DE1838035U - Halbleitervorrichtung. - Google Patents

Halbleitervorrichtung.

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DE1838035U
DE1838035U DEG24075U DEG0024075U DE1838035U DE 1838035 U DE1838035 U DE 1838035U DE G24075 U DEG24075 U DE G24075U DE G0024075 U DEG0024075 U DE G0024075U DE 1838035 U DE1838035 U DE 1838035U
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Description

  • General Electric Company, Schenectady, New York, USA Halbleitervorrichtung Die Neuerung betrifft im allgemeinen Halbleitervorrichtungen mit mehreren Schichten, deren Charakteristik einem Schalter ähnlich ist.
  • Derartige Vorrichtungen sind in einem Aufsatz von Moll, Tanenbaum, Goldey und Holonyak in der Zeitschrift"Proceedings of the IRE", September 1956, Volume 44, Seiten 1174-1182 beschrieben. Eine Ausführungsform derart laufend verfügbarer Vorrichtungen enthält zwei den Hauptstrom führende Elektroden und eine Steuerelektrode. Wenn sie in einem Stromkreis liegt, wird die ausgezeichnete Stromleitung quer zu den Hauptelektroden gesperrt, bis ein kleiner Steuerstrom geeigneter Größe der Steuerelektrode zugeführt wird. Eine derartige Ausführungsform der Vorrichtung enthält einen Siliziumhalbleiterkörper mit vier gesonderten Schichten, von denen die jeweils benachbarten Schichten die entgegengesetzte Leitfähigkeit besitzen, so daß mehrere pn-Übergänge gebildet werden ; an den beiden äußeren Schichten befindet sich je ein elektrischer Anschluß. Wenn an dem einen Anschluß eine Vorspannung mit dem einen Vorzeichen hinsichtlich des anderen Anschlußes liegt, erhalten die beiden pn-Übergänge, die den Anschlüssen am nächste liegen, eine Vorspannung in Sperrichtung, während der mittlere pn-Übergang eine Vorspannung in Durchlaßrichtung erhält ; auf diese Weise besteht zwischen den beiden Anschlüssen eine hohe Impedanz. Wenn zwischen den Anschlüssen ein ausreichend hohes Potential angelegt wird, werden die beiden pn-Übergänge, die den Anschlüssen am nächsten liegen, durchschlagen und leiten den Strom in der Sperrichtung. Wenn der eine Anschluß eine Vorspannung mit dem anderen Vorzeichen hinsichtlich des anderen Anschlusses erhält, werden die beiden, den Anschlüssen am nächsten liegenden pn-Übergänge in Durchlaßrichtung vorgespannt, während der mittlere pn-Übergang eine Vorspannung in Sperrichtung erhält ; auf diese Weise besteht zwischen den Anschlüssen wiederum eine hohe Impedanz. Wenn jedoch das zwischen den Anschlüssen angelegte Potential vergrößert wird, oder ein Steuerstrom mit einer solchen Größe und Richtung an der einen mittleren Schicht auftritt, schlägt schließlich nicht nur der mittlere Übergang durch, sondern wird umgekehrt gepolt, so daß zwischen den Anschlüssen eine niedrige Impedanz besteht.
  • Die beiden Bedingungen, die zur Erzielung einer Polungsumkehr des mittleren pn-Übergangs und somit zu einer Leitung quer zu diesem erfüllt werden müssen, bestehen darin, daß erstens der eine der beiden Transistorabschnitte, in die die Vorrichtung auflösbar ist, also des npn-oder pnp-Transistorabschnittes, deren mittlerer Übergang der Kollektorübergang beider Transistorabschnitte ist, einen Stromverstärkungsfaktor \ aufweist, der mit dem Strom zunimmt, und daß zweitens die Summe der Stromverstärkungsfaktoren beider Transistorabschnitte gleich oder größer als eins bei einem zwischen ihnen liegenden Strom ist, Das Erfordernis einer veränderlichen Stromverstärkung ist den Siliziumvorrichtungen mit pn-Übergang eigentümlich. Ein ausreichender Strom wird infolge von Kriech-oder Lawinenwirkungen durch den mittleren Übergang geleitet, so daß das weitere Erfordernis zu erfüllen ist.
