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Die
Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Feststellen der Lage eines
Arbeitsfokus relativ zu einer Oberfläche, insbesondere relativ zur
Oberfläche eines
zu bearbeitenden Werkstücks
in einer Laserbearbeitungsanlage, sowie eine Vorrichtung zum Regeln
der Fokuslage unter Verwendung des von der Vorrichtung zum Feststellen
der Lage des Arbeitsfokus gelieferten Ausgangssignals.
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Überall dort,
wo ein Arbeitslichtstrahl auf eine zu bearbeitende Oberfläche oder
auf die Oberfläche eines
zu bearbeitenden Werkstücks
fokussiert werden muß,
ist es erforderlich, den Abstand zwischen einer Fokussieroptik,
und der Oberfläche,
auf die der Arbeitslichtstrahl fokussiert werden soll, zu kennen und
zu überwachen,
um stets durch Einstellen und Regeln des Abstands die einwandfreie
Fokussierung des Arbeitslichtstrahls sicherzustellen. Unter Fokussierung
ist hier nicht nur die Abbildung einer optisch im Unendlichen angeordneten
Arbeitslichtquelle in den Brennpunkt der Fokussieroptik zu verstehen, sondern
jede Abbildung einer Arbeitslichtquelle in einen vorzugsweise punktförmigen Bildpunkt
auf einer Oberfläche.
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Bei
Laserbearbeitungsanlagen, in denen Werkstücke, insbesondere leitende
Bleche mittels Laserstrahlung geschweißt oder geschnitten werden, ist
es bekannt, den Abstand eines Laserbearbeitungskopfes, in dem die
Fokussieroptik angeordnet ist, von der Werkstückoberfläche auf kapazitivem Wege zu
erfassen, in dem die Kapazität
eines von einer dem Werkstück
gegenüberliegenden
Meßelektrode
und dem Werkstück
gebildeten Meßkondensators
erfaßt
wird. Aus der Größe der Meßkapazität oder unmittelbar
aus einem der Größe der Meßkapazität entsprechenden
Signal kann dann mittels geeigneter Kalibrierungskurven der Abstand
zwischen Werkstück
und Laserbearbeitungskopf festgestellt und geregelt werden.
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Diese
sogenannte kapazitive Abstandsregelung bei Laserbearbeitungsanlagen
hat sich weitgehend bewährt
und arbeitet zuverlässig.
Problematisch ist dabei jedoch, daß sich bei Schneid- und Schweißvorgängen mittels
Laserstrahlung ein Plasma zwischen der Sensorelektrode und dem Werkstück bildet,
dessen elektrische Eigenschaften oft nicht konstant sind und das
somit die Kapazitätsmeßung verfälschen kann,
wenn keine geeigneten Gegenmaßnahmen
vorgesehen werden.
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In
der Doktorarbeit von C. Hembd-Söllner, "Strahldiagnostik
von CO2-Hochleistungslasern
mit diffraktiver Optik",
Fakultät
für Konstruktions- und Fertigungstechnik
der Universität
Stuttgart, 1997, wurde bereits ein Autofokussystem für einen CO2-Hochleistungslaser vorgeschlagen, bei dem
mit einem ersten groben Gitter (Gitterkonstate etwa 0,5 mm bei einer
Wellenlänge λ ≈ 10,6 μm) ein Diagnoselichtstrahl
aus einem einem Arbeitslichtstrahl entsprechenden Hauptversuchslichtstrahl
eines CO2-Lasers ausgekoppelt wird, um neben
einem einem Bearbeitungsfokus entsprechenden Hauptfokus einen Diagnosefokus
in einer einer Werkstückoberfläche entsprechenden
Blendenebene zu erzeugen. Der an der Blende reflektierte Diagnoselichtstrahl läuft dann
durch die Abbildungselemente des Strahlengangs zurück und wird
mit Hilfe eines zweiten feineren Gitters (Gitterkonstante ungefähr 50 μm) aus dem
Hauptstrahlengang heraus gebeugt. Zur Überwachung der Fokuslage relativ
zur Blende wird dabei die erste Ordnung des reflektierten Lichts
benutzt, wobei ein astigmatisches Fokussierverfahren mit einem Quadrantendetektor
eingesetzt wird.
