DE2124047A1 - Photosensitive Polymere, Verfahren zur Herstellung derselben und diese Polymeren enthaltende Zusammensetzungen - Google Patents
Photosensitive Polymere, Verfahren zur Herstellung derselben und diese Polymeren enthaltende ZusammensetzungenInfo
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Description
2^4047
MPNCHEN1»
GF-740/C
Fuji Chemicals Industrial Co., Ltd., Tokyo, Japan
Photosensitive Polymere, Verfahren zur Herstellung
derselben und diese Polymeren enthaltende Zusammensetzungen
Die vorliegende Erfindung betrifft photosensitive filmbildende
organische Polymere und diese enthaltende Zusammensetzungen, die
bei Belichtung unlöslich werden und mit einer wässrigen alkalischen Lösung entwickelt werden können, und insbesondere photosensitive
filmbildende organische Polymere, die lichtempfindliche Gruppen und phenolische Hydroxylgruppen enthalten und in einer
wässrigen alkalischen Lösung löslich sind.
Übliche photosensitive Zusammensetzungen, die beim Belichten unlöslich
werden und für photomechanische Verfahren und zum Photoätzen und als Photolacke verwendet werden, bestehen aus PoIyvinyleinnamat
und einem bekannten Sensibilisierungsmittel oder einer Arylazidverbindung, wie beispielsweise Chalkondiazid » und
cyclisiertem Kautschuk. Überzüge aus solchen Zusammensetzungen werden in den exponierten Bereichen selektiv unlöslich, während
die nichtbelichteten Bereiche löslich bleiben und mit einem Lösungsmittel leicht entfernbar sind. Eine solche Entwicklung
mit organischen Lösungsmitteln hat jedoch gewisse Nachteile. So macht es beispielsweise die Tatsache, dass diese toxisch, ent-
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ORIGINAL INSPECTED
flammbar, kostspielig und schwierig zu handhaben sind, erforderlich,
spezielle Vorsichtsmassnahmen bei dem Verfahren zu treffen. Wird ein Überzug aus solchen Zusammensetzungen als
lichtempfindliche Schicht für eine vorsensitivierte Platte zum. Offsetdruck verwendet, so kann der nichtbelichtete Teil des
Überzugs, der mit einem solchen Lösungsmittel nicht immer vollständig entfernt wird, während des Drückens zu Fehlern führen.
Da der Vorteil der Verwendung von alkalilöslichen lichtempfindlichen
Zusammensetzungen erkannt wurde, wurden photosensitive Zusammensetzungen aus einem alkalilöslichen Harz und einem Sensibilisierungsmittel
und Polymere mit einer hydrophilen Gruppe sowie einer in ihre Polymerkette eingebrachten lichtempfindlichen
Gruppe untersucht. Eine solche Zusammensetzung ist beispielsweise in der deutschen Patentschrift 960 335 als ein
Gemisch einer p-Chinondiazidverbindung und eines alkalilöslichen Phenol-Formaldehyd-Kondensationsprodukts beschrieben. Der
mit dem alkalilöslichen Phenol-Formaldehyd-Kondensationsprodukt gebildete Überzug besitzt geringe Festigkeit gegen Abrieb
und Verkratzen und weist eine enge Auflösungsbreite der nichtbelichteten Bereiche während der Entwicklung auf. In der
US-Patentschrift 2 861 058 ist ein lichtempfindliches Polymeres beschrieben, das durch Veresterung von Polyvinylalkohol mit
Zimtsäure und Bernsteinsäure erhalten ist. Die für den Entwick-
r ler verwendete wässrige Ammoniumhydroxydlösung hat jedoch viele
Nachteile, beispielsweise einen sehr stechenden Geruch, eine irritierende Wirkung auf die Augen und Schleimhäute und eine
enge Entwicklungsbreite aufgrund ihrer Flüchtigkeit, durch die die Konzentration des Ammoniumhydroxyds in der Lösung herabgesetzt
wird. Ausserdem wurde festgestellt, dass nach Aufbringen
dieses Polymeren auf eine lithographische Druckplatte die Bildbereiche
dieser Platte kein zufriedenstellendes Aufnahmevermögen für die Farbe haben. In der US-Patentschrift 3 069 311 wird
ferner ausgeführt, dass ein lösliches lichtempfindliches Polymeres
gebildet wird, indem man partiell hydrolysierten Polyvinylalkohol mit Azidophthalsäureanhydrid verestert. Dieses Polymere
hat jedoch einige Nachteile. Zum ersten sind viele Re-
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aktionsstufen für die Herstellung dieses Polymeren erforderlich,
und zum zweiten ist bei Verwendung dieses Polymeren als Überzug für eine Druckplatte die Entwicklungsbreite der Platte enger
als im Falle üblicher Überzüge. Der aus diesem Polymeren mit mehr Azidophthalsäureeinheiten bestehende Überzug wird zum Zeitpunkt
der Entwicklung leicht abgewaschen, während der aus diesem Polymeren mit weniger Azidophthalsäureeinheiten bestehende
Überzug nur schwer entwickelbar ist.
