DE1909097A1

DE1909097A1 - Elektrische Speicherroehre und elektrisches Speicherverfahren

Info

Publication number: DE1909097A1
Application number: DE19691909097
Authority: DE
Inventors: Eiiche Inoue; Takashi Saito; Hiroshi Tanaka; Keizo Yamaji
Original assignee: Canon Camera Co Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1968-02-25
Filing date: 1969-02-24
Publication date: 1969-10-02
Also published as: NL161897B; US3653064A; NL6902921A; DE1909097C3; DE1909097B2; NL161897C

Description

Canon Camera Kabushiki Kaisha Canon Camera Case 87 Tokyo, Japan

Elektrische Speicherröhre und elektrisches Speicherverfahren

Die Erfindung betrifft eine elektrische Speicherröhre mit einer neuartigen, aus mehreren Schichten bestehenden Schirmplatte sowie die elektrostatische Speicherung von Informations Signalen, bei der ein neuartiges elektrostatisches Bilderzeugungsverfahren angewendet wird.

Eines der Verfahren zur elektrostatischen Speicherung von Informations Signalen ist in der USA-Patentschrift Nr. 2 879 beschrieben. Bei diesem Verfahren wird eine Kathodenstrahl« röhre mit einer eine Isolierschicht aufweisenden Schirmplatte verwendet. In die Isolierschicht sind matrixartig leitende Stifte elektrisch voneinander getrennt eingesetzt. Die Informationssignale werden durch den Elektronenstrahl der Kathodenstrahlröhre wiedergegeben, und man läßt den Elektronenstrahl durch die stiftförmigen Leiter hindurchtreten, um eine atmosphärische Entladung in einem Speichermaterial zu bewirken, so daß elektrostatische Muster der Informations signale gespeichert werden. Bei Miesem Verfahren wird die Auflösung

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der Muster wesentlich durch die Dichte der matrixartig angeordneten Stifte beeinflußt. Bezüglich der Funktion und des Aafbaus ist es aber außerordentlich schwierig, die leitenden Stifte mit großer Dichte auf der Schirmplatte anzuordnen. Außerdem wird bei dem bekannten Verfahren die Erzeugung des elektrostatischen Musters durch die atmosphärische Entladung beeinflußt, da diese unter den Umgebungsbedingungen zu Instabilitäten neigt, so daß die Bilder beträchtloch verzerrt werden. Es ist demgemäß schwierig, elektrostatische Muster bei hohem Kontrast ZH erzeugen. Ein weiteres Verfahren ist in der USA-Patentschrift Nr. 3 132 206 offenbart. Bei diesem Verfahren wandelt die Kathodenstrahlröhre die Informations signale in Bilder auf dem Leuchtstoffschirxn um. Die Bilder dienen als Lichtquelle für das elektronische Fotografieverfahren nach Carlson, werden also auf eine xerografische Platte projiziert unä bilden elektrostatische Muster auf der fotoleitenden Schicht P der Schirmplatte. Dabei muß zum Festhalten der Ladung auf

der fotoleitenden Schicht das fotoleitende Material einen verhältnismäßig hohen Widerstand haben, so daß die Verwendung von fotoleitendem Material mit verhältnismäßig niedrigem Widerstand und hoher Empfindlichkeit sehr schwierig ist. Man kann daher bei diesem Verfahren nicht erwarten, daß elektro-

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statische Muster mit hohem Kontrast und bei hoher Empfindlichkeit erzeugt werden. Außerdem werden bei diesem Verfahren die Signale zuerst in ein Schirmbild umgewandelt, daß dann zur elektrostatischen Aufzeichnung der Signale auf eine foto empfindliche Platte projiziert wird. Daher sind in der Praxis der Wirkungsgrad und die Geschwindigkeit ziemlich beschränkt»

Die Erfindung hat sich die Aifgabe gestellt, ein neues Speicherverfahren zu schaffen, durch das die Nachteile der bekannten Verfahren vollständig vermieden werden.

Kurz gesagt, werden erfindungsgemäß die Informations signale zunächst in einen Elektronenstrahl umgewandelt, der die Signale in Form vom Strahlungsbildern repräsentiert, oder genauer gesagt, in ein durch einen leuchtenden Körper wiedergegebenes Bild. Diese Bilder werden dann weiter in elektrostatische Bilder auf einer foto empfindlichen Einrichtung umgewandelt, die grundsätzlich aus einer isolierenden, elektrische Ladung tragenden Schicht, einer fotoleitenden Schicht und einer Unterlage zusammengesetzt ist. Die elektrostatischen Bilder werden dann direkt auf ein fotoempfindliches Material oder auf andere Aufzeichnungsmaterialien übertragen. Das oben beschriebene Grund«·

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verfahren nach der Erfindung zur Bildung elektrostatischer Bilder beruht demgemäß auf den in den USA-Patentanmeldungen Nr. 563 899/1966 und 571 538/1966 offenbarten.Erfindungen. Die genannten Patentanmeldungen wfcrden auf den Namen der auch für die vorliegende Anmeldung maßgebenden Anmelderin eingereicht. Das in der vorliegenden Anmeldung offenbarte Grundverfahren nach der Erfindung verwendet eine fotoleitende Einrichtung, bei der eine fotoleitende Schicht und eine ladungstragende Isolierschicht nacheinander auf eine Unterlage aufgebracht sind, die aus einer leitenden oder einer isolierenden Schicht oder auch einer daraus zusammengesetzten Schichtkombination besteht. Das erfindungsgemäße Verfahren ist durch drei Verfahrens schritte gekennzeichnet:

Anlegen einer ersten Spannung (Gleichspannung) an die ladungstragende Isolierschicht, wodurch der Isolator auf einem vorbestimmten Potential gehalten wird, so daß eine gut festgehaltene Ladungs schicht an der Grenzfläche zwischen -der fotoleitenden und der isolierenden Schicht oder in dem benachbarten Teil aufgrund des durch das Potential induzierten elektrischen Feldes erzeugt wird.

Anlegen einer zweiten Spannung, deren Polarität der der ersten Spannung entgegegesetzt ist, oder einer Wechselspannung an die Isolierschicht und gleichzeitiges Projizieren des Bildes

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um den Ladungsschichtzustand aufgrund der ersten angelegten Spannung durch die zweite Spannung zu verändern. Gleichmäßiges Zuführen einer Strahlung, für die die fotoleitende Schicht empfindlich ist, so daß ein elektrostatisches Bild auf der ladungstragenden Isolierschicht erzeugt wird.

Das erfindungsgemäße Verfahren beruht auf dem obenbeschriebenen Grundverfahren und beinhaltet weiter verbesserte Verfahren, die zu den gleichen Ergebnissen und Vorteilen wie das beschriebene Grundverfahren führen sowie die gleichen Merkmale aufweisen.

Kurz gesagt, beinhaltet das erfindungsgemäße Verfahren einen ersten Schritt, bei dem eine erste Spannung an eine fotoleitende Einrichtung angelegt wird, die grundsätzlich aus einer Unterlage, einer fotoleitenden Schicht und einer ladungstragenden Isolierschicht zusammengesetzt ist, einen zweiten Schritt bei dem eine zweite Spannung angelegt und gleichzeitig ein durch den Strahl der Kathodenstrahlröhre dargestelltes Strahlungsbild projiziert oder dieses Strahlungsbild auf einen foto empfindlichen Körper projiziert wird, der in Kontakt mit dem foto leitenden Teil angeordnet ist, sowie einem dritten Schritt, bei dem gleichmäßig mit einer Strahlung belichtet

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wird. Alternativ sieht ein weiteres Verfahren nach der Erfindung als ersten Verf,ahrensschritt vor, eine erste Spannung an die Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre auf ähnliche Weise wie die oben bei der fotoleitenden Einrichtung beschriebenen Spannung anzulegen, als zweiten Verfahrensschritt das Anlegen einer zweiten Spannung an die Schirmplatte und gleichzeitiges Projizieren der vom Kathodenstrahl herrührenden Strahlung und als dritten Verfahrens schritt das gleichmäßige Belichten der Schirmplatte mit einer Strahlung aus dem. Inneren der Kathodenstrahlröhre oder von außen her, wodurch direkt ein elektrostatisches Bild auf der Schirmplatte erzeugt und ggf. auf ein Kopiermaterial übertragen wird. Ein weiteres alternatives Verfahren nach der Erfindung beinhaltet als ersten V erfahrene schritt das Anlegen einer ersten Spannung an die Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre in ähnlicher Form wie die fotoleitende Einrichtung, und zwar in Kontakt ' mit der Ladungstragenden Schicht, oder das Anlegen der ersten

Spannung an die Schirmplatte oder die Einrichtung, bevor diese in dichten Kontakt miteinander gebracht sind, als zweiten Verfahrensschritt das Anlegen einer zweiten Spannung an die Schirmplatte, die in Kontakt mit der fotoleitenden Einrichtung steht, und gleichzeitiges Projizieren des durch den Elektronenstrahl wiedergegebenen Bildes, sowie als dritten Verfahrens-

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schritt das gleichmäßige Belichten der Schirmplatte mit einer aus dem Inneren der Kathodenstrahlröhre oder von außen kommenden Strahlung, wodurch elektrostatische Bilder auf der ladungstragenden Schicht erzeugt werden.

Die oben beschriebenen Verfahren nach der Erfindung sind dadurch gekennzeichnet, daß die erste Spannung direkt oder indirekt an die Ladung tragende Speichers chicht angelegt wird, um diese auf einem vorbestimmten Potential zu halten, so daß, wenn die zweite Spannung gleichzeitig mit dem von dem Elektronenstrahl herrührenden Strahlungsbild an die Speicherschicht angelegt wird, die Unterlage, die fotoleitende Schicht und die ladungtragende Isolierschicht mit oder ohne die ladungtragende Speichers chicht in einem geschichteten Zustand gehalten werden.

Mit Hilfe der erfindnngsgemäßen Verfahren können elektrostatische Muster mit hohem Kontrast erhalten werden. Beispielsweise läßt sich im Falle des in der USA-Patentschrift Nr. 3 041 167 beschriebenen Carlson-Verfahrens und bei Verwendung einer Isolierschicht, deren Dicke im wesentlichen gleich oder etwas größer als die fotoleitende Schicht ist, ein elektrostatischer Kontrast in Höhe von 1000 - 1500 V erreichen.

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Entsprechend den erfindungsgemäßen Verfahren werden die oben angebenen elektrostatischen Ladungen in der ladungtragenden Isolierschicht der fotoleitenden Einrichtung aufrecht erhalten, und es ist nicht notwendigerweise erforderlich, diese Ladungen in der foto leitenden Schicht zti halten, so daß ein hochempfindliches fotoleitendes Material mit verhältnismäßig niedrigem Widerstand verwendet werden kann, wodurch eine hochempfindliche fotoleitende Einrichtung geschaffen wird.

Erfindungsgemäß wird das auf dem Leuchtschirm der Kathodenstrahlröhre wiedergegebene Bild auf die fotoleitende Einrichtung der beschriebenen Art projiziert, und zwar in Kontakt oder ohne Kontakt mit der Kathodenstrahlröhre, oder die fo-

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toleitende Einrichtung oder eine Speichereinrichtung ist über der neuartigen Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre angeordnet, die erfindungsgemäß aus mehreren Schichten besteht. Dadurch wird ein elektrostatisches Bild in der ladungtragenden Schicht erzeugt. Auf diese Weise tritt nur ein kleiner Verkist bei den Lichtbildern auf, und die Erzeugung der Elektronenstrahlen, der Strahlung und der elektrostatischen Ladungebilder läßt sich mit hohem Wirkungsgrad durchführen.

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Wie oben beschrieben, werden bei dem erfindungsgemäßen Verfahren die elektrostatischen Bilder in der ladungtragenden Isolierschicht der fotoleitenden Einrichtung der oben beschriebenen Art erzeugt, so daß das Anlegen der ersten Spannung und die nach der Erzeugung des elektrostatischen Bildes erforderlichen Verfahrensschritte sogar in nichtabgedunkelter Umgebung durchgeführt werden können.

Wenn darüber hinaus die Isolierschicht aus einem Material besteht, das nicht durchlässig für die Strahlung ist, für die die fotoleitende Schicht beim Anlegen der zweiten Spannung empfindlich ist, so kann das gesamte Verfahren im Licht durchgeführt werden.

Die durch die erfindungsgemäßen Verfahren erzeugten elektrostatischen Ladungsbilder lassen sich durch Zuführen eines das Bild färbenden Töners oder durch das Fro st-Verfahr en sichtbar machen, oder können durch irgendein geeignetes Aufzeichnungsverfahren in ein permanentes Bild umgewandelt werden. Alternativ läßt sich das elektrostatische Bild direkt auf ein Kopier- oder Aufzeichnungsmaterial übertragen.

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Die Erfindung will demgemäß ein neues elektrisches Aufzeichnungsverfahren verfügbar machen. Außerdem will die Erfindung eine Kathodenstrahlröhre mit einer neuen Schirmplatte schaffen, die aus mehreren Schichten besteht und elektronenstrahlen in Strahlungsbilder oder Muster umwandeln kann.

Die Erfindung jiat sich weiterhin zum Ziel gesetzt, eine verbesserte elektrische Auf zeichnungsröhre zu schaffen, auf deren Schirmplatte elektrostatische Muster entstehen können. Dabei soll die Auf zeichnungsröhre Einrichtungen aufweisen können, um das auf ihrer Schirmplatte erzeugte Bild zu beleuchten.

Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, ein elektrisches Aufzeichnungsverfahren zur Aufzeichnung elektrostatischer Muster verfügbar zu machen, die durch Umwandlung eines durch Informations signale gesteuerten Elektronenstrahls zustande kommt.