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Ein
anderes Autofokussystem zur Feststellung der Lage eines Arbeitsfokus
relativ zu einer Oberfläche
ist bei Kompaktdisk-(CD)-Spielern bekannt (Principles of Degital
Audio, K. L. Polman, Harward W. SAMS & COMPANY Audio Library, Seiten 337
bis 339). Bei diesem bekannten Autofokussystem wird der an der Oberfläche der
CD reflektierte Arbeitslichtstrahl unter Verwendung einer zusätzlichen Zylinderlinse
astigmatisch auf eine Vier-Quadranten-Photodiode, also auf eine
Photodiode abgebildet, die vier den Quadranten eines kartesischen
Koordinatensystems entsprechend angeordnete, separate Empfangsbereiche
aufweist. Das Gesamtsignal der vier Quadranten-Photodiode ist dabei
das Arbeitssignal für
den Abspielvorgang, während
zur Erfassung der Fokuslage die Einzelsignale einander diagonal gegenüberliegender
Dioden addiert und anschließend
aus diesen Summen die Differenz gebildet wird, die dann je nach
Größe und Vorzeichen
die Größe bzw.
die Richtung der Abweichung des Fokus von der Plattenoberfläche beschreibt.
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Die
DE 42 07 169 A1 betrifft
ein Laserbearbeitungsverfahren für
ein Werkstück
mit nicht ebener Oberfläche,
und zeigt eine Fokussiereinrichtung, bei der neben einem Arbeitslaser
ein Hilfslaser eingesetzt wird, der einen Hilfsfokus im Bereich
des Arbeitsfokus erzeugt. Unter dem Reflektionswinkel für den Hilfsstrahl
ist eine Empfängeranordnung
mit einer fokussierenden Optik und einem positionsempfindlichen
Photodiodenarray angeordnet, um die Lage des Hilfsfokus zu überwachen.
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Aus
der gattungsfremden JP 62-208 404 ist eine Lichtabtastvorrichtung
für einen
optischen Datenträger
bekannt, die eine Lichtquelle, einen als Beugungsgitterlinse ausgelegten
Umlenkspiegel und eine Fokussieroptik aufweist, die das divergierende Lichtbündel in
einen Fokus auf dem optischen Datenträger fokussiert.
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Das
am Datenträger
reflektierte Licht wird von der Fokussierlinse über den Umlenkspiegel auf einen
vier Quadranten aufweisenden Fotodetektor fokussiert. Dabei prägt der als
Beugungsgitterlinse ausgelegte Umlenkspiegel dem von der Fokussierlinse
auf den Fotodetektor fokussierten, konvergierenden Lichtbündel einen
astigmatischen Anteil auf. Somit ist es möglich, mit Hilfe des vier Quadranten
Fotodetektors ein Autofokusfehlersignal zu erhalten.
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Davon
ausgehend liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine weitere
Vorrichtung der Eingangs genannten Art bereitzustellen, die es insbesondere
ermöglicht,
bei verringertem Justieraufwand und ohne großen zusätzlichen Platzbedarf die Fokuslage
eines Bearbeitungsstrahlengangs relativ zu einer Oberfläche zuverlässig zu überwachen,
ohne daß der
Arbeitsstrahl wesentlich beeinträchtigt
wird.
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Diese
Aufgabe wird durch die Vorrichtung nach Anspruch 1 gelöst. Vorteilhafte
Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Eine besonders vorteilhafte Verwendung der Erfindung ist im Anspruch
13 angegeben.
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Erfindungsgemäß ist also
bei einer Vorrichtung zum Feststellen der Lage eines Arbeitsfokus
relativ zu einer Oberfläche,
bei der im Arbeitsstrahlengang ein Beugungselement zum Auskoppeln
zumindest eines Meßlichtstrahls
aus einem Arbeitslichtstrahl angeordnet ist, ein zweites Beugungselement vorgesehen,
das den reflektierten Meßlichtstrahl
in einen Empfangsbereich einer ortsauflösenden, strahlungsempfindlichen
Empfängeranordnung
fokussiert, um die Intensitätsverteilung
des Meßlichtstrahls
im Empfangsbereich zu erfassen.
