlraum in dem
Zylinder abzuschließen, kann jede geeignete Methode anr gewandt werden.. Vorzxigsweise wird jedoch eine Siliciumscheibe
mit praktisch dem gleichen Durchmesser wie der Innendurchmesser des Zylinders mit den Zylinderwänden .
verschweißt, beispielsweise mit Hilfe eines Elektronenstrahls oder von Induktionsheizung, um ein gewisses
Schmelzen zu erreichen. Es ist nicht wesentlich, daß der. Verschluß den Hohlraum in dem Zylinder völlig abdichtet,
da sich Silicium bei der Abscheidungstemperatur rasch niederschlägt und alle öffnungen am Verschlußstück
rasch verschließt.
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In Figur 2 hat der Längsquerschnitt des Siliciumzylinders
praktisch Η-Form. Das Verschlußstück 12 bildet den H-Querbalken. Der Zylinder ist in einem Ofen 13 montiert, der aus
jedem geeigneten Material bestehen und zum Montieren jeder gewünschten Zahl von Zylindern 11 eingerichtet sein kann.
Zur Vereinfachung ist in der Figur jedoch nur ein Zylinder dargestellt. Die Befestigungsplatten 14, die die Enden des
Ofens abschließen, sind mit Vertiefungen oder Nasen zum Stützen und Tragen des Zylinders 11 versehen. Die Befestigungsplatten
14 weisen ferner öffnungen zur Einführung einer Lanze 16 auf. Die Befestigungsplatten 14 müssen ferner
Durchlässe für eine Abgasleitung 17 aufweisen, die sich neben der Injektionslanze 16 befinden kann. Die Injektions- lanze
16 muß verschiebbar zum Hineinschieben in oder Herausziehen aus den Zylindern 11 montiert, sein, wie es durch
die Pfeile 18 angedeutet ist. Die Injektionslanze 16 ist mit einer Beschickungsgasversorgung 19 für die Zufuhr der gewünschten
Beschickungsgase in das System verbunden.
Im Betrieb wird die Beschickungslanze in den Zylinder bis
zu einer Stelle in der Nähe des Verschlusses 12 in dem Zylinder
eingeschoben. Die genaue Lage der Lanze für einen optimalen Betrieb ist von den verwendeten Beschickungsgasen,
dem Durchmesser des Zylinders, der Größe der Lanze und den Beschickungsgasdrucken abhängig. Die Stelle wird so gewählt,
daß maximale Turbulenz am Verschluß 12 erreicht wird, ohne
daß dieser durch die Beschickungsgase übermäßig abgekühlt ·
wird. Selbstverständlich werden die Beschickungsgase dadurch, daß das Rohr geheizt ist, vorgewärmt. Gewünschtenfalls können
auch eigene Vorwärmeinrichtungen für das Beschickungsgas verwendet werden.. Wenn dagegen die Lanze lang ist, ist
es manchmal zweckmüßig/ für eine gewisse Kühlung der Lanze zu sorgen, um eine Zersetzung der Beschickungsgase zu
verhindern, bevor die Gase die Lanze verlassen. Der Zylinder wird auf die Zersetzungstemperatur der verwendeten Beschickungsgase
aufgeheizt. Im Falle einer Mischung von
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Trichlorsilan mit Wasserstoff liegt die bevorzugte Zersetzungstemperatur
im Bereich von 1100 bis 1200 0C, Ebenso werden für andere Beschickungsgase optimale Zersetzungstemperaturen angewandt. Die Gase werden aus der Lanze auf
das erhitzte Verschlußstück 12 geleitet, und dadurch wird auf dem Verschlußstück und den angrenzenden Zylinderwänden
des Zylinders Il Silicium abgeschieden. Mit fortschreitender Abscheidung werden die Lanzen mit einer Geschwindigkeit
zurückgezogen, die der Geschwindigkeit der Abscheidung auf dem Verschlußstück 12 entspricht. Dieser Vorgang ist deut-
^ lieber aus den in Figur 3 dargestellten Querschnitt zu ersehen,
der die charakteristische parabolische Form der Abscheidung zeigt, die bei Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens entsteht. Da an der Stelle vor der Injektionslanze 16 maximale Turbulenz auftritt, wird in diesem Gebiet
eine Versorgung mit frischen Reaktionsteilnehmergasen aufrechterhalten.