Schließlich hat sich die Erfindung das Ziel gesetzt, ein elektrisches Aufzeichnungsverfahren zu schaffen, das als Verfahrensschritt vorsieht, eine Spannung an eine Schirmplatte, die eine fotoleitende Schicht als Bestandteil enthält, und gleichzeitig

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den Elektronenstrahl anzulegen, wodurch die durch den Elektronenstrahl dargestellten Signale wirksam als elektrostatische Muster auf der ladungtragenden Einrichtung gespeichert werden.

Die Erfindung will darüber hinaus ein elektrisches Aufzeichnungsverfahren schaffen, bei dem auf einer fotoleitenden Einrichtung mit einer ladungtragenden Isolierschicht elektrostatische Bilder mit hohem Kontrast erzeugt werden. Die Erfindung will weiterhin ein e lektrisches Aufzeichnungsverfahren verfügbar machen, bei dem die Verwendung hochempfindlicher fotoleitender Materialien möglich ist. Außerdem soll erfindungsgemäß ein elektrisches Aufzeichnungsverfahren ermöglicht werden, bei dem elektrostatische Bilder sogar in beleuchteter Umgebung mit hohem Kontrast erzeugt werden können. Schließlich hat sich die Erfindung das Ziel gesetzt, ein verbessertes elektrisches Aufzeichnungsverfahren verfügbar zu machen, mit dessen Hilfe die von einem Elektronenstrahl herrührenden elektrostatischen Bilder als permanente Muster aufgezeichnet werden können·

Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigen:

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Fig. 1 zur Erläuterung den Aufbau eines fotoleitenden Gliedes zur Verwendung in Verbindung mit der Erfindung;

Fig. la bis Ic das Verfahren zur Erzeugung eines elektrostatischen Ladungsbildes unter Verwendung des in Fig. 1 gezeigten fotoleitenden Gliedes;

Fig. 2 ein Diagramm für das bei dem vorstehenden Verfahren auftretende Oberflächenpotential;

Fig. 3 a einen anderen Aufbau eines foto empfindlichen Gliedes nach der Erfindung;

Fig. 3a bis 3c das erfindungsgemäße Verfahren zur Erzeugung eines elektrostatischen Bildes unter Verwendung des fotoleitenden Gliedes nach Fig. .3a;

Fig. 4 ein Diagramm des bei dem vorstehenden Verfahren auftretenden Oberflächenpotentials;

Fig. 5a bis 5 f den Aufbau von fotoleitenden Gliedern, die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren benutzt werden;

Fig. 6a bis 6 g den Aufbau der Schirmplatten von Kathodenstrahlröhren nach der Erfindung;

Fig. 7 bis 16 ein Beispiel für die erfindungsgemäßen Verfahren;

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Fig. 17 ein Ausführungsbeispiel der Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre nach der Erfindung;

Fig. 18 und 19 ein weiteres Beispiel für die erfindungsgemäßen Verfahren;

Fig. 20 ein weiteres Ausführungsbeispiel der Schirm- platte einer Kathodenstrahlröhre nach der Erfindung;

Fig. 21 ein weiteres Beispiel für die erfindungsgemäßen Verfahren.

Fig. 1 zeigt den Grundaufbau eines fotoleitenden Gliedes, das bei dem e rf indungs gemäßen Verfahren zur Umwandlung der Strahlung in ein elektrostatisches Bild benutzt wird. Es ist eine Unterlage 1 vorgesehen, ferner eine fotoleitende Schicht 2, die auf der Unterlage 1 mit Hilfe eines Beschichters, durch Aufwalzen usw. oder durch Aufstäuben, Abscheiden im Vakuum usw. erzeugt ist, wobei erforderlichenfalls eine kleine Menge eines Binders, beispielsweise eines Harzes, zu dem die fotoleitende Schicht 2 bildenden Material hinzugefügt werden kann, sowie eine auf der fotoleitenden Schicht 2 angeordnete Isolierschicht 3.

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Wie bereits angegeben, muß das fotoleitende Glied im wesentlichen die vorstehend genannten 3 Schichten zur Erzeugung eines elektrostatischen Bildes besitzen, nämlich die Unterlage 1, die fotoleitende Schicht 2 und die Isolierschicht 3.

Die Unterlage 1 kann aus einem isolierenden oder elektrisch leitendem Material hergestellt sein oder aus der Schichtung bestehen, die aus einer fotoleitenden und einer isolierenden " Schicht zusammengesetzt ist. Zu den leitenden Materialien

zählen metallische Leiter, beispielsweise Aluminium, Kupfer usw., ferner feuchtes Papier, eine sogenannte Nesa-Beschichtung, Glas usw. Die isolierenden Materialien sind aus den gleichen Materialien ausgewählt wie die für die Isolierschicht 3, die im folgenden genauer beschrieben werden soll. Es liegt jedoch keine diesbezügliche Einschränkung vor, und es können praktisch alle bekannten Isoliermaterialien benutzt werden.

Materialien für die fotoleitende Schicht 2 sind Cadmiumsulfid, Cadmiumselenid, kristallines und amorphes Selen, Zinkoxid, Zinksulfid, Titandioxid, Selentellurid, Bleioxid, Schwefel und andere chalcogene Verbindungen, anorganische und organische Fotoleiter, beispielsweise Anthrazine, Carbazole usw. Alternativ kann auf die Unterlage eine Mischung der oben ge-

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nannten Materialien mit oder ohne Verwendung eines Bindesmittels aufgebracht werden, oder es kann eine Schichtenfolge erzeugt werden, die aus mehr als zwei Schichten besteht. Unter den oben angegebenen Fotoleitern sind in Verbindung mit der Erfindung am besten Cds, CdSe, SeTe usw. geeignet. In diesem Fall läßt sich die Empfindlichkeit über den ASA-Wert 100 steigern. Erfindungs gemäß lassen sich fotoleitende Materialien verwenden, die einen verhältnismäßig niedrigen Widerstand aufweisen. Solche Materialien sind bei den bekannten Verfahren, bei denen elektrische Ladungen in der fotoleitenden Schicht festgehalten werden müssen, nicht in einem solchen Umfang benutzt worden. Erfindungs gemäß erhält die fotoleitende Schicht ihre Funktion hinsichtlich des Festhaltens von Ladungen mit Hilfe der auf ihr angebrachten Isolierschicht.

Für die Isoliermaterialien gelten folgende Bedingungen: a) ein zur Festhaltung von elektrostatischen Ladungen ausreichend hoher spezifischer Widerstand und b) Abriebfestigkeit. Soweit diese Bedingungen erfüllt sind, kann jedes Material als Isolierschicht benutzt werden. Wenn das Strahlungsbild durch die Isolierschicht auf die foto leitende Schicht 2 auftreffen soll, muß das Isoliermaterial für die aktivierende Strahlung transparent sein. Wenn andererseits die Unterlage

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aus einem Material, beispielsweise Nesa-Glas oder ähnlichem hergestellt ist, das den Durchtritt der aktivif -enden Strahlung ermöglicht, und wenn das Strahlungsbild du:· h eine solche Unterlage eingestrahlt wird, braucht die Isolierschicht nicht transparent zu sein. Beispielsweise lassen sich Filme oder Schichten aus fluorhaltigem Harz, Polycarbonat-Harz, Polyäthylen-Harz, Celluloseacetat-Harz, Polyester-Harz usw. . verwenden. Außerdem kommen aus Al O , SiO usw. herge-

stelltes Glas, keramisches Material, anorganische Verbindungen in dünner Schicht und ähnliches infrage, die gegebenenfalls so behandelt sein können, daß sie transparent werden.

Nachfolgend soll das Verfahren zur Erzeugung eines elektrostatischen Bildes auf der Isolierschicht 3 des fotoleitenden Gliedes beschrieben werden. Zunächst geschieht dies unter Bezugnahme auf ein Ausführungsbeispiel, bei dem die Unterlage 1 aus lei- * tendem Material besteht und bei dem das Anlegen einer zweiten

Spannung gleichzeitig mit der Emission der Strahlung durch eine Wechselstrom-Koronaentladung erfolgt. Gemäß Fig. la wird die Oberfläche der Isolierschicht 3 der fotoleitenden Platte A elektrisch auf beispielsweise positibe Polarität durch eine Köronaeinrichtung 5 aufgeladen, die mit einer Gleichstrom-Hochspannungsquelle 4 verbunden ist. Für diesen Fall wird

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angenommen, daß negative Ladungsträger von der leitenden Unterlage injiziert und an der Grenzfläche zwischen der fotoleitenden Schicht 2 und der Isolierschicht 3 oder innerhalb der fotoieitenden Schicht 2 nahe der Isolierschicht 3 festgehalten werden. Dabei nimmt das Oberflächenpotential auf der Isolierschicht 3 im Laufe der Zeit zu. Dies ist in Fig. 2 durch die Kurve V gezeigt. Es besteht natürlich auch die Möglichkeit, die oben beschriebene Aufladung unter Verwendung einer Elektrode anstelle einer Koronaentladung durchzuführen. Man beachte, daß die Aufladung unter Einwirkung von Licht stattfinden kann.

Wenn die fotoleitende Schicht 2 n-leitfähigkeit aufweist, wird die Isolierschicht vorzugsweise positiv aufgeladen, während bei p-leitender Schicht 2 die Isolierschicht negativ auigeladen wird.

Dann wird gemäß Fig. Ib das Strahlungsbild (bei der Beschreibung der erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiele wird aus Gründen der Bequemlichkeit der Ausdruck Lichtbild verwendet) auf die Isolierschicht 3 projiziert, und gleichzeitig läßt man eine Wechselstrom-Koronaentladung von einer mit einer Wechselstrom-Hochspannungsquelle 9 verbundenen Einrichtung 8 auf die Isolierschicht einwirken. Wenn das Lichtbild gemäß

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Fig. Ib durch die Isolierschicht 3 projiziert wird, muß die Oberseite der Einrichtung 8 optisch geöffnet sein. Nach der Projektion des Lichtbildes und der erneuten Aufladung durch die Wechselstrom-Koronaentladung sind die durch die erste Aufladung auf die Isolierschicht 3 aufgebrachten positiven Ladungsträger alle oder beinahe alle aufgrund der Wechselstrom-Koronaentladung beseitigt, wenn sie sich an Stellen befinden, die den hellen Teilen des projizierten Lichtbildes entsprechen.

" Diese Entladung hängt von der Zeitdauer und der Intensität der

Wechselstrom-Koronaentladung ab. In diesem Fall wird der Widerstand der foto leitend en Schicht 2 aufgrund des projizierten Lichtbildes herabgesetzt, so daß die Schicht 2 leitend wird. Folglich werden die negativen Ladungen, die an der Grenzfläche zwischen der fotoleitenden Schicht 2 und der Isolierschicht 3 oder innerhalb der fotoleitenden Schicht 2 nahe der Isolierschicht 3 festgehalten worden sind, frei und herabgesetzt, wenn die Oberflächenladungen auf der Isolierschicht 3 verringert werden. Beinahe alle diese negativen Ladungen fließen in die leitende Unterlage 1 ab. Daher wird das Öberflächenpotential der Isolierschicht 3 mit zunehmender Zeit der Wechselstrom-Coronaentladung herabgesetzt. Dies ist in Fig. 2 durch " die Kurve V- dargestellt.

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Die positiven Ladungen an Stellen, die den dunklen Teilen des Lichtbildes entsprechen, werden durch die Wechselstrom-Koronaentladung eebenfalls entladen, aber ihre Entladung ist klein im Vergleich zu der an den hellen Stellen. Polglich werden die entsprechend der obigen Erläuterung in dem fotoleitenden Glied festgehaltenen negativen Ladungen an den den dunklen Teilen des Lichtbildes entsprechenden Stellen durch die Wechselstrom-Koronaentladung wegen des hohen Widerstandes der den dunklen Stellen des Lichtbildes entsprechenden Teile der fotoleitenden Schicht 2 nicht entladen. Daher bleiben die positiven Ladungen in den entsprechenden Teilen der Isolierschicht 3 erhalten oder beinahe unverändert. An denjenigen Stellen der Isolierschicht 3, die den dunklen Teilen des Lichtbildes entsprechen, werden also viel mehr positive Ladungen festgehalten als an denjenigen Stellen, die den hellen Abschnitten des Lichtbildes zugeordnet sind. Es wird jedoch eine große Anzahl negativer Ladungen in der fotoleitenden Schicht 2 gefangen bleiben, so daß das elektrische Feld aufgrund des Oberflächenpotentials der Isolierschicht 3 die in der fotoleitenden Schicht festgehaltenen negativen Ladungen verhältnismäßig stark beeinflußt, wodurch das äußere Feld aufgrund des Oberflächenpotentials außerordentlich klein und vernachlässigbar wird.

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Folglich wird das Oberflächenpotential an den den dunklen Teilen des Lichtbildes entsprechenden Stelle-^ kleiner als das Oberflächenpotential an den den hellen Abschnitten des Bildes entsprechenden Stellen. Dies ist in Fig. 2 durch eine Kurve VD dargestellt. *

Es werden also Oberflächenpotentialdiff erenzen (VL-VD) auf der Isolierschicht 3 in Abhängigkeit von den Hell-Dunkelmustern des Lichtbildes erzeugt, wodurch das elektrostatische Ladungsbild des Lichtbildes entsteht. Diese Oberflächenpotentialdiff erenzen (VL-VD) ändern sich gemäß Fig. 2, wenn das Lichtbild projiziert wird, während gleichzeitig eine Wechselstrom-Koronaentladung einwirkt, so daß die Projektionszeit und die Wechselstrom-Koronaentladungszeit in Abhängigkeit von der Empfindlichkeit der fotoleitenden Platte, den Bedingungen der Wechselstrom-Entladung usw. geeignet gewählt werden müssen, um große Ψ Oberflächenpotentialdifferenzen zu erhalten.

