DE2041538C3 - Process for the production of patterns of any size - Google Patents
Process for the production of patterns of any sizeInfo
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A41—WEARING APPAREL
- A41H—APPLIANCES OR METHODS FOR MAKING CLOTHES, e.g. FOR DRESS-MAKING OR FOR TAILORING, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- A41H3/00—Patterns for cutting-out; Methods of drafting or marking-out such patterns, e.g. on the cloth
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von Schnittmustern in beliebiger Größe, bei dein verkleinerte Schnittmuster durch episkopische Projektion auf eine gewünschte Größe gebracht und durch Nachzeichnen der Projektionsbilder auf eine Zeichenunterlage die Originalschnitte gewonnen werden. The invention relates to a method for producing patterns of any size, at Your reduced pattern brought to a desired size by episcopic projection and the original cuts can be obtained by tracing the projection images on a drawing pad.
Ein derartiges Verfahren ist aus der AT-PS 1 34 380 bekanntgeworden; nachteilig bei diesem bekannten Verfahren ist es, daß die verkleinerten Schnittmuster in ihrer Gesamtheit vergrößert werden und somit auch die bei den verkleinerten Schnittmustern festgelegten maßhchen Verhältnisse zwischen Ober- und Hüftweite entsprechend übertragen werden, wodurch nur bestimmte Größen erzielbar sind und nicht eine individuelle Größeneinstellung bei im Verhältnis anderen Maßen in bezug auf Ober- und Hüftweite möglich ist. Da bei den Menschen häufig die maßlichen Verhältnisse zwischen Ober- und Hüftweite unter- »chiedlich sind und gegenüber den festgelegten Konfektionsgrößen und -maßen abweichen, ist das bekannte Verfahren aufgrund der Gesamtübertragung des verkleinerten Schnittmusters unzureichend.Such a method is known from AT-PS 1 34 380; disadvantageous with this known The process is that the reduced cutting patterns are enlarged in their entirety and thus also the In the case of the scaled-down patterns, dimensional relationships between the upper and hip widths are established are transferred accordingly, whereby only certain sizes can be achieved and not one Individual size adjustment possible with proportionally different measurements in terms of upper and hip width is. Since the proportions between the upper and hip width are often less than »Are different and differ from the specified clothing sizes and dimensions, that is known methods are inadequate due to the overall transfer of the reduced cutting pattern.
Weiterhin sind aus der DE-PS 4 42 715 und der CH-PS 4 42 190 mit Projektionsapparat bzw. Lichtquelle arbeitende Schnittmuster-Vergrößerungsverfahren bekanntgeworden, die aber ebenfalls keine individuelle Schnittmustervergrößerung, abgestimmt auf die jeweilige Körpergestalt, ermöglichen.Furthermore, from DE-PS 4 42 715 and CH-PS 4 42 190 with projection apparatus or light source working pattern enlargement process has become known, but this is also not an individual one Enable pattern enlargement, tailored to the respective body shape.