Die vorliegende Erfindung betrifft nun verbesserte photosensitive
Polymere und Zusammensetzungen von diesen, die bei Belichtung unlöslich werden und mit einer wässrigen alkalischen
Lösung entwickelt werden können. Diese phbtosensitiven Polymeren werden durch Umsetzung von Polyvinylalkohol mit aromatischen
Aldehyden, Carbonsäuren oder Sulfonsäuren, die lichtempfindliche Gruppen aufweisen, und mit aromatischen Aldehyden, Carbonsäuren
oder Sulfonsäuren, die phenolische Hydroxylgruppen aufweisen, erhalten. Diese erfindungsgemässen photosensitiven Zusammensetzungen
besitzen einen weiten Anwendungsbereich, wie beispielsweise bei photomechanischen Verfahren und Photofabrikationsvorgängen
und dergleichen.
Die erfindungsgemässen neuen photosensitiven Polymeren enthalten sich wiederholende Einheiten der folgenden allgemeinen
Strukturen:
CH,
CH,
(D
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CH2 CH
O-
-CHp — CH
H C
L— CH2
CH
I
co
-M-
■N:
CH2 "^- CH
I
co
(H)
OH
CH2
H
-C-
(III)
R
OH
• CH2 .-
CH —CH2; CH -)-
H -C-
■f CH2 —CH ..CH2
H •C·
CH
(IV)
OH
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CH2
CH .-}■ O
■fr-. CH2
(V)
CO
H OH
R OH
CH2 -
CH
CO
CH
Il
CH
) (— CH2 CH
CH2 CH
H -C
OH
CH2 CH CH2
Jo
—Fr—R
Ν·: PH
SO,
—H-R
(vii)
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2U4047
CH,
CH O
-fr- CH2
SO,
CH0 CH~i (- CH2
SO2
CH -
SO2
•R
OH
(VIII)
(IX)
•ir CH2 —cn — CH2 —gh ή—(—
(X)
CH2 -— CH -3 C- CH2
CH -CIi2
R OH
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(XI)
(XII)
worin R aus der Gruppe der Wasserstoffatome, der HydroxyIr,
Carboxyl-, Alkyl-, Alkoxy-, Aryl-, Nitro- und Aminogruppen und der Halogenatome gewählt ist.