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Zweckmäßigerweise
ist das zweite Beugungselement ein Hologramm, vorzugsweise ein Phasenhologramm,
wobei das Hologramm sowohl als Auskoppelgitter als auch als Abbildungselement wirkt,
um den reflektierten Meßlichtstrahl
sowohl aus dem Arbeitsstrahlengang herauszubeugen, als auch entsprechend
den für
die Meßcharakteristik
nötigen optischen
Abbildungseigenschaften auf die strahlungsempfindliche Empfängeranordnung
zu fokussieren.
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Erfindungsgemäß lassen
sich auf diese Weise sämtliche
optischen Elemente zur Führung
und Fokussierung des reflektierten Meßlichtstrahls in einem einzigen
optischen Element zusammenfassen, das nicht nur den re flektierten
Meßlichtstrahl
aus dem Hauptstrahlengang auskoppelt, sondern auch mit den für die Meßcharakteristik
notwendigen optischen Eigenschaften abbildet. Auf diese Weise läßt sich
eine definierte Meßcharakteristik
erreichen, ohne daß weitere
optische Elemente erforderlich sind.
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Bei
einer besonders bevorzugten Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen,
daß der
reflektierte Meßlichtstrahl
astigmatisch auf die strahlungsempfindliche Empfängeranordnung fokussiert wird. Durch
die Verwendung einer astigmatischen Abbildung läßt sich aus der Form und relativen
Drehlage des Lichtflecks auf dem Empfangsbereich nicht nur ein Maß für die Größe des Abstandes
des Arbeitsfokus von der Oberfläche
erhalten, sondern gleichzeitig auch feststellen, ob die tatsächliche
Fokuslage von der Lichtquelle ausgesehen vor oder hinter der Oberfläche liegt.
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Obwohl
es grundsätzlich
möglich
ist, als Beugungselemente entsprechende Transmissionsgitter einzusetzen,
zeichnet sich eine zweckmäßige Weiterbildung
der Erfindung dadurch aus, daß sowohl
das erste als auch das zweite Beugungselement auf einem Spiegel
im Arbeitsstrahlengang angeordnet sind, wobei vorzugsweise beide
Beugungselemente auf demselben Spiegel im Arbeitsstrahlengang angeordnet
sind.
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Besonders
einfach lassen sich die Beugungselemente ausbilden, wenn das erste
Beugungselement in einem neben der optischen Achse liegenden Bereich
des Arbeitsstrahlengangs vorgesehen ist, während das zweite Beugungselement dem
ersten Beugungselement bezüglich
der optischen Achse des Arbeitsstrahlengangs diametral gegenüberliegt.
Auf diese Weise lassen sich nebeneinanderliegende Teilbereiche der
Pupille für
den hin- bzw. den
rücklaufenden
Meßlichtstrahl
nutzen.
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Es
ist jedoch auch möglich,
daß das
erste und das zweite Beugungselement sich überlagernd angeordnet sind
und sich im wesentlichen über
den gesamten Querschnitt des Arbeitsstrahlengangs erstrecken. Hierbei
läßt sich
ein Meßlichtstrahl
aus dem Arbeitslichtstrahl auskoppeln, der nicht nur eine für Meßzwecke
genügend
hohe Intensität
aufweist, sondern der auch im wesentlichen den gleichen Querschnitt
besitzt, wie der Arbeitslichtstrahl, so daß er die optischen Elemente
in gleicher Weise wie dieser durchläuft.
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Bei
einer anderen Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, daß als Meßlichtstrahl
oder -strahlen, der in die +1. und/oder –1. Beugungsordnung gebeugte
Anteil des Arbeitslichtstrahls verwendet wird. Die Verwendung der ±1. Beugungsordnung stellt
nicht nur eine genügend
hohe Intensität
des Meßlichtstrahls
sicher, sondern führt
auch dazu, daß der
Meß- oder Diagnosefokus
relativ dicht neben dem Arbeitsfokus liegt, so daß einerseits
eine zuverlässige Überwachung
der Fokuslage möglich
ist und andererseits den Arbeitslichtstrahl im Austrittsbereich
umgebende Düsen- und/oder Abschirmelemente
den Meßlichtstrahl
nicht behindern.
