DE19650752C1 - Sintered copper@-chromium@ vacuum contact material - Google Patents

Abstract

A powder metallurgically produced article of a Cu-Cr vacuum contact material, of composition 20-60 wt.% Cr, balance Cu and impurities, has a geometric surface pattern of regions with a finer grain structure than that of the powder metallurgical base material. The article has a disc or flat ring shape and the regions have a conical shape extending from the surface down to a depth of 90% of the article thickness. Also claimed is a method of producing the above article by directing energetic radiation (an electron beam, arc or laser beam) in the form of a geometrical pattern onto one or both main surfaces of the article.

Description

Die Erfindung betrifft pulvermetallurgisch hergestellte Formkörper aus Kupfer-Chrom-Kontaktwerkstoffen, die auf min­ destens einer Oberfläche ein geometrisches Muster aus Bereichen mit einer feinkörnig umgewandelten Gefügestruktur aufweisen. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Schaltkontakte in Schaltkammern von elektrischen Vakuumschaltern.The invention relates to powder metallurgy Shaped body made of copper-chrome contact materials, which min at least one surface a geometric pattern from areas with a have a fine-grained microstructure. Further The invention relates to a method for their production and their use as switch contacts in Switching chambers of electrical vacuum switches.

Vakuumkontakte bilden das Herzstück in Schaltkam­ mern bei elektrischen Vakuumschaltern. An die Eigenschaften der Kontaktwerkstoffe werden hohe Anforderungen gestellt wie:Vacuum contacts form the heart of Schaltkam with electrical vacuum switches. The properties high demands are made on the contact materials how:

• - geringer Materialabbrand- low material burn-off
• - ausreichendes Schaltvermögen,- sufficient switching capacity,
• - geringe Schweißneigung - low tendency to sweat  
• - niedriger elektrischer Widerstand,- low electrical resistance,
• - gute Durchschlagfestigkeit (Spannungsfestigkeit),- good dielectric strength (dielectric strength),
• - niedriger Abreißstrom.- low breaking current.

Für Vakuum-Leistungsschalter haben sich CuCr-Werkstoffe als besonders brauchbar erwiesen. Sie bieten eine befriedi­ gende Kombination von hoher Schweißsicherheit, hohem Aus­ schaltvermögen und geringer Kontakterwärmung. Bei diesen Werkstoffen handelt es sich um gasarme metallische Verbunde, die pulvermetallurgisch hergestellt werden, mit Cr-Körnern < 250 µm, insbesondere < 160 µm eingebettet in einer Cu-Ma­ trix.CuCr materials are suitable for vacuum circuit breakers proven to be particularly useful. They offer a satisfaction combination of high welding security, high performance switching capacity and low contact heating. With these Materials are low-gas metallic composites, which are produced by powder metallurgy with Cr grains <250 µm, in particular <160 µm embedded in a Cu-Ma trix.