  • Die gewünschten Eigenschaften derartiger Vorrichtungen bestehen darin, daß sie für die Umgebungstemperaturen und eine Eigenerwärmung der Vorrichtung relativ unempfindlich sein sollen ; insbesondere sollen sie höheren Temperaturen widerstehen können, ohne daß sie beim Fehlen eines Steuerstroms an der Steu-
    erelektrode spontan ausgelöst werden. Eine weitere wünschens-
    werte Eigenschaft derartiger Vorrichtung-list diejenige, daß
    sie große Ströme mit einem sehr kleinen Steuerstrom schalten
    sollen. Bei den zuvor beschriebenen Vorrichtungen stehen sich
    diese beiden Erfordernisse normalerweise einander entgegen.
  • Wenn die Fähigkeit, starke Ströme zu schalten, verbessert werden soll, werden normalerweise für diesen Zweck größere Steuerströme benötigt. Insbesondere möchte man eine Steuerstromempfindlichkeit bei einer höheren Temperaturstabilität erhalten. Eine Reihe von Vorrichtungen sind bereits vorgeschlagen worden, bei denen eine bessere Temperaturstabilität zu erhalten ist. In einigen vorgeschlagenen Vorrichtungen muß eine gewisse Steuerstromempfindlichkeit gegenüber der Empfindlichkeit der üblichen Vorrichtungen geopfert werden.
  • Ein Ziel der Neuerung sind Schaltvorrichtungen der zuvor beschriebenen Art, die gleichzeitig eine bessere Steuerstromempfindlichkeit und Temperaturstabilität aufweisen. Die Halbleitervorrichtung gemäß der Neuerung soll außerdem günstigere Kennlinien besitzen. Ferner soll ein neues Hilfsmittel zur Steuerung der Stromleitung in Schaltvorrichtungen mit mehreren Schichten angegeben sein ; diese Schaltvorrichtungen sollen auch eine größere Empfindlichkeit aufweisen. Schließlich soll die Halbleitervorrichtung mit den Schalteigenschaften gegenüber Einwirkungen der Temperatur stabil und ziemlich unempfindlich sein.
  • Ein weiteres Ziel der Neuerung ist eine Schaltvorrichtung mit mehreren Schichten und drei Elektroden, die bei ihrer Anwendung in einer Schaltung eine größere bauliche Anpassungsfähigkeit und eine vielseitigere Verwendbarkeit besitzt.
  • Ein Halbleiterkörper gemäß der Neuerung enthält vier Schichten mit beiden Leitfähigkeiten, wobei die Schichten der einen Leitfähigkeit zwischen den Schichten der entgegengesetzten Leitfähigkeit liegen, so daß drei pn-Übergänge ausgebildet werde Eine Elektrode stellt einen Ohmschen Kontakt mit einem geringen Widerstand an der Oberfläche einer äußeren Schicht des Körpers und an einer freiliegenden Fläche einer benachbarten, dazwischenliegenden Schicht her. Eine weitere Elektrode liefert einen weiteren Ohmschen Kontakt mit einem geringen Widerstand an der Oberfläche einer weiteren äußeren Schicht des Körpers. Eine dritte Elektrode bildet einen Minoritätsträger im injizierenden Kontakt mit der zuvor erwähnten, benachbarten Zwischenschicht und ist arbeitsmäßig dem innersten Übergang zugeordnet, so daß mit diesem eine Transistorwirkung entsteht.