Danach wird die Oberfläche der Isolierschicht 3, auf der entsprechend der obigen Erläuterung ein elektrostatisches Bild erzeugt worden ist, gemäß Fig. Ic der Strahlung 10 ausgesetzt» Dabei bleiben diejenigen Stellen der fotoleitenden Schicht 2, die hellen Abschnitten des Lichtbildes zugeordnet sind, im wesent-

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Al *

lichen unverändert, so daß die positiven Ladungen auf der Oberfläche der Isolierschicht 3 im wesentlichen ebenfalls unverändert bleiben und demgemäß das in Fig. 2 durch die Kurve

V₁. * dargestellte OberfLächenpotential aufrechterhalten bleibt. LL

Andererseits haben diejenigen Stellen der fotoleitenden Schicht 2, die dunklen Abschnitten des Lichtbildes zugeordnet sind, ihren hohen Widerstand beibehalten, da sie nicht der Strahlung des Lichtbildes ausgesetzt waren. Da sie jedoch jetzt der aktivierenden Strahlung ausgesetzt worden sind, wird ihr Widerstand plötzlich herabgesetzt, so daß sie leitend werden. Folglich werden die während des vorhergehenden Verfahrensschrittes dort festgehaltenen negativen Ladungen beinahe vollständig in die elektrisch leitende Unterlage 1 entladen und nur ein sehr kleiner Teil von ihnen wird durch das Feld der positiven Ladungen auf der Oberfläche der Isolierschicht 3 festgehalten. Dann wirken die positiven Oberflächenladungen, d.h., das Feld, das Feld, das die gleiche Polarität wie die der ersten oder ursprünglichen Ladung auf der Oberfläche der isolierenden Schicht 3 hat und ziemlich stark auf die in der fotoleitenden Schicht 2 während des vorhergehenden Verfahrens Schrittes festgehaltenen negativen Ladungen einwirkte, jetzt als äußeres Feld, so daß das Oberflächenpotential der Isolierschicht 3 bei Belichtung der gesamten Oberfläche der Isolierschicht 3 mit der aktivierenden

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Strahlung schnell ansteigt. Dies ist in Fig. 2 durch die Kurve V_nT dargestellt. Wenn die gesamte Oberfläche der Isolierschicht 3 der aktivierenden Strahlung ausgesetzt wird, werden aus den Oberflächenpotentialen V₁. und V„. die Potentiale V_{T T}

Lj JJ J-ii-f

bzw. V , so daß das Oberflächenpotential der den dunklen

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Teilen des Lichtbildes entsprechenden Stellen Jjöher wird als der den hellen Stellen des Bildes entsprechenden Teile. Das heißt, die Oberflächenpotentiale werden umgekehrt und die Differenz wird vergrößert.

Entsprechend einem erfindungsgemäßen Verfahren wird die Oberfläche der Isolierschicht unter Beibehaltung des Gleichgewichtes mit den in der unter der Isolierschicht angeordneten fotoleitenden Schicht induzierten Ladungen aufgeladen. Die Potentialdifferenz wird auf der Oberfläche der Isolierschicht durch die Wechselwirkung zwischen den Ladungen auf der *·" Isolierschicht und denen in der fotoleitenden Schicht hergestellt, wodurch ein elektrostatisches Bild entsprechend den Hell-Dunkelmustern des ursprünglichen Bildes erzeugt wird. Daher weist im Vergleich zu den bekannten elektronischen Fotografie-Verfahren, bei denen elektrostatische. Ladungsbilder auf der Oberfläche einer fotoleitenden Schicht erzeugt

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werden, das erfindungsgemäß erzeugte elektrostatische Ladungsbild ein stärkeres äußeres Feld und ein größeres Oberflächenpotential auf, so daß die Empfindlichkeit höher ist.

Da bei der vorliegenden Erfindung das auf der Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre gebildete Fluoreszensbild als Strahlungsbild benutzt wird, ist das erfindungsgemäße Verfahren sehr vorteilhaft bei der Erzeugung elektrostatischer Muster aus einen Fluoreszenzbild mit kleiner Intensität, und zwar bei schneller Entwicklung und hoher Empfindlichkeit.

Es soll jetzt unter Bezugnahme auf Fig. 3 ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung erläutert werden, bei dem das Anlegen der zweiten Spannung, das gleichzeitig mit der Projektion des Lichtbildes erfolgt, durch eine Gleichstrom-Kb ro naentladung durchgeführt wird, die die gleiche Polarität wie die erste Aufladung besitzt. Gemäß Fig. 3a ist die Unterlage 1 der fotoleitenden Platte B aus einen strahlungsdurchlässigem Material, beispielsweise Nesa-Glas oder ähnlichem hergestellt, und weist eine Nesa-Beschichtung 11 auf. Das Lichtbild wird auf die fotoleitende Schicht durch diese strahlungsdurchlässige Unterlage projiziert. Das bet diesem Ausführungsbeispiel ver«-

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α»

wendete Verfahren entspricht im wesentlichen dem in Verbindung mit dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Fig. 1 beschriebenen Verfahren.

Als erster Schritt wird, wie im Fall der Fig. la, die Oberfläche der Isolierschicht 3 positiv aufgeladen. Beim zweiten Sxhritt wird gemäß Fig. 3b das Lichtbild 12 durch die durchlässige Unterlage 12 hindurch pro jiziert, während eine mit hohem negativen Potential beaufschlagte Entladungs einrichtung 8* gleichzeitig über die Oberfläche der Isolierschicht 3 bewegt wird. In diesem Fall, ist, wenn die Isolierschicht 3 aus einem Material besteht, das den Durchtritt des Lichtbildes ermöglicht, die obere Seite der Abschirmplatte der Entladungseinrichtung 8 optisch geschlossen, um zu verhindern, daß außer von der Seite der Unterlage Strahlung auf die Oberfläche der Isolierschicht 3 auftrifft. Wenn andererseits das Isoliermaterial für das Lichtbild nicht durchlässig ist, ist die vorstehend angegebene Maßnahme nicht erforderlich, und außerdem kann dieses Verfahren in beleuchteter Umgebung durchgeführt werden.

In einem mit L bezeichneten Teil der fotoleitenden Schicht 2, der bei dem zweiten Verfahrensschritt stark durch das Lichtbild beleuchtet ist, wird der Widerstand aufgrund der während

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der ersten Aufladung festgehaltenen Ladungen stark herabgesetzt. Außerdem werden die positiven Ladungen auf demjenigen Teil der Oberfläche der Isolierschicht 3, der dem oben angegebenen Teil der fotoleitenden Schicht 2 entspricht, durch die negative Koronaentladung, die gleichzeitig mit drr Projektion des Lichtbildes angelegt wird, abgeführt, und dann erfolgt eine negative Aufladung. Gleichzeitig werden positive Ladungen an der Grenzfläche zwischen der Isolierschicht und der fotoleitenden Schicht oder innerhalb der fotoleitenden Schicht nahe der Isolierschicht induziert.

Andererseits werden in einem mit D bezeichneten Teil, auf den weniger Licht auffällt, die auf der Oberfläche der Isolierschicht 3 bei der ersten Aufladung erzeugten positiven Ladun« gen teilweise oder vollständig durch die negativen Ladungen neutralisiert, die bei dem zweiten Schritt aufgebracht werden. In diesem Fall ist die Möglichkeit klein, daß die Oberfläche der Isolierschicht weiter negativ aufgeladen wird, wie im Fall des belichteten Abschnittes L. Dies bedeutet, daß das externe Feld aufgrund der andauernd festgehaltenen Ladungsträger einen starken Einfluß hat.

Danach wird die gesamte Oberfläche der Isolierschicht 3, auf

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der die elektrostatischen Ladungsmuster bei dem zweiten. Verfahrensschritt erzeugt worden sind, der aktivierenden Strahlung 13 ausgesetzt. Dabei bleibt in demjenigen Teil, auf den während zweiten Verfahrensschrittes viel Licht aufgefallen ist, der Zustand der fotoleitenden Platte A im wesentlichen unverändert, so daß auch das Oberflächenpotential der Isolierschicht 3 im wesentlichen nicht geändert wird. Andererseits wird der Abschnitt B, auf den wenig Licht aufgefallen ist und der hohen

" Widerstand besitzt, während des dritten Verfahrensschrittes

der aktivierenden Strahlung ausgesetzt, so daß der Widerstand schnell herabgesetzt und dieser Abschnitt elektrisch leitend wird. Daher fließen die während des vorhergehenden Verfahrensschrittes im Inneren festgehaltenen Ladungen zur elektrisch leitenden Unterlage ab. Gleichzeitig werden positive Ladungen in der fotoleitenden Schicht 2 durch die negativen Ladungen auf der Oberfläche der Isolierschicht 3 induziert. FdJg-

) lieh wird das Oberflächenpotential der Isolierschicht 3 stark

herabgesetzt, so daß das "Feld aufgrund der negativen Ladungen auf der Isolierschicht 3 ziemlich stark auf die in der fbtoleitenden Schicht 2 induzierten positiven Ladungen einwirkt, während das äußere Feld aufgrund der Oberfläehenladungen vernachlässigbar wird.

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Wenn andererseits das äußere Feld aufgrund der im Inneren festgehaltenen Ladungen sehr stark ist, werden möglicherweise die während des ersten Verfahrensschrittes aufgebrachten Ladungen selbst nach dem zweiten Verfahr ens schritt nicht vollständig neutralisiert. In diesem Fall überlagern sich die externen Felder unter gegenseitiger Aufhebung, und da das Feld der eingeschlossenen Ladungen bei Belichtung der gesamten Oberfläche der Isolierschicht mit der aktivierenden Strahlung verschwindet, läßt sich das elektrostatische Muster positiver und negativer Ladungskombinationen mit dem sich ergebenden hohen Kontrast erhalten« Das elektrostatische Muster, das nach dem dritten Verfahrens schritt auf der fotoleitenden Platte B erzeugt worden ist, zeigt Fig. 4. Die Bezeichnungen in Fig. 4 entsprechen denen in Fig. 2. Bis hierher ist das erfindungsgemäße Verfahren unter spezieller Bezugnahme auf die Ausführungsbeispiele der Fg. 1 bis 3 unter Verwendung der fundamenteilen fotoleitenden Platten nach der Erfindung beschrieben worden. Bei der Anwendung der erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich jedoch auch die fotoleitenden Platten verwenden, deren Aufbau in Fig. 5 gezeigt ist und die auf dem gleichen Grundgedanken beruhen.

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Die in Fig. 5a gezeigte fotoleitende Platte ähnelt der nach Fig. 1 mit der Ausnahme, daß zwischen der fotoleitenden Schicht 2 und einer elektrisch leitenden Unterlage 1 eine Isolierschicht 14 angeordnet ist. Mit anderen Worten, die Unterlage ist aus der elektrisch leitenden Schicht 1 und der auf dieser angeordneten Isolierschicht 14 zusammengesetzt. Die Isolierschicht 14 dient als Sperrschicht, die die Injektion k von Ladungsträgern aus der Elektrode sperrt. Während der

Erzeugung des elektrostatischen Bildes sind die wirksamen Ladungen in der fotoleitenden Schicht 2 der fotoleitenden Platte nach Fig. 5a freie, in der Schicht 2 vorhandene Träger und solche Träger, die durch Strahlungseinwirkung induziert worden sind. Wenn daher die erste Aufladung unter gleichmäßiger Lichteinstrahlung erfolgt, sind genügend viele Ladungsträger in der Nähe der fotoleitenden Schicht 2 und der Isolierschicht 3 festgehalten.

Die fotoleitende Platte nach Fig. 5b ähnelt der in Fig. 5a gezeigten Platte mit der Ausnahme, daß die elektrischleitende Unterlage 1 entfernt ist, so daß die Isolierschicht 14 allein die Unterlage darstellt. Bei Benutzung dieser fotoleitenden Platte erfolgen die Aufladungen und die Beleuchtung in Verbindung mit einer zusätzlichen Elektrode, die im folgenden

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noch genauer beschrieben werden soll. Die fotoleitende Platte nach Fig. 5c ähnelt der nach Fig. 1 mit der Ausnahme, daß die Unterlage 1 entfernt ist. Die Platte nach Fig. 5c kann auf ähnliche Weise wie die Platte nach Fig. 5b benutzt werden. Die fotoleitende Platte nach Fig. 5d ähnelt der nach Fig. 1 mit der Ausnahme, daß die Isolierschicht 3 entfernt ist. Die Platte nach Fig. 5d kann bei einem erfindungsgemäßen Verfahren verwendet werden, bei dem nach der ersten Aufladung der fotoleitenden Platte eine Isolierschicht (nicht gezeigt) aufgelegt wird, oder ein vorher aufgeladener Isolierfilm (nicht gezeigt) aufgebracht wird. Die fotoleitende Platte nach Fig. 5e ähnelt ebenfalls der nach Fig. 5a mit der Ausnahme, daß die Isolierschicht 3 weg~- gelassen ist. Die Platte nach Fig. 5e kann auf die gleiche Weise wie die Platte nach 5d benutzt werden. Die fotoleitende Platte nach 5f ähnelt der nach Fig. 5e mit der Ausnahme, daß die Unterlage 1 entgernt ist. Die Platte nach Fig. 5f kann bei einem Verfahren verwendet werden, bei dem die erste Aufladung wie im Fall der fotoleitenden Platte nach Fig. 5d erfolgt und dann der zweite V erfahr ens schritt wie im Fall der fotoleitenden Platte nach Fig. 5b durchgeführt wird.

