DE19503205C1 - Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma - Google Patents
Vorrichtung zur Erzeugung von PlasmaInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung von
Plasma in einem Unterdruckbehälter mit Hilfe von
elektromagnetischen Wechselfeldern, wobei ein stabförmiger
Leiter innerhalb eines Rohres aus isolierendem Werkstoff
durch den Unterdruckbehälter geführt ist, wobei der
Innendurchmesser des Rohres größer als der Durchmesser des
Leiters ist, und wobei das Rohr an beiden Enden durch Wände
des Unterdruckbehälters gehalten und gegenüber den Wänden an
seiner Außenfläche abgedichtet ist.
Vorrichtungen zur Erzeugung von Plasma werden unter anderem
benötigt, um mit dem erzeugten Plasma verschiedene Formen
der Oberflächenbearbeitung von Werkstücken vorzunehmen,
beispielsweise zum Plasma-Ätzen und zur Plasma-Deposition.
Zur Bildung des Plasmas, das heißt zur Ionisation des Gases
im Unterdruckbehälter werden unter anderem Mikrowellen und
andere elektromagnetische Wechselfelder verwendet.
Bei einer durch DE 41 36 297 A1 bekanntgewordenen
Vorrichtung zur lokalen Erzeugung von Plasma mittels
Mikrowellen-Anregung ist in einer Behandlungskammer ein Rohr
aus isolierendem Material vorgesehen, das als Begrenzung zum
Unterdruckbereich hin wirkt und in dem ein Innenleiter aus
Metall verläuft, in den die Mikrowellen von einer
Mikrowellen-Erzeugungseinrichtung eingekoppelt werden. Diese
bekannte Vorrichtung nutzt den Effekt aus, daß durch das
Leitendwerden des ionisierten Gases an der Außenwand des
Führungshohlleiters eine Art Koaxialleitung entsteht, die
die Mikrowelle weiterleitet.
Nachteilig bei der bekannten Vorrichtung ist es, daß mit
zunehmender Entfernung von demjenigen Rand der
Behandlungskammer, an welchem die Mikrowellen eingekoppelt
werden, die Energiedichte und damit die Plasmadichte
abnimmt. Für die Behandlung von Werkstücken ist jedoch eine
möglichst räumlich vorgebbare, beispielsweise homogene,
Mindest-Plasmadichte erforderlich. Da ferner die in Form von
Mikrowellen zugeführte Leistung nicht beliebig steigerbar
ist, kann häufig der gesamte durch die Behandlungskammer
gegebene Raum nicht zur Behandlung genutzt werden. Dieses
gilt insbesondere bei Werkstücken, die in Durchlaufanlagen
auf einem Fließband durch die Behandlungskammer geführt
werden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung
zur Erzeugung von Plasma anzugeben, welche innerhalb eines
vorgegebenen Bereichs eine ausreichende Ionisierung
aufweist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der
Leiter an beiden Enden an Quellen zur Erzeugung der
elektromagnetischen Wechselfelder angeschlossen ist.
Der Abstand zwischen dem Leiter und der Innenfläche des
Rohres ist für die Wirkungsweise der Anordnung entscheidend.
Durch ihn wird die große axiale Ausdehnung des Plasmas von
zum Beispiel 2 in bis 3 m ermöglicht.
Vorzugsweise ist die erfindungsgemäße Vorrichtung derart
ausgebildet, daß die elektromagnetischen Wechselfelder
Mikrowellen sind. Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist
jedoch auch für Wechselfelder mit niedrigerer Frequenz,
beispielsweise 13,45 MHz, geeignet.
Durch die Zuführung von Energie von beiden Enden kann der
bei der bekannten Vorrichtung auftretende Abfall des
Ionisationsgrades in Längsrichtung des Leiters ausgeglichen
werden. Bei gleicher Intensität der zugeführten
Wechselfelder verdoppelt sich die Gesamtleistung, ohne daß
die Einführungsbereiche an den Wänden des
Unterdruckbehälters übermäßig belastet werden. Außerdem hat
die erfindungsgemäße Vorrichtung den Vorteil, daß das Rohr
an beiden Enden und damit stabiler gelagert ist. Ferner ist
eine leichte Montage und Demontage gegeben, wodurch die
Wartung erleichtert wird.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung besteht darin, daß die Quellen von je einem
Generator gebildet werden. Dabei kann vorgesehen sein, daß
die abgegebene Leistung der Generatoren unabhängig
voneinander steuerbar ist. Dadurch läßt sich außer einem
weitgehend homogenen Verlauf der Plasmadichte ein davon
abweichender Verlauf einstellen, beispielsweise eine mehr
oder weniger starke etwa lineare Zunahme von einem Ende zum
anderen Ende des Unterdruckbehälters oder eine Absenkung
oder Erhöhung im mittleren Teil.
