DE19719903A1 - Measuring device and method for cleaning contamination areas of a measuring device - Google Patents

Abstract

The invention relates to a measuring device comprising a measuring apparatus especially for gaseous samples and a sample input device by means of which samples can be introduced into the measuring device. To improve such a device in such a way as to ensure that the measurement and/or analysis results of the measuring apparatus are not influenced by possible contamination, the invention provides for the sample input device to be fitted with a cleaning device for cleaning contaminated areas of the sample input device by transforming impurities in said contaminated areas by a chemical reaction, and for the reaction products to be removed from the sample input device.

Description

Die Erfindung betrifft eine Meßvorrichtung, umfassend ein Meßgerät für insbesondere gasförmige Proben und eine Proben­ einlaßvorrichtung, durch welche die Proben dem Meßgerät zu­ führbar sind.The invention relates to a measuring device comprising a Measuring device for in particular gaseous samples and a sample inlet device through which the samples to the measuring device are feasible.

Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Reinigung von Kontaminationsbereichen einer Meßvorrichtung, welche ein Meß­ gerät für insbesondere gasförmige Proben umfaßt.The invention further relates to a method for cleaning Contamination areas of a measuring device, which a measuring device for in particular gaseous samples.

Meßvorrichtungen mit Meßgeräten, welche zur Analyse von gas­ förmigen Proben dienen, werden beispielsweise in der chemischen Analytik oder bei Prozeßsteuerungen und Prozeß­ überwachungen eingesetzt. Es tritt dabei das Problem auf, daß insbesondere wenn schwerflüchtige Verbindungen aus der Gas­ phase analytisch nachgewiesen werden sollen, diese zu einer Kontamination der Meßvorrichtung führen. Solche Kontamina­ tionsbereiche der Meßvorrichtungen können insbesondere im Bereich einer Probenzufuhr zum Meßgerät, einer Probenan­ reicherungsstufe und einer Probeneinlaßvorrichtung in das Meßgerät auftreten. Durch derartige Kontaminationen kann das Meßgerät Werte liefern, die nicht charakteristisch sind für die zu messenden und zu analysierenden gasförmigen Proben, da die Verunreinigungen in den Kontaminationsbereichen zu einer Verfälschung der Meß- und Analyseergebnisse beitragen können.Measuring devices with measuring devices which are used for the analysis of gas Shaped samples are used, for example, in the chemical analysis or process control and process monitoring used. The problem arises that especially when volatile compounds from the gas phase should be demonstrated analytically, this to a Contamination of the measuring device. Such contamina tion ranges of the measuring devices can in particular Area of a sample feed to the measuring device, a sample enrichment level and a sample inlet device in the  Measuring device occur. Such contamination can Deliver values that are not characteristic of the gaseous samples to be measured and analyzed, because the contamination in the contamination areas to one Falsification of the measurement and analysis results can contribute.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Meßvor­ richtung mit den eingangs genannten Merkmalen so zu ver­ bessern, daß durch eventuelle Kontaminationen die Meß- und/oder Analyseergebnisse des Meßgeräts nicht beeinflußt werden.The invention is therefore based on the object, a Meßvor direction with the features mentioned at the beginning improve that the measuring and / or Analysis results of the measuring device are not affected will.

Diese Aufgabe wird bei der Meßvorrichtung mit den eingangs genannten Merkmalen erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Probeneinlaßvorrichtung mit einer Reinigungseinrichtung zur Reinigung von Kontaminationsbereichen der Probeneinlaßvor­ richtung mittels Umwandlung von Verunreinigungen in den Kontaminationsbereichen durch chemische Reaktion versehen ist und daß die Reaktionsprodukte abführbar sind.This task is performed with the measuring device with the input Features mentioned inventively solved in that the Sample inlet device with a cleaning device for Cleaning contamination areas of the sample inlet direction by converting impurities into the Contamination areas is provided by chemical reaction and that the reaction products can be removed.

Durch die erfindungsgemäße Meßvorrichtung wird es ermöglicht, Kontaminationsbereiche der Probeneinlaßvorrichtung auf schnelle und effektive Weise insbesondere von Rückständen aus einer vorhergehenden Messung zu reinigen, so daß das Meßgerät bei einer Probenmessung nicht aufgrund von Kontaminationen der Meßvorrichtung fehlerbehaftete Meßwerte zeigt.The measuring device according to the invention enables Contamination areas of the sample inlet device fast and effective way especially from residues to clean a previous measurement so that the meter with a sample measurement not due to contamination the measuring device shows erroneous measured values.

Bei aus dem Stand der Technik bekannten Vorrichtungen und Verfahren beruht der Reinigungsvorgang auf der Desorption der Verunreinigungen von entsprechenden kontaminierten Flächen der Kontaminationsbereiche. Es handelt sich dabei um ther­ mische Desorptionen, wobei die Kontaminationsbereiche bei­ spielsweise geheizt werden müssen oder mit einem heißen Desorptionsmittel wie beispielsweise durch Mikrowelle ge­ heiztem Wasserdampf beaufschlagt werden müssen, oder es kann sich um Lösungsdesorption handeln, wobei die Kontaminations­ bereiche dann mit geeigneten flüssigen Lösungsmitteln gespült werden müssen. Diese Desorptionsverfahren arbeiten nach dem Verdünnungsprinzip und der Verunreinigungsgrad nimmt exponen­ tiell ab mit der Reinigungszeit. Es tritt dabei das Problem auf, daß insbesondere bei komplexen schwerflüchtigen Proben und Probengemischen der Reinigungserfolg nicht vollständig ist und sich Rückstände ansammeln, die dann wiederum die Adsorptionseigenschaften entsprechender Oberflächen der Kontaminationsbereiche beeinflussen. Die Reinigungsdauer zur Reinigung der Kontaminationsbereiche von Verunreinigungen kann selbst bei relativ leicht flüssigen Substanzen mehrere Stunden betragen, so daß die Meßvorrichtung eine dement­ sprechend lange Messungstotzeit, in der das Meßgerät nicht für Probenmessungen einsetzbar ist, aufweist. Demzufolge sind die aus dem Stand der Technik bekannten Vorrichtungen und Verfahren nicht für Echtzeit-Meß- und Analyse-Anwendungen einsetzbar.In devices known from the prior art and The cleaning process is based on the desorption of the process Contamination of corresponding contaminated areas  the contamination areas. It is ther mix desorption, the contamination areas at for example, must be heated or with a hot one Desorbents such as by microwave heated steam must be applied, or it can are solution desorption, the contamination areas then rinsed with suitable liquid solvents Need to become. These desorption processes work according to the The dilution principle and the degree of contamination increases exponentially tially with the cleaning time. The problem occurs on that, especially with complex non-volatile samples and sample mixtures the cleaning success is not complete and residues accumulate, which in turn Adsorption properties of corresponding surfaces of the Affect contamination areas. The cleaning time for Cleaning the contamination areas from impurities can have several even with relatively easily liquid substances Hours, so that the measuring device a demented speaking long measurement dead time in which the measuring device is not can be used for sample measurements. As a result the devices known from the prior art and Method not for real-time measurement and analysis applications applicable.

Daneben treten noch spezifische Probleme bei dem Einsatz von Lösungsmitteln auf, da beispielsweise die Lösungsmittel ange­ paßt werden müssen an die jeweils auftretenden Verunreini­ gungen in den Kontaminationsbereichen, um eine Lösung der Verunreinigungen aus den Kontaminationsbereichen in das Lösungsmittel zu erreichen. There are also specific problems with the use of Solvents, since, for example, the solvents must be adapted to the pollution that occurs in each case in the contamination areas to find a solution to the Contamination from the contamination areas in the To achieve solvents.  

Wird bei der thermischen Desorption Wasserdampf, der über Mikrowellenstrahlung geheizt ist, eingesetzt, so können bei diesem Verfahren insbesondere Kontaminationsbereiche mit engem Querschnitt wie beispielsweise enge Kanäle, mit einer metallischen Wand nicht gereinigt werden.During the thermal desorption, water vapor is released Microwave radiation is heated, can be used at this method in particular with contamination areas narrow cross section such as narrow channels, with a metallic wall cannot be cleaned.

Die erfindungsgemäße Meßvorrichtung ist mit einer Reinigungs­ einrichtung versehen, die dafür sorgt, daß die Verunreini­ gungen durch chemische Reaktion umgewandelt werden und daß die entstehenden Reaktionsprodukte abgeführt werden. Auf diese Weise lassen sich die kontaminierten Oberflächen der Kontaminationsbereiche im wesentlichen vollständig und inner­ halb sehr kurzer Zeit reinigen, da die Verunreinigungsmole­ küle direkt angegriffen und in entsprechende insbesondere gasförmige Verbindungen wie CO, CO₂ oder H₂O überführt werden, die sich dann leicht aus der Probeneinlaßvorrichtung abführen lassen.The measuring device according to the invention is provided with a cleaning device which ensures that the impurities are converted by chemical reaction and that the reaction products formed are removed. In this way, the contaminated surfaces of the contamination areas can be cleaned essentially completely and within a very short time, since the contaminant molecules are directly attacked and converted into corresponding, in particular gaseous compounds such as CO, CO ₂ or H ₂ O, which are then easily removed of the sample inlet device.

Der Reinigungsprozeß bei der erfindungsgemäßen Meßvorrichtung läßt sich daher ohne den Einsatz flüssiger Lösungsmittel durchführen, es werden keine Partikel erzeugt, die wieder auf Oberflächen der Kontaminationsbereiche adsorbieren können und der Reinigungsprozeß selber ist, da er kein thermodynamisches Verfahren darstellt, unabhängig von der Temperatur der Probeneinlaßvorrichtung. Auf diese Weise wird eine im wesent­ lichen rückstandsfreie Reinigung gewährleistet. Damit ist die erfindungsgemäße Meßvorrichtung insbesondere einsetzbar für schnelle analytische Nachweismethoden, da der Reinigungs­ prozeß innerhalb sehr kurzer Zeit erfolgen kann. Zudem ist der Reinigungsprozeß einfach zu automatisieren. The cleaning process in the measuring device according to the invention can therefore be used without the use of liquid solvents carry out, no particles are generated, which come back on Can adsorb surfaces of the contamination areas and the cleaning process itself is because it is not a thermodynamic Represents process regardless of the temperature of the Sample inlet device. In this way, one becomes essential residue-free cleaning guaranteed. So that's it Measuring device according to the invention can be used in particular for fast analytical detection methods because of the cleaning process can take place in a very short time. In addition is the cleaning process is easy to automate.  

Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Reinigungseinrichtung ein Mittel zur Erzeugung reaktiver Ionen und ein Beauf­ schlagungsmittel zur Beaufschlagung der Kontaminationsbe­ reiche mit reaktiven Ionen umfaßt, wobei Verunreinigungen in den Kontaminationsbereichen durch chemische Reaktion mit den reaktiven Ionen in gasförmige Stoffe überführbar sind. Die reaktiven Ionen, welche insbesondere kinetische Energien der Größenordnung von 1 keV aufweisen können, zerstören beim Kontakt mit Verunreinigungen auf Oberflächen der Kontamina­ tionsbereiche chemische Bindungen, so daß auch chemisch sehr stabile organische Verbindungen umgesetzt werden. Die Um­ setzung der Verunreinigungen durch chemische Reaktionen mit den reaktiven Ionen erfolgt dabei in gasförmige Verbindungen wie CO, CO₂ oder H₂O. Diese gasförmigen Verbindungen lassen sich dann leicht aus der Probeneinlaßvorrichtung abführen. Die chemische Reaktion ist unabhängig von der Temperatur, da die kontaminierenden Verunreinigungen mit reaktiven Ionen be­ aufschlagt werden und das Aufbrechen der chemischen Bindungen durch die kinetische Stoßenergie der reaktiven Ionen bedingt ist. Weiter ist die Reinigung rückstandsfrei, da sich die Kontaminationsbereiche im wesentlichen vollständig mit den reaktiven Ionen beaufschlagen lassen. Der Reinigungsprozeß verläuft dabei abhängig von der Oberflächenbedeckung der kontaminierten Oberflächen der Kontaminationsbereiche mit konstanter oder sogar zunehmender Reinigungsgeschwindigkeit und die kontaminierenden Verunreinigungen in dem Kontamina­ tionsbereich nehmen im wesentlichen linear ab. Dadurch ist eine endliche Reinigungszeit im Gegensatz zu thermischen Desorptionsmethoden erreicht. Insbesondere läßt sich der Reinigungserfolg in Echtzeit überwachen, da die Konzentration der gasförmigen Stoffe als Reaktionsprodukte direkt überwach­ bar ist. Damit läßt sich der Reinigungsprozeß auch auf ein­ fache Weise automatisieren, da durch Überwachung der Konzen­ tration der gasförmigen Stoffe der Eintritt des Reinigungs­ erfolges feststellbar ist.It is particularly advantageous if the cleaning device comprises a means for generating reactive ions and an impinging means for impinging the contamination areas with reactive ions, impurities in the contamination areas being convertible into gaseous substances by chemical reaction with the reactive ions. The reactive ions, which in particular can have kinetic energies of the order of magnitude of 1 keV, destroy chemical bonds on contact with contaminants on surfaces of the contamination areas, so that chemically very stable organic compounds are also reacted. The implementation of the impurities by chemical reactions with the reactive ions takes place in gaseous compounds such as CO, CO ₂ or H ₂ O. These gaseous compounds can then be easily removed from the sample inlet device. The chemical reaction is independent of the temperature, since the contaminating impurities are charged with reactive ions and the breaking of the chemical bonds is caused by the kinetic impact energy of the reactive ions. Furthermore, the cleaning is residue-free, since the contamination areas can be substantially completely exposed to the reactive ions. The cleaning process depends on the surface coverage of the contaminated surfaces of the contamination areas with a constant or even increasing cleaning speed and the contaminating contaminants in the contamination area decrease substantially linearly. In contrast to thermal desorption methods, a finite cleaning time is achieved. In particular, the cleaning success can be monitored in real time, since the concentration of the gaseous substances as reaction products can be monitored directly. So that the cleaning process can also be automated in a simple way, since the concentration of the gaseous substances can be determined by monitoring the concentration of the cleaning success.

Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Meßvorrichtung eine Pumpe aufweist, mittels welcher die gasförmigen Stoffe aus der Probeneinlaßvorrichtung abführbar sind. Dadurch ist dafür gesorgt, daß sich die gasförmigen Stoffe in der Probeneinlaß­ vorrichtung nicht anreichern können. Dies trägt bei zu einem hohen Reinigungsgrad.It when the measuring device is a particularly advantageous Has pump, by means of which the gaseous substances the sample inlet device can be removed. This is for it worried that the gaseous substances in the sample inlet cannot enrich the device. This contributes to one high degree of cleaning.

Besonders vorteilhaft ist es, wenn ein Prozeßgas durch die Probeneinlaßvorrichtung führbar ist. Die durch chemische Reaktion gebildeten Reaktionsprodukte, welche insbesondere gasförmig sind, lassen sich dann mit dem Prozeßgas abpumpen.It when a process gas through the Sample inlet device is feasible. The through chemical Reaction products formed, which in particular are gaseous, can then be pumped off with the process gas.

Vorteilhafterweise sind die Kontaminationsbereiche mit dem Prozeßgas beaufschlagbar. Dadurch ist gewährleistet, daß die gasförmigen Stoffe, die durch die chemischen Reaktionen an entsprechenden Oberflächen der Kontaminationsbereiche ent­ stehen, direkt vom Prozeßgas abgeführt werden. Der Gasdurch­ satz des Prozeßgases durch die Probeneinlaßvorrichtung läßt sich gering halten, beispielsweise auf wenige Standard ccm pro Minute. Durch die entsprechenden geringen Mengen ist der Einsatz eines Prozeßgases deutlich kostengünstiger als der Einsatz flüssiger Lösungsmittel, die einen erheblich größeren Massedurchsatz erforderlich machen. The contamination areas with the Process gas can be applied. This ensures that the gaseous substances caused by chemical reactions corresponding surfaces of the contamination areas ent stand, be removed directly from the process gas. The gas flow process gas through the sample inlet device keep themselves low, for example to a few standard ccm per minute. Due to the corresponding small quantities, the Use of a process gas significantly cheaper than that Use liquid solvents, which are significantly larger Make mass flow necessary.  