Nachfolgend soll die spezielle Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre, die ebenfalls Gegenstand der Erfindung ist, unter

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SO

Bezugnahme auf Fig. 6 beschrieben werden» Die Schirmplatte nach Fig. 6a weist wenigstens eine Leuchtstoffschicht 15 auf, die beim Auftreffen eines Elektronenstrahls aufleuchten kann, ferner eine Vakuumhülle 16, die den Durchtritt von Licht ermöglicht und aus Glas oder ähnlichem bestehen kann, sowie eine lichtdurchlässige dünne Schichtelektrode Diese Schirmplatte läßt sich mit Vorteil in Verbindung mit einer der fotoleitenden Platten nach Fig, 5 bei einem der nachfolgend noch genauer zu beschreibenden Verfahren verwenden. Bei der Schirmplatte nach Fig. 6b ist eine Faseroptik auf die Hülle der Kathodenstrahlröhre anstelle der Glas schicht 16 nach Fig. 6 a aufgebracht. Diese Anordnung verhindert eine Beugung des auf der Leuchtstoffschicht 15 erzeugten Bildes innerhalb des Glases. Gemäß Fig. 6b kann eine dünne leitende Schicht 19 zwischen die Leuchtstoffs chicht und die Glashülle 18 eingefügt werden, derart, daß diese Schicht 19 als Anode der Kathodenstrahlröhre dient. Alternativ läßt sich eine dünne Aluminiumschicht (nicht gezeigt) auf die Innenfläche der Leuchtstoffs chicht 15 aufbringen, wenn dies erforderlich sein sollte.

Die oben beschriebene Faseroptik, sowie die Anode und die innere Aluminiumschicht sollen nicht besonders in Verbindung

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mit den Schirmplatten nach Fig. 6c bis 6g erläutert werden,
aber es sei darauf hingewiesen, daß sie bei Bedarf in diese
Schirmplatten aufgenommen werden können.

Bei der Schirmplatte nach Fig. 6c ist eine dünne Isolierschicht

20 ähnlich der Schicht 14 in Fig. 5a auf die transparente Elektrode 17 der Schirmplatte nach Fig. 6a aufgebracht. In diesem Fall muß die dünne Isolierschicht strahlungsdurchlässig sein.
Diese Schirmplatte wirkt mit einer der fotoleitenden Platten
nach den Fig. 5b, 5c und 5f bei dem zweiten Verfahrensschritt zusammen.

Bei der Schirmplatte nach Fig. 6b ist eine fotoleitende Schicht

21 auf die Isolierschicht 20 der Schirmplatte nach Fig. 6c aufgebracht. Die Platte nach Fig. 6d kann zur Bildung eines
elektrostatischen Musters auf einem isolierenden Speicherfilm benutzt werden, der über die Platte gelegt wird.

Die Schirmplatte nach Fig. 6e besitzt eine weitere Isolierschicht

22 gegenüber der Platte nach Fig. 6d. Die zusätzliche Isolierschicht 22 kann zur Erzeugung eines Leuchtstoffbildes und zur Umwandlung dieses Bildes in ein elektrostatisches Bild dienen. Dies soll im folgenden noch genauer beschrieben werden.

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Die Schirmplatten nach Fig. 6f und 6g ähnelm denen nach Fig. 6d bzw. 6e mit der Ausnahme, daß die als Sperrschicht dienende Isolierschicht 20 weggelassen ist.

Die Materialien für die bei den oben beschriebenen fotoleitenden Platten und Schirmplatten benutzten Fotoleiter und Leuchtstoffe sollen anhand von Beispielen nachfolgend noch genauer beschrieben werden. Bevorzugte Kombinationen sind jedoch die folgenden:
Leuchstoffe leitende Materialien

BaSO_A:Pb ZnO (ohne Aktivator)

( + Binder)

ZnO : Zn ZnO (chromatisch aktiviert)

( + Binder)

(Zn, Cd)S : Ag (Zn:Cd = 58	:42)	CdS	( +	Binder)
(Zn, Bd)₂ SiO₄ :	Mn	CdSe		Binder)
(Zn : Be =	9 : 1)
CaWO		SeTe	15%)
ZnS : Ag		(Te =	: As
(Zn, Cd)S : Cu		^AS2^S3	2^Se3

Alle vorgenannten Materialien sprechen auf Elektronenstrahlen, Ultraviolettstrahlen, Röntgenstrahlen und Licht an.

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Es ist bis hierher der Aufbau der erfindungsgemäß benutzten fotoleitenden Platten anhand der Fig. 1, 3a und 5a bis 5f sowie der Aufbau der Schirmplatten, die erfindungsgemäß bei den Kathodenstrahlröhren angewendet werden können, anhand der Fig. 6a bis 6g beschrieben worden. Erfindungsgemäß lassen sich die Ergebnisse, Vorteile und Merkmale der oben beschriebenen Art durch die Wechselwirkung zwischen diesen fotoleitenden Platten und Kathodenstrahlröhren mit solchen Schirmplatten e rreichen.

Wie oben angegeben, ist es ihm Rahmen der Erfindung wichtig, daß wenigstens eine Unterlage, eine fotoleitende Schicht und eine ladungtragende Isolierschicht in Form eines Schichtkörpers bei der ersten Aufladung und der zweiten Aufladung, die gleichzeitig mit der Projektion des dem Elektronenstrahl entsprechenden Lichtbildes stattfindet, bei dem Erzeugen des elektrostatischen Bildes während des elektrischen Speicherverfahr ensnach der Erfindung vorhanden sind. Diese notwendige Bedingung läßt sich mit Hilfe der fotoleitenden Platten, die selbst den oben beschriebenen Aufbau aufweisen, oder der Schirmplatten oder Kombinationen von fotoleitenden Platten, die einen Teil der erforderlichen Schichten besitzen, mit Schirmplatten, die die anderen Schichten aufweisen, Erfüllen, so daß

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die oben beschriebenen V erfahr ens schritte nach der Erfindung durchgeführt werden können.

Die erfindungsgemäßen Verfahren sollen im folgenden genauer beschrieben werden. Zunächst haben die fotoleitenden,Platten nach den Fig. 1, 3a, 5a und 6b alle erforderlichen Grundschichten wie oben beschrieben. Wenn diese Platten zur Erzeugung elektrostatischer Muster verwendet werden, so wird bei dem

ψ zweiten erfindungsgemäßen Verfahrens schritt das Strahlungsbild gemäß Fig. 7 auf die fotoleitende Platte projiziert, oder die fotoleitende Platte wird gemäß Fig. 9 und 10 in engen Kontakt mit der Schirmplatte gebracht, um das Strahlungsbild zu projizieren. In beiden Fällen wird die zweite Spannung gleichzeitig mit der Projektion des Elektronenstrahls an die Isolierschicht angelegt, und das elektrostatische Bild wird direkt auf der fotoleitenden Platte eines Aufzeichnungsträgers erzeugt, der Ladungen tragen kann und zwischen der Schirinplatte und der fotoleitende'n Platte gemäß Fig, Il angeordnet ist.

Wenn der Aufzeichnungsträger entsprechend der obigen Erläuterung benutzt wird, wird der Aufzeichnungsträger aufgeladen und dann über die fotoleitende Platte gelegt, oder

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die fotoleitende Platte aufgeladen und dann der Aufzeichnungsträger darüber gelegt.

Es sei darauf hingewiesen, daß, wenn der Aufzeichnungsträger auf die fotoleitende Platte oder die Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre gelegt ist, einer der oben angegebenen beiden Verfahrensschritte durchgeführt wird, auch wenn dies bei den im folgenden beschriebenen Verfahrensbeispiel nicht erwähnt wird.

Die fotoleitende Platte nach Fig. 5c wird in Kombination mit einer der Schirmplatten nach Fig. 6a, 6b und 6c benutzt, wobei die foto leitende Schicht gemfiß Fig. 18 in Kontakt mit der Schirmplatte gebracht wird, so daß ein elektrostatisches Bild auf der Isolierschicht 3 erzeugt wird.

Die fotoleitenden Platten nach Fig. 5d, 5e und 5f werden in Verbindung mit einer üblichen Kathodenstrahlröhre benutzt, wobei sie gemäß Fig. 12 in Kontakt mit dieser gebracht werden. Alternativ können diese fotoleitenden Platten gemäß Fig. 8 benutzt werden, wobei das Strahlungsbild projiziert wird. In beiden Fällen bleibt die Isolierschicht in engem Kontakt mit der fotoleitenden Schicht, wenn das Strahlungsbild auf diese Schicht projiziert und gleichzeitig eine zweite Spannung angelegt wird.

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Diese fotoleitenden Platten können auch in Kombination mit einer der Schirmplatten nach Fig. 6a, 6b und 6c benutzt werden. .In diesem Fall ist ein ladungtragender Aufzeichnungsträger zwischen die fotoleitende Schicht der fotoleitenden Platte und der Schirmplatte angeordnet, während das Strahlungsbild projiziert und gleichzeitig eine zweite Spannung angelegt wird. Dadurch wird ein elektrostatisches Bild auf dem Aufzeichnungsträger erzeugt.

Die Schirmplatten nach den Fig. 6a bis 6g können mit den oder ohne die oben beschriebenen fotoleitenden Platten zur Erzeugung eines elektrostatischen Bildes benutzt werden. Das heißt, die in den Fig, 6a, 6b und 6c gezeigten Schirmplatten lassen sich in Kombination mit den in den Fig. 5c, 5d, 5e und 5f dargestellten fotoleitenden Platten verwenden. Außerdem können diese Schirmplatten in Kombination mit den in den Fig. 1, 3a, 5a und 5b dargestellten fotoleitenden Platten in einer Anordnung nach Fig. 13 oder 14 benutzt werden. Bei dieser Anordnung wird eine hohe Spannung an die Schirmplatte als zweite Spannung angelegt, während gleichzeitig das dem Elektronenstrahl entsprechende Strahlungsbild projiziert wird. Dadurch bildet sich ein elektrostatisches Bild auf der fotoleitenden Platte oder einem ladungtragenden Aufzeichnungsträger

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der zwischen der Schirmplatte und der fotoleitenden Platte angeordnet ist.

Bei den in den Fig. 6e und 6g gezeigten Schirmplatten können elektrostatische Bilder auf den Platten selbst erzeugt werden« Gemäß Fig. 19 lassen sich elektrostatische Bilder direkt erzeugen, oder es können gemäß Fig. 12 elektrostatische Bilder auf ladungtragenden Aufzeichnungsträgern erzeugt werden, die auf die Schirmplatten aufgelegt werden. Bei den Schirmplatten nach Fig. 6d und 6f liegt die ladungtragende Isolierschicht auf den Platten auf, wenn die zweite Spannung angelegt, während gleichzeitig das dem Elektronenstrahl entsprechende Strahlungsbild projiziert wird. Dadurch wird das elektrostatische Bild auf der Isolierschicht erzeugt. In diesem Fall kann die erste Ladespannung entweder an die fotoleitende Schicht der Schirmplatte oder die ladungtragende Isolierschicht angelegt werden. Alternativ können die erste und zweite Spannung angelegt werden, nachdem die Isolierschicht auf die Schirmplatte aufgelegt worden ist.

Vorstehend sind die erfindungsgemäßen Verfahren zur Erzeugung elektrostatischer Bilder unter Verwendung von Kombinationen der fotoleitenden Platten mit Schirraplatten beschrieben worden.

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Es sei jedoch darauf hingewiesen, daß die Erfindung nicht darauf beschränkt ist und Abänderungen und die Beispiele umfaßt, die im folgenden beschrieben werden, sowie die Verfahren, die in den Ansprüchen definiert sind.

Zunächst soll ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Erzeugung eines elektrostatischen Bildes entsprechend den durch einen Elektronenstrahl dargestellten Signalen beschrieben werden.

Fig. 7 erläutert ein Verfahren, bei dem Faksimile-Signale in ein Strahlungsbild umgewandelt werden, das wiederum als elektrostatisches Bild aufgezeichnet wird. Das Bild der Kathodenstrahlröhre wird auf die fotoleitende Platte A mit Hilfe eines optischen Systems projiziert, das einen Reflektorspiegel 4a, eine Linse 5a usw. enthält.

Die Eingangs signale werden durch einen Detektor 13a festgestellt und in Video-Signale und Synchronisations signale aufgeteilt. Die ersteren laufen über einen Verstärker 14a und werden an das Steuergitter 15a einer Kathodenstrahlröhre angelegt, um den von einer Kathode 16a emittierten Elektronenstrahl zu steuern. Dieser wird durch ein Beschleunigungsgitter 17a be.-«

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schleunigt und durch eine Pokusierelektrode 18a beeinflußt, derart, daß sich ein dünner Elektronenstrahl ergibt. Mit Hilfe von Ablenkelektroden 19a tastet der Strahl einen Leuchtstoff schirm 20a ab. Die Synchronisations signale werden durch eine Trennschaltung 21a in Vertikal- und Horizontal-Synchronisationssignale aufgeteilt, die wiederum an Ablenkschaltungen 22a bzw. 23a und schließlich an Ablenkspulen angelegt werden. Die Synchro nisationHsignale steuern außerdem über eine Steuerschaltung 25a, einen Motor 24a, der eine die fotoleitende Platte A tragende Trommel dreht, derart, daß die Drehung der Trommel mit der ursprünglichen Übertragungsgeschwindigkeit auf der Sendeseite synchronisiert ist.

Zunächst wird die fotoleitende Platte A mit Hilfe einer Ladeeinrichtung 6 a aufgeladen und dann einer Leuchtbild-Belichtungsstation 7a zugeführt, wo sie einer sekundären Gleichstrom- oder Wechselstrom-Aufladung ausgesetzt wird, die entgegengesetzte Polarität wie die erste Aufladung besitzt. Dadurch wird ein elektrostatisches Bild auf der Isolierschicht 3 erzeugt. Danach wird die fotoleitende Platte A vollständig durch eine Lampe 9a belichtet, wodurch der Kontrast des elektrostatischen Bildes erhöht und das elektrostatische Bild mit starken äußeren Feld und großer Oberflächen-Potentialdifferenz erzeugt werden kann.

