DE2134347B2 - DEVICE FOR CONVERTING AN ELECTRICAL INTERCHANGEABLE SIZE INTO A MECHANICAL SIZE - Google Patents

Description

Wellen gleichphasig sind. Infolge dieser geometrisc he η Bedingung ist eine solche Vorrichtung nur für ein bestimmtes schmales Frequenzband brauchbar. Wenn ferner die Frequenz sehr hoch ist. werden die Ahstäiide der kammartigen Lehrelemente so klein. d 'ß ihre praktische Herstellung schwierig ist.Waves are in phase. As a result of this geometrical The condition is that such a device can only be used for a certain narrow frequency band. Further, when the frequency is very high. the branches of the comb-like teaching elements become so small. their practical manufacture is difficult.

Aulgabe der Erfindung ist die Schaffung einer Vorrichtung zur Umwandlung einer elektrischen W cchselgröße in eine mechanische Größe, die hinsichtlich des Wirkungsgrades mit den Vorrichtungen mit kammartig ineinandergreifenden Elektroden vergleichbar ist, aber in einem sehr großen Frequenzbereich verwendbar ist.The object of the invention is to provide a device for converting an electrical Changes in size to a mechanical size, with regard to the degree of efficiency with the devices comparable to electrodes interlocking like a comb is, but can be used in a very wide frequency range.

Nach der Erfindung wird dies dadurd. erreicht, daß im Weg des Elektronenstrahls zu dem piezoelekirischen Festkörper eine dritte Elektrodengruppe anfeordnet ist. die parallele Schlitze aufweist, welche cien Elektronenstrahl in mehrere gelrennte Teilstrah-Κ·π aulteilen.According to the invention, this will be the case. achieved that in the path of the electron beam to the piezoelectric Solid a third group of electrodes is attached. which has parallel slots, which cien electron beam in several separated partial beams-Κ · π share.

Bei der Vorrichtung nach der Erfindung treffen mehrere getrennte Teilelektronenstrahlen in Abständen auf dem piezoelektrischen Festkörper auf. jeder dieser Teilelekironenstrahlen erzeugt eine mechani- <die Welle. Durch geeignete Ablenkung der Teilelekiionenstrahlen kann leicht erreicht werden, daß die j -bstände der Auftreffzonen bei den jeweils angev-'ndeten Frequenzen Vielfache der Wellenlänge der Mechanischen Weilen sind, so daß sich die von den einzelnen Teilelektronenstrahlen erzeugten Wellen addieren. Die Auftreffzonen ergeben also die gleiche Wirkung wie kammartig ineinandergreifende Elektrotlen, jedoch mit dem Unterschied, daß die Abstände zwischen den Auftreffzonen durch Veränderung der Ablenkspannungen leicht geändert und dadurch an die jeweilige Betriebsfrequenz angepaßt werden könneu. In the device according to the invention, several separate partial electron beams strike the piezoelectric solid at intervals. each of these partial electron beams generates a mechanical <the wave. By suitable deflection of the Teilelekiionenstrahlen can easily be achieved that the j -bstände strike zones of the multiple of the wavelength of the mechanical system being, are in each case Angev-'ndeten frequencies, so that adding the waves produced by the individual sub-electron beams. The impact zones thus produce the same effect as comb-like interlocking electrotols, but with the difference that the distances between the impact zones can be easily changed by changing the deflection voltages and thus adapted to the respective operating frequency.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt. Darin zeigtEmbodiments of the invention are shown in the drawing. In it shows

F i g. 1 eine Gesamtansicht einer Vorrichtung nach der Erfindung.F i g. 1 shows an overall view of a device according to the invention.

Fig 2 eine abgeänderte Ai.isführungsform der Vorrichtung von F i g. I.2 shows a modified embodiment of the The device of FIG. I.

F" ig. 3 eine andere Ausführungsform der Vorrich-Fig. 3 shows another embodiment of the device

*~ ". " O 111 t* ~ "." O 111 t

;ll! Ig ΙΤϊίί i-UiLIn i\>..>uiiail/!iiuiiliuulll Llllti; ll! Ig ΙΤϊίί i-UiLIn i \> ..> uiiail /! Iiuiiliuulll Llllti

F i g. 4 eine abgeänderte Ausführungsform der Vu.niiiiuiiu mit limn) RcsDiuiii/.iiuliiuHiiii.F i g. 4 a modified embodiment of the Vu.niiiiuiiu with limn) RcsDiuiii / .iiuliiuHiiii.