Die Strönung aus dem Gebiet vor der Lanze zu der Abgasabführung wird laminar, was Randschichtstagnation
der verbrauchten Reaktionsgase und sehr geringe Abscheidung auf den zylindrischen Wänden zur Folge
hat. Daher besteht keine Gefahr, daß sich die zylindrischen Wände an der Lanze zusammenschließen, obwohl die Wände erhitzt
sind. Die Abscheidung geht weiter, und die Lanze wird
\r allmählich zurückgezogen, bis der gesamte Zylinder mit Ausnahme
einer geringen konkaven Aushöhlung an jedem Ende mit dem Halbleitermaterial gefüllt ist.
Das erfindungsgemäße Verfahren wurde zwar für Silicium als
Beispiel erläutert, es ist jedoch zu beachten, daß das gleiche Verfahrensprinzip auf andere bekannte Stoffe, zum
Beispiel auf Germanium, die aus der Dampfphase abgeschieden werden können, und beliebige bekannte Beschickungsgase
für diese Stoffe angewandt werden kann. Im Fall des SiIiciums
ist für die Beschickungsgase im allgemeinen wesentlich, daß Wasserstoff als Reduktionsmittel enthalten ist,
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2160870
und das Ausgangsmaterial muß eine Siliciuraverbindung sein,
die nebön Silicium aus wenigstens einem der Elemente Wasserstoff,
Chlor, .Brom oder Jod besteht. Wegen der leichten Handhabung werden die chlorierten Silane, zum Beispiel
Trichlorsilan oder Hexach lordi si lan,, bevorzugt, die bromierten
Silane oder Monosilan (SiH.) können aber ebenfalls
verwendet werden. Mischungen dieser Silane ergeben ebenfalls geeignete Beschickungsgase.
Wie erwähnt, kann jede gewünschte Zahl von Abscheidungszylindern
mit ihren entsprechenden Lanzen in einem einzigen Ofen montiert und mit einer einzigen Wärmequelle beheizt
werden. Damit wird ein wirksamer Betrieb bei minimalem Vorrichtungs- und Energiebedarf erreicht.
Durch die Abscheidung auf einem Siliciumzylinder werden
Schwierigkeiten bezüglich der Einführung von Verunreinigungen
beseitigt, es ist aber zu beachten, daß das erfindungsgemäße Verfahren auch unter Verwendung von geschlossenen
Zylindern aus anderen Werkstoffen durchgeführt werden kann. Solche Werkstoffe können beliebige Werkstoffe
sein, welche selbstverständlich in Abhängigkeit von den Ausgangsstoffen die Abscheidungstemperaturen des Materials,
das aus der Dampfphase erzeugt wird, ohne wesentliche Verformung oder Zersetzung des Zylindermaterials auszuhalten
vermögen. Beispielsweise können unter anderem geschlossene Zylinder aus Quarz, Kohlenstoff, Tantal, Siliciumcarbid,
Molybdän, Wolfram oder korrosionsbeständigem Stahl erzeugt werden. Wenn für die zylindrische Form andere Stoffe als
das zu erzeugende Halbleitermaterial verwendet werden, ist es zweckmäßig, zusätzlich zur Verwendung der reinsten
verfügbaren Stoffe für eins diffusIonsfeste Schicht
auf der Oberfläche des Zylinders vor der Abscheidung des
Halbleitermaterials zu sorgen. Es ist beispielsweise bekannt, daß sehr viele Oxide einer Diffusion von solchen
Verunreinigungen, die für Silicium besonders nachteilig
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sind, widerstehen. Eine Oberflächenoxidation wird üblicherweise
als Maskiertechnik bei der Herstellung von Siliciumhalbleitererzeugnissen,
zum Beispiel Transistoren, angewandt. Nitridbildung ist dafür ebenfalls geeignet.