Besonders vorteilhaft ist es, wenn das Mittel zur Erzeugung reaktiver Ionen eine Gasentladungseinrichtung zur Durch­ führung einer elektrischen Gasentladung in dem Prozeßgas ist. Auf diese Weise sind die Kontaminationsbereiche bzw. deren kontaminierte Oberflächen im wesentlichen vollständig mit reaktiven Ionen beaufschlagbar und die durch chemische Reaktionen gebildeten Verunreinigungen lassen sich direkt mit dem Prozeßgas abführen. Dies ermöglicht eine im wesentlichen vollständige und gründliche Reinigung der Kontaminations­ bereiche von Verunreinigungen.It is particularly advantageous if the means for production reactive ions a gas discharge device for through leadership of an electrical gas discharge in the process gas. In this way, the contamination areas or their contaminated surfaces essentially completely with reactive ions acted upon by chemical Reactions formed can be directly contaminated with remove the process gas. This essentially enables one complete and thorough cleaning of the contamination areas of contamination.

Bisher wurden keine Aussagen gemacht über die Art des Prozeß­ gases. Besonders vorteilhaft ist es, wenn als Prozeßgas Sauerstoff, insbesondere reiner Sauerstoff eingesetzt ist. Dies trägt dazu bei, daß sich durch die chemische Reaktion die Verunreinigungen mit dem im Sauerstoff gebildeten reak­ tiven Ionen in gasförmige Verbindungen wie CO, CO₂ oder H₂O umsetzen, insbesondere wenn es sich bei den Verunreinigungen um organische Verbindungen handelt. (Aufgrund des niedrigen Drucks in der Probeneinlaßvorrichtung, der beispielsweise in der Größenordnung von 1 mbar liegt, liegt das Wasser in Dampfform vor.) Außerdem bilden sich bei einer elektrischen Gasentladung in Sauerstoff auch besonders reaktionsfreudige Moleküle wie Ozon oder Singulett-Sauerstoff, die ebenfalls zur Umwandlung von Verunreinigungen in gasförmige Stoffe bei­ tragen können.So far, no statements have been made about the type of process gas. It is particularly advantageous if oxygen, in particular pure oxygen, is used as the process gas. This contributes to the fact that the chemical reaction converts the impurities with the reactive ions formed in the oxygen into gaseous compounds such as CO, CO ₂ or H ₂ O, in particular if the impurities are organic compounds. (Due to the low pressure in the sample inlet device, which is, for example, on the order of 1 mbar, the water is in vapor form.) In addition, particularly reactive molecules such as ozone or singlet oxygen are formed during an electrical gas discharge in oxygen Conversion of contaminants into gaseous substances can contribute.

Es ist auch möglich, in Abhängigkeit von den Kontaminations­ stoffen andere Prozeßgase einzusetzen. Beispielsweise kann als Prozeßgas Luft, insbesondere reine Luft oder Wasserdampf eingesetzt werden. It is also possible depending on the contamination substances to use other process gases. For example air as process gas, in particular pure air or water vapor be used.  

Bei einer Variante einer Ausführungsform ist das Prozeßgas ein sauerstofffreies Gas. Dadurch wird verhindert, daß gas­ förmige Reaktionsprodukte weiter oxidiert werden. Dies ist beispielsweise beim Nachweis von NO wichtig, bei dem bei der Reinigung der entstehende Sauerstoff NO weiter oxidieren würde und dies den Reinigungsprozeß erschweren würde. Als Prozeßgas ist in diesem Falle Methan einsetzbar.In a variant of an embodiment, the process gas an oxygen-free gas. This prevents gas shaped reaction products are further oxidized. This is important for example in the detection of NO, in which the Cleaning oxidize the resulting oxygen NO further would and this would complicate the cleaning process. As Process gas can be used in this case methane.

Es ist günstigerweise vorgesehen, daß dem Prozeßgas Fluor oder Fluorverbindungen wie SF₆, CF₆, CF₃H zumischbar sind. Durch Sauerstoff-Fluor-Mischungen oder Luft- Fluor-Mischungen lassen sich auch Silicium-organische Verbindungen, die als Verunreinigungen in den Kontaminationsbereichen vorhanden sind, in gasförmige Reaktionsprodukte überführen. Es lassen sich damit auch Schwermetall-Verunreinigungen wie Wolfram- oder Uran-Verunreinigungen durch Überführung in leicht­ flüchtige Verbindungen wie WF₆ bzw. UF₆ entfernen.It is advantageously provided that fluorine or fluorine compounds such as SF ₆ , CF ₆ , CF ₃ H can be mixed into the process gas. Oxygen-fluorine mixtures or air-fluorine mixtures can also be used to convert organic silicon compounds which are present as impurities in the contamination areas into gaseous reaction products. It can also be used to remove heavy metal contaminants such as tungsten or uranium contaminants by converting them into volatile compounds such as WF ₆ or UF ₆ .

Vorteilhafterweise ist die Gasentladungseinrichtung als Plasmakammer ausgebildet, so daß in der Probeneinlaßvor­ richtung ein Plasma bildbar ist, wobei durch das Plasma in der Plasmakammer die Kontaminationsbereiche mit reaktiven Ionen beaufschlagt sind. Auf diese Weise wirkt die Plasma­ kammer gleichzeitig als Mittel zur Erzeugung der reaktiven Ionen und als Beaufschlagungsmittel zur Beaufschlagung der Kontaminationsbereiche. Durch die Plasmareinigung in der Plasmakammer mit den reaktiven Ionen lassen sich Abtragsraten von der Größenordnung einiger kg/cm sec reichen, durch die sich die Reinigungszeiten für die Kontaminationsbereiche der Probeneinlaßvorrichtung beispielsweise auf wenige Sekunden beschränken lassen.The gas discharge device is advantageously as Plasma chamber formed so that in the sample inlet direction a plasma can be formed, with the plasma in the plasma chamber the contamination areas with reactive Ions are applied. This is how the plasma works chamber simultaneously as a means of generating the reactive Ions and as a loading agent for loading the Contamination areas. Due to the plasma cleaning in the Plasma chamber with the reactive ions can be removed rates of the order of a few kg / cm sec, through which  the cleaning times for the contamination areas of the Sample inlet device, for example, within a few seconds be restricted.

Bisher wurden keine Aussagen darüber gemacht, auf welche Weise das Plasma durch die Gasentladungseinrichtung erzeugt wird. Besonders vorteilhaft ist es, wenn Hochfrequenzleistung in das Prozeßgas zur Bildung des Plasmas in der Plasmakammer einkoppelbar ist. Die Einkopplung von Hochfrequenzleistung hat den Vorteil, daß sich in der Plasmakammer keine Licht­ bögen ausbilden können, die zu einer Materialabtragung oder sogar -zerstörung führen würden, insbesondere dort, wo die Lichtbögen Oberflächen berühren. Durch die Einkopplung ist es insbesondere möglich, Elektroden so auszugestalten, daß ein optimaler Reinigungsprozeß erreicht ist. Die Einkopplung kann dabei beispielsweise kapazitiv oder über einen Transformator erfolgen.So far no statements have been made about which Way the plasma generated by the gas discharge device becomes. It is particularly advantageous if high-frequency power into the process gas to form the plasma in the plasma chamber can be coupled. The coupling of high frequency power has the advantage that there is no light in the plasma chamber can form arches that lead to material removal or would even lead to destruction, especially where the Arcs touch surfaces. By coupling it is in particular possible to design electrodes so that a optimal cleaning process is reached. The coupling can capacitive or via a transformer, for example respectively.

In einer Variante einer Ausführungsform ist es vorgesehen, daß durch die Gasentladungseinrichtung Hochfrequenzleistung in das Prozeßgas zur Bildung des Plasmas induktiv einkoppel­ bar ist.In a variant of an embodiment, it is provided that that by the gas discharge device high frequency power inductively couple into the process gas to form the plasma is cash.

Es kann auch vorgesehen sein, daß durch die Gasentladungsein­ richtung Mikrowellenleistung in das Prozeßgas zur Bildung des Plasmas einkoppelbar ist. Besonders vorteilhaft ist es in diesem Fall, wenn die Plasmakammer durch einen Hohlraumreso­ nator gebildet ist, um eine optimale Einkopplung in das Prozeßgas zur Plasmabildung zu gewährleisten. Günstigerweise ist die Mikrowellenleistung über einen Wellenleiter in die Plasmakammer einkoppelbar.It can also be provided that the gas discharge direction microwave power in the process gas to form the Plasmas can be coupled. It is particularly advantageous in this case, if the plasma chamber through a cavity reso nator is formed to ensure optimal coupling into the To ensure process gas for plasma formation. Conveniently  is the microwave power through a waveguide into the Plasma chamber can be coupled.

In einer besonders günstigen Variante einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Meßvorrichtung ist die Probeneinlaßvor­ richtung als Probenanreicherungsstufe ausgebildet. Auf diese Weise kann die Probeneinlaßvorrichtung auch zur Probenan­ reicherung eingesetzt werden und die Probenanreicherungsstufe läßt sich effizient und optimal reinigen.In a particularly favorable variant of an embodiment of the measuring device according to the invention is the sample inlet direction trained as a sample enrichment level. To this The sample inlet device can also be used for samples enrichment and the sample enrichment level can be cleaned efficiently and optimally.

Günstig ist es, wenn die Probeneinlaßvorrichtung zur Proben­ anreicherung ein Anreicherungselement aufweist, welches in der Plasmakammer angeordnet ist und dessen Temperatur steuer­ bar ist. Auf diese Weise läßt sich an dem Anreicherungsele­ ment eine Anreicherung gas- oder dampfförmiger Proben inner­ halb der Plasmakammer durchführen, da durch Steuerung der Temperatur die Kondensation oder Thermodesorption der Probe an dem Anreicherungselement steuerbar ist. Durch die An­ ordnung in der Plasmakammer ist das Anreicherungselement leicht von Verunreinigungen reinigbar.It is advantageous if the sample inlet device for samples Enrichment has an enrichment element, which in the plasma chamber is arranged and its temperature control is cash. In this way, the enrichment element can be used an enrichment of gaseous or vaporous samples half of the plasma chamber, because by controlling the Temperature the condensation or thermal desorption of the sample is controllable on the enrichment element. By the An Order in the plasma chamber is the enrichment element easy to clean of impurities.

Vorteilhafterweise ist das Anreicherungselement mit einem Wärmeübertragungsmedium beaufschlagbar, um dessen Temperatur zu steuern. Beispielsweise kann ein Öl oder ein Gas zur Temperatursteuerung eingesetzt werden. Es ist auch denkbar, daß das Anreicherungselement auf elektrischem Wege gekühlt oder geheizt wird. The enrichment element is advantageously with a Heat transfer medium can be applied to its temperature to control. For example, an oil or a gas for Temperature control can be used. It is also conceivable that the enrichment element is cooled by electrical means or is heated.  

Es ist insbesondere konstruktiv günstig, wenn eine Innenelek­ trode der Plasmakammer als Anreicherungselement ausgebildet ist. Da die Innenelektrode zur Plasmabildung innerhalb der Plasmakammer angeordnet ist, läßt sich dann auch diese ent­ sprechend als Anreicherungselement nutzen.It is particularly advantageous in terms of construction if an internal elec trode of the plasma chamber designed as an enrichment element is. Since the inner electrode for plasma formation within the Plasma chamber is arranged, this can then ent speaking as an enrichment element.

Günstigerweise sind die Wände der Plasmakammer beheizbar. Dies trägt bei zur Probenanreicherung in der Plasmakammer, da auf diese Weise es vermeidbar ist, daß die Wände der Plasma­ kammer als Kondensationsfallen für die Probe wirken. Es ist dadurch auch verhinderbar, daß Verunreinigungen an inneren Wänden der Plasmakammer diese zu stark kontaminieren. Die Temperatur, mit welcher die Wände beheizt werden, wird dabei vorteilhafterweise so gewählt, daß eine Kondensation der Proben an den Wänden verhindert ist, und daß die Proben durch die beheizten Wände nicht thermisch zersetzt werden.The walls of the plasma chamber can advantageously be heated. This contributes to the sample enrichment in the plasma chamber because In this way it is avoidable that the walls of the plasma chamber act as condensation traps for the sample. It is thereby also preventable that impurities on inner Walls of the plasma chamber are too contaminated. The The temperature at which the walls are heated becomes advantageously chosen so that condensation of Samples on the walls are prevented and that the samples go through the heated walls are not thermally decomposed.

In einer besonders günstigen Variante einer Ausführungsform weist die Probeneinlaßvorrichtung eine Überwachungseinrich­ tung zur Überwachung des Reinigungsgrades der Kontaminations­ bereiche der Probeneinlaßvorrichtung auf. Auf diese Weise läßt sich insbesondere in Echtzeit der Reinigungserfolg über­ wachen und überprüfen.In a particularly favorable variant of an embodiment the sample inlet device has a monitoring device device for monitoring the degree of cleaning of the contamination areas of the sample inlet device. In this way the cleaning success can be achieved in real time watch and check.

Bei einer Variante einer Ausführungsform der erfindungs­ gemäßen Meßvorrichtung weist die Probeneinlaßvorrichtung ein Durchsichtsfenster zur Überwachung des Reinigungsgrades der Kontaminationsbereiche auf. Vorteilhaft ist es insbesondere, wenn die Überwachungseinrichtung so ausgebildet und ange­ ordnet ist, daß der Reinigungsgrad mittels Beobachtung des optischen Emissionsspektrums und insbesondere der Beobachtung einzelner charakteristischer optischer Emissionslinien der Reaktionsprodukte der chemischen Reaktion oder möglicher Reaktionsprodukte ermittelbar ist. Dazu kann die Über­ wachungseinrichtung beispielsweise ein optisches Spektrometer umfassen, das auf entsprechende charakteristische Emissions­ linien wie beispielsweise Emissionslinien von CO oder CO₂ oder H₂O ausgerichtet ist. Eine Abnahme der Intensität solcher Linien bzw. ein Verschwinden dieser Linien zeigt dann die vollständige Reinigung der Probeneinlaßvorrichtung an.In a variant of an embodiment of the measuring device according to the invention, the sample inlet device has a viewing window for monitoring the degree of cleaning of the contamination areas. It is particularly advantageous if the monitoring device is designed and arranged such that the degree of cleaning can be determined by observing the optical emission spectrum and in particular by observing individual characteristic optical emission lines of the reaction products of the chemical reaction or possible reaction products. For this purpose, the monitoring device can comprise, for example, an optical spectrometer which is aligned with corresponding characteristic emission lines, such as emission lines of CO or CO ₂ or H ₂ O, for example. A decrease in the intensity of such lines or a disappearance of these lines then indicates complete cleaning of the sample inlet device.

Es ist auch möglich, daß das Meßgerät selber als Über­ wachungseinrichtung eingesetzt ist, indem das Prozeßgas mit den darin geführten Reaktionsprodukten dem Meßgerät zugeführt werden und dieses zur Analyse der Gasmischungen eingesetzt wird.It is also possible that the measuring device itself as an over monitoring device is used by the process gas with the reaction products contained therein fed to the measuring device are used and this for the analysis of the gas mixtures becomes.

Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Probeneinlaßvorrich­ tung an einem Probeneinlaß in das Meßgerät ein Probeneinlaß­ ventil aufweist, dessen Schließdruck einstellbar ist. Auf diese Weise läßt sich die Probeneinlaßvorrichtung an das Meß­ gerät auf optimale Weise anpassen, um auf diese Weise die Arbeitsfähigkeit des Meßgerätes zu optimieren.It is particularly advantageous if the sample inlet device device at a sample inlet into the measuring device has valve whose closing pressure is adjustable. On in this way the sample inlet device can be connected to the measurement adapt the device in the best possible way in order to To optimize the working ability of the measuring device.

Besonders günstig ist es dann, wenn der Schließdruck stufen­ los einstellbar ist, um auf diese Weise eine optimale An­ passung zu gewährleisten. It is particularly favorable if the closing pressure is stepped is adjustable in order to achieve an optimal to ensure fit.  

Bei einer Variante eines Ausführungsbeispiels ist erfindungs­ gemäß der Schließdruck durch Einstellung einer Federvor­ spannung einer Probeneinlaßventilfeder einstellbar. Dies ermöglicht eine Einstellung auf wenig aufwendige und konstruktiv einfache Weise.In a variant of an embodiment is fiction according to the closing pressure by adjusting a spring tension of a sample inlet valve spring adjustable. This allows an adjustment to less complex and constructively simple way.