F i g. 1 zeigt eine piezoelektrische elektronische WandlervorriehUing mit einer Elektronenquelle 1. die von einem Heizdraht 2 geheizt wird, einer gitterförmigen ersten Elektrode 3 für die Steuerung des emittierten F.lektroner.slrahls. einer zweiten Eleknode 4. die Öffnungen 5 in Form von parallelen Schlitzen aufweist und mit einer gitterförrnigen dritten Elektrode 6. die in der Nähe des stabförmigen Blocks 7 aus piezoelektrischem Material angeordnet ist. ^F i g. 1 shows a piezoelectric electronic converter device with an electron source 1. which is heated by a heating wire 2, a grid-shaped one first electrode 3 for controlling the emitted electron beam. a second elecode 4. Has the openings 5 in the form of parallel slots and with a latticed third Electrode 6. which is arranged in the vicinity of the rod-shaped block 7 made of piezoelectric material is. ^

Sch'iießiicii bewirken seitliche Elektroden 8 und 9 die Fokussierung des Elektronenstrahls, und Elektroden 13 und 14 die Richtungseinstellung des Elektronenstrahls. Dies geschieht in an sich bekannter Weise mit Hilfe von nie':', dargestellten Spannungsquellen. an welche diese Elektroden angeschlossen sind. Der gesamte Wandler ist so angeordnet, daß die Richtung des Elektroncnstr;;,.;s im "wesenilirhen senkn'fhi y\\ der Nutzfläche des piezoelektrischen Blocks steht. fi_s Sch'iießiicii cause lateral electrodes 8 and 9 to focus the electron beam, and electrodes 13 and 14 to adjust the direction of the electron beam. This is done in a manner known per se with the help of voltage sources never shown ':'. to which these electrodes are connected. The entire transducer is disposed so that the direction of the Elektroncnstr ;;,;.. S is in the "y \\ wesenilirhen senkn'fhi the effective area of the piezoelectric block fi _s

Ein solcher Wandler arbeitet in der folgenden Weise: "Such a converter works in the following way: "

Die Elcktronenciiiclle 1 oder »Katode*· ist mit dem negativen Pol einer elektrischen Gleichspannungsquelle 30 verbunden. Sie emittiert einen Elektronenstrahl, der durch die Elektrode 4 oder Anodeo beschleunig! wird, die an den positiven Pol der Glcicli-Spannungsquelle 30 angeschlossen ist. Das Gitter 3 ermöglicht die Einstellung des emittierten Stroms und insbesondere dessen Modulation durch Anlegen einer zeitlich veränderlichen Spannung, beispielsweise einer Wechselspannung, mit Hilfe der Ouelie 31 zwischen Gitter und Katode. Aus diesem Grund soll das Gitter 3 nachstehend »Modulationselektrode« genannt werden.The electronic coil 1 or "cathode" is connected to the negative pole of an electrical DC voltage source 30 connected. It emits an electron beam that accelerates through the electrode 4 or anodeo! is applied to the positive pole of the Glcicli voltage source 30 is connected. The grid 3 enables the emitted current to be adjusted and in particular its modulation by applying a time-varying voltage, for example an alternating voltage, with the help of the Ouelie 31 between the grid and cathode. For this reason should the grid 3 be referred to as "modulation electrode" to be named.

Die Hilfeelektroden. wie die Elektroden 8 und 9. ermöglichen die Fokussierung und Führung des Elektronenstrahls, der nach dem Durchgang durch die >n der Anode 4 angebrachten Schlitze S in mehrere getrennte flache Teilst' Jilen zerlegt ist.The help electrodes. like electrodes 8 and 9, allow the focusing and guidance of the Electron beam, which after passing through the> n of the anode 4 slits S into several separate flat parts' Jilen is broken down.