Aus der DE-PS 9 13 522 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Gewinnung unregelmäßiger Form- und Maßmuster, z. B. für die Maßkonfektion, bekanntgeworden, Wobei in zwei unabhängig voneinander und nacheinander erfolgenden Arbeitsabläufen Schnittmu* ster ersteilt werden, Zuerst werden von einem Gründmuster (Normalrriuster) mittels eines Verzerrungsgerätes Schablonen hergestellt, d. h., die Muster^ teile in mehreren verzerrten Größen aufgenommen und dann diese Aufnahme auf ein Band aufgebracht, welches dann mit den verschiedenen Mustern die Schablone bildet. Zur Benutzung der unterschiedlich verzerrten Muster muß auf die Schablone zusätzlich noch eine Übersichtskarte mit unterschiedlichen, die einzelnen Verzerrungsgrade angebenden Linien aufgetragen werden, damit anhand dieser Obersichtskarte das gewünschte Muster ermittelt werden kann. Diese Schablone wird also in einem eigenen, abgeschlossenen Arbeitsgang hergestellt Um nun das endgültige Schnittmuster entsprechend der jeweiligen Personenform und -größe herstellen zu können, wird ein zweiter Arbeitsgang notwendig, indem die Schablone in einen verstellbaren Bildwerfer eingegeben wird, von dem aus dann die vorgefertigten, verzerrten Muster auf ein Schnittmuster oder auf den Stoff übertragen werden.From DE-PS 9 13 522 a method and a device for obtaining irregular shape and Dimension sample, e.g. B. for made-to-measure clothing, with two independent of each other and successive work processes pattern pattern ster, first will be by one Basic pattern (normal pattern) stencils produced by means of a distortion device, d. i.e., the pattern ^ parts recorded in several distorted sizes and then put this recording on a tape, which then make the template with the various patterns. To use the differently distorted Pattern must also have an overview map on the template with different, individual Lines indicating degrees of distortion are plotted so that the desired pattern can be determined. This template is therefore in its own, self-contained Work process produced To now the final pattern according to the respective person shape and size, a second work step is necessary by converting the template into a adjustable projector is entered, from which then the prefabricated, distorted pattern on a Pattern or transferred onto the fabric.
Demzufolge wird bei diesem bekannten Verfahren immer eine vorgefertigte Schablone mit verzerrten Mustern für die Schnittmusterbiidimi notwendig, wodurch das bekannte Verfahren umständlich und zeitaufwendig ist, da erst die verzerrten Schablonen hergestellt werden müssen und dann aus diesen Schablonen die entsprechenden verzerrten Muster herauszusuchen sind und danach erst die Übertragung auf den Stoff möglich ist. Wenn auch dem Schneider viele verzerrte Schablonen vorliegen, so ist doch für jede Person wiederum die Aufsuchung des entsprechend verzerrten Musters notwendig und dann die genaue Einstellung des Bildwerfers auf dieses Muster erforderlich. Insgesamt ist dieses Verfahren für die heutige Arbeitsweise der Konfektionshersteller auf-As a result, in this known method, a prefabricated template is always distorted Patterns for the cutting pattern biidimi necessary, making the known method cumbersome and is time-consuming, since the distorted stencils have to be made first and then from them Templates, the corresponding distorted patterns are to be found and only then the transfer on the fabric is possible. Even if the tailor has many distorted templates, it is for each person in turn requires the search for the correspondingly distorted pattern and then the precise adjustment of the projector to this pattern is required. Overall, this procedure is for the today's working methods of the clothing manufacturers
jo grund der umständlichen und zeitaufwendigen Handhabung und df r Erfordernis von zwei Geräten äußerst aufwendig und unwirtschaftlich. Auch sind durch die vielen verzerrten Muster auf der Schablone Fehlerquellen nicht ausgeschlossen.jo reason of the cumbersome and time-consuming handling and the requirement of two devices extremely complex and uneconomical. Also are through the many distorted patterns on the stencil, sources of error cannot be excluded.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein nach der eingangs genannten Art durchführbares Verfahren dahingehend zu verbessern, daß es in einfacher Weise eine individuelle Schnittmustervergrößerung, bezogen auf das jeweilige Oberweiten- und Hüftweitenmaß, unabhängig von dem Normverhältnis ermöglicht, wobei dieses Verfahren von jedermann auf seine speziellen Figurenmaße abgestellt durchgeführt werden kann.The object of the invention is to provide a method that can be carried out according to the type mentioned at the beginning to improve that it is based on an individual marker enlargement in a simple manner allows the respective bust and hip measurement, regardless of the standard ratio, whereby this process can be carried out by anyone tailored to his or her special figure dimensions.