Besonders günstig ist es, wenn ein Einstellmittel für den Schließdruck so angeordnet ist, daß der Schließdruck ohne Demontage des Probeneinlaßventils einstellbar ist. Dadurch kann der Schließdruck auf einfache Weise angepaßt werden, ohne daß eine aufwendige Zerlegung der Probeneinlaßvorrich­ tung oder eine Belüftung des Vakuums des Meßgerätes erforder­ lich ist. Dies ermöglicht insbesondere eine Anpassung an unterschiedliche Einsatzbedingungen.It is particularly favorable if an adjusting means for the Closing pressure is arranged so that the closing pressure without Disassembly of the sample inlet valve is adjustable. Thereby the closing pressure can be easily adjusted, without complex disassembly of the sample inlet device device or ventilation of the vacuum of the measuring device is required is. In particular, this enables adaptation to different operating conditions.

Konstruktiv besonders einfach ist es in diesem Falle, wenn das Einstellmittel ein Einstellelement ist, welches in einem einem Ventilteller abgewandt angeordneten Gewinde drehbar ist und durch welches die Probeneinlaßventilfeder zur Einstellung der Federvorspannung beaufschlagbar ist.In this case, it is structurally particularly simple if the adjusting means is an adjusting element, which in one a thread facing away from the valve plate is rotatable and through which the sample inlet valve spring for adjustment the spring preload can be applied.

Um eine einfache und genaue Steuerung des Probeneinlaß­ ventiles zu ermöglichen, ist dieses günstigerweise elektro­ magnetisch betätigbar.For easy and accurate control of sample inlet To enable valves, this is conveniently electrical magnetically operated.

Zur Verbesserung des Reinigungserfolges ist es bei einer Variante einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Meß­ vorrichtung vorgesehen, daß der Probeneinlaß in das Meßgerät bezüglich eines Plasmaraums, in dem das Plasma gebildet ist, so angeordnet ist, daß Moleküle und reaktive Ionen aus dem Plasmaraum in die Nähe des Probeneinlasses gelangen können. Bei diesen Molekülen handelt es sich insbesondere um hoch­ reaktive Moleküle wie beispielsweise Singulett-Sauerstoff oder Ozon, die bei der Gasentladung gebildet werden. Diese Moleküle können bei der entsprechenden Anordnung des Proben­ einlasses bezüglich des Plasmaraums zu diesem oder in die Nähe des Probeneinlasses diffundieren und so den Reinigungs­ grad erhöhen, indem sie mit Verunreinigungen in der Nähe des Probeneinlasses reagieren.To improve the cleaning success, it is one Variant of an embodiment of the measurement according to the invention device provided that the sample inlet into the measuring device with respect to a plasma space in which the plasma is formed,  is arranged so that molecules and reactive ions from the Plasma room can get close to the sample inlet. These molecules are particularly high reactive molecules such as singlet oxygen or ozone that is formed during gas discharge. This Molecules can with the appropriate arrangement of the sample admission to or to the plasma space Diffuse near the sample inlet and so the cleaning by increasing the level of contamination near the Sample Inlets respond.

Bei einer Variante einer Ausführungsform ist es vorgesehen, daß die Meßvorrichtung eine Steuerungseinheit aufweist, durch welche die Probenzufuhr zum Meßgerät und die Reinigung der Kontaminationsbereiche der Probeneinlaßvorrichtung steuerbar sind. Dadurch kann die Probenzufuhr und die Reinigung der Kontaminationsbereiche aufeinander abgestimmt werden, um auf diese Weise insbesondere die Totzeiten des Meßgerätes zu minimieren. Es ist dann insbesondere vorteilhaft, wenn durch die Steuerungseinheit die Probenzuführung zum Meßgerät in Ab­ hängigkeit des Reinigungsgrades der Probeneinlaßvorrichtung steuerbar ist.In a variant of an embodiment, it is provided that that the measuring device has a control unit by which the sample supply to the measuring device and the cleaning of the Contamination areas of the sample inlet device controllable are. This allows the sample supply and the cleaning of the Contamination areas are coordinated to each other this way in particular the dead times of the measuring device minimize. It is particularly advantageous if by the control unit the sample feed to the measuring device in Ab dependence of the degree of cleaning of the sample inlet device is controllable.

Bei einer Variante einer Ausführungsform ist die Probe der Probeneinlaßvorrichtung als gasförmige Probe zuführbar. Bei einer weiteren Variante ist die Probe der Probeneinlaßvor­ richtung als flüssige Probe zuführbar. Dadurch ist es bei­ spielsweise möglich, das Meßgerät als Bestimmungsgerät in der Flüssigkeitschromatographie wie der High performance liquid chromatography (HPLC) einzusetzen. In a variant of an embodiment, the sample is the Sample inlet device can be supplied as a gaseous sample. At a further variant is the sample inlet inlet direction can be supplied as a liquid sample. This makes it at possible for example, the measuring device as a determining device in the Liquid chromatography like high performance liquid use chromatography (HPLC).  

Günstigerweise umfaßt die Zuführung eine Kapillare, so daß die Probeneinlaßvorrichtung nicht zu stark mit Flüssigkeit verunreinigt wird. Es kann dann vorgesehen sein, daß die Probeneinlaßvorrichtung ein Heizelement zur Verdampfen der flüssigen Probe umfaßt, um diese dem Meßgerät zuführbar zu machen.The feed advantageously comprises a capillary, so that the sample inlet device is not too much liquid is contaminated. It can then be provided that the Sample inlet device a heating element for evaporating the includes liquid sample to be fed to the measuring device do.

Die erfindungsgemäße Meßvorrichtung läßt sich besonders günstig einsetzen, wenn das Meßgerät ein On-line-Analytik- Meßgerät ist, da durch die schnelle Reinigung der Proben­ einlaßvorrichtung die Probenmessung durch das Meßgerät nur für kurze Zeit unterbrochen wird. Die erfindungsgemäße Meß­ vorrichtung läßt sich insbesondere dann einsetzen, wenn das Meßgerät eine REMPI-Vorrichtung oder eine JET-REMPI-Vorrich­ tung umfaßt. (JET-REMPI ist mit dem Aktenzeichen 39650736.0 als deutsche Marke angemeldet.) Bei dem REMPI-Verfahren handelt es sich um eine "Resonanzverstärkte Multiphotonen­ ionisation". Bei dem JET-REMPI-Verfahren zum Nachweis von Probenmolekülen in einem Trägergas wird mittels Expansion des Trägergases durch eine Düse in ein Vakuum ein divergenter Trägergasstrahl erzeugt, die Probenmoleküle werden in einem Ionisationsbereich des Trägergasstrahles durch Absorption von Photonen selektiv zu Probenmolekülen ionisiert und die Probenmoleküle durch ein elektrisches Ziehfeld in ein Massen­ spektrometer gezogen und in dem Massenspektrometer detek­ tiert, wobei ein Kontinuumsgebiet des Trägergasstrahles, in dem die Temperatur des Trägergases mit zunehmenden Abstand von einer Austrittsöffnung der Düse abnimmt, ein Molekular­ strahlgebiet des Trägergasstrahles, in dem die Temperatur des Trägergases mit zunehmendem Abstand von der Austrittsöffnung der Düse im wesentlichen nicht weiter abnimmt, und eine Grenze zwischen dem Kontinuumsgebiet und dem Molekularstrahl­ gebiet ermittelt werden und die Probenmoleküle in einem Ioni­ sationsbereich nahe der Grenze zwischen dem Kontinuumsgebiet und dem Molekularstrahlgebiet ionisiert werden. Das JET-REMPI-Ver­ fahren ist in der deutschen Patentschrift 44 41 972 beschrieben, auf die Bezug genommen wird.The measuring device according to the invention can be particularly use it cheaply if the measuring device has an on-line analytical Measuring device is because of the quick cleaning of the samples inlet device the sample measurement by the meter only is interrupted for a short time. The measurement according to the invention device can be used especially when the Measuring device a REMPI device or a JET-REMPI device tion includes. (JET-REMPI is with the file number 39650736.0 registered as a German brand.) With the REMPI procedure is a "resonance amplified multiphoton ionization ". In the JET-REMPI method for the detection of Sample molecules in a carrier gas are expanded by expanding the Carrier gas through a nozzle into a vacuum a divergent Carrier gas jet generated, the sample molecules are in one Ionization range of the carrier gas jet by absorption of Photons selectively ionized to sample molecules and the Sample molecules massed by an electric pull field drawn spectrometer and in the mass spectrometer detec tiert, wherein a continuum area of the carrier gas jet, in which the temperature of the carrier gas with increasing distance decreases from an outlet opening of the nozzle, a molecular beam area of the carrier gas jet, in which the temperature of the  Carrier gas with increasing distance from the outlet opening the nozzle essentially does not decrease further, and a Border between the continuum area and the molecular beam area are determined and the sample molecules in an ioni sationsbereich near the border between the continuum area and the molecular beam area are ionized. The JET-REMPI-Ver driving is in German Patent 44 41 972 to which reference is made.

Ferner liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Ver­ fahren zur Reinigung von Kontaminationsbereichen einer Meß­ vorrichtung mit den eingangs genannten Merkmalen bereit­ zustellen, das eine effektive und schnelle Reinigung ermöglicht.Furthermore, the invention has for its object a Ver drive to clean contamination areas of a measurement device ready with the features mentioned deliver that effective and quick cleaning enables.

Diese Aufgabe wird bei dem Verfahren mit den eingangs ge­ nannten Merkmalen erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Kontaminationsbereiche mit reaktiven Ionen beaufschlagt werden, welche durch chemische Reaktion Verunreinigungen in gasförmige Stoffe überführen, und daß die Reaktionsprodukte abgeführt werden.This task is in the process with the ge mentioned features solved according to the invention in that the Contamination areas with reactive ions which are contaminated by chemical reaction transfer gaseous substances, and that the reaction products be dissipated.

Das erfindungsgemäße Verfahren weist die bereits im Zusammen­ hang mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung diskutierten Vor­ teile auf. Weitere Ausgestaltungen und vorteilhafte Aus­ führungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens sind Gegen­ stand der Ansprüche 42 bis 82. Diese Ausgestaltungen und ihre Vorteile wurden bereits im Zusammenhang mit der erfindungs­ gemäßen Vorrichtung diskutiert. The method according to the invention already has that together Hang discussed with the device according to the invention split up. Further refinements and advantageous embodiments of the method according to the invention are opposed stood of claims 42 to 82. These configurations and their Advantages were already in connection with the Invention according device discussed.  

Ferner betrifft die Erfindung ein Probeneinlaßventil, welches in einer Probeneinlaßvorrichtung angeordnet ist und zum Schließen eines Probeneinlasses der Probeneinlaßvorrichtung in ein Meßgerät für die Proben dient.The invention further relates to a sample inlet valve, which is arranged in a sample inlet device and for Closing a sample inlet of the sample inlet device in a measuring device for the samples.

Solche Probeneinlaßventile dienen dazu, die Probenzufuhr aus der Probeneinlaßvorrichtung in das Meßgerät zu steuern.Such sample inlet valves are used to supply the sample to control the sample inlet device into the measuring device.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Proben­ einlaßventil mit den eingangs genannten Merkmalen so zu ver­ bessern, daß die Probeneinlaßvorrichtung optimal an das Meß­ gerät bezüglich der Probenzufuhr von der Probeneinlaßvorrich­ tung in das Meßgerät ankoppelbar ist.The invention is therefore based on the object of a sample inlet valve with the features mentioned above to ver improve that the sample inlet device optimally to the measurement device for sample delivery from the sample inlet device device can be coupled into the measuring device.

Diese Aufgabe wird bei dem Probeneinlaßventil mit den oben genannten Merkmalen erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein Schließdruck des Probeneinlaßventils einstellbar ist.This task is performed on the sample inlet valve with the above Features mentioned inventively solved in that a Closing pressure of the sample inlet valve is adjustable.

Durch die Einstellbarkeit des Schließdruckes läßt sich eine optimale Ankopplung der Probeneinlaßvorrichtung an das Meß­ gerät erreichen. Dies ist insbesondere vorteilhaft, wenn das Probeneinlaßventil getaktet ist, da durch die Einstellbarkeit die Funktionsfähigkeit und die Betriebssicherheit des Proben­ einlaßventiles gewährbar ist.Due to the adjustability of the closing pressure, a optimal coupling of the sample inlet device to the measurement reach the device. This is particularly advantageous if that Sample inlet valve is clocked because of the adjustability the functionality and operational safety of the sample inlet valve is allowable.

Es ist dann insbesondere vorteilhaft, wenn der Schließdruck stufenlos einstellbar ist. It is particularly advantageous if the closing pressure is continuously adjustable.  

Besonders günstig ist es, wenn das Probeneinlaßventil ein Einstellmittel zur Einstellung des Schließdruckes aufweist, das so angeordnet ist, daß zur Einstellung des Schließdruckes eine Demontage des Probeneinlaßventiles nicht erforderlich ist. Dies ermöglicht eine schnelle und leichte Einstellbar­ keit des Schließdruckes, ohne daß die Probeneinlaßvorrichtung demontiert werden muß oder ein Vakuum des Meßgerätes belüftet werden muß. Dadurch lassen sich die Totzeiten des Meßgerätes während der Einstellung des Schließdruckes des Probeneinlaß­ ventiles minimieren.It is particularly favorable if the sample inlet valve is on Has adjusting means for adjusting the closing pressure, which is arranged so that to adjust the closing pressure disassembly of the sample inlet valve is not necessary is. This enables quick and easy adjustment speed of the closing pressure without the sample inlet device must be dismantled or a vacuum of the measuring device vented must become. This allows the dead times of the measuring device while adjusting the closing pressure of the sample inlet minimize valves.

Besonders vorteilhaft ist es, wenn das Einstellmittel einem Ventilteller des Probeneinlaßventiles abgewandt angeordnet ist.It when the adjusting means one is particularly advantageous Valve plate of the sample inlet valve is arranged facing away is.

Bei einer konstruktiv besonders einfachen Ausführungsform ist das Einstellmittel durch ein in einem Gewinde drehbares Ein­ stellelement gebildet, durch welches eine Probeneinlaßventil­ feder zur Einstellung einer Federvorspannung beaufschlagbar ist.In a structurally particularly simple embodiment the setting means by a rotatable in a thread actuator formed by which a sample inlet valve spring to adjust a spring preload is.

Um ein Taktbetrieb des Probeneinlaßventiles zu ermöglichen, ist es bei einer Variante einer Ausführungsform vorgesehen, daß das Probeneinlaßventil elektromagnetisch betätigbar ist.In order to enable cyclical operation of the sample inlet valve, it is provided in a variant of an embodiment, that the sample inlet valve can be actuated electromagnetically.

Das erfindungsgemäße Probeneinlaßventil läßt sich insbeson­ dere vorteilhaft bei der Meßvorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 25, 32 bis 40 verwenden. The sample inlet valve according to the invention can in particular dere advantageous in the measuring device according to one of the Use claims 1 to 25, 32 to 40.  

In der Zeichnung zeigen:The drawing shows:

Fig. 1 Ein erstes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Meßvorrichtung in schema­ tischer Darstellung; Fig. 1 shows a first embodiment of the measuring device according to the invention in a schematic representation;

Fig. 2 ein zweites Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Meßvorrichtung in schematischer Darstellung; Fig. 2 shows a second embodiment of the measuring device according to the invention in a schematic representation;

Fig. 3 ein drittes Ausführungsbeispiel der erfin­ dungsgemäßen Meßvorrichtung in schematischer Darstellung und Fig. 3 shows a third embodiment of the inventive device according to the invention in a schematic representation and

Fig. 4 ein viertes Ausführungsbeispiel der erfin­ dungsgemäßen Meßvorrichtung in schematischer Darstellung. Fig. 4 shows a fourth embodiment of the inventive measuring device according to the invention in a schematic representation.

Bei einem ersten Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Meßvorrichtung, welche in Fig. 1 als Ganzes mit 10 bezeichnet ist, umfaßt diese eine Probeneinlaßvorrichtung 12 und ein Meßgerät 14. Die Probeneinlaßvorrichtung 12 ist über Halte­ elemente 16 an dem Meßgerät 14 gehalten.In a first exemplary embodiment of the measuring device according to the invention, which is designated as a whole by 10 in FIG. 1, it comprises a sample inlet device 12 and a measuring device 14 . The sample inlet device 12 is held by holding elements 16 on the measuring device 14 .

