DE2051728B2 - Method of making a stencil screen - Google Patents

Description

3030th

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen eines aus Metall bestehenden zylindrischen Schablonensiebes auf galvanischem Wege mit Hilfe einer zylindrischen Matrize mit einer elektrisch leitenden Oberfläche, die ein vertieftes, mit elektrisch isolierendem Material aufgefülltes Raster aufweist.The invention relates to a method for manufacturing a cylindrical one made of metal Stencil screen galvanically with the help of a cylindrical die with an electrically conductive surface, which has a recessed grid filled with electrically insulating material.

Schablonensiebe dieser Art sind allgemein bekannt und beispielsweise in dem der F i g. 1 zugeordneten Beschreibungsteil der NL-OA 67 10 444 erläutert. Beim galvanischen Abscheiden von Metal! auf der Oberfläche der Matrize wird zwar auf dem elektrisch isolierenden Material des Rasters kein Metall abgelagert. Von den Rändern her wird jedoch allmählich Metall im Bereich der nichtleitenden Rasterpunkte abgeschieden, so daß der Durchmesser der Rasterpunkte immer kleiner wird, je mehr die Dicke der abgelagerten Metallschicht anwächst. Hat beispielsweise die Durchlaßöffnung jedes Rasterpunktes 250 μιη und das durch galvanische Abscheidung gebildete Schablonensieb eine Dicke von mindestens 80 μιη, so verringert sich der Durchmesser jeder Durchlaßöffnung auf: 250 minus (2 χ 80) = 90 μηι. Auf diese Weise sind nahtlose Schablonensiebe herstellbar, die je cm² Fläche etwa 1600 bis 2000 Perforationen aufweisen. Der Durchmesser der Löcher beträgt aber dann nur 40 bis 50 μηι bei einer Wandstärke des Schablonensiebes von 80 μΐη. Mit solchen Schablonensieben sind aber keine sehr scharfen Druckerzeugnisse möglich. Hierzu müßten Siebdruckschablonen verwendet werden, die wesentlich dünner sind, wodurch jedoch ihre Lebensdauer stark herabgesetzt wird.Stencil screens of this type are generally known and, for example, in that of FIG. 1 associated part of the description of NL-OA 67 10 444 is explained. When electroplating metal! on the surface of the die, no metal is deposited on the electrically insulating material of the grid. From the edges, however, metal is gradually deposited in the area of the non-conductive grid points, so that the diameter of the grid points becomes smaller and smaller, the more the thickness of the deposited metal layer increases. For example, if the passage opening of each grid point has 250 μm and the stencil screen formed by galvanic deposition has a thickness of at least 80 μm, the diameter of each passage opening is reduced to: 250 minus (2 × 80) = 90 μm. In this way, seamless stencil screens can be produced which have around 1600 to 2000 perforations ^{per cm 2 of area.} The diameter of the holes is then only 40 to 50 μm with a wall thickness of the stencil screen of 80 μm. However, very sharp printed products are not possible with such stencil screens. For this, screen printing stencils would have to be used, which are much thinner, which, however, greatly reduces their service life.

Die erläuterten Schablonensiebe dienen als Grundlage zur Herstellung von Siebdruckschablonen. Das Dessinieren der Schablonensiebe kann in bekannter Weise durch Aufbringen eines lichtempfindlichen Lackes oder Auflegen eines Negatives, Belichten, Ätzen usw. geschehen. Es kann aber auch eine dünne Schicht einer lichtempfindlichen Emulsion aufgebracht werden (NL-OA 65 16 136), welche die Eigenschaft aufweist, daß die belichteten Teile nach geeigneter Behandlung besser an der Matrize haften als die unbelichteten und durch die Belichtung elektrisch leitend werden oder gemacht werden können.The explained stencil screens serve as the basis for the production of screen printing stencils. That Designing the stencil screens can be done in a known manner by applying a light-sensitive Varnish or placing a negative, exposure, etching, etc. happen. But it can also be a thin layer a light-sensitive emulsion are applied (NL-OA 65 16 136), which has the property, that the exposed parts, after suitable treatment, adhere better to the template than the unexposed and become or can be made electrically conductive by exposure.