  • Die dritte Elektrode arbeitet mit der einen Elektrode zusammen, sp daß der mittlere pn-Übergang neben der dritten Elektrode eine Leitung mit einem möglichst kleinen, angelegten Steuerstrom ermöglicht ; hierdurch wird eine Reihenfolge eines Vorgangs eingeleitet, durch die der mittlere Übergang in seinem ganzen Ausmaß leitend wird, Die eine Elektrode braucht nicht mit der Zwischenschicht verbunden zu sein, damit der zuvor beschriebene Vorgang erhalten wird. Ein ausreichender Steuerstrom kann zwischen der dritten Elektrode und der einen Elektrode infolge von Wirkungen erhalten werden, die als Sättigungsstrom oder Zener-Durchschlag bekannt sind.
  • Weitere Einzelheiten und Vorteile der Neuerung gehen aus der Beschreibung der beigefügten Figuren näher Im ? vor.
  • Fig. 1 ist ein Querschnitt durch eine Schaltvorrichtung mit vier Schichten und drei Elektroden gemäß der Neuerung.
    Fig. 2 ist eine Auftragung des S roms gegen die Spannung der
    Vorrichtung der Fig. 1.
    Fig. 3 ist eine idealisierte Darstellung der Strom-Spannungs-
    Kennlinien der Vorrichtung der Fig. 1 und gibt die Eigenschaften für verschiedene Werte des Steuerstroms an.
  • Fig. 4 ist ein Schnitt durch eine andere Ausführungsform der Schaltvorrichtung aus vier Schichten mit drei Elektroden gemäß der Neuerung.
  • Fig. 5 zeigt eine idealisierte Darstellung der Strom-Spannung-Kennlinien der Vorrichtung gemäß Fig. 4.
  • Fig. 6 zeigt einen Schnitt durch eine weitere Ausführungsform der Schaltvorrichtung mit vier Schichten und drei Elektroden gemäß der Neuerung.
  • Fig. 7 zeigt eine idealisierte Darstellung der Strom-Spannung-Kennlinien der Vorrichtung nach Fig. 6.
  • Fig. 8 ist eine perspektivische Ansicht des konstruktiven Aufbaus, der bei der Vorrichtung nach Fig. 1 vorliegen kann.
  • Fig. 9 ist ein Schnitt längs der Linie 9-9 der Vorrichtung nach Fig. 8.
  • Fig. 10 zeigt einen Schnitt durch eine weitere Ausführungsform einer schalterähnlichen Vorrichtung mit drei Elektroden und vier Schichten gemäß der Neuerung.
  • Fig. 11 zeigt eine idealisierte Auftragung der Strom-Spannung-Kennlinien der Vorrichtung nach Fig. 10.
  • Fig. 12 ist ein Schnitt durch eine Schaltvorrichtung mit fünf Schichten und mehreren Elektroden gemäß der Neuerung.
  • Fig. 13 zeigt eine idealisierte Darstellung der Strom-Spannung-Kennlinien der Vorrichtung nach Fig. 12.
  • In Fig. 1 ist ein Querschnitt durch eine Ausführungsform gemäß der Neuerung zu sehen und zeigt eine Halbleitervorrichtung 1, deren Halbleiterkörper 2 vier Schichten oder Bereiche aufweist ; ein mittlerer Bereich 3 mit n-Leitfähigkeit befindet sich neben einem äußeren Bereich 4 mit p-Leitfähigkeit und einem i3 ? it mittleren Bereich 5 mit p-Leitfähigkeit, dem ein äußerer Bereich 6 mit n-Leitfähigkeit benachbart ist, Diese Bereiche bilden drei etwa parallele pn-Übergänge Je'JE1 und JE2. Der Über-
    gang Je sei als mittlerer Kollektorübergang bezeichnet, da er
    zwischen dem n-Bereich 3 und dem p-Bereich 5 ausgebildet ist.