Das Meßgerät 14, welches insbesondere zur Analyse oder zum Nachweis von gasförmigen Proben dient, weist einen Probenein­ laß 18 auf, durch den die insbesondere gasförmigen Proben von der Probeneinlaßvorrichtung 12 dem Meßgerät 14 zuführbar sind. The measuring device 14 , which is used in particular for the analysis or detection of gaseous samples, has a sample inlet 18 through which the particularly gaseous samples can be fed from the sample inlet device 12 to the measuring device 14 .

Die Probeneinlaßvorrichtung umfaßt ein zylindrisches Gehäuse 20 mit Wänden 22, einen Deckel 24 und einen Boden 26. Der Boden 26 weist eine Öffnung 28 auf, die mit dem Probeneinlaß 18 des Meßgerätes 14 in Verbindung steht, so daß die Proben dem Meßgerät aus der Probeneinlaßvorrichtung 12 zuführbar sind.The sample inlet device comprises a cylindrical housing 20 with walls 22 , a lid 24 and a bottom 26 . The bottom 26 has an opening 28 which is connected to the sample inlet 18 of the measuring device 14 , so that the samples can be fed to the measuring device from the sample inlet device 12 .

In den Deckel 24 ist ein becherförmiges Element 30 ein­ gesetzt, das aus einem Isolator und insbesondere Glas gefertigt ist. Das becherförmige Element 30 mit einem Hohl­ raum 31 ist koaxial zu einer Achse 32 des zylindrischen Gehäuses 20, so daß Wände 34 des becherförmigen Elementes 30 parallel zu den Wänden 22 des Gehäuses 20 sind.In the lid 24 , a cup-shaped element 30 is set, which is made of an insulator and in particular glass. The cup-shaped element 30 with a hollow space 31 is coaxial with an axis 32 of the cylindrical housing 20 , so that walls 34 of the cup-shaped element 30 are parallel to the walls 22 of the housing 20 .

Das becherförmige Element 30 ist der Öffnung 28 zugewandt offen. In diese Öffnung ist ein Ventilhalter 36 eingesetzt. Der Ventilhalter weist koaxial zur Achse 32 eine zylindrische Öffnung 38 auf, in der ein Probeneinlaßventil 40 geführt ist.The cup-shaped element 30 is open towards the opening 28 . A valve holder 36 is inserted into this opening. The valve holder has a cylindrical opening 38 , coaxial with the axis 32 , in which a sample inlet valve 40 is guided.

Das Probeneinlaßventil umfaßt eine Ventilspindel 42 und einen Ventilteller 44, der kraftschlüssig mit der Ventilspindel 42 verbunden ist und mittels dem die Öffnung 28 des Proben­ einlasses 18 je nach Stellung des Probeeinlaßventils 40 geöffnet oder geschlossen werden kann. Dazu sitzt an dem Ventilteller 44 ein nadelförmiges Element 46 koaxial zur Achse 32, durch das die Öffnung 28 verschließbar ist.The sample inlet valve comprises a valve spindle 42 and a valve plate 44 which is non-positively connected to the valve spindle 42 and by means of which the opening 28 of the sample inlet 18 can be opened or closed depending on the position of the sample inlet valve 40 . For this purpose, a needle-shaped element 46 sits on the valve plate 44 coaxially to the axis 32 , through which the opening 28 can be closed.

Die Probeneinlaßventilspindel 42 ist in einer Führung 48 ver­ schieblich gelagert, so daß das Probeneinlaßventil 40 in axialer Richtung entlang der Achse 32 beweglich ist. The sample inlet valve spindle 42 is slidably mounted in a guide 48 , so that the sample inlet valve 40 is movable in the axial direction along the axis 32 .

Die Ventilspindel 42 weist einen inneren Hohlraum 50 auf, der mit dem Hohlraum 31 des becherförmigen Elementes 30 in Fluidverbindung steht. Die Ventilspindel 42 weist in der Nähe ihres unteren Endes seitliche Öffnungen 52 auf, so daß ein Fluid aus dem Hohlraum 31 durch den Hohlraum 50 über die Öffnungen 52 in einen Zugangsraum 54 vor dem Probeneinlaß 18 strömen kann.The valve spindle 42 has an inner cavity 50 which is in fluid communication with the cavity 31 of the cup-shaped element 30 . Valve stem 42 has lateral openings 52 near its lower end so that fluid can flow from cavity 31 through cavity 50 via openings 52 into an access space 54 in front of sample inlet 18 .

Der Ventilhalter 36 weist an seinem oberen, dem Ventilteller 44 abgewandten Ende koaxial zur Achse 32 ein Innengewinde 56 auf, in das eine Ringmutter 58 eingreift. Die Ringmutter 58 weist an ihrem unteren, dem Probeneinlaßventilteller 44 zuge­ wandten Ende eine ringförmige Ausnehmung 60 auf, die als Anlagefläche für eine Ventilfeder 62 dient.At its upper end facing away from the valve plate 44 , the valve holder 36 has an internal thread 56 coaxial with the axis 32 , into which an annular nut 58 engages. The ring nut 58 has at its lower end facing the sample inlet valve plate 44 an annular recess 60 , which serves as a contact surface for a valve spring 62 .

Die Ventilfeder 62 sitzt zwischen dieser Anlagefläche der Ringmutter 58 und dem Ventilteller 44 in dem Hohlraum 50 der Ventilspindel 42.The valve spring 62 sits between this contact surface of the ring nut 58 and the valve plate 44 in the cavity 50 of the valve spindle 42 .

Durch Drehung der Ringmutter 58 im Innengewinde 56 läßt sich die Federvorspannung der Probeneinlaßventilfeder 62 ein­ stellen, so daß auf diese Weise der Schließdruck des Proben­ einlaßventiles 40 und insbesondere des nadelförmigen Ele­ mentes 56 auf die Öffnung 28 einstellbar ist.By rotating the ring nut 58 in the internal thread 56 , the spring preload of the sample inlet valve spring 62 can be set, so that in this way the closing pressure of the sample inlet valve 40 and in particular the needle-shaped element 56 can be adjusted to the opening 28 .

Das Probeneinlaßventil 40 ist mittels eines Elektromagneten 64 betätigbar, durch welchen die Ventilspindel 42 in einer Öffnungsposition bezüglich der Öffnung 28 haltbar ist. Dazu ist vorteilhafterweise die Probeneinlaßventilspindel 42 aus einem magnetischen Material angefertigt. Bei Abschalten des Elektromagneten 64 wird das nadelförmige Element 46 des Ventiltellers 44 durch die Federkraft der Probeneinlaßventil­ feder 40 auf die Öffnung 52 gedrückt.The sample inlet valve 40 can be actuated by means of an electromagnet 64 , by means of which the valve spindle 42 can be held in an open position with respect to the opening 28 . For this purpose, the sample inlet valve spindle 42 is advantageously made of a magnetic material. When the electromagnet 64 is switched off, the needle-shaped element 46 of the valve plate 44 is pressed by the spring force of the sample inlet valve spring 40 onto the opening 52 .

Bei einer Variante einer Ausführungsform ist das Probenein­ laßventil mittels eines Piezoelements betätigbar (in der Figur nicht gezeigt).In a variant of an embodiment, the sample is on can be actuated by means of a piezo element (in the figure Not shown).

Die Verbindung zwischen den Wänden 34 des becherförmigen Ele­ mentes 30 und dem Ventilhalter 36 ist fluiddicht ausgeführt, so daß ein Fluid aus dem Hohlraum 31 in den Zugangsraum 54 nur über den Hohlraum 50 strömen kann. Der Ventilhalter 36 ist über Halteelemente 66 an Innenseiten der Wände 22 des Gehäuses 20 gehalten.The connection between the walls 34 of the cup-shaped element 30 and the valve holder 36 is designed to be fluid-tight, so that a fluid can flow from the cavity 31 into the access space 54 only via the cavity 50 . The valve holder 36 is held on the inside of the walls 22 of the housing 20 via holding elements 66 .

Zwischen den Innenseiten der Wände 22 und Außenseiten des becherförmigen Elementes 30 und einer Außenseite des Ventil­ halters 36 ist ein ringförmiger Strömungsraum 68 gebildet. In diesen Strömungsraum führt eine Zuführung/Abführung 70 über eine Mündung 72 für Prozeßgas. An der Mündung 72 sitzt ein Ventil 74, welches insbesondere steuerbar ist, um die Zu­ führung bzw. Abführung von Prozeßgas zum Strömungsraum 68 steuerbar zu machen. Die Zuführung/Abführung 70 ist mit einer Pumpe insbesondere zum Abpumpen von Prozeßgas aus dem Strömungsraum 68 verbunden. Der Strömungsraum 68 ist mit dem Zugangsraum 54 verbunden. Between the inside of the walls 22 and the outside of the cup-shaped element 30 and an outside of the valve holder 36 , an annular flow space 68 is formed. An inlet / outlet 70 leads into this flow space via an orifice 72 for process gas. At the mouth 72 is a valve 74 , which is particularly controllable to make the supply or removal of process gas to the flow chamber 68 controllable. The feed / discharge 70 is connected to a pump, in particular for pumping out process gas from the flow space 68 . The flow space 68 is connected to the access space 54 .

Der Querschnitt eines Zugangs vom Strömungsraum 68 in den Zugangsraum 54 ist durch eine entsprechende Formgebung des Ventilhalters 36 an dessen unterem Ende als Kegelstumpf 76 verringert, wobei der Zugangsraum 54 durch eine Ausnehmung in diesem kegelstumpfförmigen Abschnitt 76 des Ventilhalters 36 koaxial zur Achse 32 gebildet ist. Die Verringerung des Quer­ schnittes durch diese kegelstumpfförmige Formgebung erhöht die Geschwindigkeit des Prozeßgases an der Öffnung 28, um auf diese Weise ein Anlagern von Verunreinigungen in der Nähe des Probeneinlasses 18 in das Meßgerät 14 zu vermeiden und um das Eindringen von Proben in den Strömungsraum 68 zu erschweren.The cross section of an access from the flow space 68 into the access space 54 is reduced by a corresponding shaping of the valve holder 36 at its lower end as a truncated cone 76 , the access space 54 being formed by a recess in this frustoconical section 76 of the valve holder 36 coaxial to the axis 32 . The reduction of the cross-section through this frustoconical shape increases the speed of the process gas at the opening 28 , in order to avoid the accumulation of contaminants in the vicinity of the sample inlet 18 in the measuring device 14 and to prevent the penetration of samples into the flow space 68 complicate.

Der Strömungsraum 68 weist über eine Mündung 78, an der ein steuerbares Ventil 79 sitzt, eine weitere Zuführung/Abführung 80 für das Prozeßgas auf, welche mit einer Pumpe (in der Fig. 1 nicht gezeigt) in Verbindung steht, so daß Prozeßgas durch den Strömungsraum 68 führbar ist und die Probeneinlaßvorrich­ tung 12 bei geschlossenem Probeneinlaßventil 40 evakuierbar ist. Die Mündung 78 ist beispielsweise diametral zur Mündung 72 angeordnet.The flow space 68 has a mouth 78 , at which a controllable valve 79 is located, a further feed / discharge 80 for the process gas, which is connected to a pump (not shown in FIG. 1), so that process gas through the Flow space 68 is feasible and the sample inlet device 12 can be evacuated when the sample inlet valve 40 is closed. The mouth 78 is arranged, for example, diametrically to the mouth 72 .

Koaxial zur Achse 32 sitzt in dem Hohlraum 31 des becher­ förmigen Elementes 30 eine Innenelektrode 82, welche über das becherförmige Element 30 elektrisch von dem Gehäuse 20 isoliert ist.Coaxial to the axis 32 sits in the cavity 31 of the cup-shaped element 30, an inner electrode 82 which is electrically isolated from the housing 20 via the cup-shaped element 30 .

Zwischen der Innenelektrode 82 und dem Gehäuse 20 ist ein elektrisches Wechselfeld anlegbar. Dazu ist die Elektrode 82 mit einem elektrischen Anschluß 84 versehen, der über eine Leitung 86 mit einem Hochfrequenzgenerator 90 verbunden ist. Das Gehäuse ist über einen Anschluß 92 und eine Leitung 94 ebenfalls mit dem Hochfrequenzgenerator 90 verbunden.An alternating electrical field can be applied between the inner electrode 82 and the housing 20 . For this purpose, the electrode 82 is provided with an electrical connection 84 which is connected to a high-frequency generator 90 via a line 86 . The housing is also connected to the high-frequency generator 90 via a connection 92 and a line 94 .

Das Gehäuse 20 ist aus Metall gefertigt, so daß zwischen der Innenelektrode 82 und dem Gehäuse 20 ein elektrisches Feld erzeugbar ist. Bei einer Variante einer Ausführungsform ist der Ventilhalter 36 ebenfalls aus Metall gefertigt, um die Ausbildung insbesondere an dem der Innenelektrode 42 zuge­ wandten Ende zu ermöglichen.The housing 20 is made of metal, so that an electric field can be generated between the inner electrode 82 and the housing 20 . In a variant of an embodiment, the valve holder 36 is also made of metal in order to enable the formation in particular at the end facing the inner electrode 42 .

Durch die Innenelektrode 82 führt eine Zuführungsleitung 96 in den Hohlraum 31, durch den Fluide in diesen einführbar sind. Dazu weist die Elektrode 82 an ihrem unteren Ende Aus­ trittsmündungen 98 für die Fluide auf.A feed line 96 leads through the inner electrode 82 into the cavity 31 , through which fluids can be introduced into the latter. For this purpose, the electrode 82 has at its lower end outlet openings 98 for the fluids.

Die Zuführungsleitung 96 führt zu einem Ausgang einer Fluidsteuerung 100, bei der es sich beispielsweise um ein Vierwege-Ventil handelt. In einen ersten Eingang der Fluidsteuerung 100 mündet eine Leitung 102 für Prozeßgas, so daß Prozeßgas über die Leitung 96 und über den Hohlraum 31 in den Zugangsraum 54 führbar ist.The feed line 96 leads to an outlet of a fluid control 100 , which is, for example, a four-way valve. A line 102 for process gas opens into a first input of the fluid control 100 , so that process gas can be conducted into the access space 54 via the line 96 and via the cavity 31 .

In einen zweiten Eingang der Fluidsteuerung 100 führt eine Zuführungsleitung 104 für gasförmige Proben, so daß durch die Leitung 96 das Probengas durch den Hohlraum 31 dem Probenein­ laß 18 des Meßgerätes 14 zuführbar ist. In a second input of the fluid control 100 leads a supply line 104 for gaseous samples, so that through the line 96 the sample gas through the cavity 31 to the sample inlet 18 of the measuring device 14 can be supplied.

Die Fluidsteuerung 100 weist einen zweiten Ausgang auf, an den eine Abführung 103 gekoppelt ist, die in Verbindung mit einer Pumpe (in der Figur nicht gezeigt) steht, so daß bei Freischaltung eines Durchgangs zwischen der Leitung 96 und der Abführung 103 durch die Fluidsteuerung 100 insbesondere der Hohlraum 31 evakuierbar ist.The fluid controller 100 has a second output, to which an outlet 103 is coupled, which is connected to a pump (not shown in the figure), so that when a passage between the line 96 and the outlet 103 is activated by the fluid controller 100 in particular the cavity 31 can be evacuated.

Die Fluidsteuerung 100 ist so ausgebildet, daß bei Prozeßgas­ zuführung die Probengaszuführung sperrbar ist bzw. bei Probengaszuführung die Prozeßgaszuführung sperrbar ist. Dazu ist erfindungsgemäß eine Steuerungseinheit 106 vorge­ sehen, durch die auch das Probeneinlaßventil 74 für die Prozeßgaszuführung zum Strömungsraum 68 steuerbar ist. Es kann erfindungsgemäß auch vorgesehen sein, daß über die Steuerungseinheit 106 das Ventil 74 steuerbar ist.The fluid controller 100 is designed such that the sample gas supply can be blocked when the process gas is supplied or the process gas supply can be blocked when the sample gas is supplied. For this purpose, a control unit 106 is provided according to the invention, through which the sample inlet valve 74 for the process gas supply to the flow space 68 can be controlled. It can also be provided according to the invention that the valve 74 can be controlled via the control unit 106 .

Bei einer Variante einer Ausführungsform (in der Fig. 1 nicht gezeigt) ist es vorgesehen, daß die Zuführungsleitungen für das Prozeßgas und für das Probengas getrennt in die Innen­ elektrode 82 führen.In a variant of an embodiment (not shown in FIG. 1) it is provided that the feed lines for the process gas and for the sample gas lead separately into the inner electrode 82 .