Nach dem Durchgang durch das zv.eiie Gitter 6 treffen diese Elektronenstrahlen in getrennten AuI-treffzonen auf die Oberfläche des piezoelektrischen Stabes auf. Sie reißen daraus Sekundärelekti .neu heraus. Das Cutter 6 fängt diese Sekundärelektronen auf. und legt in einer bekannten Weise, bei der sein Potential eine Rolle spielt, das Potential der Oberfläche des von den Elektronenslrahlen getroffenen Blocks auf einen Wert fest, der unter demjenigen der zweiten Elektrodengruppe liegt. Das Potential des Blocks ist durch dessen Verbindung mit einem nicht dargestellten Bezugspunkt festgelegt.After passing through the two grids 6 these electron beams hit the surface of the piezoelectric in separate contact zones Rod up. They tear secondary electronics out of it out. The cutter 6 catches these secondary electrons. and attaches in a known way to be at the Potential plays a role, the potential of the surface of the block struck by the electron beams to a value below that of the second group of electrodes. The potential of the block is not due to its connection with you specified reference point.

Die auf die Auftreffzonen auf dem Kristall aufgebrachten Ladungen haben stets das gleiche Vorzeidien, und ihre Änderungen können son d'-in Wert i) bis zu einem Maximalwert gehen: sie lassen sich jedoch als die Summe von zwei gelrenn' aufgebrachten Ladungen heu achten, nämlich zeitlich kontinuierlich aufgebrachte negativ Ladungen und dem Aulbringen einer reinen Wechselgröße, die durch positive und negative Werte geht.The charges applied to the impact zones on the crystal always have the same precursor, and their changes can be son d'-in value i) go up to a maximum value: however, they can be applied as the sum of two gelrenn ' Pay attention to charges today, namely continuously over time applied negative charges and the application a pure alternating quantity that goes through positive and negative values.

Die aufgebrachte negative Gleichgroße kann bei Untersuchung der Wirkungsweise vernachlässigt werden, denn ihre Wirkung beschrankt sich darauf, eine Raumwelle zu erzeugen, die sich senkrecht zu der Oberfläche des Kiistalls bewegt und an der eni-The applied negative equivalency can be neglected when examining the mode of action because their effect is limited to to generate a space wave that moves perpendicular to the surface of the crystal and

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derlich. absorbiert werden kann. Die .' Form einer W echselgröße aufgebrachten Ladungen, -!ie die nutzbare Erscheinung darstellen, erzeugen 1 : -gen in jeder Auftreffzone eine mechanische Spannung pieznelektrischen Ursprungs, die prinzipiell /u dem gleidien Ergehiis führt wie im Fall der /n,or beschriebenen bekannten elektrischen Leitungen.so. can be absorbed. The .' Form a Alternating size charges applied, -! Ie the usable Represent appearance, generate 1: -gen in each Impact zone a mechanical tension of piezoelectric origin, which in principle / u dem gleidien The result is as in the case of the above known electrical lines.

Aus dem gleichen Grund wie dort ist es zur \ erbesserung des Wirkungsgrads ..,xyinischt. i.,ie Wirklingen der elektrischer, Felder in jeder Aiifireflzonc zu addieren, was hei einer —^henen elektrischen Modulationsfrcquen. dazu führt, die Zonen in Abständen anzuordnen, die \ vliache der Wellenlänge der mechanischen Welle ii-, dem Material sinci. so daß die ensprechenden mechanischen Spannungen in Phase sind. Im Gegen·. \i zu dir Begrenzung der Bandbreite, die sich dai rs bei den bekannten \ orrichtungen ergibt, läßt sich aber diese Bedingung bei der dargestellten Vorrichtung Jurcli Einstellung der den Konzentiations- und Ablenkclektroden 13 und 14 zugeführten elektrischen Spannungen leicht erfiillen. weil dadurch der Abstand der Auftreffzonen nach den Gesetzen der Elektronenoptik leicht verändert werden kanr.. Daraus ergibt sich die MöglichkeitFor the same reason as there, it is used to improve efficiency .., xyinish. i., ie the effects of the electric fields in each aiifireflzonc add up what is called an electric modulation frequency. leads to arranging the zones at intervals that are \ vliache the wavelength of the mechanical wave ii, the material sinci. so that the corresponding mechanical stresses are in phase. In the opposite ·. In order to limit the bandwidth that results from the known devices, this condition can easily be met with the device shown, i.e. the adjustment of the electrical voltages supplied to the concentration and deflection electrodes 13 and 14. because this allows the distance between the impact zones to be changed slightly according to the laws of electron optics. This gives rise to the possibility

einer beträchtlichen Erweiterung des Bereichs der Eingangsfrequcnzen bei denen der Wandler mit gutem Wirkungsgrad arbeitet.a considerable expansion of the field of Input frequencies at which the converter works with good efficiency.