Bei dem Betrieb der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist die
Bildung von stehenden Wellen nicht ausgeschlossen, so daß an
der Oberfläche des Rohres Stellen mit geringerer und höherer
Plasmadichte entstehen. Da sich jedoch aufgrund der
thermischen Bewegung der Ionen im zunehmenden Abstand vom
Rohr diese Unterschiede ausgleichen, sind für viele
Anwendungen keine besonderen Maßnahmen erforderlich. Für
Anwendungen, bei denen die stehenden Wellen stören, können
sie durch Weiterbildungen der Erfindung dadurch vermieden
werden, daß die Generatoren derart pulsierend betrieben
werden, daß abwechselnd nur jeweils einer der Generatoren
das Wechselfeld erzeugt oder daß die Phasenlage der von den
Generatoren erzeugten Mikrowellen unterschiedlich variiert
wird.
Eine andere vorteilhafte Ausgestaltung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung besteht darin, daß die Generatoren unmittelbar
an den Leiter angekoppelt sind. Dabei konnte festgestellt
werden, daß das Eintreffen der Mikrowellen vom jeweils
anderen Generator bei den meisten Generatoren keine störende
Wirkung zur Folge hat.
Gemäß anderen vorteilhaften Ausgestaltungen der Erfindung
kann auch vorgesehen sein, daß die Generatoren über einen
Zirkulator oder über ein Hohlleitersystem an den Leiter
angekoppelt sind.
Eine andere Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung
besteht darin, daß beide Quellen von einem einzigen
Generator gespeist werden, der über geeignete Leitungen mit
den Enden des Leiters verbunden ist. Diese Weiterbildung
kann bei Anwendungsfällen vorteilhaft sein, bei denen eine
getrennte Steuerung der Generatoren nicht erforderlich ist
und bei denen durch die Anwendung nur eines Generators und
des zugehörigen Betriebsgerätes trotz der zusätzlichen
Leitungen Ersparnisse eintreten.
Durch die Bildung des Plasmas im Umgebungsbereich des Rohres
wird dem Rohr eine erhebliche Wärmemenge zugeführt. Eine
ausgezeichnete Kühlung des Rohres wird bei einer anderen
Weiterbildung der Erfindung dadurch erzielt, daß Mittel zur
Leitung eines Kühlmittelstroms, vorzugsweise eines
Luftstroms, durch das Rohr vorgesehen sind. Durch die
ausgezeichnete Kühlung der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist
eine Leistungssteigerung möglich.
Durch die Abnahme der Plasmadichte in Richtung des Leiters
bei der bekannten Vorrichtung ist eine Regelung oder
Steuerung der Leistung stets mit einer Größenänderung
desjenigen Bereichs verbunden, in welchem die Plasmadichte
eine für die jeweilige Behandlung ausreichendende Größe
aufweist. Dieser unerwünschte Effekt tritt bei der
erfindungsgemäßen Vorrichtung nicht ein, so daß bei einer
anderen Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung
vorgesehen ist, daß die abgegebene Leistung der Quellen als
Funktion der Dichte des erzeugten Plasmas regelbar ist.
Geeignete Sensoren zur Messung der Plasmadichte,
beispielsweise Plasmasonden, Interferometer und
Strahlungssensoren, und geeignete Regelschaltungen sind an
sich bekannt. Ferner kann vorgesehen sein, daß die
abgegebene Leistung der Quellen als Funktion der Ausmaße des
in den Unterdruckbehälter eingebrachten Gutes steuerbar ist.