Durch die Innenelektrode 82 führt eine Zuführung 108 für ein Wärmeübertragungsmedium in einen Strömungskanal und eine Ab­ führung 110, so daß das Wärmeübertragungsmedium durch die Innenelektrode 82 führbar ist, um auf diese Weise die Tempe­ ratur der Innenelektrode 82 zu steuern.Through the internal electrode 82, a feed 108 performs for a heat transfer medium in a flow channel and a From guide 110, so that the heat transfer medium can be guided by the inner electrode 82 in this way, the tempering temperature of the inner electrode to control the 82nd

Die Wände 22 des Gehäuses 20 sind heizbar, beispielsweise über Widerstandsheizung von an den Wänden angeordneten Draht­ schleifen (in der Figur nicht gezeigt). The walls 22 of the housing 20 can be heated, for example by means of resistance heating, by grinding wire arranged on the walls (not shown in the figure).

Bei einer Variante eines erfindungsgemäßen Ausführungsbei­ spieles ist es vorgesehen, daß der Hohlraum 31 den becher­ förmigen Element 30 durch eine Überwachungseinrichtung 112 überwachbar ist. Dabei kann es sich insbesondere um ein Spek­ trometer oder optisches Filter handeln, durch welches die Intensität von charakteristischen optischen Emissionslinien von Substanzen in der erfindungsgemäßen Probeneinlaßvorrich­ tung 12 überwacht werden. Dazu weist das becherförmige Ele­ ment 30 an seinem oberen Ende ein Durchsichtsfenster 131 auf.In a variant of a game according to the invention, it is provided that the cavity 31, the cup-shaped element 30 can be monitored by a monitoring device 112 . It can in particular be a spectrometer or optical filter, by means of which the intensity of characteristic optical emission lines of substances in the sample inlet device 12 according to the invention are monitored. For this purpose, the cup-shaped element 30 has a see-through window 131 at its upper end.

Die erfindungsgemäße Probeneinlaßvorrichtung arbeitet wie folgt:The sample inlet device according to the invention works as follows:

Zum Nachweis oder zur Analyse von gasförmigen Proben werden die Proben durch die Zuführungsleitung 104 durch die Fluidsteuerung 100 über die Zuführungsleitung 96 und die Aus­ trittsmündungen 98 in die Probeneinlaßvorrichtung 12 geführt und durch den Hohlraum 31 und über die Öffnungen 52 in den Zugangsraum 54, von wo sie über die Öffnung 28 in den Proben­ einlaß 18 des Meßgeräts 14 gelangt. Dazu ist das Probenein­ laßventil 40 geöffnet, d. h. der Ventilteller 44 mit dem nadelförmigen Element 46 verschließt nicht die Öffnung 28.For detection or analysis of gaseous samples, the samples are fed through the feed line 104 through the fluid controller 100 via the feed line 96 and the outlet openings 98 into the sample inlet device 12 and through the cavity 31 and through the openings 52 into the access space 54 , from where it passes through the opening 28 in the sample inlet 18 of the measuring device 14 . For this purpose the sample valve is opened 40 , ie the valve plate 44 with the needle-shaped element 46 does not close the opening 28 .

Dabei ist das Ventil 74 für die Prozeßgaszuführung ge­ schlossen und mittels der Pumpe ist der Strömungsraum 68 von Prozeßgas evakuiert, so daß im wesentlichen nur die Probe dem Meßgerät 14 zugeführt wird. The valve 74 for the process gas supply is closed ge and by means of the pump, the flow space 68 of process gas is evacuated, so that essentially only the sample is fed to the measuring device 14 .

Bei dem Meßgerät handelt es sich insbesondere um ein On-line- Analytikmeßgerät wie beispielsweise eine JET-REMPI-Vorrich­ tung zum schnellen analytischen Nachweis von Probenmolekülen. (JET-REMPI ist als deutsche Marke mit dem Aktenzeichen 39 650 736.0 angemeldet.)The measuring device is in particular an on-line Analytical measuring device such as a JET-REMPI device device for fast analytical detection of sample molecules. (JET-REMPI is a German brand with the file number 39 650 736.0 registered.)

Eine JET-REMPI-Vorrichtung, welche in der DE-PS 4 41 972 be­ schrieben ist, auf die hiermit ausdrücklich Bezug genommen wird, dient zum Nachweis von Probenmolekülen in einem Träger­ gas. In diesem Falle ist unter dem oben eingeführten Begriff Probengas das Trägergas mit darin enthaltenen Probenmolekülen zu verstehen.A JET-REMPI device, which be in DE-PS 4 41 972 is written, to which express reference is hereby made is used to detect sample molecules in a carrier gas. In this case is under the term introduced above Sample gas is the carrier gas with sample molecules contained therein to understand.

Es kann erfindungsgemäß vorgesehen sein, daß das Probenein­ laßventil 40 getaktet ist, um auf diese Weise die Proben­ zufuhr zum Meßgerät 14 zu takten.It can be provided according to the invention that the sample inlet valve 40 is clocked in order to clock the sample supply to the measuring device 14 .

Um eine Fehlerbehaftung von Messungen des Meßgerätes 14 auf­ grund von Verunreinigungen auszuschließen, die beispielsweise durch Rückstände aus vorhergehenden Messungen gebildet sind, ist es erforderlich, Kontaminationsbereiche 113 der Proben­ einlaßvorrichtung von solchen Verunreinigungen zu reinigen. Die Kontaminationsbereiche 113 sind dabei durch innere Ober­ flächen 113 der Probeneinlaßvorrichtung 12 gebildet.In order to exclude the possibility of errors in the measurements of the measuring device 14 due to impurities which are formed, for example, from residues from previous measurements, it is necessary to clean contamination areas 113 of the sample inlet device from such impurities. The contamination areas 113 are formed by inner upper surfaces 113 of the sample inlet device 12 .

Dazu wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren die Öffnung 28 durch das nadelförmige Element 46 des Probeneinlaßventils 40 geschlossen. Der Strömungsraum 68 wird dann über die Zufüh­ rung/Abführung 70 und die Zuführung/Abführung 80 mit Prozeß­ gas gespült und der Hohlraum 31 wird über die Leitung 102 und die Zuführungsleitung 96 ebenfalls mit Prozeßgas gespült.For this purpose, the opening 28 is closed by the needle-shaped element 46 of the sample inlet valve 40 in the method according to the invention. The flow space 68 is then flushed with process gas via the feed / discharge 70 and the feed / discharge 80 and the cavity 31 is also flushed with process gas via the line 102 and the feed line 96 .

Zwischen der Innenelektrode 82 und dem Gehäuse 20 wird über den Hochfrequenzgenerator 90 eine Wechselspannung angelegt, so daß sich ein elektrisches Feld ausbildet. Durch Gasent­ ladung bildet sich in einem Plasmaraum 114, der insbesondere einen wesentlichen Anteil des Strömungsraumes 68 und des Hohlraums 31 umfaßt, ein Plasma. Auf diese Weise werden reaktive Ionen erzeugt, die die Kontaminationsbereiche 113 der Probeneinlaßvorrichtung 12 beaufschlagen.An alternating voltage is applied between the inner electrode 82 and the housing 20 via the high-frequency generator 90 , so that an electric field is formed. Gasent charge forms a plasma in a plasma space 114 , which in particular comprises a substantial portion of the flow space 68 and the cavity 31 . In this way, reactive ions are generated which act on the contamination regions 113 of the sample inlet device 12 .

Durch die Innenelektrode 82 und das Gehäuse 20 ist eine Plasmakammer 116 gebildet. Über die Halteelemente 66, die für eine elektrische Verbindung sorgen und den Ventilhalter 36 mit dem Gehäuse 20 kurzschließen, ist zwischen dem oberen Ende des Ventilhalters 36 und der Innenelektrode 82 ebenfalls ein elektrisches Feld zur Plasmabildung erzeugbar.A plasma chamber 116 is formed by the inner electrode 82 and the housing 20 . An electrical field for plasma formation can also be generated between the upper end of the valve holder 36 and the inner electrode 82 via the holding elements 66 , which provide an electrical connection and short-circuit the valve holder 36 with the housing 20 .

Der Plasmaraum 114 umfaßt im wesentlichen die gesamten inneren Oberflächen in der Probeneinlaßvorrichtung 12, so daß im wesentlichen die gesamten inneren Oberflächen mit reaktiven Ionen beaufschlagt sind.The plasma space 114 includes substantially all of the inner surfaces in the sample inlet device 12 so that substantially all of the inner surfaces are exposed to reactive ions.

Die reaktiven Ionen aus dem Plasma weisen hohe kinetische Energien von bis zu 1 keV auf, so daß sie mit adsorbierten Oberflächenverunreinigungen, die beispielsweise aus Rück­ ständen von schwerflüchtigen Verbindungen eines vorher­ gehenden Meßprozesses bestehen, zerstört werden und in gas­ förmige Verbindungen wie CO, CO₂ oder H₂O überführt werden und zwar unabhängig von der Temperatur. Dadurch lassen sich auch chemisch besonders stabile organische Verbindungen umsetzen. Als Prozeßgas kommt dabei reiner Sauerstoff oder reine Luft zum Einsatz. Um die Probeneinlaßvorrichtung 12 von Silicium­ organischen Verbindungen zu reinigen, ist es vorteilhaft, wenn dem Prozeßgas Fluor oder Fluorverbindungen wie CF₄ oder CF₃H zugemischt werden.The reactive ions from the plasma have high kinetic energies of up to 1 keV, so that they are destroyed with adsorbed surface contaminants, for example from residues of volatile compounds from a previous measurement process, and in gaseous compounds such as CO, CO ₂ or H ₂ O are transferred regardless of the temperature. As a result, particularly chemically stable organic compounds can be implemented. Pure oxygen or pure air is used as the process gas. In order to clean the sample inlet device 12 of silicon organic compounds, it is advantageous if fluorine or fluorine compounds such as CF ₄ or CF ₃ H are added to the process gas.

Der Reinigungsprozeß der kontaminierten Oberflächen verläuft dabei mit konstanter oder sogar zunehmender Reinigungs­ geschwindigkeit, da bei festgehaltenem Prozeßgasdruck in der Probeneinlaßvorrichtung die Plasmaerzeugungsrate im wesent­ lichen konstant ist, aber die Oberflächenbedeckung von Kontaminationen in den Kontaminationsbereichen 113 abnimmt. Die Abnahme der Oberflächenbedeckung ist dabei im wesent­ lichen linear abhängig von der Reinigungszeit bzw. der Reini­ gungsgrad der Kontaminationsbereiche nimmt linear zu mit der Reinigungszeit. Auf diese Weise lassen sich die Kontamina­ tionsbereiche bei entsprechender Reinigungsdauer im wesent­ lichen vollständig reinigen.The cleaning process of the contaminated surfaces runs at a constant or even increasing cleaning speed, since with a fixed process gas pressure in the sample inlet device the plasma generation rate is essentially constant, but the surface coverage of contaminants in the contamination areas 113 decreases. The decrease in surface coverage is essentially linearly dependent on the cleaning time or the degree of cleaning of the contamination areas increases linearly with the cleaning time. In this way, the contamination areas can be completely cleaned with the appropriate cleaning duration.

Eine derartige Plasmareinigung der Kontaminationsbereiche mit Hilfe von reaktiven Ionen besitzt typische Abtragsraten von einigen µg/cm² sec. Da üblicherweise die Probenmengen, die in die Probeneinlaßvorrichtung 12 eingebracht werden, relativ gering sind, lassen sich dann Reinigungszeiten von höchstens wenigen Sekunden erreichen.Such a plasma cleaning of the contamination areas with the aid of reactive ions has typical removal rates of a few µg / cm ² sec. Since the sample quantities that are introduced into the sample inlet device 12 are usually relatively small, cleaning times of at most a few seconds can then be achieved.

Der Strömungsraum 68 und der Hohlraum 31 sind mit Prozeßgas gespült, so daß die durch die chemische Reaktion mit dem Plasma als Reaktionsprodukte entstandenen gasförmige Stoffe durch das Prozeßgas über die Abführung 80 abgeführt werden. Bei einem Volumen der Plasmakammer 116 von größenordnungs­ mäßig 150 ml läßt sich eine gute Reinigung der Probeneinlaß­ vorrichtung, welche die Plasmaerzeugung im Prozeßgas und die Abführung der gasförmigen Reaktionsprodukte umfaßt, bei­ spielsweise durch einen Prozeßgasdurchsatz von größen­ ordnungsmäßig einigen Standard ccm/min erreichen.The flow space 68 and the cavity 31 are flushed with process gas so that the gaseous substances formed as reaction products by the chemical reaction with the plasma are discharged through the discharge gas 80 through the process gas. With a volume of the plasma chamber 116 of the order of 150 ml, a good cleaning of the sample inlet device can be achieved, which includes the plasma generation in the process gas and the removal of the gaseous reaction products, for example by a process gas throughput of the order of a few standard ccm / min.

Der Prozeßgasdurchsatz durch die Probeneinlaßvorrichtung wird dabei bei einer Variante einer Ausführungsform über den Druck in der Plasmakammer 116 geregelt. Bei einer anderen Variante wird der Gasdurchsatz fest vorgegeben.In one variant of an embodiment, the process gas throughput through the sample inlet device is regulated via the pressure in the plasma chamber 116 . In another variant, the gas throughput is fixed.

Die Wände 34 des becherförmigen Elementes 30 dienen zu einer Gasabdichtung des Hohlraums 31 gegenüber dem Strömungsraum 68. Es wird aber auch ein Plasma in dem Strömungsraum 68 erzeugt, da die elektrischen Feldlinien zwischen der Innen­ elektrode 82 und den Wänden 22 durch die Wände 34 durch­ dringen können.The walls 34 of the cup-shaped element 30 are used for gas sealing the cavity 31 with respect to the flow space 68 . However, a plasma is also generated in the flow space 68 , since the electric field lines between the inner electrode 82 and the walls 22 can penetrate through the walls 34 .

Bevorzugterweise ist der Probeneinlaß 18 bzw. die Öffnung 28 und das Probeneinlaßventil 40 gegenüber dem Plasmaraum 114, in dem das Plasma erzeugt ist, so angeordnet, daß in dem Prozeßgas gebildete hoch reaktive Moleküle wie Ozon oder Singulett-Sauerstoff mittels Diffusion in die Nähe des Probeneinlasses 18 bzw. der Öffnung 28 gelangen können, um dort mit Verunreinigungen chemisch zu reagieren und somit zur Reinigung beizutragen. Dadurch können auch Bereiche innerhalb der Plasmakammer 116 mittels chemischer Reaktion gereinigt werden, die bezüglich der Plasmabildung abgeschattet sind.Preferably, the sample inlet 18 and the opening 28 and the sample inlet valve is provided 40 to the plasma space 114, in which the plasma is generated so that in the process gas highly reactive molecules such as ozone, or singlet oxygen formed by diffusion in the vicinity of the sample inlet 18 or the opening 28 can get there to react chemically with impurities and thus contribute to cleaning. Areas within the plasma chamber 116 that are shadowed with respect to the plasma formation can also be cleaned by means of a chemical reaction.

Der Reinigungsgrad der Kontaminationsbereiche in der Plasma­ kammer 116 wird durch die Überwachungseinrichtung 112 über­ wacht. Dazu werden bestimmte charakteristische optische Spektrallinien der Reaktionsprodukte wie CO, CO₂ oder H₂O ermittelt. Die Intensität dieser Spektrallinien ist ein Maß für die Anzahl der in dem Spülgas, welches durch das Prozeß­ gas gebildet ist, enthaltenen Verunreinigungen. Durch das Reinigungsverfahren nimmt der Bedeckungsgrad der kontami­ nierten Oberflächen ab. Da die gasförmigen Stoffe durch das Prozeßgas abgeführt werden, muß die Intensität der ent­ sprechenden Spektrallinien im wesentlichen auf Null zurück­ gehen, wenn die Probeneinlaßvorrichtung 12 vollständig gereinigt ist, da dann keine weiteren Reaktionsprodukte mehr entstehen können.The degree of cleaning of the contamination areas in the plasma chamber 116 is monitored by the monitoring device 112 . For this purpose, certain characteristic optical spectral lines of the reaction products such as CO, CO ₂ or H ₂ O are determined. The intensity of these spectral lines is a measure of the number of impurities contained in the purge gas which is formed by the process gas. The degree of coverage of the contaminated surfaces decreases due to the cleaning process. Since the gaseous substances are discharged through the process gas, the intensity of the corresponding spectral lines must essentially go back to zero when the sample inlet device 12 is completely cleaned, since then no further reaction products can arise.

