DE19739894C2 - Plasmabehandlungsvorrichtung - Google Patents
PlasmabehandlungsvorrichtungInfo
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- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
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Description
Die Erfindung betrifft eine Plasmabehandlungsvorrichtung.
Zur Behandlung von Werkstücken mit Plasma sind Vorrichtungen
bekanntgeworden, bei denen in einem evakuierten Hohlraum
Plasma erzeugt wird, das aufgrund seiner besonderen
chemischen und physikalischen Eigenschaften die gewünschte
Reaktion hervorruft, beispielsweise die
Oberflächenbehandlung eines Werkstücks. Derartige
Vorrichtungen sind u. a. aus DE 39 33 619 C2, DE 30 11 686 A1
und DE 195 03 205 C1 bekanntgeworden.
Bei diesen bekannten Vorrichtungen sind der Behandlungsraum
und die Anordnung einzelner Elemente, wie beispielsweise
Plasma-Erzeuger, fest vorgegeben. Es ist ferner aus EP 0 758 688 A1
eine Plasmabehandlungsvorrichtung bekannt, die einen
nach oben offenen Behälter als Behandlungskammer und einen
auf Dichtflächen des Behälters ruhenden Deckel aufweist, der
einen Plasma-Erzeuger beinhaltet. Die Aufgaben einer
Plasmabehandlung sind jedoch in Abhängigkeit von dem jeweils
anzuwendenden Prozeß und dem jeweils zu behandelnden
Werkstück recht unterschiedlich, so daß die bekannten
Vorrichtungen, insbesondere diejenigen, die jeweils in einem
Werk zur Verfügung stehen, häufig nicht oder zumindestens
nicht vorteilhaft eingesetzt werden können.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine
Plasmabehandlungsvorrichtung anzugeben, welche den
Anforderungen im einzelnen leicht angepaßt werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch einen
modularen Aufbau mit stapelbaren Rahmen, die mit
Dichtflächen aneinander passen und einen Behandlungsraum
bilden, der mit zwei Abdeckungen abschließbar ist, wobei in
mindestens einem Rahmen ein Plasma-Erzeuger angeordnet ist
und wobei mindestens ein weiterer Rahmen eine Gasdusche
enthält.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann in einfacher Weise an
die jeweiligen Aufgaben angepaßt werden und eignet sich
vorzugsweise für Laborzwecke und zur Behandlung von
Einzelstücken, kann jedoch bei entsprechender Zuführung der
Werkstücke auch für eine Serienfertigung eingesetzt werden.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen
Plasmabehandlungsvorrichtung sind in den Unteransprüchen
aufgeführt. Insbesondere ist dabei vorgesehen, daß der
Plasma-Erzeuger mehrere parallel angeordnete Keramikantennen
oder mehrere parallel angeordnete Koaxialleitungen aufweist,
denen Mikrowellenenergie zuführbar ist. Hiermit ist eine
gleichmäßige Verteilung des Plasmas über den Behandlungsraum
möglich. Dabei kann die Vorrichtung zur Plasmaerzeugung
gemäß DE 195 03 205 C2 derart ausgebildet sein, daß den
Koaxialleitungen bzw. den Keramikantennen von beiden Enden
Mikrowellenenergie zuführbar ist.
Die Ausgestaltung der einzelnen Rahmen mit zur
Plasmabehandlung dienenden Einbauten - im folgenden auch
Module genannt - ist bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung
in vielfältiger Weise möglich. Insbesondere ist dabei
vorgesehen, daß mindestens ein weiterer Rahmen als
Behandlungskammer mit mindestens einer Schleuse für zu
behandelnde Werkstücke ausgebildet ist, wobei vorzugsweise
die Behandlungskammer ein Sichtfenster aufweist.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung besteht darin, daß eine der Abdeckungen als
Trägerplatte für das zu behandelnde Werkstück ausgebildet
ist. Dabei kann die Trägerplatte mit einer Heizung und mit
Absaugöffnungen versehen sein und/oder eine Drehdurchführung
und eine außerhalb des Behandlungsraumes angeordnete
Antriebseinheit aufweisen.
Ferner ist es vorteilhaft, wenn ein weiterer Rahmen als
Fußteil mit der Trägerplatte verbindbar ist und einen mit
den Absaugöffnungen verbundenen Vakuumanschluß aufweist.
Bei der Erzeugung von Plasma entstehen hohe Temperaturen.
Deshalb ist gemäß einer Weiterbildung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung vorgesehen, daß in mindestens einem der Rahmen
Kühlkanäle angeordnet sind.
Häufig sind während der Plasmabehandlung Messungen der
innerhalb der Behandlungskammer vorliegenden Größen, wie
beispielsweise Druck, Temperatur und Plasmadichte,
erforderlich. Bei einer weiteren Ausgestaltung der
erfindungsgemäßen Vorrichtung ist daher vorgesehen, daß
mindestens einer der Rahmen elektrische Durchführungen und
Halterungen für Meßeinrichtungen aufweist.