Die Belichtung der Emulsion erfolgt über eine das Dessin im Positiv enthaltende Maske. Die nicht belichteten Teile werden dann ausgespült. Wird nun das Ganze in ein galvanisches Bad eingebracht, so wird auf der Matrize Metall mit Ausnahme auf den isolierten Rasterpunkten abgesetzt. Wo keine Emulsion vorhanden ist, wird das Raster des normalen Schablonensiebes abgebildet Dagegen wird den mit Emulsion bedeckten Stellen eine ununterbrochene Metallschicht niedergeschlagen. Alsdann wird die Siebdruckschablone, z. B. durch Verkleinern des Außendurchmessers, von der zylindrischen Matrize entfernt und ihrer weiteren Verwendung zugeführtThe emulsion is exposed via a mask containing the positive design. They don't exposed parts are then rinsed out. If the whole thing is now placed in a galvanic bath, it will open the die is deposited metal with the exception of the isolated grid points. Where there is no emulsion is, the grid of the normal stencil screen is displayed. In contrast, the screen that is covered with emulsion is displayed Make a continuous layer of metal deposited. Then the screen printing stencil, z. B. by reducing the outside diameter, removed from the cylindrical die and its wider ones Use fed

Demgegenüber soll durch die Erfindung die Aufgabe gelöst werden, das bekannte, eingangs im ersten Absatz erläuterte Verfahren zum Herstellen eines aus Metall bestehenden zylindrischen Schablonensiebes so weiterzubilden, daß damit mittels einfacher, in wirtschaftlicher Weise durchführbarer Maßnahmen Schablonensiebc zwar mit sehr feinen Perforationslöchern aber trotzdem von hoher Lebensdauer hergestellt werden können.In contrast, the object is to be achieved by the invention, the known, initially in the first paragraph to further develop the explained method for producing a cylindrical stencil screen made of metal, that by means of simple, economically feasible measures Schablonensiebc although they can be made with very fine perforation holes, they can still have a long service life.

Erfind jngsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß über dem in der Oberfläche der zylindrischen Matrize vorgesehenen Raster mit Abstand nebeneinander liegende Ringe bzw. Windungen aus wenigstens einem sehr dünnen Draht bzw. sehr dünnen Drähten angebracht werden, worauf auf galvanischem Wege Metall auf die Oberfläche der Matrize abgeschieden wird bis die Ringe bzw. Windungen des Drahtes bzw. der Drähte in der abgeschiedenen Metallschicht verankert sind.According to the invention, this object is achieved by that above the grid provided in the surface of the cylindrical die at a distance from one another lying rings or windings made of at least one very thin wire or very thin wires are attached, whereupon metal is deposited on the surface of the die by electroplating is until the rings or turns of the wire or wires in the deposited metal layer are anchored.

Durch diese Maßnahmen wird ein Schabloncnsieb geschaffen, das gleichsam aus zwei unterschiedlichen Materialen besteht, nämlich aus der galvanisch abgeschiedenen, z. B. von Nickel gebildeten Metallschicht und aus der von den im gegenseitigen Abstand befindlichen Drähte bzw. Drahtwindungen mit vorzugsweise einer elektrisch leitenden Oberfläche gebildeten Drahtschicht. Wird beispielsweise ein sehr dünner Draht von 50 μιη Durchmesser verwendet und werden die Drahtwindungen in eine durch galvanische Abscheidung gebildete Metallschicht von 30 μιη Dicke eingebettet, so beträgt die Dicke des Schablonensiebes 80 μσι. Diese Dicke entspricht zwar den bisher bekannten Schablonensieben mit einer ausreichenden Festigkeit. Das gemäß der Erfindung hergestellte Schablonensieb erfordert jedoch demgegenüber nicht nur einen wesentlich geringeren Aufwand an abzuscheidendem hochwertigen Metall sondern weist gegenüber den erläuterten normalen Schablonensieben auch eine größere Festigkeit und damit eine erheblich längere Lebensdauer auf. Insbesondere kann das erfindungsgemäß hergestellte Schablonensieb infolge seiner dünnen Metallschicht mit einer viel feineren Loch- bzw. Perforationsanordnung ausgebildet werden, wobei die Perforation auf der Innenseite des Schablonensiebes dem Raster der Matrize und auf der Außenseite dem durch den Abstand der Drahtwindungen gebildeten Schlitzraster entspricht. Außerdem verringert sich jede Durchlaßöffnung bei 250 μιη Durchmesser im Schablonensieb durch Abscheiden von Metall auch an den Lochrändern nur auf 250 minus (2 χ 30) = 190 μιη.By means of these measures, a stencil screen is created which, as it were, consists of two different ones Consists of materials, namely from the electrodeposited, z. B. metal layer formed by nickel and from the wires or wire windings located at a mutual distance with preferably an electrically conductive surface formed wire layer. For example, it becomes a very thin one Wire with a diameter of 50 μm is used and the wire windings are made into one by electrodeposition formed metal layer of 30 μm thickness embedded, so the thickness of the stencil screen is 80 μσι. This thickness corresponds to the previous one known stencil screens with sufficient strength. The manufactured according to the invention In contrast, stencil screen not only requires significantly less effort to be separated high-quality metal but also has a greater strength and thus a considerably longer service life. In particular, according to the invention made stencil screen due to its thin metal layer with a much finer hole or Perforation arrangement are formed, the perforation on the inside of the stencil screen the grid of the die and on the outside that formed by the spacing of the wire turns Slot grid corresponds. In addition, each passage opening is reduced at a diameter of 250 μm in the stencil screen by depositing metal also at the hole edges only to 250 minus (2 χ 30) = 190 μm.