Es ist andererseits auch leicht möglich, durch Einstellung der diesen Elektroden zugeführten elektrischen Spannungen die Lage der Gesamtheit der Auftreffzonen des Elektronenstrahls entlang dem Stab zu verändern, damit für bestimmte Anwendungsfälle Voreilungs- oder Nachcilungseffckte bei der Ausbildung der nutzbaren Spannungen erhalten werden.On the other hand, it is also easily possible by setting the electrical voltages supplied to these electrodes determine the location of the totality of the impact zones of the electron beam along the rod, so for certain applications Leading or trailing effects can be obtained in the formation of the usable voltages.

F i g. 2 zeigt eine andere Alisführungsform, bei der das Abfließen der durch den Elektronenstrahl auf dem piezoelektrischen Block aufgebrachten statischen elektrischen Ladungen auf andere Weise als mit Hilfe der Sekundäremission in Verbindung mit einer Fangelcktrode erreicht wird, wie es bei der Ausführungsform von Fig. 1 der Fall ist. Das Gitter 6 von Fig. I ist fortgelassen, und eine sehr dünne leitende Schicht 10 mit großem spezifischem Widerstand ist auf den Block aufgebracht und in bezug auf die Kaiode 1 auf ein positives Glcichpotentuil gebracht. Bei gewissen Varianten ist diese Schicht nvt dem positiven Pol der Gleichspannungsquelle verbunden. Unter diesen Bedinungen können die von den Elektronenstrahlen auf den piezoelektrischen "Uk:!; 7 aufgebrachten Ladungen abfließen, und die Ausbreitung der mechanischen Wellen kann stattfinden. F i g. 2 shows another form of Alis guide in which the drainage of the static applied by the electron beam on the piezoelectric block electrical charges in other ways than with the help of secondary emission in connection with a Fangelcktrode is achieved, as is the case with the embodiment of FIG. The grid 6 of Fig. I is omitted, and a very thin conductive layer 10 with high resistivity is applied to the block and brought to a positive equilibrium potential with respect to the Kaiode 1. In certain variants, this layer is connected to the positive pole of the DC voltage source. Under these conditions, the electron beams on the piezoelectric "Uk:!; 7 applied charges flow away, and the propagation of mechanical waves can take place.

F i c. 3 zeial eine andere Ausführungsform der Vorrichtung, die insbesondere für sehr hohe Frequenzen geeignet ist. Die Modulationsclektrode4 bildet einen Teil eines Resonanzhohlraums 11 derail, wie sie im Höclistfrequenzbereich verwendet wird. Die Elektronenemissionskatode 1 und die Modulationselektrodc 3 sind einander «egeniiber in dem Teil des Hohlraums angebracht, in welchem das elektrische Wechsell'eld am stärksten ist.F i c. 3 shows another embodiment of FIG Device that is particularly suitable for very high frequencies. The Modulationsclektrode4 forms a part of a resonance cavity 11 derail, as used in the Höclist frequency range. The electron emission cathode 1 and the modulation electrode c 3 are mounted opposite one another in the part of the cavity in which the electrical Wechselell'eld is the strongest.

F i g. 4 zeigt eine abgeänderte Ausführung, bei derF i g. 4 shows a modified embodiment in which

ίο die Ki'lode 1 von dem Hohlraum getrennt ist. durch den der Elektronenstrahl hindurchgeht, der darin eine Geschwindigkeitsmodulation erfährt. Es ist aus der Therorie der Elektronenröhren bekannt, daß diese Modulation nach dem Durchlaufen eines bestimmen Wegs oder Laufraums 20 eine Dichtemodulation des Elektronenstrahls in Form von Elektroncnpaketen mit großer Dichte verursacht.ίο the Ki'lode 1 is separated from the cavity. by which the electron beam passes through and undergoes velocity modulation in it. It's over the theory of electron tubes known to determine this modulation after passing through a Path or run space 20 density modulation of the electron beam in the form of electron packets caused with great density.

In diesem Abschnitt des Elektronenstrahls ist der Block aus piezoelektrischem Material angeordnet.The block of piezoelectric material is arranged in this section of the electron beam.