Diese Aufgabe wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren dadurch gelöst, daß in einem ersten Verfahrensschritt der oberhalb der Taille liegende Teil des verkleinerten Schnittmusters mit dem Oberweitenmaß als Bezugsgröße und in einem nachfolgenden zweiten Verfahrensschritt der unterhalb der Taille liegende Teil des verkleinerten Schnittmusters mit dem Hüftweitenmaß als Bezugsgröße jeweils auf Originalgröße gebracht werden.This object is achieved in the method according to the invention in that in a first Process step the part of the reduced pattern with the bust measurement that is above the waist as a reference value and in a subsequent second process step below the waist lying part of the reduced pattern with the hip measurement as a reference size, each at original size to be brought.
Bei einem bevorzugten Merkmal der Erfindung wird bei dem Verfahren zum Messen der Entfernung
zwischen Projektionsapparat und Zeichenunterlage ein Bandmaß verwendet, auf dem getrennt nebeneinanderliegend
Maßzahlen für die Oberweite und Hüftweite aufgetragen sind, welche mit zunehmendem Abstand
vom Nullpunkt jeweils in etwa linear ansteigen.
Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht durch die getrennte Behardlung von Ober- und Hüftweite,
d. h., durch dessen nacheinander erfolgende und auf die jeweilige Körperfigur (Maße) abgestellte ÜbertrngUngj
eine individuelle Schniltmustervergrößerung, Wodurch
beliebige verkleinerte Schnittmuster paßgerecht fürIn a preferred feature of the invention, a tape measure is used in the method for measuring the distance between the projection apparatus and the drawing surface, on which separately adjacent dimensions for the bust and hip are plotted, which increase approximately linearly with increasing distance from the zero point.
The method according to the invention enables an individual pattern enlargement through the separate treatment of upper and hip width, that is, through its successive transfer and based on the respective body figure (dimensions), an individual pattern enlargement, whereby any reduced pattern is suitable for
jede Person und Figur in ein vergrößertes Schnittmuster umwandelbar ist.every person and figure can be converted into an enlarged pattern.
Unter Zuhilfenahme eines Projektionsapparates und eines mit Oberweiten- Und Hüftweilenmaßen. welcheWith the help of a projector and one with upper and hip measurements. Which
unterhalb einer bestimmten Weite als Bundweitenmaße ausgelegt sind, versehenen Bandmaßes können Miniaturschnittvorlagen aus jedem beliebigen, käuflichen Modeheft auf paßgerechte Originalgröße gebracht und ausgeschnitten werden.are designed below a certain width as waist measurements, provided tape measure can miniature cutting templates brought to the original size from any commercially available fashion booklet and be cut out.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist äußerst einfach und schnell von jedermann durchführbar.The method according to the invention can be carried out extremely simply and quickly by anyone.
Zur ausführlichen Erläuterung des Verfahrens wird dessen Ablauf nachfolgend beschrieben:For a detailed explanation of the process, its sequence is described below:
Die verkleinerten Konturen eines Schnittmusters, beispielsweise aus einem Schnittmusterheft, werden mit Hilfe eines an sich bekannten Projektionsapparates auf einen Papierbogen, der zweckmäßigerweise auf eine Zeichenplatte geheftet ist, geworfen. Um nun das projizierte Schnittmuster in einer bestimmten Größe zu erhalten, ist der Projektionsapparat in einem vorbestimmbaren Abstand von der Zeichenplatte aufzustellen. Der Abstand zwischen Projektionsapparat und Zeichenplatte läßt sich durch ein Bandmaß messen, auf dem gleichzeitig auf der einen Seite Oberweiten- und Hüftweitenmaße nebeneinanderiiegend aufgetragen sind. Je größer der Abstand zwischen Projektionsapparat und Zeichenplatte, je größer ist die Ober- und Hüftweite. Da bekannterweise Ober- und Hüftweite konfektionsmäßig in einem bestimmten Verhältnis zueinander stehen, gehört zu eiper bestimmten Oberweite eine bestimmte Hüftweite. Nachdem die vergrö-Eerten Schnittkonturen auf dem Papierbogen projiziert sind, werden diese Konturen auf dem Papierbogen nachgezeichnet und sodann in einem weiteren Arbeitsgang von Hand ausgeschnitten.The reduced contours of a pattern, for example from a pattern booklet, are included with Using a known projection apparatus onto a sheet of paper, which is expediently on a Drawing board is stapled, thrown. In order to now get the projected cutting pattern in a certain size received, the projection apparatus is to be set up at a predeterminable distance from the drawing board. The distance between the projection apparatus and the drawing board can be measured using a tape measure which simultaneously on one side of the bust and hip measurements next to each other are. The greater the distance between the projection apparatus and the drawing board, the greater the top and Hip width. As it is well known that the upper and hip sizes are made in a certain ratio stand to each other, a certain hip size belongs to a certain bust size. After the enlarged Cut contours are projected onto the sheet of paper, these contours become on the sheet of paper redrawn and then cut out by hand in a further step.
Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht neben der normalen Vergrößerung auch eine individuelle Schnittmustervergrößerung in bezug auf das jeweilige Oberweiten- und Hüftweitenmaß in zwei Verfahrensschritten. In addition to normal enlargement, the method according to the invention also enables individual enlargement Pattern enlargement in relation to the respective bust and hip measurements in two steps.
Soll bei dem zu erstellenden Schnittmuster die Hüftweite eine andere sein als die dazugehörige Oberweite, so ist der Projektionsapparat im ersten Verfahrensschritt auf die gewünschte Oberweite einzustellen und dann sind die Konturen bis zur Taille auf dem Papierbogen nachzuzeichnen. Sodann erfolgt eine Korrektur des Projektionsapparates, indem dieser auf die gewünschte Hüftweite eingestellt wird. Anschließend erfolgt im zweiten Verfahrensschritt die Nachzeichnung der Konturen auf dem Papierbogen von der Taille nach unten hin.Should the hip width of the pattern to be created be different from the corresponding one Breast size, the projection apparatus is to be set to the desired bust size in the first step of the process and then the contours are to be traced on the sheet of paper up to the waist. Then one follows Correction of the projector by adjusting it to the desired hip width. Afterward In the second step, the contours are traced on the sheet of paper from the Waist down.
Bei dem erfindungsgemäß angewendeten Bandmaß sind die Maße für Ober- und Hüftweiten nebeneinanderliegend angeordnet. Hierbei gehört bei einer normalen Konfektionsgröße zu einer bestimmten Oberweite stets eine bestimmte Hüftweite. Mit größerem Abstand des Projektionsapparates von der Zeichenplatte (vom Nullpunkt) vergrößert sich sowohl die Ober- als auch die Hüftweite. Die Vergrößerung ist etwa linear.In the case of the tape measure used according to the invention, the measurements for the upper and hip widths are side by side arranged. With a normal clothing size, a certain bust size always belongs to this a certain hip size. With a greater distance between the projection apparatus and the drawing board (from Zero point) increases both the upper and the hip width. The magnification is roughly linear.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702041538 DE2041538C3 (en) | 1970-08-21 | 1970-08-21 | Process for the production of patterns of any size |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702041538 DE2041538C3 (en) | 1970-08-21 | 1970-08-21 | Process for the production of patterns of any size |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2041538A1 DE2041538A1 (en) | 1972-02-24 |
DE2041538B2 DE2041538B2 (en) | 1980-05-14 |
DE2041538C3 true DE2041538C3 (en) | 1981-01-22 |
Family
ID=5780349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702041538 Expired DE2041538C3 (en) | 1970-08-21 | 1970-08-21 | Process for the production of patterns of any size |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2041538C3 (en) |
-
1970
- 1970-08-21 DE DE19702041538 patent/DE2041538C3/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2041538B2 (en) | 1980-05-14 |
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