Eine flächig homogene Behandlung mit Hilfe des Plasmas kann
ferner dadurch erzielt werden, daß mehrere aus je einem
stabförmigen Leiter und einem Rohr bestehende Vorrichtungen
in dem Unterdruckbehälter angeordnet sind. Diese bietet
insbesondere bei Durchlaufanlagen Vorteile. Hierbei können
die Enden der Leiter von jeweils einem Generator gespeist
werden. Es ist jedoch auch möglich, die auf einer Seite des
Unterdruckbehälters liegenden Enden oder Gruppen von diesen
oder mehrere gegenüberliegende Enden aus einem gemeinsamen
Generator zu speisen.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann auch derart
ausgestaltet sein, daß die Wände des Unterdruckbehälters
mindestens teilweise aus UV-durchlässigem Werkstoff,
beispielsweise Spezialglas, Quarz, bestehen. Diese
Ausgestaltung bildet eine besonders günstige flächenhafte
Quelle für UV-Strahlung. Diese kann beispielsweise zum
beschleunigten Aushärten von Kunststoffen oder für eine
keimtötende Bestrahlung verwendet werden.
Bei einer vorteilhaften Ausführungsform dieser Ausgestaltung
ist vorgesehen, daß die Wände des Unterdruckbehälters aus
einem äußeren Rohr, das mit Endscheiben verschmolzen ist,
bestehen, wobei wiederum die Endscheiben mit dem Rohr, das
den Leiter umgibt, verschmolzen sind und das äußere Rohr,
die Endscheiben und das den Leiter umgebende Rohr aus einem
im wesentlichen gleichen Werkstoff bestehen. Diese
Ausführungsform kann mit in der Glastechnik bewährten
Verfahren aus einem UV-durchlässigen Glas, beispielsweise
Quarzglas, hergestellt werden und hat beispielsweise den
Vorteil, daß der Unterdruckbehälter keine kritischen
Durchführungen von Elektroden und keine sich möglicherweise
abnutzenden Teile im Inneren aufweist.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung
anhand mehrerer Figuren dargestellt und in der nachfolgenden
Beschreibung näher erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 eine schematische Darstellung des
Ausführungsbeispiels und
Fig. 2 ein Teil des Ausführungsbeispiels nach Fig. 1 in
detaillierterer Darstellung.
Gleiche Teile sind in den Figuren mit gleichen Bezugszeichen
versehen.
Die in Fig. 1 dargestellte erfindungsgemäße Vorrichtung
umfaßt einen Unterdruckbehälter 1, von dem lediglich zwei
Wände 2, 3 dargestellt sind. In den Seitenwänden 2, 3 ist
ein Glasrohr 4 gelagert, in dem sich ein stabförmiger Leiter
5 befindet. An beiden Enden des stabförmigen Leiters 5 sind
Mikrowellen-Generatoren 6, 7 angeordnet, die von jeweils
einem Betriebsgerät mit steuerbarer Leistung versorgt
werden. Im Inneren des Glasrohres 4 herrscht Normaldruck.
Das Glasrohr 4 ist an den Führungen durch die Wände 2, 3
abgedichtet, damit in den Unterdruckbehälter 1 an diesen
Stellen keine Außenluft eindringen kann. Häufig wird im
Unterdruckbehälter 1 mit einem Druck von 1 mbar gearbeitet.
Je nach Größe der zu behandelnden Werkstücke bzw. nach der
Anzahl der gleichzeitig zu behandelnden Werkstücke kann der
Unterdruckbehälter, im folgenden auch Reaktionskammer
genannt, eine Breite bis zu mehreren Metern aufweisen mit
einer entsprechenden Länge des Glasrohres 4. Die Durchmesser
des Leiters 5 und des Glasrohres 4 werden je nach Auslegung
der Anordnung in Abhängigkeit von der anzuwendenden
Mikrowellenleistung gewählt, um einerseits eine Zündung in
der Atmosphäre mit Normaldruck im Innenbereich des
Glasrohres zu vermeiden und um andererseits eine Zündung des
Plasmas im Unterdruckbereich zu gewährleisten.
Wird beispielsweise die Leistung der Mikrowellen-Generatoren
6, 7 derart eingestellt, daß die von jeweils einem der
Mikrowellen-Generatoren bewirkte Plasmadichte von der am
jeweiligen Mikrowellen-Generator befindlichen Wand bis zur
anderen Wand etwa linear auf 0 abnimmt, so erhält man bei
gleicher Leistung beider Mikrowellen-Generatoren eine im
wesentlichen über die Breite der Reaktionskammer konstante
Plasmadichte. Wird die Leistung eines der Generatoren
darüberhinaus erhöht, steigt die Plasmadichte in Richtung
auf diesen Generator an.