Bei dem Ausführungsbeispiel von F i ». 4 ist der Film 10 durch eine Spannungsquelle 32 auf ein positives Potential gegenüber der Elektrode 4 gebracht. Diese Spannungsquellc ist aber für einen einwandfreien Betrieb der in F i g. -1 cezeigten Vnrrit-htnns nicht unbedingt notwendig. Die Vorrichtung kanr auch dann arbeiten, wenn der Film 10 mit dem Pluspol der Spannungsqueüe 30 verbunden ist. In die scm nicht dargestellten Fall erstreckt sich der Laufraum 20 bis zu dem Film 10.In the embodiment of F i ». 4, the film 10 is fed to a positive by a voltage source 32 Brought potential with respect to the electrode 4. But this voltage source is flawless Operation of the in F i g. -1 cshown Vnrrit-htnns not absolutely necessary. The device can also work when the film 10 has the positive pole the voltage source 30 is connected. In the In the case not shown, the running space 20 extends as far as the film 10.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (7)

1 2 gebracht ist und auf ein in bezug auf die Elektro- Patentansprüehe: nenquelle (1) positives Potential gebracht ist.1 2 is brought and is brought to a with respect to the electrical claims: nenquelle (1) positive potential. 1. Vorrichtung zur Umwandlung einer elektrischen Wechselgröße in eine mechanische Größe. 5 1. Device for converting an electrical alternating quantity into a mechanical quantity. 5 die sich in einem piezoelektrischen Festkörperwhich is in a piezoelectric solid ausbreitet, mit einer Elektronenquelle, die einenspreads, with an electron source, the one auf den Festkörper auftreffenden Elektronen- Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung strahl emittiert, einer ersten Elektrodengruppe zur Umwandlung einer elektrischen Wechsclgröße in zur Modulation des Elektronenstrahls mit Hilfe io eine mechanische Größe, die sich in einem piezoelekder elektrischen Wechselgröße, einer zweiten frischen Festkörper ausbreitet, mit einer Elektronen-Elektrodengruppe zur Konzentration und Ablen- quelle, die einen auf den Festkörper auftreffenden kung des Elektronenstrahls und mit einer Ein- Elektronenstrahl emittiert, einer ersten Elektrodenrichtung, weiche das Potential an der Fläche des gruppe zur Modulation des Elektronenstrahls mil piezoelektrischen Festkörpers, an der der EIek- 15 Hilfe der elektrischen Wechselgröße, einer zweiten Ionenstrahl auftrifft, auf einen Wert festlegt, der Elektrodengruppe zur Konzentration und Ablenkung von der Inter.s tat des Elektronenstrahls abhängt, des Elektronenstrahls und mit einer Einrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß im Weg welche das Potential an der Fläche des piezoelektri des Elektronenstrahls zu dem piezoelektrischen sehen Festkörpers, an der der Elektronenstrahl aui-Festkörper (7) eine dritte Elektrodengruppe (4) 20 trifft, auf einen Wert festlegt, der von der Intensität ungeordnet ist. die parallele Schlitze (S) aufweist, des Elektronenstrahls abhängt.Electrons striking the solid - The invention relates to a device emitted beam, a first group of electrodes for converting an electrical alternating quantity into to modulate the electron beam with the help of a mechanical quantity that is in a piezoelekder alternating electrical quantity, spreads out a second fresh solid, with an electron-electrode group for the concentration and deflection source that hits the solid effect of the electron beam and emitted with a single electron beam, a first electrode direction, soften the potential on the surface of the group for modulating the electron beam mil piezoelectric solid body, on which the EIek- 15 help of the electrical alternating quantity, a second Ion beam hits, fixed to a value, the electrode group for concentration and deflection depends on the interface of the electron beam, of the electron beam and with a device characterized in that in the way which the potential at the surface of the piezoelectric des Electron beam to see the piezoelectric solid, to which the electron beam aui-solid (7) hits a third group of electrodes (4) 20, sets a value that depends on the intensity is disordered. which has parallel slits (S) depends on the electron beam. Kelche den Elektronenstrahl in mehrere ge- In der USA.