Die Rahmen können bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung
verschiedene Formen aufweisen. Eine bevorzugte Ausgestaltung
besteht jedoch darin, daß die Rahmen jeweils die Form eines
flachen Hohlzylinders aufweisen. Als Werkstoff eignet sich
beispielsweise wegen des geringen Gewichts Aluminium.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung
anhand mehrerer Figuren dargestellt und in der nachfolgenden
Beschreibung näher erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 ein aus mehreren Modulen bestehendes
Ausführungsbeispiel in Explosivdarstellung,
Fig. 2 eine Abdeckplatte,
Fig. 3 ein Modul mit einer Gasdusche,
Fig. 4 ein Modul mit einem Plasma-Erzeuger,
Fig. 5 ein als Behandlungskammer ausgebildetes Modul,
Fig. 6 ein als Trägerplatte ausgebildetes Modul und
Fig. 7 ein als Fußteil ausgebildetes Modul.
In der folgenden Beschreibung werden die Rahmen in Anlehnung
an die Ausbildung bei den Ausführungsbeispielen als Ringe
bezeichnet und die Ringe einschließlich der die Funktion
bestimmenden Einbauten und Ausgestaltungen als Module.
Das in Fig. 1 dargestellte Ausführungsbeispiel umfaßt eine
Abdeckplatte 1, ein als Gasdusche ausgebildetes Modul 2, ein
Plasma-Erzeuger-Modul 3, eine weitere Gasdusche 4, eine
Behandlungskammer 5, eine Trägerplatte 6 und ein Fußteil 7.
Je nach Erfordernissen der vorgesehenen Plasmabehandlung
können mehr oder weniger der in Fig. 1 dargestellten Module
zu einer Vorrichtung zusammengefaßt werden. Die Grenzflächen
zwischen den Modulen sind jeweils mit nicht näher
dargestellten Dichtungen versehen. In den einzelnen Ringen
sowie in den Randbereichen der Abdeckplatte 1 und der
Trägerplatte 6 befinden sich Löcher 8, in die Gewindestangen
zur Verbindung der Module miteinander eingeführt werden
können. Weitere Löcher 8' dienen zur Aufnahme von
Paßstiften.
Die Gasduschen 2, 4 enthalten jeweils mehrere parallel
verlaufende Rohre 9 mit in den Figuren nicht sichtbaren
Löchern, aus denen zugeführtes Gas austreten kann. Der
Plasma-Erzeuger, der im Zusammenhang mit Fig. 4 genauer
beschrieben ist, besitzt eine Mikrowellenzuführung 10 und
mehrere Mikrowellenleiter 11, wobei durch die austretenden
Mikrowellen das Gas angeregt wird. In der Behandlungskammer
5 befindet sich ein Werkstück 12, das auf der Trägerplatte 6
gehalten wird. Die Trägerplatte 6 weist Löcher 13 zum
Absaugen des Gases auf, wozu ferner ein in das Fußteil 7
hineinragender Vakuumanschluß 14 vorgesehen ist.
Einzelheiten der Gasführung sind der Übersichtlichkeit
halber in Fig. 1 nicht dargestellt. Die Behandlungskammer 5
weist eine Schleuse 15 zur Zuführung von Werkstücken und ein
Sichtfenster 16 auf.
Die in Fig. 1 dargestellte Plasma-Behandlungskammer zeichnet
sich insbesondere durch die Anordnung von zwei Gasduschen 2,
4 aus. So kann beispielsweise in der ersten Gasdusche NH3
zugeführt werden, das im Plasma-Erzeuger 3 aktiviert wird
und dann mit durch die Gasdusche 4 zugeführtem SiH4 zu SiNx
reagiert. Für viele Anwendungen genügt jedoch auch eine
Gasdusche. Die aus einzelnen Modulen zusammengestellte
erfindungsgemäße Vorrichtung kann in beliebiger Lage im Raum
benutzt werden. So kann es beispielsweise zweckmäßig sein,
die Vorrichtung mit dem Fußteil 7 und der Trägerplatte 6
nach oben zu betreiben, um ein Absinken von eventuell
vorhandenen Schmutzpartikeln auf das Werkstück 12 zu
verhindern. Die Weite der einzelnen Ringe kann entsprechend
den jeweils vorgesehenen Anwendungen gewählt werden. Zur
Behandlung von Einzelwafern der Größe von 140 mm × 140 mm
hat sich ein Durchmesser der Ringe von 350 mm bewährt. Als
Werkstoff für die Ringe kommt Aluminium in Frage.
Die Fig. 2 bis 7 zeigen schematisch verschiedene Module
jeweils in Seitenansicht und als Draufsicht. Fig. 2 stellt
eine Abdeckplatte 1 mit am Umfang verteilten Bohrungen 8, 8'
dar.