Diese lichtempfindlichen Polymeren werden nach einer der folgenden
Reaktionen erhalten:
1) Veresterung von Polyvinylalkohol mit einer aromatischen Carbonsäure
oder Sulfonsäure, die eine lichtempfindliche Gruppe aufweist, und Veresterung des Reaktionsprodukts mit einer aromatischen
Carbonsäure oder Sulfonsäure, die eine phenolische Hydroxylgruppe aufweist, in beliebiger Reihenfolge;
2) Acetalisierung von Polyvinylalkohol mit einem aromatischen Aldehyd, der eine lichtempfindliche Gruppe aufweist, und Veresterung
des Reaktionsprodukts mit einer aromatischen Carbonsäure
oder Sulfonsäure, die eine phenolische Hydroxylgruppe aufweist, in beliebiger Reihenfolge;
3) Veresterung von Polyvinylalkohol mit einer aromatischen Carbonsäure
oder Sulfonsäure, die eine lichtempfindliche Gruppe aufweist, und Acetalisierung des Reaktionsprodukte mit einem
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aromatischen Aldehyd, der eine phenolische Hydroxylgruppe aufweist,
in beliebiger Reihenfolge; und
4) Acetalisierung von Polyvinylalkohol mit einem aromatischen ,
Aldehyd, der eine lichtempfindliche Gruppe aufweist, und Acetalisierung des Reaktionsprodukts mit einem aromatischen Aldehyd,
der eine phenolische Hydroxylgruppe aufweist, in beliebiger Reihenfolge.
Die Acetalisierung kann in einem geeigneten Lösungsmittel, wie beispielsweise Eisessig oder Dioxan, bei einer Temperatur von
50 bis 60 C während etwa 5 Stunden vorgenommen werden. Die Veresterung
kann in einem geeigneten organischen basischen Lösungsmittel, wie beispielsweise Pyridin, Picolin oder Dimethylformamid,
bei einer Temperatur von 50 bis 6O0C während 3 bis
4 Stunden durchgeführt werden.
Die lichtempfindlichen Polymeren enthalten Arylazid- oder Zimtsäurereste
als lichtempfindliche Gruppen und phenolische Hydroxylgruppen bei einem Gehalt von nicht weniger als 30 Mol-$
sich wiederholender Ithyleneinheiten, die den Überzug für die
Entwicklung mit einer wässrigen alkalischen Lösung ergeben können.
Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Polymeren haben ein
spezifisches IR-Absorptionsspektrum bei 2100 cm" , das charakteristisch
für die aromatische Azidgruppe ist, oder 1610 cm"* , das charakteristisch für die Doppelbindung der Zimtsäuregruppe
ist, und 3400 bis 3500 cm"1,
nolische Hydroxylgruppe ist.
nolische Hydroxylgruppe ist.
ist, und 3400 bis 3500 cm" , das charakteristisch für die phe-
Y/enn die Eigenempfindlichkeit dieser photosensitiven Polymeren
nicht zufriedenstellend ist, können die üblichen spektralen Sensibilisatoren in einer Menge von 10 Gew.-?S mit den obigen
photosensitiven Polymeren zur Erhöhung von deren Lichtempfindlichkeit verwendet werden. Zu solchen Sensibilisierungsmitteln
gehören Kohlenwasserstoffe, wie beispielsweise Acenaphthen,
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_ 9 —
Fluoren und Pyren, Nitroverbindungen, wie beispielsweise 5-Nitroacenaphthen,
2-Nitrofluoren, 1-Nitropyren, p-Nitrobenzaldehyd
und p-Nitroanilin, Chinone, wie beispielsweise p-Benzochinon,
öf-Naphthochinon, 1,2-Benzanthrachinon und Chlor-1,2-benzanthrachinon,
Ketone, wie beispielsweise Michlers-Keton, 9-Fluorenon und 1,8-Phthaloylnaphthalin,und andere Verbindun-*
gen, wie beispielsweise Acridin und Diphenyldisulfid und dergleichen.
Das photosensitive Polymere und das spektrale Sensibilisierungsmittel
werden in einem geeigneten Lösungsmittel, wie beispielsweise Äthylenglykolmonoalkyläther, gelöst, um die photosensitiven
Zusammensetzung, die verwendet werden soll, herzustellen. Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusammensetzungen
bestehen vorzugsweise aus 5 bis 30 G-ewichtsteilen photosensiti-vem Polymere.n etwa 1/10 Gewichtsteil spektralem
Sensibilisator und 100 Gewichtsteilen Lösungsmittel.
Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusammensetzungen können
auf verschiedene Trägerunterlagen zur Verwendung als Druckplatten, wie beispielsweise solchen aus Aluminium, Zink, Magnesium
und verschiedenen Legierungen von diesen, aufgebracht werden. Die vorsensitivierten Platten, die für lange Zeitspannen
vor der Verarbeitung gelagert werden können, können in der gleichen Weise hergestellt werden. Diese Zusammensetzungen sind
zur Herstellung eines photosensitiven Films auf einer Kunststoff trägerunterlage, wie beispielsweise einer Polyäthylenterephthalatfolie,
die zur Herstellung von gedruckten Schaltkar ten und dergleichen verwendet werden, geeignet·
TJm eine chemische Reaktion mit den Oberflächen von Metallunterlagen
zu vermeiden, ist der für diese lichtempfindlichen Zusammensetzungen geeignete Entwickler eine schwach alkalische
wässrige Lösung, vorzugsweise eine 1 bis 10~$ige Lösung, beispielsweise
von Natriumhydroxyd, eine wässrige Natriummetasilicat- oder Natriumtriphosphatlösung und dergleichen. Da diese
alkalischen Lösungen durch Auflösen der unbelichteten Bereiche
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- ίο -
entwickeln können, können sie für Schalen-, Tank- und Sprüh- entwicklungen
verwendet werden, die keine physikalischen Behandlungen, wie beispielsweise Reiben, Schwabbeln und dergleichen,
erfordern. Ein oberflächenaktives Mittel kann mit dem Entwickler verwendet werden, um das Eindringen desselben in die
unbelichteten Überzugsbereiche zu erhöhen.
Ein Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass die photovernetzten Bildbereiche des Überzugs mit üblichen konzentrierten
alkalischen Lösungen oder geeigneten organischen Lösungsmitteln, wie beispielsweise Alkoholen und/oder Alkoholäthern,
leicht gelöst und entfernt werden, da phenolische Hydroxylgruppen nicht an der Photοvernetzung teilnehmen und in
diesen Bildbereichen noch vorhanden sind.
Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung.
Zu einer Dispersion von 22 g Polyvinylalkohol in 300 ml Eisessig wurden 11g p-Azidobenzaldehyd, 21,4 g p-Hydroxybenzaldehyd
und 20 ml wässrige 30$ige Schwefelsäurelösung sukzessiv unter Rühren des Gemische zugegeben. Das Gemisch wurde dann
unter Rühren 3 Stunden bei 50 bis 6O0O zur Acetalisierung erhitzt.
Anschliessend wurde das Reaktionsgemisch abgekühlt und in Wasser eingetropft, um das Harz abzuscheiden, das mit Wasser
gewaschen und getrocknet wurde.
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit einem Gehalt von 5 g des nach der obigen Arbeitsweise erhaltenen photosensitiven Polymeren,
0,5 g 1,2-Benzanthrachinon als Sensibilisierungsmittel
und 100 g Ä'thylenglykolmonoäthyläther wurde auf eine gekörnte Aluminiumblechplatte aufgebracht, um eine dünne Schicht darauf
zu bilden. Nach Trocknen wurde diese Schicht durch ein transparentes
Negativ unter Verwendung einer 100 V 50 A Kohlenbogen-"lampe
3 Minuten lang belichtet und dann mit einer wässrigen
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5$igen Trinatriumphosphatlösung mit einem Gehalt von 1 ^ Natriumalkylnaphthalinsulfonat
entwickelt, um den Überzug von den nichfbelichteten Bereichen zu entfernen. Dann wurde mit Wasser
gewaschen und schliesslich eingefärbt.
Bei Versuchen, bei denen diese Druckplatte auf eine "Mitsubishi-Marinoni"-Bahnoffsetpresse
gebracht wurde, wurden mehr als 200 000 Drucke ohne irgendwelche Ablösungen der Platte hergestellt,
wobei die Drucke überragende Klarheit und Detailliertheit aufwiesen.
