DE19827124A1 - Vorrichtung für den Transport von flachen, vorzugsweise kreisscheibenförmigen Substraten von und nach Behandlungsstationen - Google Patents

Vorrichtung für den Transport von flachen, vorzugsweise kreisscheibenförmigen Substraten von und nach Behandlungsstationen

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Abstract

Bei einer Vorrichtung für den Transport von flachen, vorzugsweise kreisscheibenförmigen Substraten (1, 1', ...) von und nach Behandlungssstationen mit einer um eine vertikale Achse (R) rotierbaren, motorisch angetriebenen Transportscheibe (2) mit einer Vielzahl am radial äußeren Bereich der Transportscheibe (2) angeordneten Saugeraufnahmen (14, 14', ...) und mit einer auf der Transportscheibe (2) befestigten, der Anzahl der Saugeraufnahmen (14, 14', ...) entsprechenden Zahl von elektromagnetisch betätigbaren Ventilen (3, 3', ...) und Strahlpumpen (5, 5', ...) ist jede der Saugeraufnahmen (14, 14', ...) jeweils an den Saugstutzen (10, 10', ...) einer Strahlpumpe (5, 5', ...) unter Zwischenschaltung eines Ventils oder Druckschalters (11, 11', ...) angeschlossen, wobei der Druckanschluß jeder Strahlpumpe (5, 5', ...) jeweils mit einer gemeinsamen Druckquelle oder einem zentralen Druckluftschacht (7) verbunden ist.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung für den Transport von flachen, vorzugsweise kreisscheiben­ förmigen Substraten von und nach Behandlungssta­ tionen mit einer um eine vertikale Achse rotierba­ ren, motorisch angetriebenen Transportscheibe mit einer Vielzahl von im radial äußeren Bereich der Transportscheibe angeordneten Saugeraufnahmen.
In der Vakuum-Prozeßtechnik - insbesondere in der Dünnschicht-Technik - ist das Beschichten von kreisscheibenförmigen Substraten, beispielsweise von Glas- oder Aluminiumscheiben für magnetische oder magneto-optische Datenträger bekannt. Diese scheibenförmigen Substrate werden als Speicherme­ dien für digitale Information vielfältig verwen­ det. In einem Sputterprozeß werden beispielsweise geprägte Kunststoffscheiben mit einer Aluminium­ schicht überzogen. Die hierzu eingesetzten Sput­ ter-Beschichtungsanlagen besitzen in aller Regel ein automatisiertes Greiferführungsgetriebe für die Beförderung der Substrate vor, in und hinter einer Vakuumkammer.
Von einer Bereitstellungsstation aus transportiert beispielsweise ein Schwenkarm eines Greiferfüh­ rungsgetriebes die Substrate in die Vakuumkammer. In der Kammer werden dann die Substrate auf einen Drehteller aufgelegt und mit diesem durch die ein­ zelnen Stationen der Vakuumkammer hindurchbewegt. Zum Be- und Entladen der Drehteller mit den Substraten sind im Stand der Technik zahlreiche Vorrichtungen zum Greifen und Halten bekannt.
Bekannt ist auch eine Vorrichtung (G 93 07 263.5) zum Greifen und Halten eines flachen, vorzugsweise scheibenförmigen Substrats, im wesentlichen beste­ hend aus mehreren fingerförmigen Greifern und ei­ ner Membran aus elastischem Material, die eine in einem druckfesten Gehäuse angeordnete Öffnung ver­ schließt, wobei auf der Vorder- und Rückseite der Membran unterschiedliche Drücke einstellbar sind und die Membran so angeordnet ist, daß sie bei an­ liegender Druckdifferenz eine Auslenkung aus ihrer Ruhelage ausführt und bei Druckgleichheit durch eine Druckfeder wieder in ihre Ruhelage zurück­ stellbar ist und wobei die Greifer mit ihrem je­ weils einen Ende mechanisch mit der Membran so verbunden sind, daß sie mit ihrem anderen, freien Ende eine Schwenkbewegung proportional zur Auslen­ kung der Membran zum Greifen und Halten, bezie­ hungsweise Freigeben des Substrats ausführen.
Bekannt ist weiterhin eine Vorrichtung für den Transport von flachen Werkstücken (EP 0 487 848) von einem Förderband zu einer Bearbeitungsstation mittels eines um eine vertikale Achse schwenkba­ ren, zweiarmigen Transportarmes, an dessen beiden freien Enden Sauggreifer angeordnet sind, wobei die Sauggreifer jeweils über Schlauchleitungen an einzelne Vakuumpumpen angeschlossen sind. Diese bekannte Vorrichtung hat insbesondere den Nach­ teil, daß für jeden Saugheber eine eigene Saugpum­ pe erforderlich ist, die über besondere Rohr- und Schlauchleitungen mit der Pumpe verbunden sind, wobei in die Leitungen jeweils ein Paar Ventile eingeschaltet sind, über die der Saugstrom steuer­ bar ist. Es ist klar, daß die Anzahl der Saughe­ ber, die an einem Transportarm vorgesehen sein können, praktisch begrenzt ist, da andernfalls die Vielzahl von erforderlichen Schlauch- und Rohrlei­ tungen das Aggregat überfrachten würde.