Da die Leistung unter anderem durch die thermische Wirkung
des Plasmas in der Nähe des Glasrohres 4 insbesondere in der
Nähe des jeweiligen Mikrowellen-Generators 6, 7 begrenzt
ist, kann durch die Verwendung beider gegenüberliegender
Mikrowellen-Generatoren auch die Gesamtleistung gegenüber
der bekannten Vorrichtung gesteigert werden.
Fig. 2 zeigt ein Detail der schematisch dargestellten
Anordnung nach Fig. 1 im Bereich der Durchführung des
Glasrohres 4 durch die Wand 3. In dem Glasrohr 4 ist ein
Kupferrohr 10 gelagert, das die Bildung von Plasma in der
Nähe der Wand 3 verhindert. Damit werden Verluste vermieden,
die durch Entladen der soeben erzeugten Ionen an der Wand 3
entstehen würden. Außerdem dient das Kupferrohr 10 zum
Anschluß des in Fig. 2 nicht dargestellten
Mikrowellen-Generators.
Ein Dichtflansch 11, der mit lediglich angedeuteten
Schrauben mit der Wand 3 verbunden ist, dient zur Abdichtung
zwischen dem Glasrohr 4 und der Wand 3 mit Hilfe eines
Dichtringes 12. Außerdem bildet der Flansch 11 eine Kammer
13 zur Zuführung von Kühlluft. Diese wird in Pfeilrichtung
mit Hilfe eines nicht dargestellten Rohres oder Schlauchs
zugeleitet, gelangt durch Löcher 14 in das Innere des
Kupferrohres 10 und durchströmt das Kupferrohr 10 und das
Glasrohr 4 in Pfeilrichtung. Am anderen Ende des Glasrohres
4 befindet sich ebenfalls ein Kupferrohr und eine ähnliche
Anordnung, die das Austreten der Luft gewährleistet. Der in
Fig. 2 dargestellte Dichtflansch 11 ist eine mögliche
Ausführung des Endflansches. Andere Ausführungen können zum
Beispiel unter Verwendung von modifizierten Bauteilen der
Vakuumtechnik hergestellt werden.
Claims (16)
1. Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma in einem
Unterdruckbehälter mit Hilfe von elektromagnetischen
Wechselfeldern, wobei ein stabförmiger Leiter innerhalb
eines Rohres aus isolierendem Werkstoff durch den
Unterdruckbehälter geführt ist, wobei der Innendurchmesser
des Rohres größer als der Durchmesser des Leiters ist, und
wobei das Rohr an beiden Enden durch Wände des
Unterdruckbehälters gehalten und gegenüber den Wänden an
seiner Außenfläche abgedichtet ist, dadurch gekennzeichnet,
daß der Leiter (5) an beiden Enden an Quellen (6, 7) zur
Erzeugung der elektromagnetischen Wechselfelder
angeschlossen ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die elektromagnetischen Wechselfelder Mikrowellen sind.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Quellen von je einem Generator (6,
7) gebildet werden.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die abgegebene Leistung der Generatoren (6, 7)
unabhängig voneinander steuerbar ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 oder 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Generatoren (6, 7) derart pulsierend
betrieben werden, daß abwechselnd nur jeweils einer der
Generatoren (6, 7) das Wechselfeld erzeugt.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 oder 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Phasenlage der von den Generatoren
(6, 7) erzeugten Mikrowellen unterschiedlich variiert wird.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Generatoren (6, 7) unmittelbar an
den Leiter (5) angekoppelt sind.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Generatoren über einen Zirkulator an
den Leiter angekoppelt sind.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Generatoren über ein
Hohlleitersystem an den Leiter angekoppelt sind.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 2, dadurch
gekennzeichnet, daß beide Quellen von einem einzigen
Generator gespeist werden, der über geeignete Leitungen mit
den Enden des Leiters verbunden ist.
11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß Mittel (11, 13, 14) zur Leitung
eines Kühlmittelstroms, vorzugsweise eines Luftstroms, durch
das Rohr (4) vorgesehen sind.
12. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die abgegebene Leistung der
Quellen (6, 7) als Funktion der Dichte des erzeugten Plasmas
regelbar ist.
13. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß mehrere aus je einem
stabförmigen Leiter und einem Rohr bestehende Vorrichtungen
in dem Unterdruckbehälter angeordnet sind.
14. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die abgegebene Leistung der
Quellen (6, 7) als Funktion der Ausmaße des in den
Unterdruckbehälter (1) eingebrachten Gutes steuerbar ist.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß die Wände des Unterdruckbehälters
mindestens teilweise aus UV-durchlässigem Werkstoff,
beispielsweise Spezialglas, Quarz, bestehen.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß die Wände des Unterdruckbehälters aus einem äußeren
Rohr, das mit Endscheiben verschmolzen ist, bestehen, wobei
wiederum die Endscheiben mit dem Rohr, das den Leiter
umgibt, verschmolzen sind und das äußere Rohr, die
Endscheiben und das den Leiter umgebende Rohr aus einem im
wesentlichen gleichen Werkstoff bestehen.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995103205 DE19503205C1 (de) | 1995-02-02 | 1995-02-02 | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE1996128952 DE19628952C5 (de) | 1995-02-02 | 1996-07-18 | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
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---|---|---|---|
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19503205C1 true DE19503205C1 (de) | 1996-07-11 |
Family
ID=7752878
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1995103205 Revoked DE19503205C1 (de) | 1995-02-02 | 1995-02-02 | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE1996128952 Expired - Lifetime DE19628952C5 (de) | 1995-02-02 | 1996-07-18 | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (3) | DE19503205C1 (de) |
Cited By (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998054748A1 (de) * | 1997-05-28 | 1998-12-03 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur erzeugung von plasma |
DE19739894A1 (de) * | 1997-09-11 | 1999-03-25 | Muegge Electronic Gmbh | Plasmabehandlungsvorrichtung |
DE19801366A1 (de) * | 1998-01-16 | 1999-07-22 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19812558A1 (de) * | 1998-03-21 | 1999-09-30 | Roth & Rau Oberflaechentechnik | Vorrichtung zur Erzeugung linear ausgedehnter ECR-Plasmen |
EP0961528A2 (de) * | 1998-05-29 | 1999-12-01 | Leybold Systems GmbH | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19825125A1 (de) * | 1998-06-05 | 1999-12-09 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19841777C1 (de) * | 1998-09-12 | 2000-01-05 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung zur plasmatechnischen Abscheidung von polykristallinem Diamant |
DE19848022A1 (de) * | 1998-10-17 | 2000-04-20 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
WO2000075955A1 (de) * | 1999-06-04 | 2000-12-14 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Linear ausgedehnte anordnung zur grossflächigen mikrowellenbehandlung und zur grossflächigen plasmaerzeugung |
DE19928876A1 (de) * | 1999-06-24 | 2000-12-28 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur lokalen Erzeugung eines Plasmas in einer Behandlungskammer durch Mikrowellenanregung |
DE19955671A1 (de) * | 1999-11-19 | 2001-05-31 | Muegge Electronic Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
US7047903B2 (en) | 2001-01-22 | 2006-05-23 | Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. | Method and device for plasma CVD |
US7159536B1 (en) | 1999-09-14 | 2007-01-09 | Robert Bosch Gmbh | Device and method for generating a local by micro-structure electrode dis-charges with microwaves |
DE102006048816A1 (de) * | 2006-10-16 | 2008-04-17 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur lokalen Erzeugung von Mikrowellenplasmen |
DE102006048815A1 (de) * | 2006-10-16 | 2008-04-17 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen hoher Leistung |
DE102006048814A1 (de) * | 2006-10-16 | 2008-04-17 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen hoher Plasmadichte |
