DE19624609B4 - Vacuum treatment system for applying thin layers to substrates, for example to headlight reflectors - Google Patents

Abstract

Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate (2, 2',...), beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren, mit mehreren, von einer ortsfesten kreiszylindrischen Vakuumkammerwand (7) gehaltenen Behandlungsstationen (8, 9, 10) und einem von der Vakuumkammerwand (7) umschlossenen, drehbar gelagerten, die Substratkammern (3 bis 6) tragenden Innenwandzylinder (14), wobei in der Wand der Vakuumkammer (7) Öffnungen (11 bis 13) vorgesehen sind, mit denen die Substratkammern (3 bis 6) in Deckung bringbar sind und durch die die Behandlungsmittel auf die Substrate (2, 2',...) einwirken können und mit einer die Vakuumkammerwand (7) von außen umschließenden und die von der Vakuumkammerwand (7) sich radial nach außen zu erstreckenden Behandlungsstationen (8, 9, 0) miteinander verbindenden Außenwand (16, 16',...), wobei mindestens eine der zwischen der Außenwand (16, 16',...), der Vakuumkammerwand (7) und den Behandlungsstationen (8, 9, 10) vorgesehenen Außenkammern (15, 15',...) einerseits mit einer benachbarten Behandlungsstation (8, 10) und andererseits mit einer Gas- oder Monomer-Quelle (22 bzw. 23) verbunden ist.Vacuum treatment plant for applying thinner Layers on substrates (2, 2 ', ...), for example on headlight reflectors, with several, from a stationary circular cylindrical vacuum chamber wall (7) held treatment stations (8, 9, 10) and one of the Vacuum chamber wall (7) enclosed, rotatably mounted, the substrate chambers (3 to 6) carrying inner wall cylinder (14), wherein in the wall of Vacuum chamber (7) openings (11 to 13) are provided, with which the substrate chambers (3 to 6) can be brought into cover and through which the treatment agent on the substrates (2, 2 ', ...) can act and with a vacuum chamber wall (7) from the outside enclosing and the treatment stations extending radially outward from the vacuum chamber wall (7) (8, 9, 0) interconnecting outer wall (16, 16 ', ...), wherein at least one of the between the outer wall (16, 16 ', ...), the Vacuum chamber wall (7) and the treatment stations (8, 9, 10) provided outer chambers (15, 15 ', ...) on the one hand with an adjacent treatment station (8, 10) and on the other hand with a gas or monomer source (22 or 23) connected is.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate, beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren, mit mehreren, von einer ortsfesten, kreiszylindrischen Vakuumkammerwand gehaltenen Behandlungsstationen und einen von der Vakuumkammerwand umschlossenen, die Substratkammern tragenden Innenzylinder mit in der Vakuumkammerwand vorgesehenen Öffnungen, mit denen die Substratkammern in Deckung bringbar sind und durch die die Behandlungsmittel auf die Substrate einwirken können.The The invention relates to a vacuum treatment plant for applying thin layers on substrates, for example on headlamp reflectors, with several, held by a stationary, circular cylindrical vacuum chamber wall Treatment stations and one of the vacuum chamber wall enclosed, the inner cylinder carrying the substrate chambers with openings provided in the vacuum chamber wall, with which the substrate chambers can be brought into coverage and through the treatment agents can act on the substrates.

Ein Nachteil bekannter Vorrichtungen liegt in einer aufwendigen Bauweise und oft auch darin, daß sie nur für ganz bestimmtes Beschichtungsgut, beispielsweise für flaches, scheibenförmiges Gut verwendbar sind. Das Aus- und Einschleusen des Be schichtungsgutes ergab oft schwierige Dichtungsprobleme, die durch aufwendige Schleusenkonstruktionen gelöst wurden.One Disadvantage of known devices is in a complex construction and often in that they too only for very specific coating material, for example for flat, disc-shaped Good to use. The removal and infiltration of the Be schichtungsgutes often resulted in difficult sealing problems caused by complex lock designs solved were.