Bei Untersuchungen zum Einfluß der Korngröße der Cr-Körner auf die Schalteigenschaften des CuCr-Werkstoffes wurde festgestellt, daß feine Cr-Körner sich vorteilhaft auf den Abreißstrom und die Spannungsfestigkeit auswirken; vgl. Rie­ der et al. "The Influence of Composition and Cr Particle Size of CuCr-Contacts on Chopping Current, Contact Resistance and Breakdown Voltage in Vacuum Interrupters", IEEE Trans, Vol. CHMT-12, (1989), S. 273-283. Folgende Ver­ fahren zur Herstellung feinkörniger Modifikationen des Standardwerkstoffes sind bekannt:
DE 30 50 651 A1 beschreibt eine flächige Erzeugung einer feinkörnigen Oberfläche mittels eines Wärmestroms von 10⁴- 10⁶ W/cm². Als nachteilig hat sich hierbei erwiesen, daß durch den konzentrierten und flächigen Wärmeeintrag der CuCr-Werkstoff außerordentlich leicht zu Porenbildung neigt. Diese wiederum sind für einen Vakuumwerkstoff in jedem Falle zu vermeiden. Technisch konnte sich daher dieses Verfahren nicht durchsetzen.In investigations of the influence of the grain size of the Cr grains on the switching properties of the CuCr material, it was found that fine Cr grains have an advantageous effect on the tear-off current and the dielectric strength; see. Rie der et al. "The Influence of Composition and Cr Particle Size of CuCr-Contacts on Chopping Current, Contact Resistance and Breakdown Voltage in Vacuum Interrupters", IEEE Trans, Vol. CHMT-12, (1989), pp. 273-283. The following processes for producing fine-grained modifications of the standard material are known:
DE 30 50 651 A1 describes a flat production of a fine-grained surface by means of a heat flow of 10⁴-10⁶ W / cm². It has proven to be disadvantageous that the CuCr material tends to pore formation extremely easily due to the concentrated and flat heat input. These, in turn, must be avoided in any case for a vacuum material. Technically, this process could not prevail.

EP 115 292 A2 beschreibt das Abschmelzen eines CuCr-Blocks und Abschrecken in einer wassergekühlten Kupferkokille. Das Material erstarrt mit fein verteilt ausgeschiedenen Chrom­ dendriten, frei von Fehlstellen und ohne Lunker. Nachteilig bei dieser Herstellungsart ist der damit verbundene außeror­ dentlich hohe technische Aufwand und somit die sehr hohen Kosten. In der industriellen Praxis wird diese Methode bis­ her nur punktuell angewandt.EP 115 292 A2 describes the melting of a CuCr block and quenching in a water-cooled copper mold. The Material solidifies with finely divided chrome dendrites, free of defects and without voids. Disadvantageous  with this type of production, the associated is extraordinary technically high technical effort and thus the very high Costs. In industrial practice, this method is used up only applied selectively.

Im Schalterbau behilft man sich zur Zeit weitgehend durch eine Aufbereitung der grobkörnigen CuCr-Kontaktoberfläche mittels einer sogenannten Formierung. Die fertig montierte und evakuierte Schaltkammer wird unter Schaltbedingungen mit einer elektrischen Leistung beaufschlagt. Hierbei entsteht sozusagen in situ eine feinkörnige CuCr-Oberfläche.At the moment, switch building is largely being helped a preparation of the coarse-grained CuCr contact surface by means of a so-called formation. The fully assembled and evacuated switching chamber is used under switching conditions of an electrical power. This creates a fine-grained CuCr surface, so to speak.

Auch dieses Verfahren ist technisch aufwendig, muß beim Schalterbauer durchgeführt werden, verlangt eine spezielle elektromechanische Schalteinrichtung und führt somit zu einer Verteuerung des zu vertreibenden Produktes.This method is also technically complex and must be used for Switch manufacturers are carried out requires a special electromechanical switching device and thus leads to an increase in the price of the product to be distributed.

Eine Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, Formkörper aus Kupfer-Chrom-Kontaktwerkstoffen bereitzustellen, die eine Gefügestruktur mit feinkörnigen Cr-Körnern ohne Poren, Fehl­ stellen oder Lunker aufweisen und somit die vorstehend er­ wähnten, an elektrische Vakuumschalter gestellten hohen An­ forderungen erfüllen können.An object of the invention is therefore to make molded articles To provide copper-chromium contact materials that a Microstructure with fine-grained Cr grains without pores, faulty place or have voids and thus the above he mentioned high demands placed on electrical vacuum switches can meet requirements.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung solcher Formkörper aus Kup­ fer-Chrom-Kontaktwerkstoffen, das in einfacher und wirt­ schaftlicher Weise durchgeführt werden kann.Another object of the invention is to provide a process for the production of such molded articles from copper fer-chrome contact materials that are simple and economical can be carried out economically.