-Patentschrift 2 941 1 K) ist eine clek-Chalices the electron beam in several Irennte Teilstrahlen aufteilen. troakustische Verzögerungsleitung beschrieben, beiSplit up the partial beams. troacoustic delay line described at 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- der die sich in einem piezoelektrischen Festkörper kennzeichnet, daß die erste Elektrodengruppe (3) 25 ausbreitenden Ultraschallwellen durch einen mit dem ivcnigstens eine Elektrode enthält, die einen Be- elektrischen Signal modulierten Elektronenstrahl er-Siandteil eine; Hochfrequenz-Resonanzhohl- zeugt werden, der auf eine Elektrode eines an dem raums (11) bildet. piezoelektrischen Festkörper angebrachten Elektro-2. Device according to claim 1, characterized in that it is located in a piezoelectric solid indicates that the first electrode group (3) 25 propagating ultrasonic waves by a with the It contains at least one electrode which emits an electron beam modulated by an electrical signal one; High-frequency resonance hollow, which is placed on an electrode of one of the space (11) forms. piezoelectric solid-state attached electrical 3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge- dcnpaares auftrifft. Die andere Elektrode des Elekkennzeichnet. daß die Elektronenquelle (1) durch 30 trodenpaares ist an eine hohe Gleichspannung gelegt, den gegenüberliegenden Teil des Resonanzhohl- und die beiden Elektroden sind miteinander über raums (11) gebildet ist. welcher der einen Be- einen großen Widerstand verbunden. Beim Auftreljtandteil des Resonanzhohlraums bildenden fen des Elektronenstrahls auf die eine Elektrode Elektrode der ersten Elektrodengruppe (3) ge- fließt über diesen Widerstand ein Strom, der in gleijenüberliegt. 35 eher Weise wie der Elektionensiiahl moduliert ist.3. Device according to claim 2, characterized in that the pair impinges. The other electrode of the Elek indicates. that the electron source (1) is connected to a high DC voltage through 30 pairs of electrodes, the opposite part of the resonant hollow and the two electrodes are over to each other space (11) is formed. which of the one be connected with great resistance. At the contract part of the resonance cavity forming fen of the electron beam on the one electrode Electrode of the first electrode group (3), a current flows through this resistor which is superimposed in the same way. 35 rather the way the selection is modulated. 4. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge- und die dadurch zwischen den beiden Elektroden kennzeichnet, daß die Elektronenquelle (1) von entstehende Spannung erzeugt in dem piezoelektridcm Resonanzhohlraum (11) getrennt ist und in sehen Festkörper mechanisch Wellen, die sich in bezug auf diesen auf der Seite liegt, die der Seite dem Festkörper zu einem als Ausgarsgswandler dieentgegengesetzt ist. auf der der piezoelektrische 40 ncnden Elektrodenpaar hin ausbreiten. Die Veizöge-Festkörper (7) angeordnet ist, und daß ein Lauf- rungszeit entspricht der Laufzeit zwischen dem vom raum (20) für die Elektronen des Elektronen- Elektronenstrahl getroffenen Elektrodenpaar und Strahls im Weg des Elektronenstrahls von dem dem Ausgangswandler. Zur Erzielung unterschied!:-4. Apparatus according to claim 2, thereby ge and thereby between the two electrodes indicates that the electron source (1) is generated by the voltage generated in the piezoelectridcm Resonance cavity (11) is separated and see in solid bodies mechanically waves that are in with respect to this is on the side that is the opposite of the side of the solid to the one used as a Ausgarsgswandler is. on the pair of piezoelectric electrodes. The Veizöge solids (7) is arranged, and that a running time corresponds to the running time between that of space (20) for the electrons of the electron-electron beam hit pair of electrodes and Beam in the path of the electron beam from that of the output transducer. To achieve the difference!: - P¹ OCO Π Ί ην It ιλ\λ ! r'l 11 m '/ 1 r rlnm Hoc t I.' iArrso t- υΐΛπιοΐΊ» /*li tit* \ /<■» r-'/* %(»*■*»·· 1 »■> »r -ί-.· ♦ <->·■» '···>/■! Antl'inn 1 lni" «irnAol <■»! -P ¹ OCO Π Ί ην It ιλ \ λ ! r'l 11 m '/ 1 r rlnm Hoc t I.' iArrso t- υΐΛπιοΐΊ »/ * li tit * \ / <■» r - '/ *% (»* ■ *» ·· 1 »■>» r -ί-. · ♦ <-> · ■ »' ·· ·> / ■! Antl'inn 1 lni "« irnAol <■ »! - .ι... U..U....4·.'···· ·..(.·(·· /-,·.* "Uli X. k..llnV)i|/t| .Ul L₁WlIV till·! » Viy.Vf^VI UIIL..)/.V(IVII .TIlISJ VIIUUHk VItIlI j/l\-/_^/*-H_I\.ι ... U..U .... 4 ·. '···· · .. (. · (·· /-,·.