Ausserdem konnte die erfindungsgemässe Überzugsschicht in einem
lichtdichten Behälter mehr als 6 Monate ohne irgendwelche Qualitätsänderungen gelagert werden,
11g Polyvinylalkohol und 100 ml Pyridin wurden zusammen bei einer
Temperatur von 1000C 24 Stunden lang gerührt. Nach Abkühlen
auf 500C wurden 13 g Cinnamoylchlorid, 25 g Salicyloylchlorid
und 100 ml Pyridin zu dieser lösung zugegeben. Das Gemisch wurde weitere 4 Stunden bei 50 C zur Veresterung gerührt. Das Reaktionsgemisch
wurde mit 1000 ml Aceton verdünnt und filtriert. Das Piltrat wurde in eine grosse Menge kräftig gerührtes Wasser
gegossen, um das Harz zu isolieren, das mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde.
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit einem Gehalt von 5 g
des nach der obigen Arbeitsweise erhaltenen photosensitiven Polymeren, 0,5 g 5-Nitroacenaphthen und 100 g Äthylenglykolmonoäthylather
wurden auf eine Drei-Metall-Stahl-Kupfer-Chrom-Platte aufgebracht, um auf dieser eine dünne Überzugsschicht zu
bilden. Nach Trocknen wurde diese Schicht durch ein transparentes Positiv mit einer Xenonlampe 5 Minuten lang belichtet und
dann mit einer wässrigen 5$igen Natriumhydroxydlösung entwickelt,
um den Überzug von den unbelichteten Bereichen zu entfernen, und anschliessend mit V/asser gewaschen. Die Chromoberfläche der
Platte wurde mit einer Ätzlösung für die Drei-Metall-Platte be-
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handelt, die aus einer gesättigten Lösung von Calciumchlorid und Chlorwasserstoffsäure bestand, um das Kupfer freizulegen, und
dann mit-Wasser gewaschen. Die belichtete Überzugsschicht wurde
mit einer wässrigen 20%igen Natriumhydroxydlösung entfernt, und die Kupferbildbereiche wurden dann aktiviert und eingefärbt·
34 g Vanillin und 25 ml einer 20$igen Schwefelsäurelösung wurden
zu einer Dispersion von 22 g Polyvinylalkohol in 300 ml Eisessig unter Rühren zugegeben. Das Gemisch wurde 3 Stunden bei
5O0C zur Acetalisierung gerührt. Nach der Reaktion wurde das
Gemisch abgekühlt und in Wasser gegossen, um das Harz abzuscheiden,
das mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde. 10,2 g des
Reaktionsprodukts und 5,5 g p-Azidobenzoylchlorid wurden dann
zu 200 ml Pyridin zugegeben, und das Gemisch wurde 5 Stunden zur Veresterung gerührt. Das Reaktionsgemisch wurde mit Aceton verdünnt
und in Wasser eingetropft, um das Harz abzuscheiden, das mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde.
Eine photosensitive Zusammensetzung aus 10 g des nach der obigen
Arbeitsweise erhaltenen photosensitiven Polymeren, 0,1 g 2-Nitrofluoren als Sensibilisierungsmittel und 0,05 g Kristallviolett
in 100 g Äthylenglykolmonomethyläther wurde auf eine PoIyäthylenterephthalatfolie
als Schicht aufgebracht und getrocknet. * Dieser sensitivierte trockene PiIm wurde auf die Kupferoberfläche
einer gedruckten Schaltkarte mittels erhitzten Presswalzen laminiert, und durch ein transparentes Negativ 2 Minuten lang mit
einer Ultrahochdruckquecksilberlampe belichtet. Nach Abziehen des Trägerfilms wurde die exponierte Schicht mit einer wässrigen
5$igen Natriummetasilicatlösung mit einem Gehalt von 1 $
Natriumalkylbenzolsulfonat als Entwickler entwickelt und dann mit Wasser gewaschen und getrocknet. Die exponierte Kupferoberfläche
wurde mit einer FerriChloridlösung geätzt, und die Bildschicht
wurde mit Methanol entfernt.