Diese Aufgaben wurden erfindungsgemäß auf der Basis des überraschenden Befundes gelöst, daß Formkörper aus Kupfer- Chrom-Kontaktwerkstoffen mit einer hochwertigen Oberflächen­ struktur mit Bereichen mit feinem Cr-Korngefüge ohne Poren, Fehlstellen oder Lunker erhalten werden können, wenn die Um­ wandlung des pulvermetallurgisch hergestellten Basiswerk­ stoffs durch Energieeintrag nicht großflächig, sondern in Form eines geometrischen Musters (linienförmig) vorgenommen wird. Ein wesentlicher Grund für die dabei stattfindende Entstehung fehlerfreier feinkörniger Bereiche ist vermutlich darin zu sehen, daß die in den Werkstoff eingebrachte Energie leicht und rasch in die Umgebung des umgeformten Bereichs abgeführt wird.These tasks were inventively based on the Surprising finding solved that molded bodies made of copper Chrome contact materials with a high-quality surface structure with areas with fine Cr grain structure without pores, Void or blow holes can be obtained if the order conversion of the powder metallurgy base plant not through a large area of energy, but in the form of a geometric pattern (linear) is made. An essential one  Reason for the occurrence of errors fine - grained areas can probably be seen in the fact that the energy introduced into the material easily and quickly the surroundings of the formed area are dissipated.

Gegenstand der Erfindung sind somit pulvermetallurgisch her­ gestellte, insbesondere flächige Formkörper aus einem Kupfer- Chrom-Vakuumkontaktwerkstoff mit 20 bis 60 Gew.-% Cr, Rest Cu und unvermeidliche Verunreinigungen, die dadurch gekenn­ zeichnet sind, daß sie auf mindestens einer Hauptoberfläche ein geometrisches Muster aus Bereichen mit einer Gefügestruktur aufweisen, die feinkörniger als diejenige des pulvermetallurgischen Ba­ siswerkstoffes ist.The invention thus relates to powder metallurgy provided, in particular flat shaped articles made of a copper Chrome vacuum contact material with 20 to 60 wt .-% Cr, rest Cu and inevitable impurities, which are characterized records that they are on at least one main surface have a geometric pattern of areas with a structure, which are more fine-grained than that of powder metallurgical Ba sis material.

Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung der genannten Formkörper, das dadurch gekenn­ zeichnet ist, daß man eine energiereiche Strahlung in Form eines geometrisches Musters auf mindestens eine Hauptoberfläche eines pulverme­ tallurgisch hergestellten Formkörpers aus einem Kupfer- Chrom-Vakuumkontaktwerkstoff mit 20 bis 60 Gew.-% Cr, Rest Cu und unvermeidbare Verunreinigungen einwirken läßt.Another object of the invention is a method for Production of the moldings mentioned, characterized thereby is that you have high-energy radiation in the form of a geometric pattern on at least one main surface of a powder molded body made from a copper Chrome vacuum contact material with 20 to 60 wt .-% Cr, rest Cu and unavoidable impurities.

Schließlich ist Gegenstand der Erfindung auch die Verwendung der genannten Formkörper als elektrische Vakuumschalter.Finally, the subject of the invention is also the use of the moldings mentioned as electrical vacuum switches.

Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung sind in den Un­ teransprüchen beschrieben. Als energiereiche Strahlung kom­ men insbesondere Elektronenstrahlen, Lichtbogen und Laser in Betracht.Preferred embodiments of the invention are in the Un Described claims. Com as high-energy radiation especially electron beams, arcs and lasers Consideration.

In der beiliegenden Zeichnung zeigen:The attached drawing shows:

Fig. 1 eine schematische Darstellung der Führung eines energiereichen Strahls (Elektronenstrahls) in einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung, bei der auf der Oberfläche einer Scheibe aus pulvermetallur­ gisch hergestelltem Kupfer-Chrom-Kontaktwerkstoff ein spiralförmiger Bereich mit feinkörniger Gefüge­ struktur hergestellt wird; Figure 1 is a schematic representation of the guidance of a high-energy beam (electron beam) in a preferred embodiment of the invention, in which a spiral region with a fine-grained structure structure is made on the surface of a disk made of powder-metallically copper-chromium contact material.