Aus der DE 22 41 634 A ist eine Vakuumbeschichtungsanlage der eingangs genannten Art bekannt, bei der die Fördereinrichtung um eine gemeinsame Achse herum angeordnete und um diese schwenkbare topfförmige Rahmen für die Aufnahme des zu beschichtenden Gutes aufweist, wobei in einer Behandlungsposition, nämlich in der Ein- und Ausschleusposition, ein solcher Rahmen selbst Teil der Wand der Ein- und Austrittskammer bildet und eine bewegliche Ventilplatte zum Absperren einer Stirnseite des einen Teils der Ein- und Austrittskammer bildenden Rahmens vorgesehen ist. Bei dieser bekannten Vakuumbeschichtungsanlage ist das Ein- und Ausschleusen des zu beschichtenden Gutes konstruktiv einfach gelöst. Die Weiterbewegung des zu beschichtenden Gutes insbesondere in die Aufdampfposition ist jedoch kompliziert. Der das Gut enthaltende topfförmige Rahmen wird durch Weiterdrehen der Fördereinrichtung in eine Übergabeposition gebracht, aus der die einzelnen Substrate durch eine von unten her angreifende Hubvorrichtung aus dem topfförmigen Rahmen herausgehoben und nach oben in die eigentliche Aufdampfkammer bewegt werden. Hierdurch ergibt sich nicht nur ein erheblicher konstruktiver Aufwand, sondern auch ein komplizierter und zeitraubender Betriebsablauf.From the DE 22 41 634 A a vacuum coating system of the aforementioned type is known in which the conveyor is arranged around a common axis around and pivotable about this cup-shaped frame for receiving the material to be coated, wherein in a treatment position, namely in the insertion and Ausschleusposition, such a frame itself forms part of the wall of the inlet and outlet chamber and a movable valve plate is provided for shutting off an end face of the part of the inlet and outlet chamber forming frame. In this known vacuum coating system, the input and output of the material to be coated is structurally simple solved. The further movement of the material to be coated, in particular in the Aufdampfposition is complicated. The pot-shaped frame containing the material is brought by further rotation of the conveyor in a transfer position, from which the individual substrates are lifted out by a lifting device acting from below from the cup-shaped frame and moved upwards into the actual evaporation chamber. This results in not only a considerable design effort, but also a complicated and time-consuming operation.

Aus der DE 24 54 544 A1 ist weiterhin eine Vakuumbeschichtungsanlage zum Aufdampfen dünner Schichten auf Substrate bekannt, mit einer Eintrittskammer, weiteren Kammern zur Behandlung bzw. Beschichtung der Substrate und mit einer Austrittskammer, sowie mit einer in einer evakuierbaren Hauptkammer angeordneten Fördereinrichtung zum Transport der Substrate durch die Kammern, wobei Abdichteinrichtungen zur zeitweisen Abdichtung zwischen den genannten Kammern und der Hauptkammer vorgesehen sind und bei der die Fördereinrichtung um eine gemeinsame Achse herum angeordnete und um diese schwenkbare Rahmen für die Aufnahme des zu beschichtenden Gutes aufweist, wobei in wenigstens zwei Behandlungspositionen, nämlich einer Ein- und Austrittsposition und einer Aufdampfposition, ein solcher Rahmen selbst Teil der Wand einer Behandlungskammer, nämlich der Ein- und Austrittskammer und einer Aufdampfkammer bildet, wobei in mindestens einer dieser Behandlungspositionen eine bewegliche Ventilplatte zum Absperren einer Stirnseite des einen Teils der die Behandlungskammer bildenden Rahmens vorgesehen ist.From the DE 24 54 544 A1 Furthermore, a vacuum coating system for vapor deposition of thin layers on substrates known, with an inlet chamber, further chambers for the treatment or coating of the substrates and with an outlet chamber, as well as arranged in an evacuatable main chamber conveyor for transporting the substrates through the chambers, wherein sealing means for Temporary sealing between said chambers and the main chamber are provided and in which the conveyor has arranged around a common axis and about these pivotable frame for receiving the material to be coated, wherein in at least two treatment positions, namely an inlet and outlet position and a Evaporating position, such a frame itself forms part of the wall of a treatment chamber, namely the inlet and outlet chamber and a vapor deposition, wherein in at least one of these treatment positions, a movable valve plate for shutting off a Sti rnseite the one part of the treatment chamber forming frame is provided.