Es ist ferner bekannt, daß beispielsweise alternierende
Schichten aus Silicium und Siliciumoxid eine noch bessere Sperre gegen die Diffusion von Elementen wie Bor oder
Phosphor darstellen. Siliciumcarbid ergibt ebenfalls eine diffusionsfeste Schicht und kann mit anderen Schichten
zur Erzielung des erforderlichen Widerstands gegen das Eindiffundieren von Verunreinigungen aus dem Zylinder
in das zu erzeugende Silicium kombiniert werden. Siliciumoxidschichten können beispielsweise durch überziehen
der Innenflächen des Zylinders mit einer dünnen Schicht aus Silicium und anschließendes Oxydieren des
Siliciums in situ erzeugt werden. Wenn nur eine Oberflächenschicht
des abgeschiedenen Siliciums oxydiert wird, können alternierende Schichten aus Silicium und
Siliciumoxid erzeugt werden, indem weitere Schichten aus Silicium auf dem Siliciumdioxid abgeschieden und
nur die Oberflächen der abgeschiedenen Siliciumschichten oxydiert werden.
Bei Verwendung von Graphitzylindern kann leicht Siliciumcarbid erzeugt werden, indem eine Schicht aus Silicium
auf der Graphitoberfläche abgeschieden und die Temperatur des überzogenen Graphits über den Schmelzpunkt von Silicium
erhöht wird, so daß das Silicium in die Oberfläche des Graphits einschmilzt und sich mit dem Graphit zu
Siliciumcarbid verbindet. Alternativ kann Siliciumcarbid durch Einleiten von kohlenstoff- und siIiciumhaltigen Gasen,
zum Beispiel Dimethyldlchlorsilan, direkt aus der Dampfphase abgeschieden werden. Auf der Oberfläche des
Siliciumcarbids kann dann Siliciumoxid aufgebracht werden,
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indem eine weitere Schicht aus Silicium abgeschieden und
oxydiert wird.
Bei einem Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens bestand die Lanze aus einem Rohr aus korrosionsbeständigem
Stahl Nr. 316 mit einem Innendurchmesser von 0,64 cm, dessen Auslaß sich am Anfang in einem Abstand von 7,5 cm
von der Innenseite des Endes eines Graphitrohrs mit einem Innendurchmesser von 3,18 cm und einer Länge von 61 cm
befand, das an einem Ende durch einen Graphitstopfen verschlossen
war. Das Graphitrohr wurde in die einen Durchmesser von 5,1 cm (2") aufweisende Quarzrohrauskleidung eines
Ofens gebracht. Der Ofen wurde bei einer Temperatur zwischen 1135 und 1168 0C gehalten. Das System wurde zunächst
durch Durchleiten eines Stroms aus reinem Argon durch die
Lanze luftfrei gespült, und nach dem Spülen wurde eine Mischung aus HSiCl. und H2 während des Versuchs in die
Lanze strömen gelassen.
Bei diesem beispielhaften Versuch wurde das Molverhältnis
von H2 zu Trichlorsilan in einem Bereich von 60 j 1 bis
8:1 erfolgreich variiert, jedoch erscheinen auch höhere und niedrigere Beschickungsgasverhältnisse geeignet, wie
sie bei anderen Siliciumabacheidungsverfahren üblich
sind. In einem beispielhaften Versuch betrugen die Beschickungsraten etwa 0,58 Mol/Minute H2 und 0,043 Mol/
Hinute HSiCl-. Ähnlich betrugen bei einem anderen Versuch
in der Nähe des entgegengesetzten Endes des Bereichs die Beschickungsraten etwa 0,73 Mol/Minute H2 und 0,012 Mol/
Minute Trichlorsilan. In allen Fällen erfolgte eine Abscheidung von Silicium in dem Rohr.
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Claims (17)
1. Verfahren zur Herstellung von massiven Körpern aus Halbleitermaterial durch chemische Abscheidung aus der
Dampfphase, dadurch gekennzeichnet, daß man
einen hohlen Zylinder aus dem Halbleitermaterial herstellt,
den Hohlraum des Zylinders an einer Stelle auf dessen Längsachse verschließt/
den Zylinder erhitzt und
einen Strom aus Gas, dessen thermische Zersetzung das
Halbleitermaterial ergibt, gegen den Verschluß in dem Zylinder richtet, während der Zylinder auf die Zersetzungstemperatur des Gases erhitzt ist, und dadurch
das Halbleitermaterial auf dem Verschluß und den angrenzenden Wänden des Hohlraums in dem Zylinder abscheidet.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man den Gasstrom mit Hilfe einer in den Hohlraum
eingeführten Gasinjektionslanze in die Nähe des Verschlusses führt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, das man die Lanze aus dem Hohlraum mit einer Geschwindigkeit
zurückzieht, die der Geschwindigkeit der Abscheidung des Halbleitermaterials auf dem Verschluß praktisch gleich
ist, und dadurch den Hohlraum in dem Zylinder allmählich
mit dem Halbleitermaterial füllt.