Bekannt sind auch Treibmittelpumpen, bei denen ein schnell bewegtes gasförmiges Treibmittel zur För­ derung des abzupumpenden Gases benutzt wird (Wutz, Adam, Walcher: Theorie und Praxis der Vakuumtech­ nik, Friedrich Vieweg & Sohn, Braun­ schweig/Wiesbaden, 3. Auflage, Seite 193 ff.). Derartige Treibmittelpumpen werden auch als Ejek­ toren, Luftstrahlpumpen oder Venturipumpen gehan­ delt.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zu­ grunde, eine Vorrichtung der in Frage stehenden Art so zu verbessern, daß sie mit einer möglichst großen Anzahl von Saugeraufnahmen ausgestattet werden kann, die jeweils einzeln ansteuerbar sind und besonders rasch und zuverlässig arbeiten.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß jeder Saugeraufnahme eine eigene Luftstrahl­ pumpe zugeordnet ist, wobei in die Verbindungslei­ tung vom Sauganschluß der Strahlpumpe zur Sau­ geraufnahme ein Ventil eingeschaltet ist und der Druckanschluß jeder Strahlpumpe jeweils mit einer einzigen zentralen Druckluftquelle verbunden ist.
Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausfüh­ rungsmöglichkeiten zu; eine davon ist in den an­ hängenden Zeichnungen rein schematisch näher dar­ gestellt, und zwar zeigen:
Fig. 1 die Draufsicht auf eine Transportscheibe mit den auf dieser angeordneten Ventilen und Strahlpumpen,
Fig. 2 den Teilschnitt nach den Linien A-B gemäß Fig. 1,
Fig. 3 den Teilschnitt nach den Linien C-D gemäß Fig. 1 und
Fig. 4 den Teilschnitt nach den Linien E-F gemäß Fig. 1.
Die Vorrichtung gemäß Fig. 1 besteht im wesentli­ chen aus sieben auf der Oberseite der radial äuße­ ren Partie der Transportscheibe 2 angeordneten Elektromagnetventilen 3, 3', 3", . . . und sieben Druck­ schaltern 4, 4', 4", . . . und sieben auf der Unterseite der Transportscheibe 2 vorgesehenen Strahlpumpen 5, 5', 5", . . ., wobei jedes Elektromagnetventil 3, 3', 3", . . . einerseits über einen eigenen, sich ra­ dial in der Transportscheibe 2 erstreckenden Kanal 6, 6', 6", . . . mit einem zentralen Luftdruckschacht 7 verbunden ist und andererseits jeweils an eine Strahlpumpe 5, 5', 5", . . . angeschlossen ist, die ih­ rerseits wiederum mit einem Druckschalter 4, 4', 4", . . . zusammenwirkt und mit einem eigenen Ab­ luftkanal 8, 8', 8", . . . verbunden ist.
Während des Betriebes strömt Druckluft vom Schacht 7 in die sich radial erstreckenden Kanäle 6, 6', . . . und von diesen aus in die jeweiligen Elektroma­ gnetventile 3, 3', 3", . . ., die je nach Schaltstellung den Durchlaß 9, 9', 9", . . . zum jeweiligen Abluftkanal 8, 8', 8", . . . durch die entsprechende Strahlpumpe 5, 5', 5", . . . öffnen oder schließen. Die einzelnen Strahlpumpen 5, 5', 5", . . . sind mit ihren Saugstutzen 10, 10', . . . jeweils mit einem Druckschalter 11, 11', . . . verbunden, der jeweils über eine Bohrung 12, 12', . . . mit der an sich bekannten Saugeraufnahme 14, 14', . . . verbunden ist. Eine Luftstrahlpumpe 5, 5', 5", . . . der in Frage stehenden Art kann beispielsweise mit ei­ nem Überdruck zwischen 0,38 MPa (55,1 Psi) bis 0,6 MPa (87 Psi) bei einem Unterdruck von etwa -93 kPa (-27,9 in Hg) und einer Durchflußmenge von 0,4 l/s arbeiten. Der von einer solchen Luft­ strahlpumpe erzeugte Druck reicht vollständig aus, um beispielsweise eine Compact Disc (CD) bei Ver­ wendung eines handelsüblichen Vakuumgreifers bzw. einer Saugeraufnahme anzuheben und zu transportie­ ren. Um ein Anheben des Substrats zu bewirken, wird der mit dem entsprechenden Vakuumgreifer ver­ bundene Sauganschluß 10, 10', 10", . . . durch Betäti­ gung des korrespondierenden Druckschalters 11, 11', 11", . . . geöffnet, so daß sich an der jewei­ ligen Bohrung 13, 13', 13", . . . ein Unterdruck ein­ stellt.
Bezugszeichenliste
1
,
1
', . . .Substrat
2
Transportscheibe
3
,
3
', . . .Elektromagnetventil
4
,
4
', . . .Druckschalter
5
,
5
', . . .Luftstrahlpumpe, (Treibmittelpumpe)
6
,
6
', . . .Kanal
7
zentraler Druckluftschacht
8
,
8
', . . .Abluftkanal
9
,
9
', . . .Durchlaß
10
,
10
', . . .Saugstutzen
11
,
11
', . . .Druckschalter
12
,
12
', . . .Bohrung
13
,
13
', . . .Bohrung
14
,
14
', . . .Saugstutzen, Saugeraufnahme
15
,
15
', . . .Abluftöffnung