Im übrigen beruht die Erfindung auf der Erkenntnis, daß zum Auffangen der Kräfte lotrecht zur Rakeleinrichtung eine Wanddicke der Siebdruckschablonen genügt, die nur 25 bis 33% von derjenigen Wanddicke beträgt, welche zur Aufnahme der in Querrichtung einwirkenden Reibungskräfte der Rakel erforderlich ist Diese Reibungskräfte einschließlich der von dem zu bedruckenden Material auf die Siebdruckschablone ausgeübten Kraft wird dann von den Drähten aufgefangen.In addition, the invention is based on the knowledge that to absorb the forces perpendicular to the doctor blade device a wall thickness of the screen printing stencils that is only 25 to 33% of that wall thickness is sufficient which is required to absorb the frictional forces of the doctor blade acting in the transverse direction These frictional forces including those of the material to be printed on the screen printing stencil The force exerted is then absorbed by the wires.

Ein besonders wirtschaftliches Verfahren zur Herstellung eines Schablonensiebes wird dadurch gewährleistet, daß die Ringe bzw. Windungen auf der Oberfläche der Matrize durch schraubenförmiges Winden mindestens eines Drahtes gebildet werden. Der Draht bzw. die Drähte können hierbei von entsprechenden Rollen auf die sich um ihre Längsmittelachse drehende Matrize in einer Lage und im genauen Windungsabstand aufgewikkelt werden, so daß die Armierung der Matrize nicht nur einfach sondern auch schnell durchgeführt werden kann.A particularly economical method of production a stencil screen is ensured that the rings or windings on the surface the die can be formed by helically winding at least one wire. The wire or the In this case, wires can be fed from corresponding rollers onto the die rotating around its central longitudinal axis one layer and with the exact winding spacing, so that the reinforcement of the die is not only can be carried out easily but also quickly.

Weiterhin wird das Verfahren im einzelnen noch so weitergebildet, daß das in der Oberfläche der Matrize vorhandene Raster aus parallel zur Längsachse der Matrize verlaufenden Nuten besteht. Die Nuten werden von den Drahtringen bzw. Drahtwindungen überquert, so daß nach dem Metallniederschlag auf einfache Weise sehr feine schlitzartige Perforationsiöcher im Schablonensieb entstehen, wobei die Breite der Nuten die eine Abmessung und der gegenseitige Abstand der nebeneinander liegenden Drähte die andere Abmessung bestimmt.Furthermore, the method is further developed in detail in such a way that it occurs in the surface of the die existing grid consists of grooves running parallel to the longitudinal axis of the die. The grooves will be crossed by the wire rings or wire windings, so that after the metal deposition in a simple manner very fine, slit-like perforation holes are created in the stencil screen, the width of the grooves being the one Dimension and the mutual spacing of the wires lying next to one another is the other dimension certainly.