Fig. 2 eine photographische Aufnahme (Vergrößerung 100 : 1) des pulvermetallurgisch hergestellten Werkstoffs, auf der die in einer Kupfermatrix verteilten Chrom­ metall-Teilchen zu sehen sind; Fig. 2 is a photograph (magnification 100: 1) of the powder metallurgy material, on which the chrome particles distributed in a copper matrix can be seen;

Fig. 3 eine photographische Aufnahme (Vergrößerung 500 : 1) des Bereichs mit der feinkörnigen Gefügestruktur, in dem feine Cr-Dendriten in eine Cu-Matrix eingebettet sind; Fig. 3 is a photograph (magnification 500: 1) of the region with the fine-grained microstructure in which fine Cr dendrites are embedded in a Cu matrix;

Fig. 4 eine photographische Aufnahme (Vergrößerung 13 : 1) der Querschnittfläche eines Formkörpers der Erfin­ dung, auf der die keilförmig in den pulvermetallur­ gisch hergestellten Basiswerkstoff eindringenden Be­ reiche mit feinkörniger Gefügestruktur zu erkennen sind; Fig. 4 is a photograph (magnification 13: 1) of the cross-sectional area of a shaped body of the inven tion, on which the wedge-shaped penetrating into the powder metallurgically manufactured base material Be rich with fine-grained structure can be seen;

Fig. 5 eine photographische Aufnahme (Vergrößerung 5 : 1) der Oberfläche eines Formkörpers der Erfindung mit spi­ ralförmig ausgebildeten Bereichen mit feinkörniger Gefügestruktur. Fig. 5 is a photograph (magnification 5: 1) of the surface of a molded body of the invention with spiral-shaped areas with a fine-grained structure.

Nachstehend wird nun die Erfindung im Einzelnen erläutert. Als erster Schritt zur Herstellung der erfindungsgemäßen Formkörper werden Kupfer-Chrom-Formkörper auf pulvermetall­ urgischem Wege hergestellt. Gängige Formen sind flächige Körper, wie Scheiben, die mittig eine Vertiefung aufweisen können, oder Ringe, mit einem Durchmesser bis etwa 130 mm und einer Dicke bis etwa 20 mm. In einer dem Fachmann bekannten Art und Weise werden dazu zunächst die metallischen Rohstoffe Kupferpulver und Chrompulver in einem Verhältnis von 20 bis 60 Gew.-% Cr, vorzugsweise 25 bis 50 Gew.-% Cr, Rest Cu gemischt, dann zum gewünschten Formkörper gepreßt und in fester oder flüssiger Phase unter Vakuum ge­ sintert. Der dicht gesinterte Werkstoff enthält gleichmäßig in einer Kupfermatrix verteilte Chrommetallpartikel mit einer Korngröße < 250 µm (vgl. Fig. 2). Der letzte Arbeits­ schritt ist eine spangebende Bearbeitung. The invention will now be explained in detail below. As a first step in the production of the moldings according to the invention, copper-chromium moldings are manufactured using the powder metal method. Common forms are flat bodies, such as disks, which can have a recess in the center, or rings, with a diameter of up to about 130 mm and a thickness of up to about 20 mm. In a manner known to the person skilled in the art, the metallic raw materials copper powder and chrome powder are first mixed in a ratio of 20 to 60% by weight of Cr, preferably 25 to 50% by weight of Cr, the remainder being Cu, then pressed to the desired shaped body and sintered in solid or liquid phase under vacuum. The densely sintered material contains chrome metal particles with a grain size of <250 µm evenly distributed in a copper matrix (cf. FIG. 2). The last step is machining.