Bekannt ist auch eine Vorrichtung zum Aufbringen von Schichten auf Trägern unter Vakuum ( DE 28 48 480 A1 ), insbesondere für das abwechselnde Aufbringen von Metallschichten und von Glimmpolymerisationsschichten auf Träger bei der Herstellung von elektrischen Schichtkondensatoren, welche zumindest zwei Vakuumkammern aufweist, die durch Vakuumschleusen voneinander getrennt sind und bei denen in der ersten Vakuumkammer im Betrieb ein kleinerer Restdruck besteht als in der zweiten Kammer oder in den übrigen Kammern, welche eine Transporteinrichtung besitzt, die die zu beschichtenden Träger durch je eine gesonderte Vakuumschleuse von der ersten Vakuumkammer in die zweite Vakuumkammer und wieder in die erste Vakuumkammer oder in eine dritte Vakuumkammer transportieren kann, welche in den Vakuumkammern Einrichtungen zum Aufbringen von Schichten auf die auf der Transporteinrichtung befindlichen Träger enthält und bei welcher die Vakuumschleusen jeweils mehrere Backen, die einer Oberfläche bzw. Oberflächen der Transporteinrichtung unmittelbar gegenüberliegen und zu dieser bzw. diesen nur einen schmalen Spalt freilassen, und jeweils zwischen zwei Backen ein Absaugrohr zur Absaugung des Restgases aufweisen, wobei die Transporteinrichtung nur in einer Richtung bewegbar ist und die in Bewegungsrichtung der Transporteinrichtung vor der ersten Vakuumkammer liegende Vakuumschleuse längere Diffusionswege aufweist als die in Bewegungsrichtung der Transporteinrichtung hinter der ersten Vakuumkammer liegende Vakuumschleuse.Also known is a device for applying layers on supports under vacuum ( DE 28 48 480 A1 ), in particular for the alternating application of metal layers and gelled polymerisation layers on supports in the production of electric layer capacitors, which has at least two vacuum chambers, which are separated from each other by vacuum locks and in which in the first vacuum chamber during operation a smaller residual pressure than in the second Chamber or in the other chambers, which has a transport device which can transport the carrier to be coated by a separate vacuum lock from the first vacuum chamber in the second vacuum chamber and back into the first vacuum chamber or in a third vacuum chamber, which in the vacuum chambers facilities for Application of layers on the carriers located on the transport device and in which the vacuum locks each have a plurality of jaws, which are directly opposite a surface or surfaces of the transport device and to this or this only leave a narrow gap, and each between two jaws having a suction tube for sucking the residual gas, wherein the transport device is movable in one direction and lying in the direction of movement of the transport device before the first vacuum chamber vacuum lock longer diffusion paths than in the direction of movement of the transport device behind the first vacuum chamber lying vacuum lock.