Allerdings ist es durch die US-PS 25 92 789 bekannt geworden, flache oder gewölbte Metallschablonen herzustellen, ohne daß hierzu eine zylindrische Matrize erforderlich ist. Die bekannte Metallschablone besteht aus einer perforierten ersten und aus einer aus Drähten zusammengesetzten zweiten Schicht, bei der die Drähte in einer Metallschicht verankert werden und zueinander parallel verlaufen. Die Metallschicht wird vorzugsweise von einer Platte aus verhältnismäßig weichem Material gebildet, durch welche das jeweils gewünschte Muster hindurchgeätzt wird, wobei jedoch die Drähte ungeätzt bleiben.However, it is known from US-PS 25 92 789, flat or curved metal templates without the need for a cylindrical die. The well-known metal template is made from a perforated first layer and from a second layer composed of wires, in which the wires be anchored in a metal layer and run parallel to each other. The metal layer is preferred formed by a plate of relatively soft material, through which the desired pattern is etched through, but the wires remain unetched.

Die Verankerung der Drähte kann jedoch nicht auf galvanischem Wege erfolgen, da hierbei die Gefahr besteht, daß der lichte Abstand zwischen zwei metallischen Drähten durch das sich absetzende Metall immer kleiner wird und gegebenenfalls vollständig überbrückt wird. Das gewünschte Muster müßte mithin nicht nur durch die Metallplatten sondern auch durch die Überbrückungen hindurchgeätzt werden, was aber aufgrund der Materialbeschaffenheit nicht ohne weiteres möglich wäre, so daß der vorgenannte Stand der Technik für die Erfindung kein Vorbild sein kann.The anchoring of the wires cannot, however, be done by galvanic means, as this creates the risk consists that the clear distance between two metallic wires through the settling metal becomes smaller and smaller and possibly completely bridged. The desired pattern should therefore etched not only through the metal plates but also through the bridges, but what not without further ado due to the nature of the material would be possible, so that the aforementioned prior art cannot serve as a model for the invention.

Die Erfindung soll nachstehend anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert werden. In der Zeichnung zeigtThe invention is to be explained in more detail below using an exemplary embodiment. In the Drawing shows

Fig. 1 die Draufsicht auf eine Ausschnittvergrößerung eines auf einer Matrize befindlichen Schablonensiebcs, Fig. 1 is a plan view of an enlarged detail a stencil screen located on a die,

F i g. 2 und 3 je einen Längsschnitt durch die Ausschnittvergrößerung nach Fig. 1 nach der Linie H-II und 111-111,F i g. 2 and 3 each show a longitudinal section through the enlarged detail according to FIG. 1 along the line H-II and 111-111,

F i g. 4 bis 6 je einen Querschnitt durch die Ausschnittvergrößerung nach Fig. 1 jeweils nach der Linie IV-IV, V-V und Vl-Vl,F i g. 4 to 6 each have a cross section through the enlarged section of FIG Line IV-IV, V-V and Vl-Vl,

F i g. 7 einen Querschnitt durch ein in herkömmlicher Weise hergestelltes Schablonensieb undF i g. 7 shows a cross section through a stencil screen produced in a conventional manner and

Fig.8 eine Draufsicht auf eine schematisch dargestellte Vorrichtung zum Aufwickeln von sehr dünnen Drähten auf die Zylinderfläche einer Matrize.8 is a plan view of a schematically illustrated Device for winding very thin wires onto the cylinder surface of a die.

Auf der Zylinderfläche einer aus Metall gefertigen zy'indrischen Matrize 1 ist durch Ätzen oder auf mechanischem Wege, z. B. mittels einer Rändelwalze, ein Raster aus seichten Vertiefungen oder Nuten 2 angebracht, welche durch ein elektrisch isolierendes Material wie Email oder Kunstharz aufgefüllt sind. F i g. 1 zeigt hierbei eine besondere Ausführungsform eines solchen, aus Nuten 2 bestehenden Rasters, bei dem diese Nuten 2 eine Breite von 250 μπι und eine Länge von 1000 μπι haben. Zwischen den Nuten 2 sind Stege mit einer Breite von 30 μπι stehen gelassen worden. Die Längsachse der Nuten 2 erstreckt sich parallel zur Längsachse 5 der Matrize (Fig.8). Bei einer so vorbereiteten Matrize 1 wird die Metalloberfläche des Zylinders nach einem in der Galvanotechnik bekannten Verfahren derart passiviert, daß später darauf niedergeschlagenes Metall nicht an der Metalloberfläche haftet.On the cylinder surface of a cylindrical die 1 made of metal is by etching or on mechanical way, e.g. B. by means of a knurled roller, a grid of shallow depressions or grooves 2 attached, which are filled with an electrically insulating material such as enamel or synthetic resin. F i g. 1 shows a particular embodiment of such a grid consisting of grooves 2 in which these grooves 2 have a width of 250 μπι and a length of 1000 μπι. There are webs between the grooves 2 been left with a width of 30 μπι. the The longitudinal axis of the grooves 2 extends parallel to the longitudinal axis 5 of the die (FIG. 8). With one like that prepared die 1 is the metal surface of the cylinder according to a method known in electroplating Process passivated in such a way that metal deposited later does not adhere to the metal surface.