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Obwohl
es grundsätzlich
denkbar ist, daß als ortsauflösende, strahlungsempfindliche
Empfängeranordnung
ein 1-dimensionaler Empfänger,
z. B. eine Photodiodenzeile vorgesehen wird, ist bei einer besonders
vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung eine 2-dimensionale ortsauflösende, strahlungsempfindliche
Empfängeranordnung
vorgesehen. Hierdurch läßt sich
insbesondere bei der Verwendung astigmatischer Abbildungseigenschaften
die Größe und relative
Ausrichtung des Meßlichtflecks
auf dem Empfänger
besonders zuverlässig
ermitteln, um daraus Richtung und Größe der Abweichung der Fokuslage
von der Sollage festzustellen.
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Besonders
zweckmäßig ist
es, wenn als Empfängeranordnung
ein Quadrantenempfänger
mit vier Empfangsbereichen vorgesehen ist, die im wesentlich einen
quadratförmigen
Empfangsbereich festlegen.
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Bei
einer besonders bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen,
daß als
Arbeitslicht IR-Strahlung, insbesondere IR-Laserstrahlung, vorzugsweise
die langwellige IR-Laserstrahlung eines CO2-Lasers
verwendet wird, und daß die
strahlungsempfindliche Empfängeranordnung
eine thermoelektrische Wandleranordnung, vorzugsweise eine Thermosäulenanordnung
ist.
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Besonders
zweckmäßig läßt sich
die erfindungsgemäße Vorrichtung
zum Feststellen der Lage eines Arbeitsfokus relativ zu einer Oberfläche in einer Vorrichtung
verwenden, die die Fokuslage stets so regelt, daß der Arbeitsfokus auf der
Oberfläche
oder in einem definierten Abstand dazu liegt. Hierzu wird zweckmäßiger Weise
das Ausgangssignal der ortsauflösenden,
strahlungsempfindlichen Empfängeranordnung
an eine Auswerteschaltung geliefert, die daraus ein der Abweichung
einer Ist-Fokuslage von der Soll-Fokuslage entsprechendes Signal
ermittelt, das einer Nachführeinrichtung
zugeführt
wird, die in Abhängigkeit
von diesem Signal die Fokuslage nachstellt.
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Obwohl
es grundsätzlich
möglich
ist, einen die Fokussieroptik tragenden Bearbeitungskopf relativ
zum Werkstück
zu verschieben, ist es besonders vorteilhaft, wenn die Nachführeinrichtung
einen im Arbeitsstrahlengang angeordneten adaptiven Spiegel umfaßt, dessen
Abbildungseigenschaften in Abhängigkeit
von dem der Abweichung der Ist-Fokuslage von der Soll-Fokuslage entsprechenden
Signal einstellbar sind, um dem von der Fokussieroptik kommenden
oder zu ihr laufenden Lichtstrahl entsprechend der gewünschten Änderung
der Fokuslage eine zusätzliche
Divergenz oder Konvergenz aufzuprägen. Hierdurch läßt sich
eine besonders empfindliche nahezu verzögerungsfreie Nachregelung der Fokuslage
erreichen.
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Bei
einer anderen Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß die Nachführeinrichtung eine
Stellvorrichtung für
die Fokussieroptik umfaßt, die
die Lage der Fokussieroptik in Abhängigkeit von dem der Abweichung
der Ist-Fokuslage von der Soll-Fokuslage entsprechenden Signal einstellt.
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Die
Erfindung wird im folgenden Beispielsweise anhand der Zeichnung
näher erläutert. In
dieser zeigt:
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1 eine
schematische Darstellung eines Arbeitsstrahlengangs und des diesem
zugeordneten Meßlichtstrahlengangs,
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2 eine
Draufsicht auf die Oberfläche
eines die Beugungselemente tragenden Spiegels,
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3a eine
schematische Draufsicht auf eine ortsauflösende, strahlungsempfindliche
Empfängeranordnung,
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3b eine
schematische Seitenansicht nach Linie B-B in 3a,
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4a bis 4c verschiedene
Darstellungen des Meßlichtflecks
auf der Empfangsfläche
der Empfängeranordnung
nach 3a und 3b, und
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5 eine
Draufsicht auf eine andere ortsauflösende, strahlungsempfindliche
Empfängeranordnung.