  • Der Übergang JE1 sei als erster Emitterübergang bezeichnet, da er zwischen der p-Schicht 5 und der n-Schicht 6 ausgebildet ist. Der Übergang JE2 sei als zweiter Emitterübergang bezeichnet und ist zwischen der n-Schitht3 und der p-Schicht 4 ausgebildet. Der mittlere p-Bereich 5 umgibt den n-Bereich 6 zu beiden Seiten und weist eine Fläche 8 auf, die in derselben Ebene wie die äußere Fläche 7 des Bereiches 6 liegt. Ein beträchtlicher Teil des Übergangs JE1 liegt zu der Fläche 8 parallet, während ein Abschnitt 10 mit einem geringeren Flächeninhalt etwa senkrecht zu den äußeren Flächen 7 und 8 der Bereiche 5 bzw. 6 steht und diese trifft. Der Körper 2 weist zwei gegenübergestellte Außenflächen auf, die etwa zu dem Kollektorübergang Je parallel sind. Die eine gegenübergestelle Fläche 18 enthält die Außenfläche des p-Bereiches 4, während die andere Fläche die äußere Fläche 8 des n-Bereiches 6 und die äußere Fläche 7 des mittleren p-Bereiches 5 enthält, die in einer Ebene liegen. In gutem leitendem Kontakt mit den äußeren Flächen 7 und 8 ist eine leitende Elektrode 12 befestigt, während eine weitere Elektrode 13 in gutem leitendem Kontakt an der äußeren Fläche 18 festgemacht ist. Die Elektrode 12 überbrückt den Übergang JE1 bzw. schließt diesen an einer Linie kurz, deren Projektion an einem Punkt 11 senkrecht zur Zeichenebene steht. Die Elektrode 12 bzw. 13 ist mit einer äußeren Klemme 14 bzw. 15 über Drähte 16 bzw. 17 verbunden. Ein Minoritäts- - Gräger injizierender Bereich 6a z. B. mit n-Leitfähigkeit ist z. B. in demjenigen Teil des Bereiches 5 vorgesehen, der sich zur Oberfläche der Vorrichtung an der Seite des Übergangs JE ausdehtn, die von dem kurzgeschlossenen Teil des Übergangs JE entfernt liegt ; der Bereich 6a bildet mit dem Bereich 5 einen Übergang JE4. An dem Bereich 6a ist eine Elektrode 19 angeschlossen.
  • Der Bereich 6a hat eine kleinere Ausdehnung als der Bereich 6 und bildet mit den p-Bereichen 4 und 5 und dem n-Bereich 3 eine weitere Schaltvorrichtung mit vier Schichten und drei Elektroden, von denen die Elektroden 12 und 13 außen liegen.
  • Der Bereich 6a ist anders als der Bereich 6 ausgebildet ; er kann stärker n-leitfähig sein und dem Übergang Je dichter als dem Übergang JE. benachbart sein, so daß er als Emitter beträchtlich wirkungsvoller als der Bereich 6 arbeiten kann und nur geringe Auslöseströme benötigt, um die Vorrichtung zwischen den Elektroden 12 und 13 leitend zu machen.
  • Die Arbeitsweise der Vorrichtung gemäß der Fig. 1 sei anhand der Fig. 2 näher erläutert, die die zugehörige Auftragung bzw-Diagramm der Strom-Spannung-Kennlinien zeigt. Im Diagramm wird der Strom zwischen den Elektroden 12 und 13 als Ordinate und die an den Elektroden liegende Spannung als Abszisse dargestellt.
  • Es sei angenommen, daß eine anwachsende Spannung zwischen den Elektroden 12 und 13 über einen Generator 30, einen in Reihe liegenden, den Strom begrenzenden Widerstand 31 und einen Schalter 30a zwischen den Klemmen 14 und 15 angeschlossen sei, um die Elektrode 12 zunehmend positiv bezüglich der Elektrode 13 zu machen. Am Übergang JE1 sucht sich eine Vorspannung in Sperrrichtung auszubilden, während der Übergang J. in Sperrichtung vorgespannt wird und somit den Stromfluß an diesem sperrt. Der Kollektorübergang Je ist in Durchlaßrichtung vorgespannt. Somit besteht zwischen den Elektroden 12 und 13 eine hohe Impedanz, bi s eine Spannung für einen lawinenartigen Durchschlag des Emitterübergangs JE2 erreicht wird, die durch eine Abszisse 20 in der Fig. 2 dargestellt ist.