US7434537B2 (en) | 2001-08-07 | 2008-10-14 | Schott Ag | Device for the coating of objects |
DE19628952C5 (de) * | 1995-02-02 | 2010-11-25 | Muegge Electronic Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
WO2011064084A1 (de) * | 2009-11-11 | 2011-06-03 | Roth & Rau Muegge Gmbh | Vorrichtung zur erzeugung von plasma mittels mikrowellen |
US20120031335A1 (en) * | 2010-04-30 | 2012-02-09 | Applied Materials, Inc. | Vertical inline cvd system |
DE102010050258A1 (de) * | 2010-11-02 | 2012-05-03 | Hq-Dielectrics Gmbh | Vorrichtung zum Behandeln von Substraten |
DE102012013418A1 (de) | 2012-07-02 | 2014-01-02 | Sitec Automation Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung eines skalierbaren linearen Plasmas |
ITRM20130159A1 (it) * | 2013-03-15 | 2014-09-15 | Consiglio Nazionale Ricerche | Elongated microwave powered lamp |
ITRM20130161A1 (it) * | 2013-03-15 | 2014-09-15 | Consiglio Nazionale Ricerche | Reinforced microwave powered lamp |
ITRM20130158A1 (it) * | 2013-03-15 | 2014-09-16 | Consiglio Nazionale Ricerche | Microwave powered lamp |
US9165748B2 (en) | 2000-05-17 | 2015-10-20 | Ihi Corporation | Plasma CVD method |
WO2023172141A1 (en) | 2022-03-11 | 2023-09-14 | Leydenjar Technologies B.V. | Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition |
WO2023172140A1 (en) | 2022-03-11 | 2023-09-14 | Leydenjar Technologies B.V. | Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition |
US11823871B2 (en) | 2018-03-01 | 2023-11-21 | Applied Materials, Inc. | Microwave plasma source for spatial plasma enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) processing tool |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006012100B3 (de) * | 2006-03-16 | 2007-09-20 | Maschinenfabrik Reinhausen Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasma-Jets |
DE102008009624A1 (de) * | 2008-02-18 | 2009-08-20 | Cs Clean Systems Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung der Abgase einer Prozessanlage |
DE102008036766B4 (de) | 2008-08-07 | 2013-08-01 | Alexander Gschwandtner | Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen dielektrischer Schichten im Mikrowellenplasma |
DE102009057375B3 (de) | 2009-12-09 | 2011-05-26 | Roth & Rau Ag | ECR-Plasmaquelle mit einem Beschichtungsschutz und Anwendung des Beschichtungsschutzes |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4136297A1 (de) * | 1991-11-04 | 1993-05-06 | Plasma Electronic Gmbh, 7024 Filderstadt, De | Vorrichtung zur lokalen erzeugung eines plasmas in einer behandlungskammer mittels mikrowellenanregung |
DE3933619C2 (de) * | 1989-10-07 | 1993-12-23 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtungen zur elektrischen Anregung eines Gases mit Mikrowellenenergie |
DE4322608A1 (de) * | 1993-07-07 | 1995-01-19 | Fraunhofer Ges Forschung | Einrichtung zur Leistungsmodulation bei einer Plasmaanregung, vorzugsweise beim Einsatz von Gaslasern |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4566403A (en) * | 1985-01-30 | 1986-01-28 | Sovonics Solar Systems | Apparatus for microwave glow discharge deposition |
DE3708717A1 (de) * | 1987-03-18 | 1988-09-29 | Hans Prof Dr Rer Nat Oechsner | Verfahren und vorrichtung zur bearbeitung von festkoerperoberflaechen durch teilchenbeschuss |
DE3926023A1 (de) * | 1988-09-06 | 1990-03-15 | Schott Glaswerke | Cvd-beschichtungsverfahren zur herstellung von schichten und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
GB8922602D0 (en) * | 1989-10-06 | 1989-11-22 | British Aerospace | A surface discharge plasma cathode electron beam generating assembly |
US5230740A (en) * | 1991-12-17 | 1993-07-27 | Crystallume | Apparatus for controlling plasma size and position in plasma-activated chemical vapor deposition processes comprising rotating dielectric |
US5361274A (en) * | 1992-03-12 | 1994-11-01 | Fusion Systems Corp. | Microwave discharge device with TMNMO cavity |
DE19503205C1 (de) * | 1995-02-02 | 1996-07-11 | Muegge Electronic Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19654909A1 (de) * | 1996-03-08 | 1997-11-13 | Daimler Benz Ag | Vorrichtung mit einem magnetooptischen Stromsensor |