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In
den verschiedenen Figuren der Zeichnung sind einander entsprechende
Bauteile mit gleichen Bezugszeichen versehen.
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1 zeigt
als Beispiel für
einen Arbeitsstrahlengang, bei dem ein Arbeitslichtstrahl auf eine Oberfläche fokussiert
wird, den Bearbeitungsstrahlengang einer Laserbearbeitungsmaschine,
bei der ein von einem Laser 10, z. B. einem CO2-Hochleistungslaser,
erzeugter Bearbeitungslaserlichtstrahl über verschiedene Strahlführungselemente,
von denen nur eines schematisch als Umlenkspiegel 12 dargestellt
ist, zu einer Fokussieroptik 13 in einem nicht dargestellten
Laserbearbeitungskopf geführt
wird. Zwischen dem Umlenkspiegel 12 und der Fokussieroptik 13 ist
in festem Abstand zur Fokussieroptik 13 im Laserbearbeitungskopf
ein weiterer Umlenkspiegel 14 angeordnet, auf dessen Spiegeloberfläche 15 ein
erstes und ein zweites Beugungselement in einem ersten bzw. einem
zweiten Oberflächenbereich 16 bzw. 17,
also in einem ersten und einem zweiten Teilbereich einer Pupille
des Strahlengangs angeordnet ist, wie in 2 dargestellt.
Das im Oberflächenbereich 16 angeordnete
Beugungselement 18 ist ein relativ grobes Auskoppelgitter 18,
das beispielsweise bei einer Laserwellenlänge von etwa 10 μm einen Gitterabstand
von 0,5 mm aufweist. Als zweites Beugungselement 18' ist in dem
Oberflächenbereich 17 ein
Hologramm, insbesondere ein Phasenhologramm vorgesehen, dessen äußerst feine
und komplexe Struktur nur rein schematisch angedeutet ist. Die beiden
Beugungselemente 18, 18' liegen dabei zu beiden Seiten
der optischen Achse O.A.
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Die
Fokussieroptik 13 weist als weiteren Umlenkspiegel einen
adaptiven Spiegel 19 und einen Abbildungsspiegel 20 aus,
der den ankommenden Bearbeitungslaserstrahl 11 in einen
Bildpunkt 21 auf einer Werkstückoberfläche 22 fokussiert.
Der Bildpunkt des Bearbeitungslaserstrahls 11 wird im folgenden
als Arbeitsfokus 21 bezeichnet.
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Das
erste Beugungselement, also das Auskoppelgitter 18 koppelt
aus dem Bearbeitungslaserstrahl 11, der hinter dem Umlenkspiegel 14,
also hinter dem Auskoppelgitter 18 die 0. Beugungsordnung darstellt,
einen Diagnose- oder Meßlichtstrahl 23 aus,
der von Laserslicht der +1. oder –1. Beugungsordnung gebildet
wird. Es ist auch möglich,
sowohl die +1. als auch die –1.
Beugungsordnung als Diagnose- oder Meßlichtstrahl 23 zu
verwenden. Zur Vereinfachung der Darstellung der Beschreibung wird
jedoch nur ein einzelner Meßlichtstrahl 23 gezeigt
und erläutert.
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Der
Meßlichtstrahl 23 durchläuft denselben Arbeitsstrahlengang
wie der Bearbeitungslaserstrahl 11 und wird in einen Bildpunkt 24 neben
dem Arbeitsfokus 21 auf die Werkstückoberfläche 22 fokussiert. Der
Bildpunkt des Meßlichtstrahls 23 wird
im folgenden als Meßfokus 24 bezeichnet.
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Bei
der Verwendung beider erster Beugungsordnungen wäre ein zweiter Meßfokus auf
der Werkstückoberfläche 22 vorhanden,
der dem dargestellten Meßfokus 24 bezüglich des
Arbeitsfokus 21 diametral gegenüberliegen würde.