Anschließend wird auf der Matrize I eine einzige Reihe von in einigem Abstand voneinander liegenden Drahtringen vorgesehen, die aus mindestens einem sehr dünnen Draht 3 gebildet werden. Vorzugsweise wird dieser Draht 3 schraubenlinienförmig um die Oberfläche der Mutrize gewunden und dabei mit Hilfe einer schematisch in Fig. 8 dargestellten Wickelvorrichtung 6 straff auf die Oberfläche aufgewickelt. In der in F i g. 1 dargestellten Ausschnittvergrößerung weist der Draht einen Durchmesser von 50 μΐπ auf. Die einzelnen Drahtringe bzw. Drahtwindungen 3 liegen in einem Abstand von etwa 100 μιτι voneinander, so daß je cm der Matrizenlänge also 66 Windungen untergebracht werden können.Then a single row of spaced apart rows is placed on the die I Wire rings are provided, which are formed from at least one very thin wire 3. Preferably will this wire 3 helically around the surface the Mutrize wound and with the help of a winding device shown schematically in Fig. 8 6 wound tightly onto the surface. In the in F i g. 1 shows the enlarged detail of the wire a diameter of 50 μΐπ. The single ones Wire rings or wire windings 3 are at a distance of about 100 μιτι from each other, so that each cm of Die length so 66 turns can be accommodated.

Der bei dem erfindungsgemäßen Verfahren erforderliche Draht oder die erforderlichen Drähte können nahezu eine beliebige Zusammensetzung aufweisen. Vorwiegend wird Draht mit einer elektrisch leitenden Oberfläche verwendet, wodurch die Einbettung und der Verlauf der galvanischen Abscheidung günstig beeinflußt wird. Ein nichtleitender Draht kommt vorzugsweise dann zur Anwendung, wenn die mechanische Belastung der herzustellenden Siebdruckschablone in Richtung der Rakel gering ist und wenn bei einer gegebenen Anzahl von Windungen je Einheit der Matrizenlänge auf einen möglichst großen Abstand zwischen den Drahtwindungen hoher Wert gelegt wird.The wire or wires required in the method according to the invention can have almost any composition. Predominantly, wire is made with an electrically conductive one Surface used, which has a beneficial effect on the embedding and the course of the galvanic deposition will. A non-conductive wire is preferably used when the mechanical Loading of the screen printing stencil to be produced in the direction of the squeegee is low and if at one given number of turns per unit of the die length to the greatest possible distance Great importance is attached to between the wire windings.

Nachdem der Anfang und das Ende des die Drahtwindungen bildenden Drahtes 3 an der Matrize t befestigt sind, wird letztere in ein galvanisches Bad, z. B. in ein Nickelbad, eingebracht. Auf der Matrize bildet sich jetzt auf galvanischem Wege eine Nickelschicht 4 in einer Stärke von 30 μηι, welche die aufgewickelten Drahtwindungen ganz einschließt, wobei der Draht selbst mit einer Nickelschicht von etwa 30 μπι bedeckt wird. Dessen ungeachtet ist der Materialverbrauch beim erfindungsgemäßen Verfahren im Vergleich mit dem herkömmlichen galvanischen Verfahren zum Herstellen eines Schablonensiebes erheblich kleiner.After the beginning and the end of the wire 3 forming the wire turns on the die t are attached, the latter is in a galvanic bath, for. B. in a nickel bath. Forms on the die Now a nickel layer 4 with a thickness of 30 μm, which is wound up by galvanic means Entirely encloses wire windings, the wire itself being covered with a nickel layer of about 30 μm will. Regardless of this, the material consumption in the method according to the invention is compared with that conventional galvanic process for the production of a stencil screen is considerably smaller.