Claims (4)

1. Vorrichtung für den Transport von flachen, vorzugsweise kreisscheibenförmigen Substraten (1, 1', . . .) von und nach Behandlungsstationen mit einer um eine vertikale Achse (R) rotier­ baren, motorisch angetriebenen Transport­ scheibe (2) mit einer Vielzahl am radial äu­ ßeren Bereich der Transportscheibe (2) ange­ ordneten Saugeraufnahmen (14, 14', . . .) und mit einer auf der Transportscheibe (2) befestig­ ten, der Anzahl der Saugeraufnahmen (14, 14', . . .) entsprechenden Zahl von elektroma­ gnetisch betätigbaren Ventilen (3, 3', . . .) und Strahlpumpen (5, 5', . . .), wobei jede der Sau­ geraufnahmen (14, 14', . . .) jeweils an den Saug­ stutzen (10, 10', . . .) einer Strahlpumpe (5, 5', . . .) unter Zwischenschaltung eines Ventils oder Druckschalters (11, 11', . . .) angeschlossen ist, wobei der Druckanschluß jeder Strahlpumpe (5, 5', . . .) jeweils mit einer gemeinsamen Druckquelle oder einem zentralen Druckluft­ schacht (7) verbunden ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen zentralen Druckluftschacht (7), der koaxial zur Drehachse (R) der Transport­ scheibe (2) verläuft und mit einer der Anzahl von Strahlpumpen (5, 5', . . .) entsprechenden, sich zur Drehachse (R) radial durch die Transportscheibe (2) hindurch erstreckenden Kanälen (6, 6', . . .) verbunden ist, die ihrer­ seits jeweils an ein Elektromagnetventil (3, 3', . . .) angeschlossen sind, das den Durch­ tritt der Druckluft zu jeweils einer Strahl­ pumpe (5, 5', . . .) gestattet.
3. Vorrichtung nach den Ansprüchen 2 und 3, da­ durch gekennzeichnet, daß dem Sauganschluß (13, 13', . . .) jeder Strahlpumpe (5, 5', . . .) jeweils ein Druckschalter (4, 4', . . .) nachgeschaltet ist, über den die Verbindung zwischen der Strahlpumpe (5, 5', . . .) und dem Saugstutzen (14, 14', . . .) steuerbar ist.
4. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 3, da­ durch gekennzeichnet, daß der mit jeder Strahlpumpe (5, 5', . . .) verbundene Abluftkanal (8, 8', . . .) als eine sich radial zur Rotati­ onsachse (R) durch die Transportscheibe (2) erstreckende Bohrung ausgebildet ist, deren radial inneres Ende in einer sich parallel zur Rotationsachse (R) und in deren unmittel­ barer Nachbarschaft angeordnete Abluftöffnung (15, 15', . . .) einmündet.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001065558A1 (en) * 2000-02-29 2001-09-07 Polymer Reprocessors Limited Disc handling apparatus
WO2002005280A2 (en) * 2000-07-07 2002-01-17 Valley Compact Disc Repair Inc Method and apparatus for reconditioning digital discs
DE10108383A1 (de) * 2001-02-21 2002-09-12 Steag Hamatech Ag Vorrichtung zum Aufnehmen von Substraten
DE102010060517A1 (de) * 2010-11-12 2012-05-16 Schott Solar Ag Verfahren und Anordnung zum Handhaben eines Gegenstandes
CN103287847A (zh) * 2012-02-27 2013-09-11 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 基板传输机构和具有它的基板传输***