-
1995
- 1995-02-02 DE DE1995103205 patent/DE19503205C1/de not_active Revoked
-
1996
- 1996-07-18 DE DE1996128952 patent/DE19628952C5/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-18 DE DE1996128954 patent/DE19628954B4/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3933619C2 (de) * | 1989-10-07 | 1993-12-23 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtungen zur elektrischen Anregung eines Gases mit Mikrowellenenergie |
DE4136297A1 (de) * | 1991-11-04 | 1993-05-06 | Plasma Electronic Gmbh, 7024 Filderstadt, De | Vorrichtung zur lokalen erzeugung eines plasmas in einer behandlungskammer mittels mikrowellenanregung |
DE4322608A1 (de) * | 1993-07-07 | 1995-01-19 | Fraunhofer Ges Forschung | Einrichtung zur Leistungsmodulation bei einer Plasmaanregung, vorzugsweise beim Einsatz von Gaslasern |
Cited By (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19628952C5 (de) * | 1995-02-02 | 2010-11-25 | Muegge Electronic Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
WO1998054748A1 (de) * | 1997-05-28 | 1998-12-03 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur erzeugung von plasma |
DE19722272A1 (de) * | 1997-05-28 | 1998-12-03 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19739894A1 (de) * | 1997-09-11 | 1999-03-25 | Muegge Electronic Gmbh | Plasmabehandlungsvorrichtung |
DE19739894C2 (de) * | 1997-09-11 | 2001-07-05 | Muegge Electronic Gmbh | Plasmabehandlungsvorrichtung |
DE19801366A1 (de) * | 1998-01-16 | 1999-07-22 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19801366B4 (de) * | 1998-01-16 | 2008-07-03 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19812558A1 (de) * | 1998-03-21 | 1999-09-30 | Roth & Rau Oberflaechentechnik | Vorrichtung zur Erzeugung linear ausgedehnter ECR-Plasmen |
DE19824077A1 (de) * | 1998-05-29 | 1999-12-02 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
EP0961528A2 (de) * | 1998-05-29 | 1999-12-01 | Leybold Systems GmbH | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
EP0961528A3 (de) * | 1998-05-29 | 2003-08-13 | Leybold Systems GmbH | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19825125A1 (de) * | 1998-06-05 | 1999-12-09 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
EP0963141B1 (de) * | 1998-06-05 | 2010-06-16 | Oerlikon Deutschland Holding GmbH | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19841777C1 (de) * | 1998-09-12 | 2000-01-05 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung zur plasmatechnischen Abscheidung von polykristallinem Diamant |
WO2000016374A1 (de) * | 1998-09-12 | 2000-03-23 | Balzers Und Leybold Deutschland Holding Ag | Vorrichtung zur plasmatechnischen abscheidung von polykristallinem diamant |
DE19848022A1 (de) * | 1998-10-17 | 2000-04-20 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
WO2000075955A1 (de) * | 1999-06-04 | 2000-12-14 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Linear ausgedehnte anordnung zur grossflächigen mikrowellenbehandlung und zur grossflächigen plasmaerzeugung |
DE19925493C1 (de) * | 1999-06-04 | 2001-01-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Linear ausgedehnte Anordnung zur großflächigen Mikrowellenbehandlung und zur großflächigen Plasmaerzeugung |
US6863773B1 (en) * | 1999-06-04 | 2005-03-08 | Fraunhofer-Gesellschaft Angewandten Forschung E.V. | Linearly extended device for large-surface microwave treatment and for large surface plasma production |
DE19928876A1 (de) * | 1999-06-24 | 2000-12-28 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur lokalen Erzeugung eines Plasmas in einer Behandlungskammer durch Mikrowellenanregung |
US7159536B1 (en) | 1999-09-14 | 2007-01-09 | Robert Bosch Gmbh | Device and method for generating a local by micro-structure electrode dis-charges with microwaves |
DE19955671A1 (de) * | 1999-11-19 | 2001-05-31 | Muegge Electronic Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
DE19955671B4 (de) * | 1999-11-19 | 2004-07-22 | Muegge Electronic Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
US9165748B2 (en) | 2000-05-17 | 2015-10-20 | Ihi Corporation | Plasma CVD method |