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Der erfindungsgemässe lichtempfindliche Überzug auf einer PoIyäthylenterephthalatfolie
kann in einer lichtdichten Verpackung mehr als 6 Monate ohne irgendeine Qualitätsänderung gelagert
werden.
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit einem Gehalt an einem photosensitiven Polymeren, die wie in Beispiel 2 unter Verwendung
von 14 g p-Azidobenzoesäureehlorid anstelle der 13g
Cinnamoylchlorid hergestellt war, wurde zubereitet.
Diese Zusammensetzung wurde auf eine Zinkplatte als dünne Schicht aufgebracht. Nach Trocknen wurde diese Schicht durch ein
transparentes Negativ unter Verwendung einer 100 V 50 A Kohlenbogenlampe 3 Minuten lang belichtet und dann mit wässriger
5$iger Natriumhydroxydlösung entwickelt, um den Überzug in den
unbelichteten Bereichen zu entfernen. Die entwickelte Platte wurde mit einem üblichen Ätzmittel, das Salpetersäure und einen
Zusatz enthielt, entwickelt, um eine Zinkreliefdruckplatte zu
erhalten.
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit einem Gehalt von 10 g eines photosensitiven Polymeren wurde wie in Beispiel 3
unter Verwendung von 11g p-Azidobenzaldehyd anstelle der 34 g
Vanillin und 11g des Reaktionsprodukts und 8,6 g Salicyloylchlorid
anstelle der 5,5 g p-Azidobenzoylchlorid sowie 0,1 g
2-Nitrofluoren in 100 g Äthylenglykolmonomethyläther hergestellt·
Diese Zusammensetzung wurde auf eine gereinigte mit Kupfer
plattierte Epoxyfaserglastafel als Schicht aufgebracht und getrocknet· Dieee beschichtete Tafel wurde durch ein transparentes
Negativ mit einer Ultrahochdruckquecksilberlampe 2 Minuten lang belichtet und dann mit einer wässrigen 5#igen Trinatriumphosphat
lösung mit einem Gehalt von 1 $>
Natriumalkylbenzolsul-
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- fonat entwickelt, um den Überzug in den unbelichteten Bereichen
zu entfernen, und dann mit Wasser gewaschen und getrocknet. Die belichtete Kupferoberfläche wurde mit einer Perrichloridlösung
geätzt, und die Bildschicht wurde mit Methanol entfernt« Es wurde
so eine Schaltkarte hoher Qualität erhalten.
Ein lichtempfindliches Polymeres wurde wie in Beispiel 3 unter
Verwendung von 5 g Cinnamoylchlorid anstelle der 5,5 g p-Azidobenzoylchlorid hergestellt.
w Mit einer dieses Polymere enthaltenden lichtempfindlichen Zusammensetzung
wurde eine vorsensitivierte Platte für den Offsetdruck nach der in Beispiel 1 beschriebenen Methode hergestellt.
Ein lichtempfindliches Polymeres wurde wie in Beispiel 3 durch Acetalisierung von 22 g Polyvinylalkohol mit 27 g p-Hydroxybenzaldehyd
anstelle der 34 g Vanillin und anschliessende Veresterung
von 9,6 g des Reaktionsprodukts mit 6,4 g m-BTitrocinnamoylchlorid
anstelle der 5,5 g p-Azidobenzoylchlorid hergestellt.
) Mit einer das obige Polymere enthaltenden lichtempfindlichen Zusammensetzung
wurde eine vorsensitivierte Druckplatte für den Offsetdruck nach der in Beispiel 1 beschriebenen Arbeitsweise
hergestellt.