Der so erhaltene Formkörper wird auf der Kontaktseite li­ nienförmig oder in Form eines geometrischen Musters in der Weise umgeschmolzen, daß eine Gefügestruktur mit feinkörnigen neben gesinterten Bereichen des Basiswerkstoffes entsteht. Dies erfolgt durch Einwirkung energiereicher Strahlung, vorzugsweise mittels eines Elek­ tronenstrahls, die eine hohe Energieflächendichte von 10⁶ bis 10⁸, vorzugsweise etwa 10⁷ W/cm² aufweist. Die Strahl­ breite kann 0,3 bis 5,0 mm betragen.The molded body thus obtained is left on the contact side remelted in the shape of a kidney or in the form of a geometric pattern in such a way that a Microstructure with fine-grained and sintered areas of the base material is created. This is done through action high-energy radiation, preferably by means of an elec tronenstrahls, which has a high energy density of 10⁶ to 10⁸, preferably about 10⁷ W / cm². The beam width can be 0.3 to 5.0 mm.

Die durch Einwirkung der energiereichen Strahlung erhaltene feinkörnige Gefügestruktur erstreckt sich keilförmig von der Oberfläche in das Innere des Basiswerkstoffes (vgl. Fig. 4) bis zu einer Tiefe von etwa maximal 90%, vorzugsweise 60% der Dicke des Formkörpers. Die feinkörnige Gefügestruktur weist an der Oberfläche eine Breite von mindesten 0,3 mm, vorzugsweise 1 bis 3 mm, die Bereiche mit der Struktur des Basiswerkstoffs eine Breite von höchstens 10 mm, vorzugs­ weise von 0,5 bis 3 mm auf. Das Flächenverhältnis der fein­ körnigen Bereiche zu denjenigen des Basiswerkstoffs beträgt an der Oberfläche max. 1 : 10 (vorzugsweise 1 : 1). Bei einer möglichen Ausführungsform überschneiden sich die Bereiche mit feinkörniger Gefügestruktur an der Oberfläche, d. h. die behandelte Oberfläche ist vollständig feinkörnig, während darunter keilförmige feinkörnige Bereiche in dem pulverme­ tallurgischen Basiswerkstoff vorliegen.The fine-grained microstructure obtained by the action of the high-energy radiation extends in a wedge shape from the surface into the interior of the base material (cf. FIG. 4) to a depth of approximately 90%, preferably 60%, of the thickness of the molded body. The fine-grained structure has a width of at least 0.3 mm, preferably 1 to 3 mm, the areas with the structure of the base material a width of at most 10 mm, preferably 0.5 to 3 mm. The area ratio of the fine-grained areas to those of the base material is max. 1:10 (preferably 1: 1). In one possible embodiment, the areas with a fine-grained structure overlap on the surface, ie the treated surface is completely fine-grained, while wedge-shaped fine-grained areas are present in the powder-metallurgical base material.