Schließlich ist eine Vakuumbearbeitungsanlage für das Oberflächenbehandeln von Substraten oder Werkstücken bekannt ( EP 0 555 764 A1 , die zylinderartig ausgebildet ist, wobei mindestens eine Aufnahmekammer bzw. ein Behältnis für die Aufnahme der zu bearbeitenden Substrate entlang des Mantels einer kreis- bzw. zylinderförmigen Verteilkammer angeordnet ist, mit peripher nach außen gerichteten Kammeröffnungen, welche in den jeweiligen Bearbeitungspositionen gegen die entsprechenden, im Zylindermantel angeordneten Bearbeitungsstationen gerichtet sind, um die Bearbeitungs- bzw. Prozeßkammern zu bilden, welche Aufnahmekammern bzw. Behältnisse oder der Zylindermantel um die Zylindermittelachse rotierbar angeordnet sind, damit die Aufnahmekammern bzw. Behältnisse relativ zum Zylindermantel bewegbar sind, um von einer Bearbeitungsstation zur nächsten bewegt zu werden, wobei an einem Teil oder allen Aufnahmekammern bzw. Behältnissen und/oder Bearbeitungsstationen pneumatisch oder hydraulisch aktivierbare Dichtungen vorgesehen sind, um beim Bearbeitungsprozeß die Bearbeitungs- bzw. Prozeßkammern dichtend abzutrennen.Finally, a vacuum processing system for the surface treatment of substrates or workpieces is known (US Pat. EP 0 555 764 A1 , which is formed like a cylinder, wherein at least one receiving chamber or a container for receiving the substrates to be processed along the shell of a circular or cylindrical distribution chamber is arranged, with peripherally outwardly directed chamber openings which in the respective processing positions against the corresponding, directed in the cylinder jacket processing stations are directed to the Bearbeitungsk or Prozeßkam which receiving chambers or containers or the cylinder jacket are arranged rotatably about the cylinder center axis so that the receiving chambers or containers are movable relative to the cylinder jacket to be moved from one processing station to the next, wherein on a part or all receiving chambers or Containers and / or processing stations pneumatically or hydraulically activated seals are provided to separate the processing or process chambers sealingly during the machining process.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung des in Frage stehenden Typs zu schaffen, bei der die Substrate in einzelnen Behältnissen angeordnet sind und darüber hinaus so gestaltet sein sollen, daß Substrate verschiedener Größe und insbesondere extrem verwickelter Konfiguration bearbeitet werden können.Of the present invention is based on the object, a device of the type in question, in which the substrates in individual containers are arranged and above be designed so that substrates of different sizes and in particular extremely complicated configuration can be edited.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe gelöst durch eine die Vakuumkammerwand von außen umschließende und die von der Vakuumkammerwand sich radial nach außen zu erstreckenden, Behandlungsstationen miteinander verbindenden Außenwand und mindestens einer zwischen der Außenwand, der Vakuumkammerwand und den Behandlungsstationen vorgesehenen Außenkammer, die einerseits mit einer benachbarten Behandlungsstation und andererseits mit einer Gas- und/oder Monomer-Quelle verbunden ist.According to the invention this Task solved by one enclosing the vacuum chamber wall from the outside and the treatment stations extending radially outward from the vacuum chamber wall connecting outer wall and at least one between the outer wall, the vacuum chamber wall and the treatment stations provided outer chamber, on the one hand with a neighboring treatment station and on the other with a Gas and / or monomer source connected is.

Weitere Einzelheiten und Merkmale sind in den anhängenden Patentansprüchen näher beschrieben und gekennzeichnet.Further Details and features are described in more detail in the appended claims and marked.

Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausführungsmöglichkeiten zu; eine davon ist in der anhängenden Zeichnung rein schematisch näher dargestellt, die den Schnitt quer durch die Vakuumbehandlungsanlage zeigt.The Invention leaves the most diverse design options to; one of them is in the attached Drawing purely schematically closer shown the cross-section through the vacuum treatment plant shows.