Ein lichtempfindliches Polymeres wurde wie in Beispiel 2 unter Verwendung von 13,7 g p-Azidobenzoylchlorid anstelle der 13 g
Oinnamoylohlorid und 30 g p-Aminosalicyloylchlorid anstelle der
25 g Salicyloylchlorid hergestellt.
- Mit einer das obige Polymere enthaltenden lichtempfindlichen Zusammensetzung
wurde eine gedruckte Schaltkarte nach der in Bei-
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- 15 spiel 3 beschriebenen Arbeitsweise hergestellt.
Eine vorsensitivierte Aluminium-Offsetdruckplatte wurde mit einer
lichtempfindlichen Zusammensetzung hergestellt, die ein
photosensitizes Polymeres enthielt, das wie in Beispiel 2 unter
Verwendung von 33 »4 g p-Hydroxybenzolsulfochlorid anstelle der
25 g Salicyloylchlorid hergestellt war.
Eine gedruckte Schaltkarte wurde mit einer lichtempfindlichen Zusammensetzung hergestellt, die ein photosensitives Polymeres
enthielt, das wie in Beispiel 2 unter Verwendung von 17 g p-Azidobenzolsulf οchlorid anstelle der 13 g Cinnamoylchlorid
hergestellt war.
Eine vorsensitivierte Bimetallplatte für den Offsetdruck wurde mit einer lichtempfindlichen Zusammensetzung hergestellt, die
ein photosensitives Polymeres enthielt, das wie in Beispiel 2 unter Verwendung von 17 g p-Azidobenzolsulfochlorid anstelle der
13g Cinnamoylchlorid und 33,4 g p-Hydroxybenzolsulfochlorid anstelle
der 25 g Salicyloylchlorid hergestellt war.
Eine vorsensitivierte Aluminiumplatte für den Offsetdruck wurde mit einer lichtempfindlichen Zusammensetzung hergestellt, die
ein photosensitives Polymeres enthielt, das wie in Beispiel 3 unter Verwendung von 11g p-Azidobenzaldehyd anstelle der 34 g
Vanillin und 11 g des Reaktionsprodukts und 5,8 g p-Hydroxybenzolsulfochlorid
anstelle der 5,5g p-Azidobenzoylchlorid hergestellt
war.
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Claims (28)
- PatentansprüchePhotosensitive filmbildende organische Polymere, dadurch gekennzeichnet, dass sie lichtempfindliche Gruppen und phenolische Hydroxylgruppen enthalten, in einer wässrigen alkalischen lösung löslich sind, jedoch durch Belichtung unlöslich gemacht werden und sich wiederholende Einheiten aus der Gruppe der folgenden Einheiten enthalten:CH,CiLCHrCH ή—t CH0 CH CH2 CHH . -OOH(III)109848/1805CH2-"CH,f-CH£(V)CH2109848/1805OHI CO- 18 -ir CH2 -CHCH -τ (~ CH2so,CH O O3(yii)(VIII)CH2 CH —) -{- CH2 CH-)-O SO,SO,T-W—RCH CHo — CH j—t CH1H CCH—H-ROH109848/1805CH-)-, (χι)(XII)in denen R aus der Gruppe der Wasserstoffatome, .der Hydroxyl-, Carboxy- , Alkyl-, Alkoxy-, Aryl-, Nitro- und Aminoreste und der Halogenatome gewählt ist,
- 2. Photosensitive filnibildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der Formel109848/1805CHrenthalten.
- 3. Photosensitive filmbildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der FormelCH,CH2 CH ·)—f CH2 Centhalten.
- 4. Photosensitive filmbildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der Formel109848/1805- 21 -CH,enthalten.
- 5. Photosensitive fUmbildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der formelCH,CH ή—(· CH2 CH CH2 CH fenthaiten»
- 6. Photosensitive filmbildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der FormelCH2• I οCOIn~-n—R10B8A8/1805enthalten.
- 7. Photosensitive fiImMldende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der FormelCH-ή.0CJi —) ir CHoenthalten. r ; /
- 8. Photosensitive filmbildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der FormelCH,CH ■-)COι- Renthalten. $
- 9. Photosensitive filmbildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der Formel109848/1805CH,fr cn.enthalten.