Überraschenderweise hat sich gezeigt, daß das feinkörnige Gefüge im Gegensatz zu einer flächenförmigen Aufschmelzung im Schmelzkanal homogen, feinkörnig und porenfrei erstarrt. Der Wärmeeintrag bleibt immer weitgehend punktuell, eine Überhitzung des Werkstoffs mit einer damit verbundenen Nei­ gung zur Porenbildung wird vermieden. Die eingetragene Wärme wird rasch in die umgebenden, nicht vom direkten Wärmeein­ trag betroffenen Bereiche abgeleitet. Die entstehende fein­ körnige Gefügestruktur umfaßt Cr-Dendriten mit einem Durch­ messer von 0,5 bis 100 µm in einer kontinuierlichen Cu-Matrix. Vorzugsweise entstehen äußerst feinkörnige Cr-Aus­ scheidungen von 1 bis 3 µm (vgl. Fig. 3). Die feinkörnige Cr-Ausscheidung führt zu einem unerwarteten Härte-Anstieg von ursprünglich ca. 90 Härte Vickers (HV) (Basiswerkstoff) auf 120 bis 170 HV (feinkörnige Struktur). Eine höhere Ge­ samthärte bedeutet einen technologischen Vorteil durch hö­ here Standfestigkeit gegen Verformung bei hohen Schaltspie­ len.Surprisingly, it has been shown that the fine-grained structure solidifies homogeneously, fine-grained and pore-free in contrast to a flat melting in the melting channel. The heat input always remains largely selective, overheating of the material with an associated tendency to form pores is avoided. The heat input is quickly dissipated into the surrounding areas not affected by the direct heat input. The resulting fine-grained structure includes Cr dendrites with a diameter of 0.5 to 100 µm in a continuous Cu matrix. Extremely fine-grained Cr precipitates of 1 to 3 µm are preferably formed (see FIG. 3). The fine-grained Cr precipitation leads to an unexpected increase in hardness from originally approx. 90 Vickers (HV) hardness (base material) to 120 to 170 HV (fine-grained structure). A higher total hardness means a technological advantage through higher stability against deformation at high switching spindles.

Ein besonderer Vorteil des Verfahrens der Erfindung liegt darin, daß der Elektronenstrahl frei programmierbar ist und die Oberfläche in beliebigen Mustern abrastern kann. Sämtli­ che oben genannten geometrischen Maßgaben wie Strahlbreite, Strahlform und Eindringtiefe werden durch die Parameter der Elektronenstrahlsteuerung wie Strahlstrom, Beschleunigungs­ spannung, Geschwindigkeit und Strahlfokus bestimmt.A particular advantage of the method of the invention lies in that the electron beam is freely programmable and the surface can scan in any pattern. Samtli above geometrical specifications such as beam width, Beam shape and depth of penetration are determined by the parameters of the Electron beam control such as beam current, acceleration voltage, speed and beam focus determined.

Durch eine spiralförmige Führung des Elektronenstrahls kom­ men Ein- und Auslauf des Strahls ohne Absetzen auf dem äuße­ ren Umfang der Scheibe bzw. beim Ring am äußeren und inneren Durchmesser zu liegen. Auf diese Weise können die zwangsläu­ fig bei Ein- und Auslauf auftretenden Poren durch Überdrehen der Kanten auf einfache Weise entfernt werden.Com by spiraling the electron beam In and out of the jet without settling on the outside ren circumference of the disc or the ring on the outer and inner Diameter to lie. In this way, the inevitable fig at pores appearing at inlet and outlet by overtightening the edges can be removed easily.

Das folgende, nicht einschränkende Beispiel erläutert eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung.The following non-limiting example illustrates one preferred embodiment of the invention.

Beispielexample

Eine aus Kupfer- und Chrom-Metallpulver mit der Zusammenset­ zung 75 Gew.-% Cu und 25 Gew.-% Cr hergestellte Scheibe mit 46 mm Durchmesser und 5 mm Stärke wird im Vakuum in fester Phase in bekannter Weise gesintert. Dieser Basiswerkstoff enthält gleichmäßig verteilte Cr-Körner < 160 µm in einer Cu-Matrix (vgl. Fig. 2).A disk made of copper and chrome metal powder with the composition 75% by weight of Cu and 25% by weight of Cr and having a diameter of 46 mm and a thickness of 5 mm is sintered in a solid phase in a known manner in vacuo. This base material contains evenly distributed Cr grains <160 µm in a Cu matrix (see Fig. 2).