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4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man den Verschluß praktisch in der Mitte des Zylinders
erzeugt, von beiden Enden des Zylinders Lanzen einführt und dadurch eine Abscheidung auf beiden Seiten des Verschlusses
-erzeugt.
5. Verfahren nach Anspruch 2 oder 4, dadurch gekennzeichnet,
daß man eina Vielzahl der Zylinder mit einer
gemeinsamen Wärmequelle erhitzt. '
6. Verfahren nach Anspruch 2 oder 4, dadurch gekennzeichnet,
daß man einen Zylinder aus Silicium und als thermisch zersetzbares Gas eine Mischung -aus Wasserstoff
und wenigstens einer SiIiciumverbindung verwendet, die
außer aus Silicium aus wenigstens einem der Elemente Wasserstoff, Chlor oder Brom besteht.
7. Verfahren zur Herstellung von massiven Stäben aus Silicium mit Halbleiterqualität durch chemische Abscheidung
aus der Dampfphase, dadurch gekennzeichnet, daß man
einen hohlen Zylinder aus einem Material erzeugt, daß die AbscheidungsteBiperaturen von Silicium aus der Dampf
phase ohne wesentliche Verformung oder Zersetzung auszuhalten vermag,
JC^
den Hohlraum in dem Zylinder an einer Stelle auf seiner
Längsachse verschließt,
den Zylinder erhitzt,
einen Strom aus einem thermisch zersetzbaren Gas, das aus Silicium und einem oder mehreren der Elemente Wasserstoff,
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Chlor oder Brom besteht, gegen den Verschluß in dem Zylinder
leitet, während der Zylinder auf die Zersetzungstemperatur
des Gases erhitzt ist, und dadurch Silicium auf dem Verschluß und den angrenzenden Wänden des Hohlraums in dem
Zylinder abscheidet und
das ursprüngliche Zylindermaterial von dem so erzeugten
Siliciumkörper trennt.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
fr daß man den Gasstrom mit Hilfe einer in den Hohlraum eingeführten
Gasinjektionslanze in die Nähe des Verschlusses führt.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man die Lanze aus dem Hohlraum mit einer Geschwindigkeit
zurückzieht, die der Abscheidungsgeschwindigkeit von
Silicium auf dem Verschluß praktisch gleich 1st, und dadurch den Hohlraum in dem Zylinder allmählich mit Silicium
füllt.
10. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß man vor dem Einleiten des thermisch zersetzbaren Gases
in den Zylinder die Innenflächen des Zylinders mit einer diffusionsfesten Schicht überzieh-fc, die eine Diffusion aus
dem Zylinder in das anschließend abgeschiedene Silicium
verhindert.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man auf den Innenflächen des Zylinders eine Schicht
aus Silicium abscheidet und die Innenfläche dieser Schicht zur Bildung des diffusIonsfesten Überzugs oxydiert.
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12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daS man zur Bildung des diffusionsfesten Oberzugs auf den
Innenflächen des Zylinders eine Mehrzahl von alternierenden Schichten aus Silicium und Siliciumoxid aufbringt.
13. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man auf den Innenflächen des Zylinders einen überzug
aus Siliciumcarbid erzeugt.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dad man einen Zylinder aus Graphit verwendet und das Siliciumcarbid
durch Abscheidung einer Schicht aus Silicium auf der Oberfläche des Graphits und anschließende Erhöhung
der Temperatur des Zylinders zum Einschmelzen des Siliciums
in den Graphit und zur Umsetzung mit dem Kohlenstoff des Graphits erhöht.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
das man zur Bildung des diffusionsfesten Überzugs auf der
Oberfläche des Siliciumcarbids eine weitere Schicht aus
Siliciumoxid erzeugt.
16. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet*
daß man zur Bildung des diffusionsfesten Überzugs auf das
Siliciumcarbid mehrere alternierende Schichten aus Silicium und Siliciumoxid aufbringt.
17. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß man eine Abscheidung im Inneren der Lanze während des
Binleitens von Gas durch die Lanze durch Kühlen der Lanze
verhindert.
209826/0946
ie
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