Die endgültige Form des Schablonensiebes ist in F i g. 1 und in den Längsschnitten der F i g. 2 und 3 sowie in dem Querschnitt der Fig. 4 ausschnittsweise dargestellt. Die Geia'ntwanddicke des dargestellten Schablonensiebes betr .gt 80 μιτι. Das Durchlaßverhältnis ist wesentlich gü.istiger im Vergleich mit einem Schablonensieb mit einer Wanddicke von 80 μπι, das nach dem herkömmlichen galvanischen Verfahren gefertigt wird. Infolge des unvermeidlichen Nickelansat-The final shape of the stencil screen is shown in FIG. 1 and in the longitudinal sections of FIG. 2 and 3 as well as shown partially in the cross section of FIG. The Geia'ntwanddicke of the shown Stencil sieve amounts to 80 μm. The transmission ratio is much gü.istiger in comparison with a stencil screen with a wall thickness of 80 μπι, the is manufactured according to the conventional electroplating process. As a result of the inevitable build-up of nickel

zes in seitlicher Richtung über die nichtleitenden Stellen der Matrize hinweg tritt bei einem erfindungsgemäß hergestellten Schablonensieb nur eine Verringerung einer Durchlaßöffnung im Basissieb von 250 μιτι bis auf einen Wert von: 250 minus (2 χ 30) = 190 μιτι auf, wogegen bei einem Schablonensieb der herkömmlichen Herstellungsart eine Durchlaßöffnung von 250 μηι auf 90 μΐη verkleinert wird.zes occurs in a lateral direction over the non-conductive points of the die with an inventive stencil screen produced only a reduction in a passage opening in the base screen of 250 μιτι up to a value of: 250 minus (2 χ 30) = 190 μιτι, whereas a stencil screen of the conventional type of manufacture has a passage opening of 250 μm 90 μΐη is reduced.

Das ist deutlich durch Vergleich von F i g. 7 mit F i g. 5 erkennbar. Infolge der Richtung der Nuten 2 parallel zur Längsachse der Matrize 1 wird außerdem noch erreicht, daß das daraus hergestellte Schablonensieb bei maximaler Größe der Durchlaßöffnung auch eine maximale Festigkeit in Richtung der Mittelachse 5 erhält, obwohl die Wandstärke gegenüber einem Schablonensieb herkömmlicher Art äußerst gering gehalten worden ist.This is clear by comparing FIG. 7 with F i g. 5 recognizable. Due to the direction of the grooves 2 parallel to the Longitudinal axis of the die 1 is also achieved that the stencil screen made from it at maximum size of the passage opening also a maximum strength in the direction of the central axis 5 obtained, although the wall thickness is extremely small compared to a conventional stencil screen has been held.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen 1 sheet of drawings

Claims (3)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Verfahren zum Herstellen eines aus Metall bestehenden zylindrischen Schablonensiebes auf galvanischem Wege mit Hilfe einer zylindrischen Matrize mit einer elektrisch leitenden Oberfläche, die ein vertieftes, mit elektrisch isolierendem Material aufgefülltes Raster aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß über dem in der Oberfläche der zylindrischen Matrize vorgesehenen Raster mit Abstand nebeneinander liegende Ringe bzw. Windungen aus wenigstens einem sehr dünnen Draht bzw. sehr dünnen Drähten angebracht werden, worauf auf galvanischem Wege Metall auf die Oberfläche der Matrize abgeschieden wird bis is die Ringe bzw. Windungen des Drahtes bzw. Drähte in der abgeschiedenen Metallschicht verankert sind.1. Method of manufacturing a cylindrical stencil screen made of metal galvanically with the help of a cylindrical die with an electrically conductive surface, which has a recessed grid filled with electrically insulating material, thereby characterized in that above that provided in the surface of the cylindrical die Grid spaced adjacent rings or windings made of at least one very thin Wire or very thin wires are attached, whereupon by electroplating metal the surface of the die is deposited until the rings or turns of the wire or wires are anchored in the deposited metal layer. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ringe bzw. Windungen auf der Oberfläche der Matrize durch schraubenlinienförmiges Winden mindestens eines Drahtes gebildet werden.2. The method according to claim 1, characterized in that the rings or windings on the Surface of the die formed by helically winding at least one wire will. 3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das in der Oberfläche der Matrize (1) vorhandene Raster aus parallel zui Längsachse (5) der Matrize verlaufenden Nuten (2) besieht.3. The method according to any one of claims 1 and 2, characterized in that the in the surface the die (1) existing grid of grooves (2) running parallel to the longitudinal axis (5) of the die considered.