* "Uli X. k..llnV) i | / t | .Ul L ₁ WlIV till ·! »Viy.Vf ^ VI UIIL ..) /. V (IVII .TIlISJ VIIUUHk VItIlI j / l \ - / _ ^ / * - H_I \ hen ist. 45 frischen Festkörper mehrere Elektrodenpaare in ver-hen is. 45 fresh solid state several pairs of electrodes in different 5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 schiedenen Abständen von dem Ausgangswandiei bis 4. dadurch gekennzeichnet, daß die parallelen angeordnet, und es sind Ablenkcinrichtungen vorge-Schlitze (5) im wesentlichen senkrecht zu der seilen, die den Elektronenstrahl wahlweise auf eines Ausbreitungsrichtung des Elektronenstrahls ge- der Elektrodenpaare richten.5. Device according to one of Claims 1, at different distances from the exit wall to 4. characterized in that the parallel arranged, and there are deflection devices pre-slots (5) substantially perpendicular to the cables carrying the electron beam optionally onto one Align the direction of propagation of the electron beam with the electrode pairs. richtet sind. 50 Diese bekannte Vorrichtung weist einen sehr ge-are directed. 50 This known device has a very 6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 ringen Wirkungsgrad auf. weil der Elektronenstrahl bis 5. dadurch gekennzeichnet, daß das Material nur auf eine einzige Stelle des piezoelektrischen Festdes piezoelektrischen Festkörpers (7) die Eigen- körpers gerichtet wird, die außerdem in der Ausbrei-Cchaft der Sekundärelcktronencmission aufweist. tungsrichtung der Ultraschallwellen eine möglichst daß die Einrichtung zur Festlegung des Potentials 55 geringe Ausdehnung haben muli, damit die Ullraan der Auftrefflächc des Elektronenstrahls eine schallwelle das elektrische Signal naturgetreu nachvierle Elektrodengruppe (6) aufweist, die in im- bildet.6. Device according to one of claims 1 to fight efficiency. because the electron beam to 5. characterized in that the material only applies to a single point of the piezoelectric Festdes Piezoelectric solid body (7) the own body is directed, which also in the expansion Cchaft the secondary electron emission. direction of the ultrasonic waves as possible that the device for determining the potential 55 have small extension muli, so that the Ullraan the impact surface of the electron beam, a sound wave faithfully reproduces the electrical signal Has electrode group (6) which forms in im-. mittelbarer Nähe der Oberfläche des Festkörpers Ein besserer Wirkungsgrad wird bei anderen be-indirect proximity of the surface of the solid angcordnet ist, und daß die vierte Elektroden- kannten Anordnungen dadurch erzielt, daß das elek-is arranged, and that the fourth electrode known arrangements achieved in that the elec- gruppe auf einem in bezug auf die Elektronen- fio trische Signal direkt an Elektroden angelegt wird, diegroup is applied directly to electrodes in relation to the electron fio tric signal, the quelle (1) positiven Potential liegt, so daß sie als in Form von kammartig ineinandergreifenden Flach-source (1) is positive potential, so that it is in the form of comb-like interlocking flat Fangelektrode für die Sckundärelektronen wirkt. leitern auf der Oberfläche des piezoelektrischen Fcsl-The target electrode acts for the secondary electrons. conductors on the surface of the piezoelectric Fcsl- 7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 körpers angebracht sind. Daurch addieren sich die bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrich- Wirkungen der elektrischen Felder von mehreren tung zur Festlegung des Potentials an der Auf- 65 kammartig ineinandergreifenden Leiterelementen, trefllächc des Elektronenstrahls aus einem dün- vorausgesetzt, daß die Abstände dieser Lciterelcnen Metallfilm (10) besteht, der auf die Ober- mentc auf die Frequenz des elektrischen Signals so fhiche des piezoelektrischen Festkörpers (7) auf- abgestimmt sind, daß die erzeugten mechanischen7. Device according to one of claims 1 body are attached. This adds up the to 5, characterized in that the Einrich- effects of the electric fields of several device for determining the potential at the 65 comb-like interlocking conductor elements, The surface of the electron beam from a thin surface, provided that the distances between these lines are sufficient Metal film (10) is made on the upper mentc on the frequency of the electrical signal so fhiche of the piezoelectric solid body (7) are matched to the mechanical