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Danach kann dieses elektrostatische Bild eletrostatisch auf ein Kopierpapier übertragen werden, oder es kann gemäß Fig. 7 mit Hilfe eines Töners in einem Verarbeiter 10a entwickelt und dann auf ein Kopierpapier 11a übertragen werden. Anschließend wird die Fotoleitende Platte A zur wiederholten Verwendung durch eine Säuberungseinrichtung 12a gereinigt.

Bei diesem Ausführungsbeispiel wurde P 11 (ZnS aktiviert durch Ag) als Leuchtstoffschirm der Kathodenstrahlröhre benutzt. Als fotoleitende Platte A wurde auf der Trommel amorphes SeTe (Te: 15 mol %) in einer Dicke von etwa 40yu im Vakuum abgeschieden. Auf diese SeTe-Schicht wurde unter Verwendung eines Epoxyharz-Klebers ein Polyesterfilm mit einer Dicke von 25 yü aufgebracht. Die erste Aufladung erfolgte durch das Koronaentladungsgerät 6a, dem eine negative Spannung von 8 KV zugeführt wurde, um den Polyedterfilm auf etwa -2000 V aufzuladen. Danach wurde gleichzeitig mit der Projektion des Bildes die zweite Aufladung mit Hilfe des Entladungsgerätes 8a durchgeführt, das auf der Oberseite optisch offen ist und an das eine Spannung von 7 KV angelegt war, Ähschlie«·/:- ßend wurde die gesamte Oberfläche der fotoleitenden Platte A : durch die Lampe 9a, beispielsweise eine Wolfrämlampe, gleichmäßig belichtet, wodurch das elektrostatische Bild mit

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etwa +600 V gehalten wurde.

Bei den oben erläuterten Ausführungsbeispiel iat die fotoleitende Platte nach Fig. 1 benutzt worden. Es kann jedoch auf ähnliche Weise die fotoleitende Platte nach Fig. 5a verwendet werden. Es sei darauf hingewiesen, daß eine soiche Austauschmöglichkeit auch bei den Ausführungsbeispielen besteht, die nachfolgend im einzelnen beschrieben werden sollen.

Fig. 8 zeigt eine Abänderung des oben in Verbindung mit Fig. 7 beschriebenen Beispiels. Bei dieser Abänderung ist die transparente Isolierschicht 3 von der fotoleitenden Schicht getrennt und wird vorher einem ersten Ladungsgerät 6a ausgesetzt. Danach wird die Isolierschicht weiter bewegt, bis sie in engen Kontakt mit der fotoleitenden Platte kommt, die gegenüber einer Ladeeinrichtung 7b angeordnet ist. Das elektrostatische Bild kann auf ähnliche Weise wie oben beschrieben erzeugt werden. Dann wird die Isolierschicht 3 von der foto leitenden Platte zur weiteren Bearbeitung oder Übertragung des erzeugten Bildes entfernt.

Da die fotoleitende Platte 4^!b aus einem schnellanspredhenden Material hergestellt ist, kann sie in stationärer Anordnung' ver-

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wendet werden. In diesem Fall werden das Abtasten der Schirmplatte durch die Informations signale und das Weiterführen des Aufzeichnungsfilms 1 durch eine Synchronisationseinrichtung 15b und einen Motor 16b gesteuert. Die Bezugsziffern 4b, 5b und 8b bezeichnen einen Spiegel, eine Linae und eine Ladeeinrichtung. . ..,.."-.

Mit Bezug auf. die Fig. 9 und 10 soll ein weiteres Ausführungs- .. w beispiel der Erfindung beschrieben werden, bei dem die Ioto~ . . ,

leitende Platte der in den Fig. 1 und 5a gezeigten Art in Kon- . _ä . takt mit der Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre gebracht ist, wodurch ein elektrostatische Bild erzeugt wird_e: .In.jäen, _;,- <rQ Fig. 9 und 10 werden gleiche Bezugs ziffern,_:zu,r Bezeichnung . ., gleicher Bauteile verwendet. .-Ί-.,- ., .·■ ,; ...,-..

Die Bezugsfeiffer le bezeichnet eine Kathodenstrahlröhre^.^e-_: den Leuchtstoffschirm der Schirmplatte, 2^; 3c eine-Glasplatte der Schirmplatte und 4c eine fotoleitende Platte, die als Schichtplatte eine Isolierschicht 4cl aufweist, die aus einen Material mit hohem elektrischem Widerstand und hoher Abriebfestigkeit besteht, beispielsweise fluorhaltigem Kunststoff, Polycarbonat-Harz, Polyäthylen-Harz, Polyester-Harz oder ähnlichem, ferner eine fotoleitende Schicht 4c2 und eine transparente, leitende dünne

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Schicht elektrode 4c3, beispielsweise eine durch Abscheidung im Vakuum erzeugte Metallschicht.

Die fotoleitende Platte 4c kann in Kontakt mit der Schirmplatte der KathodenstraMröhre gebracht wwrden. Zu diesem Zweck wird die fotoleitende Platte 4c gemäß Fig. 9 wie ein endloses Band mit Hilfe eines ringförmigen, die Kathodenstrahlröhre umgebenden Rahmen 5c oder gemäß Fig. 10 mit Hilfe von Führungsrollen 6c, 7c und 8c weiter bewegt, die die Kathodenstrahlröhre umgeben.

Die Isolierschicht 4cl der fotoleitenden Platte 4c wird gunächst durch eine Ladeeinrichtung 9c aufgeladen, und dann wird die so aufgeladene fotoleitende Platte in Richtung auf die Schirnaplatte der Kathodenstrahlröhre weiter bewegt, wo der Leuchtstoffschirm 2c der Kathodenstrahlröhre die fotoleitende Platte 4c entsprechend der durch den Elektronenstrahl dargestellten Information belichtet. Gleichzeitig wird die fotoleitende Platte einer Gleichstrom-oder Wechselstrom-Koronaentladung von einer Entladungseinrichtung 10 ausgesetzt, der eine Spannung zugeführt wird, deren Polarität der bei der ersten Entladung entgegengesetzt ist. Dadurch wird das aus den Lichtpunkten der KathodenstraMröhre zusammengesetzte Bild auf der Isolierschicht

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4cl als elektrostatisches Bild gespeicherte Danach wird die fotoleitende Platte 4c weiter bewegt und vollständig durch das vorhandene Licht mit oder ohne Verwendung einer Lampe lic belichtet, wodurch das elektrostatische Bild einen hohen Kontrast erhält. - .

Anschließend wird das elektrostatische Bild auf ein Kopierpapier _ 12c (vgl. Fig. 10) übertragen sowie nach irgendeinem geeigneten,

aus der elektronischen Fotografie bekannten Verfahren entwickelt und fixiert. Alternativ kann gemäß Fig. 9 das elektrostatische Bild in einer Verarbeitungs einrichtung 13c durch einen Toner auf der foto leitenden Platte 4c entwickelt und dann auf das Kopierpapier 14c übertragen werden. Schließlich wird die fotoleitende Platte 4c zwecks wiederholter VVerwendung in einer Säuberungs einrichtung 15c gereinigt.

* Zur Synchronisation bei der Erzeugung heller Flecken durch

den Elektronenstrahl der Kathodenstrahlröhre mit dem Anlegen einer Spannung an die zweite Entladungseinrichtungundm.it" dem Anhalten der fotoleitenden Platte 4c während dieser zweiten Entladungsoperation werden ein Motor 19a zur Weiterbewegung der fotoleitenden Platte 4e und die Entladungs einrich- ; ' tung 10c durch eine Synchronisationstrennschaltung 18c ge- -_:

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steuert, wenn die Kathodenstrahlröhre durch die Informationseingangssignale über einen Verstärker 16c und eine Ablenk-Synchronisations schaltung 17c beaufschlagt wird₀ Mit 20c ist eine Hochspannungsquelle für die Kathodenstrahlröhre bezeichnet und mit 21c eine Übertragungs-Vorspannungsquelle. Wenn ein schnellansprechendes fotoleitendes Material benutzt wird, kann die Erzeugung des elektrostatischen Bildes auch bei kontinuierlicher Bewegung der Trommel 6c oder des Bandes 4c durchgeführt werden. Dies wurde unter Verwendung von CdS erreicht.

Bei dem in Fig. 11 dargestellten Ausführungsbeispiel wird ein weiterer Isolierfilm 22c auf die fotoleitende Platte 4c aufgebracht, wenn diese auf die Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre gelangt. Der Isolierfilm 22c kann aus dem gleichen Material wie die Isolierschicht 4c 1 hergestellt sein, beispielsweise aus Mylar. Der Isolierfilm 22c wird mit Hilfe einer Ladeeinrichtung 9c aufgeladen, bevor er auf die fotoleitende Platte 4c aufgebracht wird» Nach Erzeugung des elektrostatischen Bildes entfernt man den Isolierfilm von der Platte 4c und führt ihn in eine andere Richtung. Die Verwendung des Isolierfilms 22c erleichtert die Nachbehandlung wesentlich, beispielsweise das Entwickeln, Fixieren usw.

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Bx diesem. Pall tritt eine Entladung zwischen der Isolierschicht 4cl und dem Isolierfilm 22c auf, wenn dieser von der Platte 4c abgehoben wird, so daß eine geeignete Vorrichtung vorgesehen: werden muß, um diese Entladung zu verhindern. Das Ausführungsbeispiel nach Fig. 12 ermöglicht dies» Dabei wird die Isolierschicht 4cl der fotoleitenden Platte 4c weggelassen und der Isolierfilm 22 direkt auf die fotoleitende Schicht 4c2 aufgelegt,, Die gesamte Oberfläche des Isolierfilms wird nach Entfernung von der Platte 4c belichtet, so daß das elektrostatische Bild aufgrund des äußeren Feldes einen verbesserten Kontrast aufweist» Daher ist die Beleuchtungslampe lic zur Beleuchtung der gesamten Oberfläche der fotoleitenden Platte 4c bei diesem Ausführungsbeispiel nicht erforderlich.

DieSchirmplatten der in den Fig_a 6a, 6b und 6c gezeigten Art lassen sich gemäß Fig.³ 13 verwenden«, Auf der Außenseite der Glasplatte einer Schirmplatte ist eine dünne Schichtelektrode 23c erzeugt worden, auf der die fotoleitende Platte 4c aufliegt. Diese besteht aus der Isolierschicht 4Cl, der fotoleitenden Schicjt 4c2 und der elektrisch leitenden Unterlage 4c3. An die Elektrode 23c ist eine Spannung E angelegt, um die sekundäre Aufladung gleichzeitig mit der Belichtung durchzuführen. :

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Alternativ kann gemäß Fig_o 14 und 15 der unabhängige Isolierfilm 22c benutzt bzw«, nichtbenutzt werden,,

Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung nach Fig. 16 wird die fotoleitende Platte 4c nicht nur in einer Richtung weiterbewegt, sondern auf der Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre hin und herbewegt, während nur der vorher aufgeladene Isolierfilm 22c sich in einer Richtung weiterbewegt.

Wenn ein Trennmittel, beispielsweise Sllikonöl, Te^-onöl oder ähnliches zwischen den Isolierfilm 22c, die Elektrode 22c und die Isolierschicht 4cl gebracht wird, läßt sieh fieren Lebensdauer verlängern. Dieses Zuführen eines Trennmittels ergibt eine bemerkenswerten besseren Effekt, wenn das elektrostatische Bild übertragen wird, da das latente Bild durch das Trennmittel in flüssiger Form übertragen worden ist. ;

Wenn gemäß Fig. 17 Faseroptiken 24c mit je einem Durchmesser zwischen 10 und 25/u als Glasplatte für die Schirmplatte, .der Kathodenstrahlröhre benutzt werden, um die Verluste aufgrund, der Beugung des durchtretenden Lichtes zu verringern, so läßt sich die Auflösung auf etwa 20 Linien pro mm verbessern. Falls in diesem Fall Bedenken hinsichtlich der Aufrechterhaltung eines

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hohen Vakuums m der KMhodenstrahlröhre bestehen, kann Glimmer 25c oder ähnliches zwischen den Leuchtstoff schirm 2c und die Glasfaser-Optiken eingefügt werden_o

Pig«, 18 zeigt eine weitere Abänderung der Erfindung«, Faseroptiken 24c mit je einem Durchmesser zwischen 10 und 25/u sind auf die Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre aufgebracht«, Am Ende der Optiken 24c ist eine dünne Schichtelektrode 26c durch Abscheiden von Metall oder ähnlichem im Vakuum aufgebracht. Über die Oberfläche der Elektrode 26c wird'die foto- leitende Platte bewegt, die aus der fotoleitenden Schicht 4c2 und der Isolierschicht 4cl besteht. Die Elektrode 26c ist geerdet und die Isolierschicht 4cl wird durch die Ladeeinrichtung 9c aufgeladen. Bei Belichtung der fotoleitenden Platte durch das Schirmbild der Kathodenstrahlröhre wird die fotoleitende Platte mit Hilfe der zweiten Entladungseinrichtung 10c P- mit einer Polarität aufgeladen, die der bei der ersten Ladung

entgegengesetzt ist, wodurch ein elektrostatisches Bild auf der Isolierschicht 4cl erzeugt wird. ■

In diesem Fall ist es erforderlich, die Isolierschicht in engem Kontakt mit der Elektrode 26c gleiten zu lassen, so daß die » Verwendung eines Materials mit kleinem Reibungskoeffizient

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als Isolierschicht vorteilhaft ist, beispielsweise Polyester-Harz, fluorhaltige Kunststoffe usw.