Die Vorrichtung weist eine kreiszylindrische Vakuumkammer 7 auf, die mit mehreren, gleichmäßig auf ihrer Mantelfläche verteilt angeordneten, fensterförmigen Öffnungen 24 bis 27 versehen ist, wobei jeder Öffnung 24 bis 27 eine Behandlungsstation 8, 9, 10 oder Ein-/Ausschleusstation 20 zugeordnet ist, die jeweils aus einem kastenförmigen, zur jeweiligen Öffnung 24 bis 27 hin offenen Gehäuse besteht, dessen umlaufende Randpartie mit der zylindrischen Wand der Vakuumkammer 7 fest verbunden ist. Die zylindrische Vakuumkammer 7 umschließt einen Innenzylinder 14, der mit Öffnungen 11, 12, 13, 21 versehen ist, die mit den zuvor erwähnten Öffnungen in der Vakuumkammer 7 korrespondieren und in die kastenförmige Substratkammern 3 bis 6 eingesetzt sind, die zusammen mit den Behandlungsstationen 8, 9, 10 bzw. der Ein-/Ausschleusstation 20 in der in der Zeichnung dargestellten Stellung des Innenzylinders 14 jeweils allseitig geschlossene Behältnisse bilden. Die kreiszylindrische Vakuumkammerwand 7 ist von Außenwandteilen 16, 16',... umgriffen, die jeweils fest mit den Wandteilen der Behandlungsstationen 8, 9, 10 bzw. der Ein-/Ausschleusstation 20 verbunden sind und so zusammen mit der Kammerwand 7 Außenkammern 15, 15',... bilden. Zwei dieser Außenkammern 15, 15',... sind über Bohrungen 17, 17' mit den Innenwänden zweier Behandlungsstationen 8, 10 verbunden, wobei die Außenwände 16', 16'' dieser beiden Außenkammern 15', 15'' mit Quellen 22 bzw. 23 fest verbunden sind, über die Gase bzw. Monomere über Ausnehmungen 18, 18' in die Außenkammern 15' bzw. 15'' einlaßbar sind, so daß beispielsweise in der Behandlungsstation 8 ein Glimmprozeß und in der Station 10 ein Beschichtungsprozeß durchgeführt werden kann. Im Gehäuse der Behandlungsstation 9 sind zwei Sputterkathoden 28, 29 untergebracht, wobei die erforderlichen Stromversorgung 30 an der Außenwand 31 der Behandlungsstation 9 befestigt ist. Die Außenkammer 15''' steht mit der Schleusenstation 20 über eine Bohrung 32 in Verbindung, die ihrerseits an den Saugstutzen 19 einer nicht näher dargestellten Vakuumpumpe angeschlossen ist. Zum Zwecke des Ein- bzw. Ausschleusens ist der Deckel 33 in die strichpunktiert eingezeichnete Stellung verschiebbar. Sämtliche Kammern, nämlich die Behandlungsstationen 8, 9, 10, die Schleusenkammer 20, die Substratkammern 3 bis 6, die Außenkammern 15, 15',.. und der Innenzylinder 14 sind von einer gemeinsamen Bodenplatte 36 und einer nicht dargestellten Deckplatte abgedeckt, so daß sich ein besonders einfacher Aufbau der Vorrichtung ergibt. Es ist klar, daß der Innenzylinder mit mindestens einer eigenen, kreisscheibenförmigen Platte 35 mit dem Motor 34 in drehfester Verbindung stehen muß, damit das aus dem Innenzy linder und den Substratkammern 3 bis 6 bestehende Gebilde innerhalb der eigentlichen Vakuumkammer rotieren kann.The device has a circular cylindrical vacuum chamber 7 on, with several, evenly distributed on its lateral surface arranged, window-shaped openings 24 to 27 is provided, each opening 24 to 27 a treatment station 8th . 9 . 10 or in / out station 20 is assigned, each of a box-shaped, to the respective opening 24 to 27 towards open housing, whose peripheral edge part with the cylindrical wall of the vacuum chamber 7 is firmly connected. The cylindrical vacuum chamber 7 encloses an inner cylinder 14 that with openings 11 . 12 . 13 . 21 provided with the aforementioned openings in the vacuum chamber 7 correspond and in the box-shaped substrate chambers 3 to 6 are used together with the treatment stations 8th . 9 . 10 or the entry / exit station 20 in the position of the inner cylinder shown in the drawing 14 each form closed on all sides containers. The circular cylindrical vacuum chamber wall 7 is of exterior wall parts 16 . 16 ' , ... embraced, each firm with the wall parts of the treatment stations 8th . 9 . 10 or the entry / exit station 20 are connected and so together with the chamber wall 7 outer chambers 15 . 15 ' ,... form. Two of these outdoor chambers 15 . 15 ' , ... are over holes 17 . 17 ' with the inner walls of two treatment stations 8th . 10 connected, the outer walls 16 ' . 16 '' these two outer chambers 15 ' . 15 '' with sources 22 respectively. 23 are firmly connected, via the gases or monomers via recesses 18 . 18 ' in the outer chambers 15 ' respectively. 15 '' are einlaßbar, so that, for example, in the treatment station 8th a glowing process and in the station 10 a coating process can be performed. In the housing of the treatment station 9 are two sputtering cathodes 28 . 29 housed, with the required power supply 30 on the outside wall 31 the treatment station 9 is attached. The outer chamber 15 ''' stands with the lock station 20 over a hole 32 in connection, in turn, to the suction nozzle 19 a vacuum pump, not shown, is connected. For the purpose of insertion and removal is the lid 33 in the dash-dotted position displaced. All chambers, namely the treatment stations 8th . 9 . 10 , the lock chamber 20 , the substrate chambers 3 to 6 , the outer chambers 15 . 15 ' , .. and the inner cylinder 14 are from a common floor plate 36 and covered a cover plate, not shown, so that there is a particularly simple construction of the device. It is clear that the inner cylinder with at least one own, circular disk-shaped plate 35 with the engine 34 must be in rotationally fixed connection, so that from the Innenzy cylinder and the substrate chambers 3 to 6 existing structures can rotate within the actual vacuum chamber.