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Der
an der Werkstückoberfläche 22 neben dem
Arbeitsfokus 21 im Meßfokus 24 zurückreflektierte
Meßlichtstrahl 23' durchläuft den
Arbeitsstrahlengang zurück
zum Umlenkspiegel 14, auf dem im Oberflächenbereich 17 als
zweites Beugungselement ein Hologramm, vorzugsweise ein Phasenho logramm 18' aufgebracht
ist, das den zurückreflektierten
Meßlichtstrahl 23' aus dem Arbeitsstrahlengang herausbeugt
und auf eine ortsauflösende,
strahlungsempfindliche Empfängeranordnung 25 fokussiert.
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Das
Phasenhologramm 18' auf
dem Umlenkspiegel 14 beugt also den zurückreflektierten Meßlichtstrahl 23' aus dem Arbeitsstrahlengang
und fokussiert ihn auf den Empfänger 25.
Dabei moduliert das Phasenhologramm 18' einen definierten astigmatischen
Wellenfrontanteil auf den Meßlichtstrahl 23', um die gewünschte Meßcharakteristik
zu erhalten.
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Die
Empfängeranordnung 25 erzeugt,
ein Ausgangssignal oder Ausgangssignale, die einer Auswerteschaltung 26 zugeführt werden.
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Wie
in 3a und 3b gezeigt,
weist die ortsauflösende,
strahlungsempfindliche Empfängeranordnung
eine Reflektorpyramide 27 mit vier Reflektionsflächen 28.i auf.
Jeder der Reflektionsflächen 28.i liegt
ein Strahlungsempfänger 29.i gegenüber. Wie
besonders gut aus 3b zu erkennen ist, empfängt jeder
Strahlungsempfänger 29.i nur
Licht, das an der ihm gegenüberliegenden
Reflektionsfläche 28.i reflektiert
wurde. 3b zeigt deutlich, wie der auf
die Empfängerfläche fokussierte
Meßlichtstrahl 23' an der Reflektorpyramide 27 so
in verschiedene Richtungen reflektiert wird, daß jeder der Strahlungsempfänger 29.i nur
einen entsprechenden Anteil empfängt.
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Bei
der anhand von 3a und 3b beschriebenen
Empfängeranordnung 25 werden
als Strahlungsempfänger 29.i thermoelektrische
Wandler insbesondere Thermosäulendetektoren
eingesetzt, die als sogenannte beschleunigte Thermosäulendetektoren
einerseits eine hohe Bandbreite aufweisen und andererseits auch
einem kontinuierlich anstehenden Meßlichtstrahl fortlaufend erfassen können, ohne
daß eine
periodische Unterbrechung des Meßlichtstrahls erforderlich
ist.
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Anstelle
eines derartigen aus Strahlungsempfängern 29.i und Reflektorpyramide 27 aufgebauten
Empfängeranordnung 25 kann
auch wie in
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5 dargestellt
ein 4-Quadratenstrahlungsempfänger,
beispielsweise eine 4-Quadrantenphotodiode 25' verwendet werden.
Außerdem
ist es möglich,
ein Photodiodenarray, also eine 2-dimensionale Anordnung von Photodioden,
oder auch eine Photodiodenzeile als Empfängeranordnung einzusetzen.
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Die
Art der verwendeten Strahlungsempfänger hängt im wesentlichen von der
Wellenlänge
des Arbeitslichtes und von der gewünschten Meßgenauigkeit ab. Eine besonders
hohe Meßgenauigkeit
für die
Fokuslage wird bei einer astigmatischen Meßcharakteristik mit einem 4-Quadrantenempfänger erreicht,
wie er anhand von 3a und 3b sowie 5
erläutert
wurde. Die Verwendung von Thermosäulen ist insbesondere bei CO2-Lasern zweckmäßig.
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Zunächst wird
die Arbeitsweise der erfindungsgemäßen Vorrichtung zum Feststellen
der Fokuslage erläutert.
Liegt der Meßfokus
24 ebenso
wie der Arbeitsfokus
21 auf der Oberfläche
22 eines zu bearbeitenden
Werkstücks,
so wird der Meßlichtstrahl
23' zurück zum Fokussierspiegel
20 reflektiert, und
läuft dann
als ebene Welle zurück
zum Meßhologramm,
das einen definierten astigmatischen Wellenfrontanteil auf den Meßlichtstrahl
23' moduliert.