Außerdem wird, wie oben beschrieben, ein Trennmittel, beispielsweise Silikonöl, Teflonöl oder ähnliches, zwischen die Elektrode 26c und die fotoleitende Schicht 4c2 gebracht, um deren Lebensdauer zu erhöhen. Insbesondere ist bei einer Übertragung des elektrostatischen Bildes ein bemerkenswert besseres Ergebnis zu erzielen, da das elektrostatische Bild durch das Öl übertragen wird.

Es soll jetzt die er findungs gemäße Verwendung einer Schirmplatte der in den Fig. 6e und 6g gezeigten Art zusammen mit einer Kathodenstrahlröhre beschrieben werden.

Wie in Fig. 19 gezeigt, ist auf der Außenseite der Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre, die einen beim Auftreffen des Elektronenstrahls aufleuchtenden Schirm Id besitzt, eine transparente Elektrodenschicht 4dl aufgebracht, beispielsweise durch Abscheiden eines Metalls im Vakuum. Außerdem liegt auf der Elektrodenschicht 4dl eine fotoleitende Platte 4d auf, die aus einer foroleitenden Schicht 4d2 und einer elektrisch hochwiderstandsfähigen und transparenten Isolierschicht 4d3 besteht, welche

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beispielsweise aus Mylar oder ähnlichem, hergestellt ist.

Eine erste Entladungs einrichtung 2d lädt die.Isolierschicht 4d3 der fotoleitenden Platte 4d auf, und in dem Augenblick, in dem die fotoleitende Platte 4d deni-Licht der Leuchtstoffs chicht Id ausgesetzt wird, wird die fotoleitende Platte durch eine sekundäre Gleichstrom-Entladung oder Wechselstrom-Koronaentladung durch eine zweite Entladungs einrichtung 3d entladen, ' wobei die Polarität der der ersten Ladung entgegengesetzt ist.

Auf diese Weide ergibt sich ein elektrostatisches Bild auf der Isolierschicht 4d3. Danach wird die gesamte Oberfläche der fotoleitenden Platte belichtet, wodurch der Kontrast des elektrostatischen Bildes weiter verbessert wird.

Anschließend entwickelt man das elektrostatische Bild mit Hilfe eines Töners auf der Oberfläche der fotoleitenden Platte 4d und übertrag^ es auf ein Kopierpapier, Die Oberfläche der fotoleitenden Platte wird zur wiederholten Verwendung gesäubert und von restlichen Ladungen befreit,. Daher kann eine _: wiederholte Speicherung von Lichtbildern einer Kathodenstrahlröhre stattfinden.

Bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel besteht eine Möglich-

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SI . -

keit zur Beleuchtung der gesamten Oberfläche der fotoleitenden Platte darin, daß die Isolierschicht 4d3 aus einem Material hergestellt ist, das bezüglich der Strahlung transparent ist, für die die fo.toleitende Schicht 4d3 der fotoleitenden Platte empfindlich ist, und diese Strahlung belichtet gleichförmig von der Außenseite der Schirmplatte_o Eine alternative Möglichkeit sieht vor, daß die Strahlung die Schirmplatte gleichmäßig aus dem Inneren der Kathodenstrahlröhre belichtet. Dies erfolgt gemäß Fig. 19 durch ein Elektronenstrahler zeugüngs system ödj, das eine solche Strahlung aussenden kann, oder mit Hilfe einer Ultraviolett-Er zeugüngs einrichtung 6d über eine Linse 7d_e Alternativ kann ein Elektronenstrahlerzeugungssystem, an dessen Gitter eine konstante negative Spannung angelegt ist, zur Beaufschlagung der Schirmplatte mit Elektronen benutzt werden.

Es soll jetzt anhand der Fig. 20 ein Beispiel für den Aufbau einer Schirmplatte der in Verbindung mit dem obigen Ausführungsbeispiel beschriebenen Art erläutert werden» Auf einer Seite eines Chromstahlrahmens le ist durch geschmolzenes Glas 9e eine Glasplatte 2e fest angebracht, die eine Nesa-Beschichtung aufweist, wobei der Nesa-Film 3e nach außen gerichtet ist. Danach wurde eine Mischung, in der CdS.-Pulver gleich·.

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förmig in Epoxy-Harz mit; einem Gewichts verhältnis von 96 : 4 verteilt war, nait Hilfe einer Presse in einer Dicke von etwa 30 μ auf den Nesafilm 3e aufgebracht, so daß eine fotoleitende Schicht 6e entsteht. Auf diese Schicht ist mit Hilfe -W-eines Harzklebers ein Polyesterfilm 7d^rmit einer Dicke von 25/u aufgebracht. Nach genügendem Aushärten des Harzklebers wurde eine Mischung aus £nS, aktiviert durch Ag, CdS (Verhältnis = 58 : 42) und einem synthetischen Harz auf die dent

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iiesa-Film entgegengesetzte Oberfläche des Nesa-Gläses atifgebracht, wodurch ein Leuchtschirm 4e gebildet wird. Auf den Leiichtschirm ist eine Beschichtung 5e aus Aluminium mit einer Dicke von etwa 50 OA durch Abscheiden im yakuüm auf gebracht^ ; , wodurch ein Metallrücken^Effekt entsteht. Der Rahmen Id der so gebildeten Schirmplatte ist an einer Metällröhre 8 e befestigt, und dann werden ein Elektronenstrahlerzeugungssystem 5d sowie eine Ultraviolett-Strahlenquelle (in dem Beispiel^^ eine \ Wasserstoff«Entladungslampe 6d in Fig. 19) in die Röhre eingebracht. Danach wird die Röhre evakuiert und abgedichtet.

Anhand des Ausführungsbeispiels nach Fig. 19 ist eines der, Hauptverfahren nach der Erfindung beschrieben worden bei dem die erste Ladeeinrichtung 2d mit (nicht notwendigerweise) optisch offener Vorderseite und die zweite Ladeeinrichtung 3d

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mit einer Lichtabschirmplatte über die Oberfläche der fotoleitenden Platte 4 auf der Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre bewegt werden. In der Praxis wird dazu jedoch viel Zeit benötigi, so daß sich eine kleine Betriebs geschwindigkeit ergibt.

Dieser Nachteil läßt sich durch die Anordnung nach Fig. 21 vermeiden. Über die Oberfläche einer fotoleitenden Platte 4f wird ein transparenter Isolierfilm 5f bewegt, der aus dem gleichen Material wie. die Isolierschicht 4f3 der fotoleitenden Platte 4f besteht, beispielsweise aus fluorhaltigem Kunststoff, Polycarbonat-Harz, Polyäthylen-Harz, Polyester-Harz oder ähnlichem Material, das einen genügend hohen Widerstand aufweist, um¹ elektrostatische Ladung festzuhalten, und einen hohen Abriebwiederstand besitzt. Der Isolierfilm 5f wird aufgeladen, bevor er in Kontakt mit der fotoleitenden Platte 4f kommt. Die weiteren Verfahrens sxchritte bei der Bildung des elektrostatischen Bildes sind ähnlich den oben für das Beispiel beschriebenen Schritte. Das elektrostatische Bild läßt sich speichern, nachdem es entweder entwickelt und fixiert oder entwickelt und übertragen worden ist. Mit diese Anordnung kann also die Geschwindigkeit des Speichervorgangs vergrößert werden. Dabei kann die zweite Ladeeinrichtung durch eine Elektroden-Aufladeeinrichtung ersetzt werden. Außerdem kann die Isolierschicht 4f3 wegfallen.

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Wenn der Leuchtschirm If der Elektronenstrahlröhre ein ■■-.■" Informationsbild wiedergibt, muß die zweite Aufladung der foto leitend en Platte 4f durchgeführt werden. Um diese beiden Vorgänge zu synchronisieren, werden ein Motor 1Of für den Antrieb der fotoleitenden Platte 4f und die zweite Entladungseinrichtung 3 von einer Synchronisationstrennschaltung 91 betätigt, wenn die Informations eingangs signale über einen Verstärker 7f und eine Ablenk-Synchronisationsschaltung 8f an die Kathoden»

" strahlröhre gegeben werden. Die Bezugsziffer 1 If bezeichnet'

eine Hochspannungsquelle. Außerdem läßt sich, wie oben beschrieben, unter Verwendung von Fas er-Optiken, die je einen Durchmesser zwischen 10 und 25«. habenj, die Auflösung auf etwa 20 Linien/mm steigern. In diesem Fall kann, falls Bedenken hinsichtlich der Aufrechterhaltung eines hohen Vakkuums in der Kathodenstrahlröhre bestehen, Glimmer ofler ähnliches zwischen den Leuchtschirm und die Enden der Faser-Optiken

eingebracht werden. ·

Die oben beschriebene Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre nach der Erfindung besteht wenigstens aus einem Leuchtstoff, der beim Auftreffen eines Elektronenstrahles aufleuchten kann, einer transparenten Elektrodenschicht, einer fotoleitenden Schicht und einer Isolierschicht. Beispielsweise handelt es sich

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bei der Schirmplatte nach Fig. 21 um die Schirmplatte einer üblichen Kathodenstrahlröhre, die aus einer Leuchtschicht Id, If und einer.kreisförmigen Glasscheibe d zusammengesetzt ist," auf der eine fotoleitehde Schicht für die Elektronenfotografie aufgebracht ist» Diese Schicht weist die transparente Elektrodenschicht 4dl oder 4fl, die fotoleitende Schicht 4d2 oder 4f2 und die Isolierschicht 4d3 oder 4f3 auf, die aus Mylar oder ähnlichem besteht. Eine Abänderung, die aus einer transparenten Elektrodenschicht, einer Leuchtstoffs chicht, einer fotoleitenden Schicht und einer Isolierschicht zusammengesetzt ist, kann auf der Schirmplattenvorderseite einer Kathodenstrahlröhre gebracht werden. Eine weitere Abänderung besteht darin, daß eine Isolierschicht zwischen der Leuchtstoffs chicht und der fotoleitenden Schicht angeordnet ist_e Eine andere Abwandlung besteht aus einer Leuchtstoffs chicht, Faser-Optiken, einer transparenten Elektrodenschicht, einer Isolierschicht (die ggf. wegfallen kann), einer fotoleitenden Schicht und einer Isolierschicht. Schließlich ist eine weitere Abänderung derart zusammengesetzt, daß ein weiterer Isolierfilm zur Erzeugung eines elektrostatischen Bildes anstelle der in Fig. 2 gezeigten Isolierschicht 4 benutzt wird.

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Claims

PATENTANSPRÜCHE

1. Elektronenstrahlröhre mit einer Elektronenstrahlerzeugungs einrichtung, einer Schirmplatte und einer Einrichtung, die den Elektronenstrahl auf die Schirmplatte richtet, . dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmplatte eine Strahlung emittierende Schicht aufweist, die als Hauptbestandteil ein Material enthält, das beim Auftreffen eines Elektronenstrahls

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Strahlung erzeugen und emittieren kann, sowie eine dünne Schichtelektrode aufweist, die die Strahlung durchläßt und so angeordnet ist, daß sie die äußerste Fläche"der Schirmplatte bildet.

2. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Schichtelektrode aus einem dünnen Metallfilm besteht.

3. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Schichtelektrode eine Isolierschicht und einen darauf gebildeten dünnen Metallfilm aufweist.

4. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch ge- ■ kennzeichnet, daß eine Faser-Optik-Schicht zwischen der Strahlung emittierenden Schicht und der dünnen Schichtelektrode angeordnet ist. 909840/1404 / V

5. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf der auf der Außenfläche angeordneten dünnen Schichtelektrode eine zusätzliche Isolierschicht aufgebracht ist, die die Strahlung durchläßt.

6. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf der an der Außenfläche angeordneten dünnen Schichtelektrode eine fotoleitende Schicht aufgebracht ist, die für die Strahlung empfindlich ist.

7. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß auf die Isolierschicht zusätzlich eine fotoleitende Schicht aufgebracht ist, die für die Strahlung empfindlich ist.

8. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Außenfläche der fotoleitenden Schicht eine ladungtragende Isolierschicht angeordnet ist.

9. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß auf der ladungtragenden Isolierschicht zusätzlich eine fotoleitende Schicht angeordnet ist. .

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10. Elektronenstrahlröhre nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1, gekennzeichnet durch eine Einrichtung, die gleichförmig eine Strahlung auf die Schirmplatte projiziert.

11. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur einheitlichen Projektion die Strahlung auf die Schirmplatte projiziert, wenn die Strahlung emittierende Schicht der Schirmplatte eine Strahlung er-

P zeugt und emittiert. .

12. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:

Anlegen einer ersten Spannung an ein fotoleitendes Glied; das eine Isolierschicht, eine fotoleitende Schicht und eine Unterlage aufweist, um die aufgeladene Oberfläche der Isolierschicht ^uf einem vorbestimmten Potential zu halten; Anlegen einer zweiten Spannung an die Isolierschicht und gleichzeitiges Projizieren eines durch einen Elektronenstrahl erzeugten Lichtbildes auf das fotoleitende Glied; Belichten der fotoleitenden Schicht mit einer Strahlung, für die die fotoleitende Schicht empfindlich ist, so daß auf der Isolierschicht ein elektrostatisches Muster erzeugt wird, das durch"^ den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht. ■

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13. Speicherverfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlage des fotoleitenden Gliedes eine elektrisch leitende Schicht ist.

24. Speicherverfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlage des fotoleitenden Gliedes eine Isolierschicht ist.

15. Speicherverfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die erste, an das fotoleitende Glied angelegte Spannung eine Gleichspannung ist und daß die zweite, an die Isolierschicht angelegte Spannung eine Gleichspannung ist, deren Polarität der der ersten Gleichspannung entgegengesetzt ist.

16. Speicherverfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die erste, an das fotoleitende Glied angelegte Spannung eine Gleichspannung ist und daß die zweite Spannung eine Wechselspannung ist. "

17. Speicherverfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die erstem an das fotoleitende Glied angelegte Spannung eine Gleichspannung ist und daß die zweite Spannung dem Erdpotential entspricht.