US7047903B2 (en) | 2001-01-22 | 2006-05-23 | Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. | Method and device for plasma CVD |
US7434537B2 (en) | 2001-08-07 | 2008-10-14 | Schott Ag | Device for the coating of objects |
DE102006048814B4 (de) * | 2006-10-16 | 2014-01-16 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen hoher Plasmadichte |
DE102006048816A1 (de) * | 2006-10-16 | 2008-04-17 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur lokalen Erzeugung von Mikrowellenplasmen |
DE102006048814A1 (de) * | 2006-10-16 | 2008-04-17 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen hoher Plasmadichte |
WO2008046551A1 (de) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur erzeugung von mikrowellenplasmen hoher leistung |
DE102006048815A1 (de) * | 2006-10-16 | 2008-04-17 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen hoher Leistung |
DE102006048815B4 (de) * | 2006-10-16 | 2016-03-17 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Mikrowellenplasmen hoher Leistung |
WO2011064084A1 (de) * | 2009-11-11 | 2011-06-03 | Roth & Rau Muegge Gmbh | Vorrichtung zur erzeugung von plasma mittels mikrowellen |
DE102009044496B4 (de) | 2009-11-11 | 2023-11-02 | Muegge Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma mittels Mikrowellen |
US10290471B2 (en) | 2009-11-11 | 2019-05-14 | Muegge Gmbh | Device for generating plasma by means of microwaves |
CN103003913A (zh) * | 2009-11-11 | 2013-03-27 | 米格有限责任公司 | 用于借助微波生成等离子体的装置 |
CN103003913B (zh) * | 2009-11-11 | 2016-02-24 | 米格有限责任公司 | 用于借助微波生成等离子体的装置 |
US20120031335A1 (en) * | 2010-04-30 | 2012-02-09 | Applied Materials, Inc. | Vertical inline cvd system |
US9324597B2 (en) * | 2010-04-30 | 2016-04-26 | Applied Materials, Inc. | Vertical inline CVD system |
KR20130126628A (ko) * | 2010-11-02 | 2013-11-20 | 에이치큐-디일렉트릭스 게엠베하 | 기판 처리 장치 |
DE102010050258A1 (de) * | 2010-11-02 | 2012-05-03 | Hq-Dielectrics Gmbh | Vorrichtung zum Behandeln von Substraten |
WO2012059203A1 (de) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | Hq-Dielectrics Gmbh | Vorrichtung zum behandeln von substraten |
KR101894437B1 (ko) * | 2010-11-02 | 2018-09-05 | 에이치큐-디일렉트릭스 게엠베하 | 기판 처리 장치 |
DE102012013418A1 (de) | 2012-07-02 | 2014-01-02 | Sitec Automation Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung eines skalierbaren linearen Plasmas |
ITRM20130158A1 (it) * | 2013-03-15 | 2014-09-16 | Consiglio Nazionale Ricerche | Microwave powered lamp |
ITRM20130159A1 (it) * | 2013-03-15 | 2014-09-15 | Consiglio Nazionale Ricerche | Elongated microwave powered lamp |
ITRM20130161A1 (it) * | 2013-03-15 | 2014-09-15 | Consiglio Nazionale Ricerche | Reinforced microwave powered lamp |
WO2014141183A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Consiglio Nazionale Delle Ricerche | Elongated microwave powered lamp |
WO2014141182A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Consiglio Nazionale Delle Ricerche | Microwave powered lamp |
WO2014141185A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Consiglio Nazionale Delle Ricerche | Reinforced microwave powered lamp |
US11823871B2 (en) | 2018-03-01 | 2023-11-21 | Applied Materials, Inc. | Microwave plasma source for spatial plasma enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) processing tool |
WO2023172141A1 (en) | 2022-03-11 | 2023-09-14 | Leydenjar Technologies B.V. | Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition |
WO2023172140A1 (en) | 2022-03-11 | 2023-09-14 | Leydenjar Technologies B.V. | Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition |
NL2031258B1 (en) | 2022-03-11 | 2023-09-19 | Leydenjar Tech B V | Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition |
NL2031257B1 (en) | 2022-03-11 | 2023-09-20 | Leydenjar Tech B V | Apparatus and method for plasma enhanced chemical vapour deposition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19628952C5 (de) | 2010-11-25 |
DE19628954A1 (de) | 1998-01-22 |
DE19628954B4 (de) | 2009-07-02 |
DE19628952A1 (de) | 1998-01-22 |
DE19628952B4 (de) | 2008-06-05 |
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