Es kann erfindungsgemäß auch vorgesehen sein, daß das Meß­ gerät 14 selbst zur Ermittlung des Reinigungsgrades der Plasmakammer 116 eingesetzt wird, in dem das Prozeßgas mit darin geführten gasförmigen Substanzen durch Öffnung des Probeneinlaßventiles 40 dem Meßgerät 14 zugeführt werden und das Meßgerät 14 die Art und/oder Menge dieser Substanzen ermittelt. Dies hat den zusätzlichen Vorteil, daß insbeson­ dere eine Spitze des nadelförmigen Elements 46 des Probenein­ laßventils 40 mitgereinigt wird, während das Probeneinlaß­ ventil geöffnet ist.It can also be provided according to the invention that the measuring device 14 itself is used to determine the degree of cleaning of the plasma chamber 116 , in which the process gas with gaseous substances contained therein are fed to the measuring device 14 by opening the sample inlet valve 40 and the measuring device 14 determines the type and / or the amount of these substances. This has the additional advantage that, in particular, a tip of the needle-shaped element 46 of the sample inlet valve 40 is also cleaned while the sample inlet valve is open.

Durch die Steuerungseinheit 106 läßt sich der Reinigungs­ prozeß automatisieren. Dazu wird, wenn der Reinigungsprozeß gestartet wird, das Probeneinlaßventil 40 geschlossen und die Probenzuführung über die Fluidsteuerung 100 unterbrochen. Das Ventil 74 wird geöffnet und der Strömungsraum 68 wird mit Prozeßgas gespült.The cleaning process can be automated by the control unit 106 . For this purpose, when the cleaning process is started, the sample inlet valve 40 is closed and the sample supply via the fluid control 100 is interrupted. The valve 74 is opened and the flow space 68 is flushed with process gas.

Weiter wird über die Öffnung der Leitung 96 der Hohlraum 31 mit Prozeßgas gespült. Durch Anlegen der hochfrequenten Wechselspannung wird in dem Prozeßgas in der Plasmakammer 116 das Plasma erzeugt. Die Überwachungseinrichtung 112 überwacht den Reinigungsprozeß. Bei Erreichen des Reinigungserfolges werden das Ventil 72 und 79 wieder geschlossen, die Fluidsteuerung schaltet die Prozeßgaszuführung ab. Durch die Pumpe bzw. die Pumpen wird der Innenraum der Plasmakammer 116 von dem Prozeßgas evakuiert.Furthermore, the cavity 31 is flushed with process gas via the opening of the line 96 . By applying the high-frequency AC voltage, the plasma is generated in the process gas in the plasma chamber 116 . The monitoring device 112 monitors the cleaning process. When cleaning success is achieved, the valves 72 and 79 are closed again, the fluid control switches off the process gas supply. The interior of the plasma chamber 116 is evacuated from the process gas by the pump or pumps.

Die Fluidsteuerung 100 schaltet dann auf Probengaszuführung um, das über die Leitung 96 und den Hohlraum 31 zum Zugangs­ raum 54 gelangt. Das Probeneinlaßventil 40 wird geöffnet, so daß die Probe über den Probeneinlaß 18 dem Meßgerät 14 zuführbar ist. The fluid control 100 then switches to the sample gas supply, which reaches the access space 54 via the line 96 and the cavity 31 . The sample inlet valve 40 is opened so that the sample can be fed to the measuring device 14 via the sample inlet 18 .

Es ist dabei vorgesehen, daß die Hochfrequenz-Leistungs­ zuführung zu der Plasmakammer 116 während der Probenzuführung zu dem Meßgerät unterbrochen ist.It is provided that the high-frequency power supply to the plasma chamber 116 is interrupted during the sample supply to the measuring device.

Die erfindungsgemäße Probeneinlaßvorrichtung kann erfindungs­ gemäß auch als Probenanreicherungsstufe eingesetzt werden. Dies erfolgt über eine Steuerung der Temperatur der Innen­ elektrode 82, in dem dieser ein Wärmeübertragungsmedium zu- und abgeführt wird. Bei diesem Wärmeübertragungsmedium kann es sich beispielsweise um ein Gas oder um ein Öl wie Silikonöl handeln.The sample inlet device according to the invention can also be used according to the invention as a sample enrichment stage. This is done by controlling the temperature of the inner electrode 82 , in which a heat transfer medium is supplied and discharged. This heat transfer medium can be, for example, a gas or an oil such as silicone oil.

Durch entsprechendes Absenken der Temperatur kann, wenn Probengas über die Leitungen 104 und 96 in den Hohlraum 31 geführt wird, dieses an der Innenelektrode 82 kondensieren und sich somit an dieser anreichern. Durch Erhöhung der Temperatur über einen kritischen Wert hinaus wird eine Desorption des kondensierten Probengases und damit "Entreicherung" bewirkt.By correspondingly lowering the temperature, when sample gas is fed via the lines 104 and 96 into the cavity 31 , this can condense on the inner electrode 82 and thus accumulate on the latter. By increasing the temperature above a critical value, the condensed sample gas is desorbed and thus "de-enriched".

Um zu verhindern, daß die Innenwände des Gehäuses 20 als Kondensationsfalle wirken, sind diese beheizt. Damit wird die Probenanreicherung auf den Hohlraum 31 beschränkt und eine Kontamination des Strömungsraumes 68 durch Verunreinigungen ist verringerbar.In order to prevent the inner walls of the housing 20 from acting as a condensation trap, they are heated. The sample enrichment is thus limited to the cavity 31 and contamination of the flow space 68 by impurities can be reduced.

Bei einer zweiten Variante eines erfindungsgemäßen Aus­ führungsbeispieles umfaßt die in Fig. 2 mit 118 bezeichnete Probeneinlaßvorrichtung eine Plasmakammer 120, die durch einen Hohlraumresonator 122 gebildet ist. In den Hohlraum­ resonator 122 mündet ein Wellenleiter 124, durch den Mikrowellenleistung von einem Mikrowellengenerator (in der Fig. 2 nicht gezeigt) in den Hohlraumresonator 122 einkoppel­ bar ist. An einer Mündung 126 des Wellenleiters 124 in den Hohlraumresonator 122 ist ein Schutzfenster 128 angeordnet, das zur Verhinderung des Eindringens von Fluid in den Wellen­ leiter 124 dient.In a second variant of an exemplary embodiment according to the invention, the sample inlet device designated 118 in FIG. 2 comprises a plasma chamber 120 , which is formed by a cavity resonator 122 . In the cavity resonator 122 opens a waveguide 124 through which microwave power from a microwave generator (not shown in FIG. 2) can be coupled into the cavity resonator 122 . At a mouth 126 of the waveguide 124 into the cavity resonator 122, a protective window 128 is arranged, which serves to prevent the ingress of fluid into the wave conductor 124th

Das Gehäuse 20 weist ein Durchsichtfenster 131 auf, so daß ein Innenraum des Hohlraumresonators 122 optisch beispiels­ weise mittels der Überwachungseinrichtung 112 überwachbar ist.The housing 20 has a see-through window 131 , so that an interior of the cavity resonator 122 can be monitored optically, for example, by means of the monitoring device 112 .

In dem Hohlraumresonator 122 ist ein Anreicherungselement 130 angeordnet, das zur Probenanreicherung dient. Dieses Element ist grundsätzlich gleich aufgebaut wie oben beschrieben und funktioniert auch dementsprechend, wobei bei dieser Variante, da die Wechselstromleistung über Mikrowellenleistung in das Prozeßgas eingekoppelt wird, selbstverständlich keine Innen­ elektrode wie bei dem ersten Ausführungsbeispiel vorgesehen ist.An enrichment element 130 , which serves for sample enrichment, is arranged in the cavity resonator 122 . This element is basically constructed the same as described above and also works accordingly, with this variant, since the AC power is coupled into the process gas via microwave power, of course no internal electrode is provided as in the first embodiment.

Bezüglich dem Reinigungsverfahren arbeitet die zweite Variante eines Ausführungsbeispieles grundsätzlich genauso wie oben beschrieben. Der Unterschied besteht im wesentlichen darin, daß die Wechselstromleistung zur Bildung des Plasmas nicht, wie in dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1, kapazitiv angekoppelt wird, sondern in dem Hohlraumresonator 122 durch Mikrowellenleistung. With regard to the cleaning method, the second variant of an exemplary embodiment basically works exactly as described above. The difference essentially consists in that the AC power for forming the plasma is not coupled capacitively, as in the exemplary embodiment according to FIG. 1, but in the cavity resonator 122 by means of microwave power.

Bei einer dritten Variante einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Meßvorrichtung, welche in Fig. 3 gezeigt ist, umfaßt die Probeneinlaßvorrichtung 132 eine in Gehäuse­ wänden einer Plasmakammer 136 angeordnete Induktionsspule 134, die koaxial zur Achse 32 ist. Die Induktionsspule 134 weist elektrische Anschlüsse 138 und 140 auf. Durch die Induktionsspule wird das Plasma in der Plasmakammer 136 induktiv durch Hochfrequenzheizung erzeugt. Die Induk­ tionsspule 134 ist in einem dielektrischen Medium angeordnet und beispielsweise darin vergossen. Es ist erfindungsgemäß auch vorgesehen, daß die Vorrichtung auch eine elektro­ magnetische Abschirmung (in der Figur nicht gezeigt) aufweist.In a third variant of an embodiment of the measuring device according to the invention, which is shown in FIG. 3, the sample inlet device 132 comprises an induction coil 134 arranged in the housing walls of a plasma chamber 136 , which is coaxial to the axis 32 . The induction coil 134 has electrical connections 138 and 140 . The plasma in the plasma chamber 136 is generated inductively by high-frequency heating by the induction coil. The induction coil 134 is arranged in a dielectric medium and, for example, encapsulated therein. It is also provided according to the invention that the device also has an electromagnetic shield (not shown in the figure).

Ansonsten ist die Probeneinlaßvorrichtung so aufgebaut und funktioniert so, wie bereits oben beschrieben.Otherwise, the sample inlet device is constructed and works as described above.

Bei einer vierten Variante einer Ausführungsform, welche in Fig. 4 gezeigt ist, umfaßt eine Probeneinlaßvorrichtung 142 ein Gehäuse 144, in dem ein Hohlraum 146 gebildet ist. Das Gehäuse 144 weist einen Deckel 148 aus einem elektrisch isolierenden Material auf und insbesondere aus Glas.In a fourth variant of an embodiment, which is shown in FIG. 4, a sample inlet device 142 comprises a housing 144 in which a cavity 146 is formed. The housing 144 has a cover 148 made of an electrically insulating material and in particular made of glass.

In dem Deckel 148 ist eine Innenelektrode 150 gehalten, die in den Hohlraum 146 hineinreicht.An inner electrode 150 is held in the cover 148 and extends into the cavity 146 .

Das Gehäuse 144 sitzt auf einem Gehäuseträger 152. Das Meß­ gerät 14 sitzt an einem unteren Ende des Gehäuseträgers 152 und der Probeneinlaß 18 des Meßgeräts 14 ist mit dem Gehäuse­ träger 152 verbunden. The housing 144 sits on a housing carrier 152 . The measuring device 14 sits at a lower end of the housing support 152 and the sample inlet 18 of the measuring device 14 is connected to the housing support 152 .

In dem Gehäuseträger 152 sitzt das Probeneinlaßventil 40, das ansonsten so aufgebaut ist und so funktioniert wie bereits oben beschrieben.In the housing support 152 sits the sample inlet valve 40 , which is otherwise constructed and functions as described above.

In dem Gehäuse 144 ist ein Strömungsraum 154 gebildet, der sich in einem im Gehäuseträger 152 gebildeten Strömungsraum 156 fortsetzt. Mit diesem Strömungsraum verbunden ist ein Zugangsraum 158, welcher koaxial zur Gehäuseachse 32 ist und vor dem Probeneinlaß 18 des Meßgerätes 14 angeordnet ist. Eine Öffnung 116, die koaxial zur Achse 32 ist, führt von dem Zugangsraum 158 zum Probeneinlaß 18.A flow space 154 is formed in the housing 144 and continues in a flow space 156 formed in the housing support 152 . Connected to this flow space is an access space 158 which is coaxial with the housing axis 32 and is arranged in front of the sample inlet 18 of the measuring device 14 . An opening 116 , which is coaxial to the axis 32 , leads from the access space 158 to the sample inlet 18 .

In den Zugangsraum 158 mündet über eine Kapillare 162 eine Zuführung 164 für eine flüssige Probe. An der Mündung ist bei einer Variante einer Ausführungsform ein Heizelement 166 vor­ gesehen, durch das zugeführte flüssige Probe verdampft werden kann.A feed 164 for a liquid sample opens into the access space 158 via a capillary 162 . In one variant of an embodiment, a heating element 166 is seen at the mouth, through which the supplied liquid sample can be evaporated.

Erfindungsgemäß kann es auch vorgesehen sein, daß das Gehäuse 144/oder der Gehäuseträger 152 geheizt werden. Die Wärme­ abstrahlung an die Mündung oder die durch Wärmeleitung an die Mündung übertragene Wärme der Kapillare 162 kann dabei aus­ reichen, um die flüssige Probe zu verdampfen.According to the invention, it can also be provided that the housing 144 / or the housing carrier 152 are heated. The heat radiation to the mouth or the heat transferred to the mouth by heat conduction of the capillary 162 can be sufficient to evaporate the liquid sample.

Das Prozeßgas wird über Zuführungen 168 in den Strömungsraum 154 und den Strömungsraum 156 geführt und über Abführungen 170 abgeführt. Es kann erfindungsgemäß vorgesehen sein, daß an einer Mündung der Zuführung 168 in den Strömungsraum 154 ein Ventil 172, welches insbesondere steuerbar ist, ange­ ordnet ist. The process gas is fed through inlets 168 into the flow chamber 154 and the flow space 156 and discharged via outlets 170th It can be provided according to the invention that a valve 172 , which is particularly controllable, is arranged at an opening of the feed 168 into the flow chamber 154 .

Die Innenelektrode 150 weist eine Prozeßgaszuführung 174 in den Hohlraum 146 auf. Von dem Hohlraum 146 kann das Prozeßgas über den Hohlraum 50 der Ventilspindel 42 in den Zugangsraum 158 gelangen.The inner electrode 150 has a process gas supply 174 in the cavity 146 . The process gas can reach the access space 158 from the cavity 146 via the cavity 50 of the valve spindle 42 .

Diese Variante eines erfindungsgemäßen Ausführungsbeispieles arbeitet wie folgt:This variant of an embodiment according to the invention works as follows:

Zur Probenzufuhr über den Probeneinlaß 18 zum Meßgerät 14 wird die Flüssigkeit über die Zuführung 164 und die Kapillare 162 in den Zugangsraum 158 eingeführt, wobei insbesondere das Probeneinlaßventil geschlossen ist. Dort verdampft die Flüssigkeit, so daß eine gasförmige Probe entsteht. Durch Öffnungen 10 in dem Ventilteller 44 und die Öffnungen 52 der Ventilspindel 42 gelangt diese gasförmige Probe in den Hohl­ raum 146.To supply the sample via the sample inlet 18 to the measuring device 14 , the liquid is introduced into the access space 158 via the feed 164 and the capillary 162, the sample inlet valve in particular being closed. There the liquid evaporates so that a gaseous sample is formed. Through openings 10 in the valve plate 44 and the openings 52 of the valve spindle 42 this gaseous sample reaches the cavity 146 .

Nach Abschalten der Zuführung flüssiger Probe wird das Probeneinlaßventil 40 geöffnet, um dem Meßgerät gasförmige aus dem Hohlraum 146 zuzuführen.After the supply of liquid sample has been switched off, the sample inlet valve 40 is opened in order to supply gaseous gases from the cavity 146 to the measuring device.

Während des Reinigungsprozesses wird die Probenzufuhr über die Kapillare 162 in den Zugangsraum 158 abgestellt und die Strömungsräume 154 und 156 mit Prozeßgas gespült sowie der Hohlraum 146 wird mit Prozeßgas gespült. Durch Leistungs­ einkopplung in das Prozeßgas wird ein Plasma gebildet, und wie bereits oben beschrieben führen die dadurch gebildeten reaktiven Ionen zu einer chemischen Umwandlung der Verun­ reinigungen. During the cleaning process, the sample supply is switched off via the capillary 162 into the access space 158 and the flow spaces 154 and 156 are flushed with process gas and the cavity 146 is flushed with process gas. By coupling power into the process gas, a plasma is formed and, as already described above, the reactive ions thus formed lead to a chemical conversion of the contaminants.