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18. Speicherverfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß auf die isolierende Unterlage eine fotoleitende Schicht aufgebracht ist. . ■

19. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch · die Verfahrens sä ehr itte:

Anlegen einer ersten Spannung an ein fotoleitendes Glied, das eine ladungtragende Isolierschicht, eine fotoleitende Schicht \ und eine Unterlage aufweist, die für die Strahlung durchlässig ist, für die die fotoleitende Schicht empfindlich ist, um die aufgeladene Oberfläche der Isolierschicht auf einem vorbestimmten Potential zu halten;

Anlegen einer zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitiges Projizieren eines durch den Elektronenstrahl einer Kathodenstrahlröhre erzeugten Lichtbildes durch die Unterlage auf die fotoleitende Schicht; gleichförmiges Belichten der fotoleitenden Schicht mit einer Strahlung, für die die fοtoleitende Schicht empfindlich ist, so '-daß auf der Isolierschicht ein elektrostatisches Muster erzeugt wird, das den durch den Elektronenstrahl der Kathodenstrahlröhre dargestellten Signalen entspricht.

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Speicherverfahrenn ach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß das fotoleitende Glied so angeordnet ist, daß es in Form eines endlosen Bandes über die Schirmfläche der Kathodenstrahlröhre läuft, wobei die Unterlage des fotoleitenden
Gliedes in Kontakt mit der Schirmplatte der Kathodenstrahlröhre gehalten ist,

21. Speicherverfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß nach Erzeugung des elektrostatischen Bildes auf der Isolierschicht des fotoleitenden Gliedes die Isolierschicht in engen Kontakt mit einer Kopierunterlage gebracht wird, so daß das elektrostatische Bildmuster auf die Kopierunterlage übertragen wird.

22. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die V erfahr ens schritte:

Anlegen einer ersten Spannung an ein fotoleitendes Glied, das eine ladungtragende Isolierschicht, eine fotoleitende Schicht und eine Unterlage aufweist, um die Oberfläche der Isolierschicht auf ein vorbestimmtes Potential aufzuladen;

Aufbringen eines ladungtragenden Aufzeichnungsglieddes auf

die Isolierschicht;

Anlegen einer zweiten Spannung an das Aufzeichnungsglied und

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gleichzeitiges Projizieren eines durch einen Elektronenstrahl erzeugten Lichtbildes auf die fotoleitende Schicht; Entfernen des Aufzeichnungsgliedes von der Isolierschicht, so daß auf dem-Aufzeichnungsglied ein elektrostatisches Bild erzeugt

23. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an das ladungtragende

W Aufzeichnungsglied und gleichzeitiger Projektion des Lichtbildes

auf die fotoleitende Schicht diese gleichförmig nait einer Strahlung belichtet wird, für die die fotoleitende Schicht empfindlich ■ ist.

24. Elektrisches Sp eicher verfahr en, gekennzeichnet durch die Verfahrensschritte:

Aufbringen eines ladungtragenden Aufzeichnungsgliedes, das_ vorher durch eine erste Spannung auf ein vorbestimintes Potential aufgeladen worden ist, auf eine Isolierschicht eines fotoleitenden Gliedes, das eine Isolierschicht, eine fotoleitende Schicht und eine Unterlage aufweist; - - - ,-·\.V... Anlegen einer zweiten Spannung an das ladungtragende Auf--,K^r ■/ zeichnungsglied und gleichzeitiges Projizieren eines Bildes ^f > auf die ,fotoleitende Schicht, das auf der. Schirmplatte' einer - - ; Kathodenstrahlröhre beim Auftreffen eines Elektronenstrahls

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wiedergegeben wird;

Entfernen des Aufzeichnungsgliedes von der Isolierschicht des fotoleitenden Gliedes, so daß auf dem Aufzeichnungsglied ein elektrostatisches Bild erzeugt wird, das den durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

25. Verfahren nach Ansßruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an das Auf zeichnung sglied und gleichzeitiges Projizieren des Bildes auf die fotoleitende Schicht diese gleichmäßig mit einer Strahlung belichtet wird, für die sie empfindlich ist.

26. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die V erfahr ens schritte i < Anlegen einer ersten Spannung an ein ladungtragendes Aufzeichnungsglied, das auf einer Isolierschicht eine fotoleitenden Gliedes angeordnet ist, welches aus einer Isolierschicht, einer fotoleitenden Schicht und einer Unterlage besteht, um das Aufzeichnungsglied auf ein vorbestimmtes Potential aufzuladen; Anlegen einer zweiten Spannung an das ladungtragende Aufzeichnungsglied und gleichzeitiges Projizieren eines Bildes auf die fotoleitende Schicht, das auf der Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre beim Auftreffen eines Elektronenstrahls wiederge-

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geben wird;

Entfernen des Aufzeichnungsgliedes von der Isolierschicht, so daß auf dem Aufzeichnungsglied ein elektrostatisches Bild erzeugt wird, das durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

27. Verfahren nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an das Aufzeichnungs-

* glied und gleichzeitigem Projizieren eines Bildes auf die fotoleitende Schicht diese gleichmäßig durch eine Strahlung belichtet wird, für die sie empfindlich ist.

28. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die folgenden Verfahrensschritte:

Anlegen einer ersten Spannung an ein fotoleitendes Glied, das eine fotoleitende Schicht und eine Unterlage aufweist, um die fotoleitende Schicht aufzuladen;

Aufbringen eines ladungtragenden Aufzeichnungsgliedes auf die fotoleitende Schicht; ' v.

Anlegen einer zweiten Spannung an das Aufzeichnungsglied und gleichzeitiges Projizieren eines Bildes auf die fotoleitende Schicht, das auf der Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre beim Auftreffen eines Elektronenstrahls wiedergegeben wird;

9098AOZUOi

fcs

Entfernen des Aufzeichnungsgliedes von der fotoleitenden Schicht, so daß auf dem Aufzeichnungsglied ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, das durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an das Aufzeichnungsglied und gleichzeitige Projizieren eines Bildes auf die fotoleitende Schicht diese gleichmäßig meiner Strahlung belichtet ist, für die sie empfindlich ist.

30. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die folgenden Verfahrens schritte:

Aufbringen eines ladungtragenden Aufzeichnungsgliedes, das vorher durch Anlegen einer ersten Spannung auf ein vorbestimmtes Potential aufgeladen worden ist, auf eine fotoleitende Schicht, eines fotoleitenden Gliedes, das eine fotoleitende Schicht und eine Unterlage aufweist;

Anlegen einer zweiten Spannung an das Aufzeichnungsglied und gleichzeitiges Projizieren eines Bildes auf die fotoleitende · Schicht, das auf der Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre beim Auftreffen eines Elektronenstrahls wiedergegeben wird; Entfernen des Aufzeichnungsgliedes von der fotoleitenden

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Schicht, wodurch auf dem Aufzeichnungs glied ein elektrostatisches Bild erzeugt wird, das durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

31. Verfahrennach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, . daß nach Anlegen der zweiten Spannung an das Aufzeichnungsglied und gleichzeitigem Projizieren eines Bildes auf die foto leitende Schicht diese gleichmäßig mit einer Strahlung belichtet

W ist, für die sie empfindlich ist.

32. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch' ~ die folgenden Verfahrensschritte:

Anlegen einer ersten Spannung an ein ladungträgendes Aufzeichnungsglied, das auf einer fotoleitenden Schicht eines fotolei- '" tenden Gliedes angeordnet ist, welches eine fotoleitende Schicht ":ind eine Unterlage aufweist, um das Aufzeichnungsglied aufzuladen; " ' /

Anlegen einer zweiten Spannung an das Aufzeichnungsglied und gleichzeitiges Projizieren eines Bildes auf die fotoleitende Schicht, das auf der Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre beim Auftreff en eines Elektronenstrahls wiedergegeben wird; Entfernen des Aufzeichnungsgliedes von der fotoleitenden Schicht/ wodurch auf dem Aufzeichnungsglied ein elektrostati-

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sches Bildmuster erzeugt wird, das durch den Elektronensstrahl wiedergegebene Signalen entspricht.

33. Verfahren nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an das Aufzeichnungsglied und gleichzeitigem Projizieren eines Bildes die fotoleitende Schicht gleichmäßig mit einer Strahlung belichtet wird, für die sie empfindlich ist. ^{r ?}

34. Elektrisches Speicherverfahren gekennzeichnet durch die folgenden Verfahrens schritte:

Aufbringen einer fotoleitenden Schicht eines fotoleitenden Gliedes, das neben der fotoleitenden Schicht eine auf die angeordnete ladungtragende Isolierschicht aufweist, auf eine dünne Schichtr elektrode auf der Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre, wobei die Schirmplatte eine Strahlung emittiedende Schicht aufweist, die als Hauptbestandteil ein Material enthält, das beim Auftreffeneines Elektronenstrahls die Strahlung erzeugen und emittieren kann, und wobei die dünne Schichtelektrode die Strahlung durchläßt;

Anlegen einer ersten Spannung an das fotoleitende Glied, um die Isolierschicht auf ein vorbestimmtes Potential aufzuladen; Anlegen einer zweiten Spannung an die Isolierschicht und gleich--

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zeitiges Beaufschlagen mit dem Elektronenstrahl der Kathodenstrahlröhre, derart, daß das durch den Elektronenstrahl erzeugte Strahlungsbil auf die fotoleitende Schicht projiziert wird;

Entfernen des fotoleitenden Gliedes von der Schirmplatte, so daß auf der Isolierschicht ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, das durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet, daß auf der dünnen Schichtelektrode der Schirmplatte eine Isolierschicht eines fotoleitenden Gliedes angeordnet ist, bei dem die Isolierschicht über der fotoleitenden Schicht liegt. · -

36. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an die Isolierschicht und gleichzeitigena Projizieren des durch den Elektronenstrahl auf der fotoleitenden Schicht erzeugten Bildes die fotoleitende Schicht gleichmäßig durch eine Strahlung belichtet ist, für--die*" sie empfindlich ist. ·

37. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet, daß die fotoleitende Schicht des fotoleitenden Gliedes auf einer Schirmplatte angeordnet ist, bei der eine zusätzliche Isolier-

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schicht auf der dünnen Schichtelektrode liegt, die die Strahlung durchläßt.

38. * Verfahren nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, daß auf der dünnen Schichtelektrode der Schirmplatte eine zusätzliche Isolierschicht eines fotoleitenden Gliedes angeordnet ist, bei dem die zusätzliche Isolierschicht auf der fotoleitenden Schicht liegt.

39. Verfahren nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, daß eine zusätzliche Isolierschicht auf der dünnen Schichtelektrode der Schirmplatte angeordnet ist und daß das durch¹ den Elektronenstrahl der Kathodenstrahlröhre erzeugte Strahkungsbild durch die dünne Schichtelektrode und die zusätzliche Isolierschicht auf das fotoleitende Glied projiziert wird.

40. . Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die folgenden Verfahrensschritte:

Aufbringen einer fotoleitenden Schicht ^ eines fotoleitenden Gliedes, das eine über de r'fotoleitenden Schicht liegende, -ladungtragende Isolierschicht enthält, die vorher durch Anlegen einer ersten Spannung auf ein vorbestimmtes Potential aufgeladen worden ist,, auf eine dünne Schichtelektrode der Schirmplatte

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einer Kathodenstrahlröhre, wobei die Schirmplatte eine strahlungemittierende Schicht aufweist, die als Hauptbestandteil ein Material aufweist, das beim Auftreffen eines Elektronenstrahls eine Strahlung erzeugen und emittieren kann, und wobei die dünne Schichtelektrode für die Strahlung durchlässig ist;

Anlegen einer zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitige Beaufschlagung mit dem ELektronen-™ strahl der Kathodenstrahlröhre, um das dabei erzeugte Strahlungsbild durch die dünne Schichtelektrode auf die fotoleitende Schicht zu projizieren;

Entfernen des fotoleitenden Gliedes von der Schirmplatte, so daß auf der Isolierschicht ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, das durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

41. Verfahren nach Anspruch 40, dadurch, gekennzeichnet, daß auf der dünnen Schichtelektrode der Schirmplatte eine zusätzliche Isolierschicht eines fotoleitenden Gliedes liegt, bei dem die zusätzliche Isolierschicht über der fotoleitenden Schicht angeordnet ist. ■ · ....

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42. Verfahren nach Anspruch 40, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitigem Projizieren des durch den Elektronenstrahl erzeugten Strahlungsbildes auf die fotoleitende Schicht diese gleichmäßig durch eine Strahlung belichtet wird, für die sie empfindlich ist.

43. Verfahren nach Anspruch 40, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Schirmplatte, bei der eine zusätzliche Isolierschicht über der dünnen Schichtelektrode angeordnet ist, die fotoleitende Schicht des fotoleitenden Gliedes liegt.

44. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Spannung an ein ladungtragendes Aufzeichnungsglied auf der fotoleitenden Schicht der Schirmplatte einer Kathodenstrahlröhre angelegt wird, und daß die Schirmplatte eine Strahlung emittierende Schicht aufweist, die als Hauptbestandteil ein Material enthält, das beim Auftreffen eines Elektronenstrahls eine Strahlung erzeugen und emittieren kann, sowie eine dünne Schichtelektrode, die für die Strahlung durchlässig ist, und die fotoleitende Schicht.

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45. Verfahren nach Ansp ruch 42, dadurch gekennzeichnet, daß auf der dünnen Schichtelektrode der Schirmplatte eine zu- ; sätzliche Isolierschicht des fotoleitenden Gliedes angeordnet ist, bei dem die zusätzliche Isolierschicht .auf der fotoleitenden Schicht liegt. ' ' - '

46. Verfahren nach Anspruch 42, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an die ladüngtragende Isolierschicht und gleichzeitigem Projizieren des durch den Elektronenstrahl erzeugten Strahlungsbildes auf die fotoleitende Schicht diese gleichmäßig mit einer Strahlung belichtet ist, für die sie empfindlich ist.

47. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die folgenden VerfahrensschritteJ · Aufbringen einer ladungtragenden Isolierschicht, die vorher

I- durch Anlegen einer ersten Spannung auf ein yorbestimmtes

Potential aufgeladen worden ist, auf eine fotoleitende Schicht einer Schirmplatte für eine Kathodenstrahiröhrej wobei die Schirmplatte eine strahlungemittierende Schicht aufweist, die als Hauptbestandteil ein.Material enthält, das' heiin Auftreffen eines Elektronenstrahls eine Strahlung erzeugen und emittieren kann, sowie eine dünne Schichtelektrode und die fotoleitende

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Schicht aufweist; .

Anlegen einer zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitiges Beaufschlagen mit dem Elektronenstrahl durch die dünne Schichtelektrode, um das dabei durch den Elektronenstrahl erzeugte Strahlungsbild auf die fotoleitende Schicht zu projizieren;

Entfernen der ladungtragenden Isolierschicht von der Schirmplatte, wodurch auf der Isolierschicht ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, das durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

48. Verfahren nach Anspruch 47, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmplatte eine Isolierschicht zwischen der dünnen Schichtelektrode und der fotoleitenden Schicht aufweist.

49. Verfahren nach Anspruch 47, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitigem projizieren des durch den Elektronenstrahl erzeugten Strahlungsbilde auf die fotoleitende Schicht diese gleichmäßig durch eine Bestrahlung belichtet wird, für die sie empfindlich ist.

50. Verfahren nach Anspruch 49, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmplatte eine isolierende Schicht zwischen der

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fotoleitenden Schicht und der dünnen Schichtelektrode aufweist.

51. Elektrisches Sp eicher verfahr en, gekennzeichnet durch. die folgenden Verfahrensschritte:

Anlegen einer ersten Spannung an eine fotoleitende Schicht einer KathodenstraMröhre-Schirmplatte, die eine strahlungemittierende Schicht aufweist, welche als Hauptbestandteil ein Material ent- , hält, das beim Auftreffen eines Elektronenstrahles eine Strahlung erzeugen und emittieren kann, ferner eine dünne^ für die ^; <■ Strahlung durchlässige Schicht elektrode unddie fotöleitende Schicht aufweist, um diese auf ein vorbestimmtes Potential „ -.'. ^;. aufzuladen;

Aufbringen einer ladungtragenden Isolierschicht auf die fotoleitende Schicht; - ' ■·; "' ■-' '■ - -

Anlegen einer zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitiges Projizieren des durch den Elektro:-· _Λ nenstrahl erzeugten Strahlungsbildes durch die dünne Schichtelektrode auf die fotoleitende Schicht; .· . Entfernen der ladungtragenden Isolierschicht von der Schirm-;■-;' platte, ^wodurch auf der ladungtragenden: Isolierschicht ein ■■ ν .ir ■■ elektro statisches Bildmuster erzeugt wird, das den durbh den ·" - -_; Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht* '"^r - ' "v

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52. Verfahren nach Anspruch 51, dadurch gekennzeichnet, daß die Sohirmplatte eine Isolierschicht aufweist, die zwischen der dünnen Schichtelektrode und der fotoleitenden Schicht angeordnet ist. . ".-_"""

53. Verfahren nach Anspruch.51, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitigem Projizieren des durch den Elektronenstrahl erzeugten Strahlungsbildes auf die fotoleitende Schicht diese gleichmäßig mit einer Strahlung belichtet wird, für die sie empfänglich ist.

54. Verfahren nach Anspruch 53, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmplatte eine Isolierschicht aufweist, die zwischen der fotoleitenden Schicht und der dünnen Schichtelektrode angeordnet ist. . -

55. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die Verfahrens schritte:

Anlegen einer ersten Spannung an eine ladungtragende.Isolierschicht, die auf der fotoleitenden Schicht einer Kathodenstrahlröhren-Schirmplatte angeordnet ist, welche eine Strahlung emittierende Schicht aufweist, die als Hauptbestandteil ein Material enthält, das beim Auftreffen eines Elektronenstrahls

909840/1404 '^ ^; " ^^äc .

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Strahlung erzeugen und emittieren kann, ferner eine für die Strahlung durchlässige dünne Schichtelektrode und die fotoleitende Schicht aufweist, um die ladungtragende Isolierschicht auf ein vorbestimmtes Potential aufzuladen; Anlegen einer zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitiges Projizieren eines durch das Auftreffen des Elektronenstrahls erzeugten Strahlungsbildes durch die dünne Schichtelektrode auf die fotoleitende Schicht; Entfernen der ladungtragenden Isolierschicht von der Schirmplatte, so daß auf der ladungtragenden Isolierschicht ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, dä& den durch den Elek- ' tronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

56. Verfahren nach Anspruch-55, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmplatte eme Isolierschicht aufweist, die zwischen der dünnen Schichtelektrode und der fotpleitenden Schicht angeordnet ist. ' ; _: :

57. Verfahren nach Anspruch 55, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitigem Profitieren des durch den Elektronenstrahl erzeugten Strahlungsbildes die fotoleitende Schicht gleichmäßig durch eine Strahlung belichtet wird, für die sie empfindlich ist.

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58. Verfahren nach Anspruch 57, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmplatte eine Isolierschicht aufweist, die zwischen der fotoleitenden Schicht und der dünnen Schichtelektrode angeordnet ist.

59. Elektrisches Sp eicher verfahr en, gekennzeichnet durch die Verfahrens schritte:

Anlegen einer ersten Spannung an eine ladungtragende Isolierschicht einer Kathodenstrahlröhren-Schirmplatte, die eine strahlungerzeugende emittierende Schicht aufweist, welche als Hauptbestandteil ein Material enthält, das beim Auftreffen eines Elektronenstrahls Strahlung erzeugen und emittieren kann, ferner eine für die Strahlung durchlässige dünne Schichtelektrode, eine fotoleitende Schicht und die ladungtragende Isolierschicht aufweist, um die Isolierschicht auf ein vorbestdmmtes Potential aufzuladen; ·

Anlegen einer zweiten Spannung an die ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitiges Projizieren des durch das Auftreffen des Elektronenstrahls erfolgten Strahlungsbildes durch die dünne Schichtelektrode auf die fotoleitende Schicht; '-

Belichten der fotoleitenden Schicht mit einer Strahlung, für die sie empfindlich ist, so daß auf der Schirmplatte ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, das den durch den Elektronen-

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strahl dargestellten Signalen entspricht.

60. Verfahren nach Anspruch 59, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmpjatte eine Isolierschicht zwischen der dünnen Schichtelektrode und der fotoleitenden Schicht aufweist.

61. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die Verfahrensschritte:

Aufbringen einer ladungtragenden Isolierschicht, die durch An*-, legen einer ersten Spannung auf ein vorbestimmtes Potential aufgeladen worden ist, auf eine Kathodenstrahlröhren-Schirmplatte, die eine Strahlung emittierende Schicht aufweist, welche als Hauptbestandteil ein Material enthält, das beim Auftreffen eines Elektronenstrahls Strahlung erzeugen und emittieren kann, ferner eine für die Strahlungdurchlässige dünne Schichtelektrode, eine fotoleitende Schicht und die ladungtragende Isolierschicht aufweist; - ^ - ; ;

Anlegen einer zweiten Spannung an die ladüngtragende Isolierschicht und gleichzeitiges Projizieren der durch das Auftreffen, des Elektronenstrahls erzeugten Strahlung . diirch die dünne .,--.._■; Schichtelektrode auf die fotoleitende Schicht; .

gleichmäßiges Belichten der fotoleitenden Schicht mit einer■-... Strahlung^ cfÜE die sie empfindlich ist, so daß. auf der ladung- -

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tragenden Isolierschicht ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, das den durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

62. Verfahren nach Anspruch 61, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmplatte eine Isolierschicht aufweist, die zwischen der dünnen Schichtelektrode und der fotoleitenden Schicht angeordnet ist.

63. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die Verfahrens schritte:

Anlegen einer ersten Spannung an eine ladungtragende Isolierschicht einer Kathodenstrählröhren-Schirmplatte, die eine Strahlung emittierende Schicht aufweist, welche als Haüptbestanflteil ein Material enthält, das beim Auftreffen des Elektronenstrahls Strahlung erzeugen und emittieren kann, ferner eine fotoleitende Schicht und die ladungtragende Isolierschicht aufweist, um die Schirmplätte auf ein vorbestimmtes Potential aufzuladen;

Aufbringen einer zweiten ladüngtragenden Isolierschicht auf die Schirmplatte;

Anlegen einer zweiten Spannung an die zweite ladungtragende Isolierschicht und gleichzeitiges projizieren des durch den

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■ Ms

■ Elektronenstrahl erzeugten Strahlungsbildes durch eine dünne

Schichtelektrode auf die fotoleitende Schicht; gleichmäßiges Belichten der fotoleitenden Schicht mit einer Strahlung, für die sie empfindlich ist, so daß auf der ladungtragenden Isolierschicht ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, daß den durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht. ' '

k 64. Verfahren nach Anspruch 63, dadurch gekennzeichnet,

daß die Schirmplatte eine Isolierschicht aufweist, die zwischen der dünnen Schichtelektrode und der fotoleitenden Schicht angeordnet ist. , ■

65. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die. Verfahrensschritte:

- Aufbringen einer ladungtragenden Isolierschicht eines aus einer Schichtanordnung zusammengesetzten fotoleitenden Gliedes, die aus einer Unterlage, einer fotoleitenden Schicht und der ladungtragenden Isolierschicht besteht, auf eine dünne Schichtelektrode einer Kathodenstrahlröhren-Schirmplatte, die eine strahlungemittierende Schicht aufweist, welche als Hauptbestandteil ein Material enthält, das beim Auf treffen des Elektronenstrahls Strahlung erzeugen und emittieren kann, sowie die für die Strahlung " durchlässige dünne Schichtelektrode aufweist; .~

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Anlegen einer ersten Spannung an die dünne Schichtelektrode bei geerdeter, ladungtragender Isolierschicht, um diese auf ein vorbestimmtes Potential aufzuladen; Anlegen einer zweiten Spannung an die dünne Schichtelektrode und gleichzeitiges Projizieren eines durch den Elektronenstrahl erzeugten Strahlungsbildes durch die dünne Schichtelektrode auf das fotoleitende Glied;

Belichten der fotoleitenden Schicht des fotoleitenden Gliedes mit einer Strahlung, für die die fotoleitende Schicht empfindlich ist, so daß auf der ladungtragenden Isolierschicht ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, das den durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

66. Verfahren nach Anspruch 65, dadurch gekennzeichnet, daß die.Unterlage des fotoleitenden Gliedes eine elelctrisch leitende Schicht ist. "™

67. Verfahren nach Anspruch 65, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlage eine elektrisch leitende Schicht und eine darauf gebildete Isolierschicht aufweist. ■

68. Elektrisches Speicherverfahren, gekennzeichnet durch die Verfahrensschritte:

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Aufbringen einer ersten ladungtragenden Isolierschichti die vorher durch Anlegen einer ersten Spannung auf ein vorbestimmten Potential aufgeladen worden ist, auf eine zweite ladungtragende Isolierschicht eines fotoleitenden Gliedes, das aus einer Unterlage, einer fotoleitenden Schicht und der zweiten ladungtragenden Isolierschicht zusammengesetzt ist und auf einer dünnen Schichtelektrode einer Kathodenstrahlröhren-Schirmplatte angeordnet ist, die eine Strahlung emittierende Schicht aufweist, welche als

" Hauptbestandteil ein Material enthält, das beim Auftreffen des

Elektronenstrahls eine Strahlung erzeugen und emittieren kann, sowie die für die Strahlung durchlässige dünne Schichtelektrode ; aufweist; ■.-■■-■"_-■, ":. ,-. ■-■■- .^/

Anlegen einer zweiten Spannung an die dünne.Schichtelektrode· ..-· ι und gleichzeitiges Projizieren eines durch den Kathodenstrahl c , ^ · erzeugten Strahlungsbildes durch die dünne Schichtelektrode auf ^■=: das fotoleitende Glied;

gleichmäßiges Belichten der fotoleitenden Schicht des fotoreitendeii Gliedes mit einer Strahlung, für die die fotoleitende Sehieht ^- empfindlich ist, so daß auf der ladungtragenden.Isolierschicht ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, das den durch-den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht.

69. Verfahren nach Anspruch 68, dadurch gekennzeichnet, 90 9 840/ HO 4 -:, }

daß die Unterlage des fotoleitenden Gliedes eine elektrisch leitende Schicht ist. ,

70. Verfahren nach Anspruch 68,-dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlage eine elektrisch leitende Schicht und eine darauf gebildete Isolierschicht aufweist.

71. Verfahren nach Anspruch 68, dadurch gekennzeichnet, daß nach Anlegen der zweiten Spannung an die dünne Schichtelektrode und gleichzeitigem Projizieren des Strahlungsbildes auf das fotoleitende Glied die ladungtragende Isolierschicht von dem fotoleitenden Glied entfernt wird, so daß auf der ladungtr'agenden Isolierschicht ein elektrostatisches Bildmuster erzeugt wird, das den durch den Elektronenstrahl dargestellten Signalen entspricht»

72. Verfahren nach Anspruch 68 oder 71, dadurch gekennzeichnet, daß das foto leitende Glied eine Schichtanordnung aufweist, die aus einer fotoleitenden Schicht und einer Unterlage besteht.

73. Verfahren nach Anspruch 72, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlage eine elektrisch leitende Schicht ist.

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