2, 2'2, 2 '

Substratsubstratum

33

Substratkammersubstrate chamber

44

Substratkammersubstrate chamber

55

Substratkammersubstrate chamber

66

Substratkammersubstrate chamber

77

kreiszylindrische Vakuumkammerwandcircular cylindrical Vacuum chamber wall

88th

Behandlungsstationtreatment station

99

Behandlungsstationtreatment station

1010

Behandlungsstationtreatment station

1111

Öffnungopening

1212

Öffnungopening

1313

Öffnungopening

1414

zylindrische Wand, Innenzylindercylindrical Wall, inner cylinder

15, 15',...15 15 ', ...

Außenkammerouter chamber

16, 16',...16 16 ', ...

Außenwandouter wall

17, 17',...17 17 ', ...

Bohrungdrilling

18, 18'18 18 '

Ausnehmungrecess

1919

Saugstutzensuction

2020

Ein-/Ausschleusstation, SchleusenstationInput / discharge station, lock station

2121

Öffnungopening

2222

Gas-QuelleGas source

2323

Monomer-QuelleMonomer source

2424

Öffnungopening

2525

Öffnungopening

2626

Öffnungopening

2727

Öffnungopening

2828

Sputterkathodesputter cathode

2929

Sputterkathodesputter cathode

3030

Stromversorgungpower supply

3131

Außenwandouter wall

3232

Bohrungdrilling

3333

Deckel, SchleusenklappeCover, lock flap

3434

Motorengine

3535

Platteplate

Claims (5)

Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate (2, 2',...), beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren, mit mehreren, von einer ortsfesten kreiszylindrischen Vakuumkammerwand (7) gehaltenen Behandlungsstationen (8, 9, 10) und einem von der Vakuumkammerwand (7) umschlossenen, drehbar gelagerten, die Substratkammern (3 bis 6) tragenden Innenwandzylinder (14), wobei in der Wand der Vakuumkammer (7) Öffnungen (11 bis 13) vorgesehen sind, mit denen die Substratkammern (3 bis 6) in Deckung bringbar sind und durch die die Behandlungsmittel auf die Substrate (2, 2',...) einwirken können und mit einer die Vakuumkammerwand (7) von außen umschließenden und die von der Vakuumkammerwand (7) sich radial nach außen zu erstreckenden Behandlungsstationen (8, 9, 0) miteinander verbindenden Außenwand (16, 16',...), wobei mindestens eine der zwischen der Außenwand (16, 16',...), der Vakuumkammerwand (7) und den Behandlungsstationen (8, 9, 10) vorgesehenen Außenkammern (15, 15',...) einerseits mit einer benachbarten Behandlungsstation (8, 10) und andererseits mit einer Gas- oder Monomer-Quelle (22 bzw. 23) verbunden ist.Vacuum treatment plant for applying thin layers to substrates ( 2 . 2 ' , ...), for example on headlamp reflectors, with several, of a stationary circular-cylindrical vacuum chamber wall ( 7 ) treatment stations ( 8th . 9 . 10 ) and one of the vacuum chamber wall ( 7 ) enclosed, rotatably mounted, the substrate chambers ( 3 to 6 ) supporting inner wall cylinder ( 14 ), wherein in the wall of the vacuum chamber ( 7 ) Openings ( 11 to 13 ) are provided, with which the substrate chambers ( 3 to 6 ) and by which the treatment agents are applied to the substrates ( 2 . 2 ' , ...) and with one the vacuum chamber wall ( 7 ) from the outside and from the vacuum chamber wall ( 7 ) radially outwardly extending treatment stations ( 8th . 9 . 0 ) connecting outer wall ( 16 . 16 ' , ...), whereby at least one of the between the outer wall ( 16 . 16 ' , ...), the vacuum chamber wall ( 7 ) and the treatment stations ( 8th . 9 . 10 ) provided external chambers ( 15 . 15 ' , ...) on the one hand with a neighboring treatment station ( 8th . 10 ) and on the other hand with a gas or monomer source ( 22 respectively. 23 ) connected is. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Außenkammern (15, 15',...) die Substratkammern (3 bis 6) und die Behandlungsstationen (8, 9, 10) in ihrer vertikalen Ausdehnung von einer gemeinsamen Boden- (36) und einer gemeinsamen Deckplatte begrenzt sind, die fest oder zumindest druckdicht mit der Vakuumkammerwand (7), den Außenkammerwänden (16, 16',...) und den Wänden der Behandlungsstationen (3 bis 6) verbunden sind.Apparatus according to claim 1, characterized in that the outer chambers ( 15 . 15 ' , ...) the substrate chambers ( 3 to 6 ) and the treatment stations ( 8th . 9 . 10 ) in their vertical extent from a common soil ( 36 ) and a common cover plate are fixed, or at least pressure-tight with the vacuum chamber wall ( 7 ), the outer chamber walls ( 16 . 16 ' , ...) and the walls of the treatment stations ( 3 to 6 ) are connected. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratkammern (3 bis 6) als nach den Öffnungen (11, 12, 13, 21) am Innenzylinder (14) zu offene kastenförmige Bauteile ausgebildet sind, die mit ihren umlaufenden Randpartien mit dem Innenzylinder (14) fest verbunden sind.Device according to claim 1, characterized in that the substrate chambers ( 3 to 6 ) than after the openings ( 11 . 12 . 13 . 21 ) on the inner cylinder ( 14 ) are formed to open box-shaped components, with their peripheral edge portions with the inner cylinder ( 14 ) are firmly connected. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Innenzylinder (14) über einen auf der Grundplatte (35) gehaltenen Motor (34) um die Rotationsachse (R) des Innenzylinders (14) drehbar ist.Device according to claims 1 to 3, characterized in that the inner cylinder ( 14 ) over one on the base plate ( 35 held motor ( 34 ) about the axis of rotation (R) of the inner cylinder ( 14 ) is rotatable. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine der auf einem Kreisbogen verteilt angeordneten Stationen (8, 9, 10,...) als Ein-/Ausschleusstation (20) ausgebildet ist und mit einer seitlich verfahrbaren Schleusenklappe (33) versehen ist.Device according to one or more of the preceding claims, characterized in that one of the stations ( 8th . 9 . 10 , ...) as an infeed / outfeed station ( 20 ) is formed and with a laterally movable lock flap ( 33 ) is provided.