Bei der in Fig. 4 gezeigten Variante eines Ausführungs­ beispieles wird die Hochfrequenzleistung kapazitiv in das Prozeßgas eingekoppelt. Es ist auch möglich, die Hoch­ frequenzleistung induktiv oder über Mikrowellen einzukoppeln.In the variant of an embodiment shown in FIG. 4, the high-frequency power is capacitively coupled into the process gas. It is also possible to couple the high-frequency power inductively or via microwaves.

Auf diese Weise läßt sich der Hohlraum 146 von Verunreini­ gungen wie beispielsweise in den Hohlraum 146 hinein ver­ dampfte Proben reinigen.In this way, the cavity 146 can be cleaned of impurities such as, for example, ver vaporized samples into the cavity 146 .

Prinzipiell arbeitet diese Variante einer Ausführungsform genauso wie oben für die anderen Varianten beschrieben.In principle, this variant of an embodiment works exactly as described above for the other variants.

Claims (89)

1. Meßvorrichtung, umfassend ein Meßgerät für insbesondere gasförmige Proben und eine Probeneinlaßvorrichtung, durch welche die Proben dem Meßgerät zuführbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Probeneinlaßvorrichtung (12) mit einer Reinigungs­ einrichtung (116) zur Reinigung von Kontaminations­ bereichen (113) der Probeneinlaßvorrichtung (12) mittels Umwandlung von Verunreinigungen in den Kontaminations­ bereichen (113) durch chemische Reaktion versehen ist und daß die Reaktionsprodukte aus der Probeneinlaßvor­ richtung (12) abführbar sind.1. Measuring device comprising a measuring device for in particular gaseous samples and a sample inlet device through which the samples can be fed to the measuring device, characterized in that the sample inlet device ( 12 ) with a cleaning device ( 116 ) for cleaning contamination areas ( 113 ) of the sample inlet device ( 12 ) by conversion of impurities in the contamination areas ( 113 ) is provided by chemical reaction and that the reaction products can be removed from the sample inlet device ( 12 ). 2. Meßvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigungseinrichtung (116) ein Mittel zur Erzeugung reaktiver Ionen und ein Beaufschlagungsmittel zur Beaufschlagung der Kontaminationsbereiche mit reak­ tiven Ionen umfaßt, wobei Verunreinigungen in den Kontaminationsbereichen (113) durch chemische Reaktion mit den reaktiven Ionen in gasförmige Stoffe überführbar sind.2. Measuring device according to claim 1, characterized in that the cleaning device ( 116 ) comprises a means for generating reactive ions and an exposure means for the exposure of the contamination areas with reactive ions, wherein impurities in the contamination areas ( 113 ) by chemical reaction with the reactive ions can be converted into gaseous substances. 3. Meßvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßvorrichtung (10) eine Pumpe aufweist, mittels welcher die gasförmigen Stoffe aus der Probeneinlaßvor­ richtung (12) abführbar sind. 3. Measuring device according to claim 2, characterized in that the measuring device ( 10 ) has a pump by means of which the gaseous substances from the sample inlet device ( 12 ) can be removed. 4. Meßvorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekenn­ zeichnet, daß ein Prozeßgas durch die Probeneinlaßvor­ richtung (12) führbar ist.4. Measuring device according to claim 2 or 3, characterized in that a process gas can be guided through the sample inlet device ( 12 ). 5. Meßvorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaminationsbereiche (113) mit dem Prozeßgas beaufschlagbar sind.5. Measuring device according to claim 4, characterized in that the contamination areas ( 113 ) can be acted upon by the process gas. 6. Meßvorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Mittel zur Erzeugung reaktiver Ionen eine Gasentladungseinrichtung (116) zur Durchführung einer elektrischen Gasentladung in dem Prozeßgas umfaßt.6. Measuring device according to claim 4 or 5, characterized in that the means for generating reactive ions comprises a gas discharge device ( 116 ) for performing an electrical gas discharge in the process gas. 7. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Prozeßgas Sauerstoff ist.7. Measuring device according to one of claims 4 to 6, characterized characterized in that the process gas is oxygen. 8. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Prozeßgas Luft ist.8. Measuring device according to one of claims 4 to 6, characterized characterized in that the process gas is air. 9. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Prozeßgas ein sauerstofffreies Gas ist.9. Measuring device according to one of claims 4 to 6, characterized characterized in that the process gas is an oxygen-free Is gas. 10. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß dem Prozeßgas Fluor oder Fluor­ verbindungen zumischbar sind. 10. Measuring device according to one of claims 7 to 9, characterized characterized in that the process gas fluorine or fluorine compounds can be mixed.   11. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasentladungseinrichtung als Plasmakammer (116) ausgebildet ist, so daß in der Probeneinlaßvorrichtung (12) ein Plasma bildbar ist, wobei durch das Plasma in der Plasmakammer (116) die Kontaminationsbereiche mit reaktiven Ionen beaufschlag­ bar sind.11. Measuring device according to one of claims 6 to 10, characterized in that the gas discharge device is designed as a plasma chamber ( 116 ), so that a plasma can be formed in the sample inlet device ( 12 ), the contamination areas being caused by the plasma in the plasma chamber ( 116 ) reactive ions can be applied. 12. Meßvorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Gasentladungseinrichtung Hochfrequenz­ leistung in das Prozeßgas zur Bildung des Plasmas in der Plasmakammer (116) einkoppelbar ist.12. Measuring device according to claim 11, characterized in that high-frequency power can be coupled into the process gas to form the plasma in the plasma chamber ( 116 ) by the gas discharge device. 13. Meßvorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Gasentladungseinrichtung (136) Hoch­ frequenzleistung in das Prozeßgas zur Bildung des Plasmas induktiv einkoppelbar ist.13. Measuring device according to claim 11, characterized in that by the gas discharge device ( 136 ) high frequency power can be inductively coupled into the process gas to form the plasma. 14. Meßvorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Gasentladungseinrichtung (120) Mikro­ wellenleistung in das Prozeßgas zur Bildung des Plasmas einkoppelbar ist.14. Measuring device according to claim 11, characterized in that by the gas discharge device ( 120 ) micro wave power can be coupled into the process gas to form the plasma. 15. Meßvorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Plasmakammer (120) durch einen Hohlraumresonator (122) gebildet ist. 15. Measuring device according to claim 14, characterized in that the plasma chamber ( 120 ) is formed by a cavity resonator ( 122 ). 16. Meßvorrichtung nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Mikrowellenleistung über einen Wellen­ leiter (124) in die Plasmakammer (120) einkoppelbar ist.16. Measuring device according to claim 14 or 15, characterized in that the microwave power via a waveguide ( 124 ) in the plasma chamber ( 120 ) can be coupled. 17. Meßvorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Probeneinlaßvorrichtung (12) als Probenanreicherungsstufe ausgebildet ist.17. Measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the sample inlet device ( 12 ) is designed as a sample enrichment stage. 18. Meßvorrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Probeneinlaßvorrichtung (118) ein Anreicherungs­ element (130) aufweist, welches in der Plasmakammer (136) angeordnet ist und dessen Temperatur steuerbar ist.18. Measuring device according to claim 17, characterized in that the sample inlet device ( 118 ) has an enrichment element ( 130 ) which is arranged in the plasma chamber ( 136 ) and whose temperature is controllable. 19. Meßvorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Anreicherungselement (130) mit einem Wärmeüber­ tragungsmedium beaufschlagbar ist, um dessen Temperatur zu steuern.19. Measuring device according to claim 18, characterized in that the enrichment element ( 130 ) can be acted upon with a heat transfer medium to control its temperature. 20. Meßvorrichtung nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekenn­ zeichnet, daß eine Innenelektrode (82) der Plasmakammer (120) als Anreicherungselement ausgebildet ist.20. Measuring device according to claim 18 or 19, characterized in that an inner electrode ( 82 ) of the plasma chamber ( 120 ) is designed as an enrichment element. 21. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Wände (22) der Plasma­ kammer (116) beheizbar sind. 21. Measuring device according to one of claims 11 to 20, characterized in that the walls ( 22 ) of the plasma chamber ( 116 ) are heatable. 22. Meßvorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Probeneinlaßvorrichtung (12) eine Überwachungseinrichtung (112) zum Überwachen des Reinigungsgrades der Kontaminationsbereiche (113) der Probeneinlaßvorrichtung (12) aufweist.22. Measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the sample inlet device ( 12 ) has a monitoring device ( 112 ) for monitoring the degree of cleaning of the contamination areas ( 113 ) of the sample inlet device ( 12 ). 23. Meßvorrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Probeneinlaßvorrichtung (118) ein Durchsichts­ fenster (131) zur Überwachung des Reinigungsgrades der Kontaminationsbereiche aufweist.23. Measuring device according to claim 22, characterized in that the sample inlet device ( 118 ) has a see-through window ( 131 ) for monitoring the degree of cleaning of the contamination areas. 24. Meßvorrichtung nach Anspruch 22 oder 23, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Überwachungseinrichtung (112) so aus­ gebildet und angeordnet ist, daß der Reinigungsgrad mittels Beobachtung des optischen Emissionsspektrums und insbesondere der Beobachtung einzelner charakteri­ stischer optischer Emissionslinien der Reaktionsprodukte der chemischen Reaktion oder möglicher Reaktionsprodukte ermittelbar ist.24. Measuring device according to claim 22 or 23, characterized in that the monitoring device ( 112 ) is formed and arranged so that the degree of cleaning by observation of the optical emission spectrum and in particular the observation of individual characteristic optical emission lines of the reaction products of the chemical reaction or possible Reaction products can be determined. 25. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 22 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßgerät (14) selber als Überwachungseinrichtung eingesetzt ist.25. Measuring device according to one of claims 22 to 24, characterized in that the measuring device ( 14 ) is itself used as a monitoring device. 26. Meßvorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Probeneinlaßvorrichtung (12) an einem Probeneinlaß (18) in das Meßgerät (14) ein Probeneinlaßventil (40) aufweist, dessen Schließdruck einstellbar ist. 26. Measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the sample inlet device ( 12 ) at a sample inlet ( 18 ) in the measuring device ( 14 ) has a sample inlet valve ( 40 ) whose closing pressure is adjustable. 27. Meßvorrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß der Schließdruck stufenlos einstellbar ist.27. Measuring device according to claim 26, characterized in that that the closing pressure is infinitely adjustable. 28. Meßvorrichtung nach Anspruch 26 oder 27, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Schließdruck durch Einstellung einer Federvorspannung einer Ventilfeder (62) einstellbar ist.28. Measuring device according to claim 26 or 27, characterized in that the closing pressure is adjustable by setting a spring preload of a valve spring ( 62 ). 29. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 26 bis 28, dadurch gekennzeichnet, daß ein Einstellmittel (58) für den Schließdruck so angeordnet ist, daß der Schließdruck ohne Demontage des Probeneinlaßventils (40) einstellbar ist.29. Measuring device according to one of claims 26 to 28, characterized in that an adjusting means ( 58 ) for the closing pressure is arranged so that the closing pressure is adjustable without dismantling the sample inlet valve ( 40 ). 30. Meßvorrichtung nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß das Einstellmittel ein Einstellelement (58) umfaßt, welches in einem einem Ventilteller (44) abgewandt ange­ ordneten Gewinde (56) drehbar ist und durch welches die Ventilfeder zur Einstellung der Federvorspannung beauf­ schlagbar ist.30. Measuring device according to claim 29, characterized in that the adjusting means comprises an adjusting element ( 58 ) which is rotatable in a valve plate ( 44 ) facing thread ( 56 ) and through which the valve spring for adjusting the spring preload can be beat. 31. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 26 bis 30, dadurch gekennzeichnet, daß das Probeneinlaßventil (40) elektromagnetisch betätigbar ist.31. Measuring device according to one of claims 26 to 30, characterized in that the sample inlet valve ( 40 ) can be actuated electromagnetically. 32. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 26 bis 31, da­ durch gekennzeichnet, daß der Probeneinlaß (18) bezüg­ lich eines Plasmaraums (114), in dem das Plasma gebildet ist, so angeordnet ist, daß Moleküle und reaktive Ionen aus dem Plasmaraum (114) in die Nähe des Probeneinlasses (18) gelangen können. 32. Measuring device according to one of claims 26 to 31, characterized in that the sample inlet ( 18 ) with respect to a plasma space ( 114 ) in which the plasma is formed is arranged such that molecules and reactive ions from the plasma space ( 114 ) can get close to the sample inlet ( 18 ). 33. Meßvorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßvorrichtung (10) eine Steuerungseinheit (106) aufweist, durch welche die Probenzufuhr zum Meßgerät (14) und die Reinigung der Kontaminationsbereiche (113) der Probeneinlaßvorrichtung (12) steuerbar sind.33. Measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the measuring device ( 10 ) has a control unit ( 106 ) through which the sample supply to the measuring device ( 14 ) and the cleaning of the contamination areas ( 113 ) of the sample inlet device ( 12 ) can be controlled. 34. Meßvorrichtung nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Steuerungseinheit (106) die Probenzu­ führung zum Meßgerät (14) in Abhängigkeit des Reini­ gungsgrades der Probeneinlaßvorrichtung (12) steuerbar ist.34. Measuring device according to claim 33, characterized in that the sample feed to the measuring device ( 14 ) can be controlled by the control unit ( 106 ) depending on the degree of purification of the sample inlet device ( 12 ). 35. Meßvorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Probe der Probeneinlaß­ vorrichtung (12) als gasförmige Probe zuführbar ist.35. Measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the sample of the sample inlet device ( 12 ) can be supplied as a gaseous sample. 36. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 34, da­ durch gekennzeichnet, daß die Probe der Probeneinlaßvor­ richtung (142) als flüssige Probe zuführbar ist.36. Measuring device according to one of claims 1 to 34, characterized in that the sample of the sample inlet device ( 142 ) can be supplied as a liquid sample. 37. Meßvorrichtung nach Anspruch 35, dadurch gekennzeichnet, daß die Zuführung eine Kapillare (162) umfaßt.37. Measuring device according to claim 35, characterized in that the feed comprises a capillary ( 162 ). 38. Meßvorrichtung nach Anspruch 36 oder 37, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Probeneinlaßvorrichtung (142) ein Heizelement (166) zum Verdampfen der flüssigen Probe um­ faßt, um die verdampfte Probe dem Meßgerät (14) zuführ­ bar zu machen. 38. Measuring device according to claim 36 or 37, characterized in that the sample inlet device ( 142 ) comprises a heating element ( 166 ) for vaporizing the liquid sample in order to make the vaporized sample feedable to the measuring device ( 14 ). 39. Meßgerät nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßgerät (14) ein On-line-Ana­ lytikmeßgerät ist.39. Measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the measuring device ( 14 ) is an on-line Ana lytikmeßgerät. 40. Meßgerät nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßgerät (14) eine REMPI-Vor­ richtung oder eine JET-REMPI-Vorrichtung umfaßt.40. Measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the measuring device ( 14 ) comprises a REMPI device or a JET-REMPI device. 41. Verfahren zur Reinigung von Kontaminationsbereichen einer Meßvorrichtung, welche ein Meßgerät für insbeson­ dere gasförmige Proben umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaminationsbereiche mit reaktiven Ionen be­ aufschlagt werden, welche durch chemische Reaktion Ver­ unreinigungen in gasförmige Stoffe überführen und daß die Reaktionsprodukte abgeführt werden.41. Process for cleaning contamination areas a measuring device which a measuring device for in particular whose gaseous samples comprise, characterized in that the contamination areas with reactive ions be be opened, which by chemical reaction Ver convert impurities into gaseous substances and that the reaction products are removed. 