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2248930A1 (de) * 1971-10-06 1973-04-19 Kms Ind Inc Unterdruckaufsatz
EP0250064A2 (de) * 1986-06-20 1987-12-23 Varian Associates, Inc. Platte mit mehrfachen dünnen Klemmitteln zum Behandeln von Plättchen
DE9307263U1 (de) * 1993-05-13 1993-07-22 Balzers und Leybold Deutschland Holding AG, 63450 Hanau Vorrichtung zum Greifen und Halten eines flachen Substrats
DE9407004U1 (de) * 1994-04-26 1994-10-27 Siemens AG, 80333 München Vorrichtung zum Bestücken von Leiterplatten mit Bauelementen
DE19606764C1 (de) * 1996-02-23 1997-04-03 Singulus Technologies Gmbh Vorrichtung zum Greifen, Halten und/oder Transportieren von Substraten

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2248930A1 (de) * 1971-10-06 1973-04-19 Kms Ind Inc Unterdruckaufsatz
EP0250064A2 (de) * 1986-06-20 1987-12-23 Varian Associates, Inc. Platte mit mehrfachen dünnen Klemmitteln zum Behandeln von Plättchen
DE9307263U1 (de) * 1993-05-13 1993-07-22 Balzers und Leybold Deutschland Holding AG, 63450 Hanau Vorrichtung zum Greifen und Halten eines flachen Substrats
DE9407004U1 (de) * 1994-04-26 1994-10-27 Siemens AG, 80333 München Vorrichtung zum Bestücken von Leiterplatten mit Bauelementen
DE19606764C1 (de) * 1996-02-23 1997-04-03 Singulus Technologies Gmbh Vorrichtung zum Greifen, Halten und/oder Transportieren von Substraten

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
WUTZ,Max, u.a.: Theorie und Praxis der Vakuumtechnik, Vieweg, Braunschweig, 5.Aufl., 1992, S.212-215 *

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001065558A1 (en) * 2000-02-29 2001-09-07 Polymer Reprocessors Limited Disc handling apparatus
GB2378035A (en) * 2000-02-29 2003-01-29 Polymer Reprocessors Ltd Disc handling apparatus
WO2002005280A2 (en) * 2000-07-07 2002-01-17 Valley Compact Disc Repair Inc Method and apparatus for reconditioning digital discs
WO2002005280A3 (en) * 2000-07-07 2002-04-18 Valley Compact Disc Repair Inc Method and apparatus for reconditioning digital discs
US6991524B1 (en) 2000-07-07 2006-01-31 Disc Go Technologies Inc. Method and apparatus for reconditioning digital discs
US7357696B2 (en) 2000-07-07 2008-04-15 Disc Go Technologies, Inc. Method and apparatus for reconditioning digital discs
DE10108383A1 (de) * 2001-02-21 2002-09-12 Steag Hamatech Ag Vorrichtung zum Aufnehmen von Substraten
DE10108383B4 (de) * 2001-02-21 2006-06-14 Steag Hamatech Ag Vorrichtung zum Aufnehmen von Substraten
DE102010060517A1 (de) * 2010-11-12 2012-05-16 Schott Solar Ag Verfahren und Anordnung zum Handhaben eines Gegenstandes
CN103287847A (zh) * 2012-02-27 2013-09-11 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 基板传输机构和具有它的基板传输***

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