Die spätere Kontaktseite der Scheibe wird mit einen Elektro­ nenstrahl in der Weise beaufschlagt, daß Ein- und Auslauf des Strahls am äußeren Umfang der Scheibe liegen (vgl. Fig. 1). Bei einer Energieflächendichte von 10⁷ W/cm² entstehen Bereiche mit feinkörniger Gefügestruktur, die sich keilför­ mig von der Oberfläche in das Innere der Scheibe erstrecken (vgl. Fig. 4). Die Eintringtiefe beträgt ca. 3 mm, der Naht­ abstand ca. 3 mm, die Strahlbreite 1,5 mm.The later contact side of the disc is acted upon with an electric jet in such a way that the inlet and outlet of the beam lie on the outer periphery of the disc (see. Fig. 1). With an energy surface density of 10⁷ W / cm² there are areas with a fine-grained structure that extend in a wedge shape from the surface into the interior of the pane (cf. FIG. 4). The entry depth is approx. 3 mm, the seam spacing approx. 3 mm, the jet width 1.5 mm.

Nach Entfernen der Schmelzraupe durch Überdrehen der Ober­ fläche wird die spiralförmige Struktur deutlich sichtbar (vgl. Fig. 5). Die keilformigen Bereiche, eingebettet im Ba­ siswerkstoff, erstarren feinkörnig und porenfrei an der Oberfläche und im Werkstoff mit Cr-Dendriten mit ca. 2 µm Durchmesser (vgl. Fig. 3).After removing the melt bead by turning the surface, the spiral structure becomes clearly visible (see Fig. 5). The wedge-shaped areas, embedded in the base material, solidify fine-grained and pore-free on the surface and in the material with Cr dendrites with a diameter of approx. 2 µm (see Fig. 3).

Der feinkörnige Bereich erfährt eine Härtesteigerung von 90 HV (Basiswerkstoff) auf 150 HV. Die elektrische Leitfähig­ keit liegt bei 31 mΩ/mm².The fine-grained area has an increase in hardness of 90 HV (base material) to 150 HV. The electrically conductive speed is 31 mΩ / mm².

Claims (15)