Das auf die Empfangsfläche
der Empfängeranordnung
25,
also auf die Reflektorpyramide
27 fokussierte Punktbild
23'' bleibt bei genauer Fokuslage symmetrisch,
wie in
4b dargestellt. Die Abweichung, bzw.
der Abstand Δz
des Arbeits- und Meßfokus
21 bzw.
24 von
der Werkstückoberfläche
22 ist
dann null. Verschiebt sich die Oberfläche
22 des zu bearbeitenden
Werkstücks
gegenüber
dem Arbeitsfokus
21 um Δz,
führt dies
zu einer Verschiebung des astigmatischen Punktbildes
23" am Ort der
Reflektorpyramide
27, da die an der Oberfläche
22 des
Werkstücks reflektierte
Meßlichtwelle
einen zusätzlichen
sphärischen
Anteil enthält.
Die Reflektorpyramide
27 liegt dann also näher an einer
der beiden astigmatischen Brennlinien, so daß eine elliptische Form des
vom Meßlichtstrahl
23' auf der Reflektorpryramide
27 erzeugten
Punktbildes
23" vorliegt,
wie in
4a oder
4c angedeutet
ist. Die Verhältnisse
der Intensitäten, also
die auf den einzelnen Reflektionsflächen
28.i der Reflek torpyramide
27 zuliegenkommenden
Anteile des Punktbildes
23" ergeben
ein Meßsignal,
daß der Verschiebung Δz der Fokuslage
gegenüber
der Oberfläche
22 entspricht.
Das Meßsignal
S ergibt sich dabei aus den den jeweiligen Intensitäten entsprechenden
Ausgangssignalen I
1, I
2,
I
3, I
4 der Strahlungsempfänger
29.i,
also der einzelnen Strahlungsempfänger
29.1,
29.2,
29.3,
29.4 durch
die folgende Gleichung:
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Dieses
Meßsignal
S kann bereits in der Empfängeranordung
gebildet werden, um dann an die Auswerteschaltung 26 angelegt
zu werden. Es ist jedoch auch möglich,
die Ausgangssignale I1 bis I4 der Strahlungsempfänger 29.1 bis 29.4 an
die Auswerteschaltung 26 anzulegen und die Berechnung des Meßsignals
S in der Auswerteschaltung 26 durchzuführen. Aus dem Meßsignale
S ergibt sich der Abstand Δz
durch eine entsprechende Kalibrierung. Insbesondere ist die Verschiebung Δz proportional
zum Meßsignal
S.
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Aus
dem Meßsignal
S wird dann ein Regelsignal A gebildet, das einer Nachführeinrichtung
zugeführt
wird, die dafür
sorgt, daß die
tatsächliche
Fokuslage, also die Ist-Fokuslage mit der Soll-Fokuslage auf der
Oberfläche 22 des
Werkstücks
in Übereinstimmung
gebracht wird.
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Obwohl
es grundsätzlich
denkbar ist, den gesamten Bearbeitungskopf zu verschieben, um die Fokuslage
nachzustellen, wird erfndungsgemäß der adaptive
Spiegel 19 eingesetzt, dessen Reflektionsfläche so verformt
werden kann, daß sie
der auftreffenden Lichtwelle einen zusätzlichen konkaven oder konvexen
sphärischen
Anteil aufprägt.
Auf diese Weise läßt sich
die Fokuslage nahezu verzögerungsfrei
nachführen.
Hier lassen sich Änderungen
der Fokuslage so schnell erreichen, daß Abweichungen der Ist-Fokuslage von der
Soll-Fokuslage im Milli-Sekundenbereich ausgeglichen werden können.
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Eine
andere Möglichkeit
besteht darin, mit Hilfe einer in 1 gestrichelt
angedeuteten Nachstelleinrichtung 30 den Fokussierspiegel 20 gegenüber dem
Bearbeitungskopf zu verschieben, um so die Fokuslage zu regeln,
ohne daß es
erforderlich ist, den gesamten Laserbearbeitungskopf zu verschieben.