42. Verfahren nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaminationsbereiche mit einem Prozeßgas gespült werden.42. The method according to claim 41, characterized in that the contamination areas are flushed with a process gas will. 43. Verfahren nach Anspruch 41 oder 42, dadurch gekennzeich­ net, daß die reaktiven Ionen durch elektrische Gasent­ ladung erzeugt werden.43. The method according to claim 41 or 42, characterized net that the reactive ions by electrical gas ent charge are generated. 44. Verfahren nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, daß die reaktiven Ionen durch elektrische Gasentladung in dem Prozeßgas erzeugt werden, mit welchem die Kontamina­ tionsbereiche beaufschlagt werden. 44. The method according to claim 43, characterized in that the reactive ions through electrical gas discharge in the process gas with which the contaminants are generated areas are applied.   45. Verfahren nach einem der Ansprüche 42 bis 44, dadurch gekennzeichnet, daß als Prozeßgas Sauerstoff eingesetzt wird.45. The method according to any one of claims 42 to 44, characterized characterized in that oxygen is used as the process gas becomes. 46. Verfahren nach einem der Ansprüche 42 bis 44, dadurch gekennzeichnet, daß als Prozeßgas Luft eingesetzt wird.46. The method according to any one of claims 42 to 44, characterized characterized in that air is used as the process gas. 47. Verfahren nach einem der Ansprüche 42 bis 44, dadurch gekennzeichnet, daß als Prozeßgas ein sauerstofffreies Gas eingesetzt wird.47. The method according to any one of claims 42 to 44, characterized characterized in that the process gas is an oxygen-free Gas is used. 48. Verfahren nach einem der Ansprüche 42 bis 47, dadurch gekennzeichnet, daß dem Prozeßgas Fluor zugemischt wird.48. The method according to any one of claims 42 to 47, characterized characterized in that fluorine is added to the process gas. 49. Verfahren nach einem der Ansprüche 41 bis 48, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaminationsbereiche einer Probeneinlaßvorrichtung der Meßvorrichtung, mittels welcher die Proben dem Meßgerät zugeführt werden, mit reaktiven Ionen beaufschlagt werden.49. The method according to any one of claims 41 to 48, characterized characterized in that the contamination areas of a Sample inlet device of the measuring device, by means of which the samples are fed to the measuring device with reactive ions are applied. 50. Verfahren nach Anspruch 49, dadurch gekennzeichnet, daß die reaktiven Ionen im wesentlichen die inneren Ober­ flächen der Probeneinlaßvorrichtung beaufschlagen, welche durch Verunreinigungen kontaminierbar sind.50. The method according to claim 49, characterized in that the reactive ions essentially the inner upper act on the surfaces of the sample inlet device, which are contaminated by impurities. 51. Verfahren nach einem der Ansprüche 44 bis 50, dadurch gekennzeichnet, daß in der Probeneinlaßvorrichtung ein Plasma in einem Plasmaraum zur Erzeugung der reaktiven Ionen gebildet wird, wobei das Plasma im wesentlichen die Kontaminationsbereiche der Probeneinlaßvorrichtung beaufschlagt.51. The method according to any one of claims 44 to 50, characterized characterized in that in the sample inlet device Plasma in a plasma room to generate the reactive  Ions are formed, the plasma essentially the contamination areas of the sample inlet device acted upon. 52. Verfahren nach Anspruch 51, dadurch gekennzeichnet, daß die Probeneinlaßvorrichtung eine Plasmakammer umfaßt, wobei das Plasma in einem Innenraum der Plasmakammer gebildet wird, welcher im wesentlichen die Kontamina­ tionsbereiche umfaßt.52. The method according to claim 51, characterized in that the sample inlet device comprises a plasma chamber, wherein the plasma in an interior of the plasma chamber which essentially forms the contamina tion areas. 53. Verfahren nach Anspruch 51 oder 52, dadurch gekennzeich­ net, daß die Leistung zur Bildung des Plasmas der Probeneinlaßvorrichtung als Wechselstromleistung zuge­ führt wird.53. The method according to claim 51 or 52, characterized net that the power to form the plasma of the Sample inlet device supplied as AC power leads. 54. Verfahren nach Anspruch 53, dadurch gekennzeichnet, daß in das Prozeßgas zur Plasmabildung elektrische Hoch­ frequenzleistung kapazitiv oder über einen Transformator eingekoppelt wird.54. The method according to claim 53, characterized in that electrical high in the process gas for plasma formation frequency power capacitive or via a transformer is coupled. 55. Verfahren nach Anspruch 53, dadurch gekennzeichnet, daß in das Prozeßgas elektrische Hochfrequenzleistung induk­ tiv eingekoppelt wird.55. The method according to claim 53, characterized in that in the process gas electrical high-frequency power induc tiv is coupled. 56. Verfahren nach Anspruch 53, dadurch gekennzeichnet, daß in das Prozeßgas Mikrowellenleistung zur Bildung des Plasmas eingekoppelt wird, wobei die Plasmakammer als Hohlraumresonator ausgebildet ist. 56. The method according to claim 53, characterized in that in the process gas microwave power to form the Plasmas is coupled, the plasma chamber as Cavity resonator is formed.   57. Verfahren nach Anspruch 54, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasma in einem Plasmaraum zwischen einer Innen­ elektrode und inneren Oberflächen der Plasmakammer erzeugt wird.57. The method according to claim 54, characterized in that the plasma in a plasma room between an inside electrode and inner surfaces of the plasma chamber is produced. 58. Verfahren nach einem der Ansprüche 41 bis 57, dadurch gekennzeichnet, daß ein Reinigungsgrad der Kontamina­ tionsbereiche überwacht oder überprüft wird.58. The method according to any one of claims 41 to 57, characterized characterized that a degree of purification of the Kontamina areas is monitored or checked. 59. Verfahren nach Anspruch 58, dadurch gekennzeichnet, daß die Überwachung des Reinigungsgrades als Echtzeitüber­ wachung erfolgt.59. The method according to claim 58, characterized in that monitoring the degree of cleaning as a real-time watch is done. 60. Verfahren nach Anspruch 58 oder 59, dadurch gekennzeich­ net, daß das optische Emissionsspektrum und insbesondere charakteristische optische Emissionslinien von Reak­ tionsprodukten oder möglichen Reaktionsprodukten über­ wacht werden.60. The method according to claim 58 or 59, characterized net that the optical emission spectrum and in particular characteristic optical emission lines from Reak tion products or possible reaction products be watched over. 61. Verfahren nach einem der Ansprüche 58 bis 60, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßgerät selber zur Überwachung oder Überprüfung des Reinigungsgrades der Kontamina­ tionsbereiche eingesetzt wird.61. The method according to any one of claims 58 to 60, characterized characterized that the measuring device itself for monitoring or checking the degree of cleaning of the contamina areas is used. 62. Verfahren nach einem der Ansprüche 41 bis 61, dadurch gekennzeichnet, daß der Reinigungsprozeß der Kontamina­ tionsbereiche zeitlich gesteuert erfolgt. 62. The method according to any one of claims 41 to 61, characterized characterized that the cleaning process of the Kontamina areas are timed.   63. Verfahren nach einem der Ansprüche 49 bis 62, dadurch gekennzeichnet, daß während der Durchführung des Reini­ gungsprozesses die Probenzuführung zur Probeneinlaßvor­ richtung gesperrt wird.63. The method according to any one of claims 49 to 62, characterized characterized in that during the implementation of the Reini supply process to the sample inlet direction is blocked. 64. Verfahren nach einem der Ansprüche 49 bis 63, dadurch gekennzeichnet, daß während der Durchführung des Reini­ gungsprozesses Prozeßgas durch die Probeneinlaßvorrich­ tung geführt wird und diese Prozeßgasführung bei Beendi­ gung des Reinigungsprozesses gesperrt wird.64. The method according to any one of claims 49 to 63, characterized characterized in that during the implementation of the Reini process gas through the sample inlet device tion is performed and this process gas flow at the end the cleaning process is blocked. 65. Verfahren nach Anspruch 44, dadurch gekennzeichnet, daß bei Beendigung des Reinigungsprozesses das Prozeßgas aus der Probeneinlaßvorrichtung abgepumpt wird.65. The method according to claim 44, characterized in that the process gas at the end of the cleaning process the sample inlet device is pumped out. 66. Verfahren nach einem der Ansprüche 62 bis 65, dadurch gekennzeichnet, daß die Erzeugung der reaktiven Ionen zeitlich gesteuert wird.66. The method according to any one of claims 62 to 65, characterized characterized in that the generation of reactive ions is timed. 67. Verfahren nach Anspruch 66, dadurch gekennzeichnet, daß bei Beendigung des Reinigungsprozesses die Leistungsein­ kopplung in das Prozeßgas zur Erzeugung reaktiver Ionen abgeschaltet wird.67. The method according to claim 66, characterized in that performance at the end of the cleaning process Coupling into the process gas to generate reactive ions is switched off. 68. Verfahren nach einem der Ansprüche 58 bis 67, dadurch gekennzeichnet, daß eine Beendigung des Reinigungs­ prozesses durch den Reinigungsgrad der Kontaminations­ bereiche, welcher überwacht wird, gesteuert wird. 68. The method according to any one of claims 58 to 67, characterized characterized that an end to cleaning process by the degree of cleaning of the contamination areas that are monitored are controlled.   69. Verfahren nach einem der Ansprüche 49 bis 68, dadurch gekennzeichnet, daß ein Probeneinlaß der Probeneinlaß­ vorrichtung in das Meßgerät durch ein Probeneinlaßventil zeitlich gesteuert wird.69. The method according to any one of claims 49 to 68, characterized characterized in that a sample inlet is the sample inlet device into the meter through a sample inlet valve is timed. 70. Verfahren nach Anspruch 69, dadurch gekennzeichnet, daß während des Reinigungsprozesses der Kontaminations­ bereiche der Probeneinlaß in das Meßgerät durch das Probeneinlaßventil geschlossen wird.70. The method according to claim 69, characterized in that during the cleaning process of contamination areas of sample entry into the meter through the Sample inlet valve is closed. 71. Verfahren nach Anspruch 69 oder 70, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Schließdruck des Probeneinlaßventils einstellbar und insbesondere stufenlos einstellbar ist.71. The method according to claim 69 or 70, characterized records that the closing pressure of the sample inlet valve adjustable and in particular continuously adjustable. 72. Verfahren nach einem der Ansprüche 69 bis 71, dadurch gekennzeichnet, daß der Probeneinlaß bezüglich des Plasmaraums so angeordnet ist, daß im Plasma gebildete Moleküle und reaktive Ionen in die Nähe des Proben­ einlasses gelangen können.72. The method according to any one of claims 69 to 71, characterized characterized in that the sample inlet with respect to the Plasma room is arranged so that formed in the plasma Molecules and reactive ions near the sample can enter. 73. Verfahren nach einem der Ansprüche 49 bis 72, dadurch gekennzeichnet, daß die Probeneinlaßvorrichtung als Probenanreicherungsstufe ausgebildet ist.73. The method according to any one of claims 49 to 72, characterized characterized in that the sample inlet device as Sample enrichment level is formed. 74. Verfahren nach einem der Ansprüche 42 bis 73, dadurch gekennzeichnet, daß ein Anreicherungselement, welches im Plasmaraum angeordnet ist, von einem Wärmeübertragungs­ medium beaufschlagt wird, um die Temperatur des An­ reicherungselementes zu steuern, so daß an dem An­ reicherungselement in Abhängigkeit der Temperatur Proben kondensieren oder desorbieren können. 74. The method according to any one of claims 42 to 73, characterized characterized in that an enrichment element, which in Plasma room is arranged by a heat transfer medium is applied to the temperature of the on to control enrichment element, so that at the An enrichment element depending on the temperature samples can condense or desorb.   75. Verfahren nach Anspruch 74, dadurch gekennzeichnet, daß bei kapazitiver Einkopplung von Hochfrequenzleistung in das Prozeßgas zur Plasmabildung das Anreicherungselement durch die Innenelektrode der Plasmakammer gebildet wird.75. The method according to claim 74, characterized in that with capacitive coupling of high frequency power in the process gas for plasma formation the enrichment element is formed by the inner electrode of the plasma chamber. 76. Verfahren nach einem Ansprüche 51 bis 75, dadurch gekennzeichnet, daß die Plasmakammer und insbesondere Wände der Plasmakammer geheizt werden.76. The method according to any one of claims 51 to 75, characterized characterized in that the plasma chamber and in particular Walls of the plasma chamber are heated. 77. Verfahren nach einem der Ansprüche 49 bis 76, dadurch gekennzeichnet, daß die Probe, welche der Probeneinlaß­ vorrichtung zugeführt wird, gasförmig ist.77. The method according to any one of claims 49 to 76, characterized characterized in that the sample which the sample inlet device is supplied, is gaseous. 78. Verfahren nach einem der Ansprüche 49 bis 77, dadurch gekennzeichnet, daß die Probe, welche der Probeneinlaß­ vorrichtung zugeführt wird, flüssig ist.78. The method according to any one of claims 49 to 77, characterized characterized in that the sample which the sample inlet device is supplied, is liquid. 79. Verfahren nach Anspruch 78, daß die flüssige Probe in einer Kapillare zugeführt wird.79. The method of claim 78, that the liquid sample in a capillary is supplied. 80. Verfahren nach Anspruch 78 oder 79, dadurch gekennzeich­ net, daß die Flüssigkeit in der Probeneinlaßvorrichtung verdampft wird.80. The method according to claim 78 or 79, characterized net that the liquid in the sample inlet device is evaporated. 81. Verfahren nach einem der Ansprüche 41 bis 80, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßgerät ein On-line-Analytik- Meßgerät ist. 81. The method according to any one of claims 41 to 80, characterized characterized in that the measuring device is an on-line analytical Measuring device is.   82. Verfahren nach einem der Ansprüche 41 bis 81, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßgerät eine REMPI-Vorrichtung oder eine JET-REMPI-Vorrichtung umfaßt.82. The method according to any one of claims 41 to 81, characterized characterized in that the measuring device is a REMPI device or a JET-REMPI device. 83. Probeneinlaßventil, welches in einer Probeneinlaßvor­ richtung angeordnet ist und zum Schließen eines Proben­ einlasses der Probeneinlaßvorrichtung in ein Meßgerät für die Proben dient, dadurch gekennzeichnet, daß ein Schließdruck des Probeneinlaßventiles (60) einstellbar ist.83. Sample inlet valve which is arranged in a sample inlet device and serves to close a sample inlet of the sample inlet device in a measuring device for the samples, characterized in that a closing pressure of the sample inlet valve ( 60 ) is adjustable. 84. Probeneinlaßventil nach Anspruch 83, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Schließdruck stufenlos einstellbar ist.84. Sample inlet valve according to claim 83, characterized records that the closing pressure is infinitely adjustable is. 85. Probeneinlaßventil nach Anspruch 83 oder 84, dadurch gekennzeichnet, daß das Probeneinlaßventil (40) ein Ein­ stellmittel (58) zur Einstellung des Schließdruckes auf­ weist, welches so angeordnet ist, daß zur Einstellung des Schließdruckes eine Demontage des Probeneinlaß­ ventiles (40) nicht erforderlich ist.85. Sample inlet valve according to claim 83 or 84, characterized in that the sample inlet valve ( 40 ) has an adjusting means ( 58 ) for adjusting the closing pressure, which is arranged so that the dismantling of the sample inlet valve ( 40 ) is not for adjusting the closing pressure is required. 86. Probeneinlaßventil nach Anspruch 85, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Einstellmittel (58) einem Ventilteller (44) des Probeneinlaßventils (40) abgewandt angeordnet ist.86. Sample inlet valve according to claim 85, characterized in that the adjusting means ( 58 ) is arranged facing away from a valve plate ( 44 ) of the sample inlet valve ( 40 ). 87. Probeneinlaßventil nach Anspruch 86, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Einstellmittel (58) durch ein in einem Gewinde (56) drehbares Einstellelement gebildet ist, durch welches eine Ventilfeder (62) zur Einstellung einer Ventilfedervorspannung beaufschlagbar ist.87. Sample inlet valve according to claim 86, characterized in that the adjusting means ( 58 ) is formed by an adjusting element which can be rotated in a thread ( 56 ) and through which a valve spring ( 62 ) can be acted upon for adjusting a valve spring preload. 88. Probeneinlaßventil nach einem der Ansprüche 83 bis 87, dadurch gekennzeichnet, daß das Probeneinlaßventil (40) elektromagnetisch betätigbar ist.88. Sample inlet valve according to one of claims 83 to 87, characterized in that the sample inlet valve ( 40 ) can be actuated electromagnetically. 89. Probeneinlaßventil nach einem der Ansprüche 83 bis 88, gekennzeichnet durch seine Verwendung in einer Meßvor­ richtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 25, 32 bis 40.89. Sample inlet valve according to one of claims 83 to 88, characterized by its use in a measuring device Direction according to one of claims 1 to 25, 32 to 40.