1. Pulvermetallurgisch hergestellter Formkörper aus einem Kupfer-Chrom-Vakuumkontaktwerkstoff mit 20-60 Gew.-% Cr, Rest Cu und unvermeidliche Verunreinigungen, dadurch gekennzeichnet, daß er auf mindestens einer Hauptober­ fläche ein geometrisches Muster aus Bereichen mit einer Gefügestruktur aufweist, die feinkörniger als diejenige des pulverme­ tallurgischen Basiswerkstoffes ist.1. Powder metallurgically produced molded body made of a copper-chrome vacuum contact material with 20-60 wt .-% Cr, balance Cu and unavoidable impurities, characterized in that it has a geometric pattern of areas with a microstructure on at least one main surface, the fine-grained than that of the powder metallurgical base material. 2. Formkörper nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß er die Form einer Scheibe oder eines flachen Rings hat.2. Shaped body according to claim 1, characterized in that it has the shape of a disc or a flat ring. 3. Formkörper nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Basiswerkstoff durch Sintern von Chrommetallpulver mit einer Korngröße < 250 µm in einer Kupfermatrix in fester oder flüssiger Phase erhalten wurde.3. Shaped body according to one of claims 1 or 2, characterized characterized in that the base material by sintering Chrome metal powder with a grain size <250 µm in one Obtain copper matrix in solid or liquid phase has been. 4. Formkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge­ kennzeichnet, daß sich die Bereiche mit feinkörniger Ge­ fügestruktur keilförmig von der Oberfläche in das Innere des Formkörpers erstrecken.4. Shaped body according to one of claims 1 to 3, characterized ge indicates that the areas with fine grain Ge Joining structure wedge-shaped from the surface to the inside extend the shaped body. 5. Formkörper nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Bereiche mit feinkörniger Gefügestruktur bis zu einer Tiefe von etwa 90% der Dicke des Formkörpers er­ strecken.5. Shaped body according to claim 4, characterized in that the areas with fine-grained structure up to a depth of about 90% of the thickness of the molded body stretch. 6. Formkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Bereiche mit feinkörniger Gefüge­ struktur eine Breite von mindestens 0,3 mm und die Be­ reiche mit der Struktur des Basiswerkstoffs eine Breite von höchstens 10 mm aufweisen, wobei das Flächenverhält­ nis der feinkörnigen Bereiche zu den Bereichen des Ba­ siswerkstoffes an der Oberfläche bis höchstens 1 : 10 reicht. 6. Shaped body according to one of claims 1 to 5, characterized ge indicates that the areas with fine-grained structure structure a width of at least 0.3 mm and the loading range with the structure of the base material of at most 10 mm, the area ratio nis of the fine-grained areas to the areas of the Ba sis material on the surface up to a maximum of 1:10 enough.   7. Formkörper nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Bereiche mit feinkörniger Gefügestruktur über­ schneiden.7. Shaped body according to claim 6, characterized in that the areas with a fine-grained structure overlap to cut. 8. Formkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die feinkörnige Gefügestruktur frei von Poren und Lunkern ist und Cr-Dentriten mit einem Durchmesser von 0,5 bis 100 µm umfaßt.8. Shaped body according to one of claims 1 to 7, characterized ge indicates that the fine-grained structure is free of pores and cavities and Cr dentrites with one Diameter from 0.5 to 100 microns includes. 9. Formkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Bereiche mit feinkörniger Gefüge­ struktur eine Vickers-Härte von 120 bis 180 aufweisen.9. Shaped body according to one of claims 1 to 8, characterized ge indicates that the areas with fine-grained structure structure have a Vickers hardness of 120 to 180. 10. Formkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Bereiche mit feinkörniger Gefüge­ struktur spiralförmig angeordnet sind.10. Shaped body according to one of claims 1 to 9, characterized ge indicates that the areas with fine-grained structure are arranged in a spiral structure. 11. Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß man energiereiche Strahlung in Form eines geometrischen Musters auf mindestens eine Hauptoberfläche eines pulvermetallurgisch hergestellten Formkörpers aus einem Kupfer-Chrom-Vakuumkontaktwerk­ stoff mit 20-60 Gew.-% Cr, Rest Cu und unvermeidbare Verunreinigungen einwirken läßt.11. A method for producing a shaped body according to a of claims 1 to 10, characterized in that one high-energy radiation in the form of a geometric pattern on at least one Main surface of a powder metallurgy Shaped body from a copper-chrome vacuum contact mechanism fabric with 20-60 wt .-% Cr, balance Cu and unavoidable Impurities. 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die energiereiche Strahlung ein Elektronenstrahl, Licht­ bogen oder Laserstrahl ist.12. The method according to claim 11, characterized in that the high-energy radiation is an electron beam, light bow or laser beam. 13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeich­ net, daß die energiereiche Strahlung eine Energieflä­ chendichte von 10⁶-10⁷ W/cm² und eine Strahlbreite von 0,3 bis 5,0 mm aufweist. 13. The method according to claim 11 or 12, characterized in net that the high-energy radiation an energy area density of 10⁶-10⁷ W / cm² and a beam width of 0.3 to 5.0 mm.   14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung eines Formkörpers nach Anspruch 10 der energiereiche Strahl spiralförmig in der Weise geführt wird, daß Ein- und Auslauf des Strahls am äußeren Umfang der Scheibe bzw. am äußeren und inneren Durchmesser des Rings liegen.14. The method according to any one of claims 11 to 13, characterized characterized in that for the production of a shaped body  according to claim 10, the high-energy beam spiral is performed in such a way that the inlet and outlet of the Beam on the outer periphery of the disc or on the outer and inner diameter of the ring. 15. Verwendung eines Formkörpers nach einem der Ansprüche 1 bis 10 als Schaltkontakt elektrischer Vakuumschalter.15. Use of a shaped body according to one of claims 1 up to 10 as switching contact of electrical vacuum switches.