- 10. Photosensitive filmbildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der FormelCHCH -ή—fr- CHrenthalten.
- 11. Photosensitive filmbildende organische Polymere nach Anspurch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der Formel— CH — CH^ CH ■) fr CH^ CH■fr— CHrCH2 CH ή fr CH,H -Centhalten.3 · 109848/1805
- 12. Photosensitive filmbildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der Formelenthalten.
- 13· Photosensitive filmbildende organische Polymere nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie sich wiederholende Einheiten der FormelCH,enthalten.ir cn,
- 14. Verfahren zur Herstellung von photosensitiven filmbildenden organischen Polymeren, die lichtempfindliche Gruppen und phenolische Hydroxylgruppen enthalten, nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass Polyvinylalkohol mit einer Verbindung aus der Gruppe der aromatischen Aldehyde, Carbonsäuren und Sulfonsäuren, die lichtempfindliche Gruppen enthalten, umgesetzt wird und das erhaltene Reaktionsprodukt mit einer Verbindung aus der Gruppe der aromatischen Aldehyde, Carbonsäuren und Sulfonsäuren, die phenolische Hydroxyl-109 84871805gruppen enthalten, umgesetzt wird, wobei die Reaktionsfolge auch umgekehrt werden kann.
- 15. Verfahren nach Anspruch H, dadurch gekennzeichnet, dass derlichtempfindliche ReaktantCO ·-Rist und der hydroxylhaltige ReaktantCOist.
- 16. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche ReaktantJOOHist und der hydroxylhaltige ReaktantCOist.109848/1805- 26 -
- 17. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche Reaktantist und der hydroxylhaltige ReaktantCOOHist.OH
- 18. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche ReaktantCOOHist und der hydroxylhaltige ReaktantCOOHist.109848/1805
- 19. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche Reaktantist und der hydroxylhaltige ReaktantCOOHist.
- 20. Verfahren nach Anspruch H, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche ReaktantCOCHist und der hydroxylhaltige ReaktantCOOHist."ΟΙΪ 109848/1805
- 21. Verfahren nach Anspruch 14» dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche Reaktant— Rist und der hydroxylhaltige Reaktantist.
- 22. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche Reaktant SO H'3ist und der hydroxylhaltige ReaktantSOClist.109848/1805
- 23. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche Eeaktantist und der hydroxylhaltige Reaktantist.
- 24. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche ReaktantCOOHist und der hydroxylhaltige Reaktantist.109848/1805
- 25. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche ReaktantSO3Hist und der hydroxylhaltige ReaktantCOOKist.—π—a
- 26. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass der lichtempfindliche ReaktantCO . :Γ··ca■ηist und der hydroxylhaltige Reaktantist.OH 109348/1805
- 27. Photosensitive Zusammensetzung, die "beim Belichten unlöslich wird, gekennzeichnet durch einen Gehalt an einem photosensitiven filmbildenden organischen Polymeren mit einem Gehalt an lichtempfindlichen Gruppen und phenolischen Hydroxylgruppen nach Anspruch 1.
- 28. Photosensitive Zusammensetzung nach Anspruch 27» gekennzeichnet durch einen Gehalt an einem photosensitiven filmbildenden organischen Polymeren mit einem Gehalt an lichtempfindlichen Gruppen und phenolischen Hydroxylgruppen, das in unbelichtetem Zustand in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist, wobei die Zusammensetzung sich wiederholende Einheiten der allgemeinen Formel— GH —Γ JL—Hund ein spektrales Sensibilisierungsmittel aus der Gruppe der sensibilisierenden Kohlenwasserstoffe, Nitroverbindungen, Chinone, Ketone und Acridin- und Diphenyl-Sensibilisierungsmittel enthält.* 0 β109848/18OSiORIGINAL INSPECTED.
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