Fig. 3 zeigt ein Modul mit einem Ring 21, der wiederum
Löcher 8, 8' aufweist, und einer Gasdusche, die eine
Gaszufuhr 22, ein Verteilerrohr 23 und mehrere parallel
verlaufende Rohre 24 mit in der Figur nicht sichtbaren
Löchern umfaßt. Der Ring 21 ist - wie auch die anderen
Ringe - mit einer umlaufenden Nut 25 zur Aufnahme eines
Dichtringes versehen.
Bei dem in Fig. 4 dargestellten Plasma-Erzeuger 3 ist in
einem Ring 26 ein rechteckiges Fenster 27 vorgesehen, durch
welches sich Rohre 28 bis 31 erstrecken, die vorzugsweise
aus Quarzglas bestehen und in welchen ein Leiter 32
verläuft, der derart mit einer Mikrowellenzuführung 33
verbunden ist, daß die Mikrowellen von beiden Seiten den
einzelnen Rohren 28 bis 31 zugeführt werden. Mit dem die
Rohre umgebenden Plasma bilden die Rohre zusammen mit dem
Leiter Koaxialleitungen.
Fig. 5 zeigt ein Beispiel für eine Behandlungskammer 5', die
seitlich eine Schleuse 15 aufweist. Die Trägerplatte 6 gemäß
Fig. 6 ist mit einem Kranz von Löchern 36 versehen zum
Evakuieren der Vorrichtung über einen Ringkanal 37, in den
der Vakuum-Anschluß 14 mündet. Ferner ist unterhalb der
Trägerplatte eine vakuumdichte Drehdurchführung 38
angeordnet, an die eine nicht dargestellte
Antriebsvorrichtung angeschlossen werden kann und deren
Abtrieb 39 an eine Dreh- oder Rüttelvorrichtung
angeschlossen werden kann, die in Fig. 6 nicht dargestellt
ist. Oberhalb der Trägerplatte 6 befindet sich eine
beheizbare Halterung 40 für das Werkstück 12, das im
dargestellten Ausführungsbeispiel ein Wafer für Solarzellen
ist.
Im montierten Zustand liegt die Trägerplatte 6 auf dem
Fußteil 7 (Fig. 7) auf, wobei für den Vakuum-Anschluß 14
eine Ausnehmung 43 vorgesehen ist. Die Löcher 8 im Fußteil
können mit einem Innengewinde versehen sein, in das die
Gewindestangen eingeschraubt werden können.
Claims (12)
1. Plasmabehandlungsvorrichtung, gekennzeichnet durch
einen modularen Aufbau mit stapelbaren Rahmen (2, 3, 4, 5),
die mit Dichtflächen aneinander passen und einen
Behandlungsraum bilden, der mit zwei Abdeckungen (1, 6)
abschließbar ist, wobei in mindestens einem Rahmen (3) ein
Plasma-Erzeuger (11) angeordnet ist und wobei mindestens ein
weiterer Rahmen (2, 4) eine Gasdusche (9) enthält.
2. Plasmabehandlungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der Plasma-Erzeuger mehrere parallel
angeordnete Keramikantennen aufweist, denen
Mikrowellenenergie zuführbar ist.
3. Plasmabehandlungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der Plasma-Erzeuger (11) mehrere
parallel angeordnete Koaxialleitungen (28, 29, 30, 31, 32)
aufweist, denen Mikrowellenenergie zuführbar ist.
4. Plasmabehandlungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein weiterer
Rahmen (5) als Behandlungskammer mit mindestens einer
Schleuse (15) für zu behandelnde Werkstücke ausgebildet ist.
5. Plasmabehandlungsvorrichtung nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Behandlungskammer (5) ein
Sichtfenster (16) aufweist.
6. Plasmabehandlungsvorrichtung nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine
der Abdeckungen als Trägerplatte (6) für das zu behandelnde
Werkstück (12) ausgebildet ist.
7. Plasmabehandlungsvorrichtung nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Trägerplatte (6) mit einer Heizung
(40) und mit Absaugöffnungen (36) versehen ist.
8. Plasmabehandlungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 6
oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerplatte (6)
eine Drehdurchführung (38) und eine außerhalb des
Behandlungsraumes angeordnete Antriebseinheit aufweist.
9. Plasmabehandlungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 6
bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß ein weiterer Rahmen als
Fußteil (7) mit der Trägerplatte (6) verbindbar ist und
einen mit den Absaugöffnungen (36) verbundenen
Vakuumanschluß (14) aufweist.
10. Plasmabehandlungsvorrichtung nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in
mindestens einem der Rahmen Kühlkanäle angeordnet sind.
11. Plasmabehandlungsvorrichtung nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
mindestens einer der Rahmen elektrische Durchführungen und
Halterungen für Meßeinrichtungen aufweist.
12. Plasmabehandlungsvorrichtung nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die
Rahmen (2, 3, 4, 5) jeweils die Form eines flachen
Hohlzylinders aufweisen.
Priority Applications (1)
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Families Citing this family (2)
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- 1997-09-11 DE DE1997139894 patent/DE19739894C2/de not_active Expired - Fee Related
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DE19739894A1 (de) | 1999-03-25 |
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