  • Es sei angenommen, daß eine größere werdende Spannung zwischen den Elektroden 12 und 13 angelegt sei, um die Elektrode 12 zunehmend negativ bezüglich der Elektrode 13 zu machen. Wenn eine solche Spannung angelegt ist, erhalten die Übergänge JE1 und
    JE2 eine Vorspannung in Durchlaßrichtung und der Übergang Je
    <i L<
    eine Vorspannung in Sperrichtung. Bei geringen Strömen ist der Emitterübergang JE1 praktisch als Emitter unwirksam, da er die Bereiche 5 und 6 durch die Elektrode 12 kurzgeschlossen sind. Da die Spannung an der Vorrichtung zunimmt, fließt nur ein geringer Sättigungsstrom, der einen Sperrstrom am Übergang
    Je darstellt, der als Ordinate 21 in der Fig. 2 angegeben ist.
    L<
    Wenn sich die Spannung einer Durchschlagspannung VBO des Kollektorübergangs Je annähert, verläuft der Stromfluß am Übergang Je parallel zum Emitterübergang JE. in Richtung auf die Oberfläche 7 und nimmt schnell zu, wie durch PFeile 22 angedeutet ist. Der von diesem Stromfluß hervorgerufene sich ergebende Spannungsabfall im Bereich 5 längs des Überganges JE1 bewirkt eine Vorspannung am Übergang JE., die am rechten Rand des ÜBerganges am größten ist, weil dieser am weitesten von dem kurzgeschlossenen Kontakt 11 entfernt ist. Die ausnutzbare Emitterleistung und somit der Faktorvnahmen mit anwachsendem Strom-
    fluß zu. Wenn der Strom eine Größe Is erreicht, der als Ein-
    S
    schaltstrom bezeichnet sei, bei dem die Summe der Verstärkungsfaktoren aids npn-und pnp-Transistorabschnittes der Vorrichtung größer als eins ist, schaltet die Vorrichtung in den niedrigen Spannungszustand auf eine Spannung um, die einer Abszisse 23 in Fig. 2 entspricht. Der Übergang erfolgt sehr plötzlich, weil bei der Spannungsabnahme am Kollekorübergang Je der ursprünglich über den gesamten Bereich 5 verteilte Strom sich nun hauptsächlich auf den Rand des Bereiches 6 verschiebt, der von dem Abschnitt 10 entfernt ist und die Stromdichte sehr hoch wird. Die Vorrichtung schaltet nun in den niedrigen Spannungszustand bei einer noch höheren Stromstärke um, bei der die Bedingung für die Summe der Verstärkungsfaktoren erfüllt ist. Sobald der Schalter eingeschaltet ist, muß eine ausreichende Vorspannung am Basisbereich 5 beibehalten wer, den, um den Emitter auf einer starken Vorspannung in der Durchlaßrichtung zu halten. Da der Übergang Je nun in Durchlaßrichtung vorgespannt ist, haben die lawinenartigen Wirkungen des Überganges Je keine weitere Bedeutung mehr für die Aufrechterhalten der Leitung in der Vorrichtung. Wenn die Bedingungen für den ähßeren Stromkreis derart gewählt sind, daß ein Strom IH in Fig. 2 geringer als der kleinste, zur Aufrechierhaltung der Leitung in der Vorrichtung notwendige Wert ist, wie durch eine Ordinate 24 angedeutet ist, hört die Vorrichtung zu leiten auf und kehrt in ihren nichtleitenden Zustand zurück. In dem Bereich der starken Leitung in Durchlaßrichtung, ist der größte Teil des Emitters leitend vorgespannt, so daß die Vorrichtung die geringe Impedanz der üblichen pnpn-Schaltvorrichtungen aufweist. Im Hinblick auf die in Fig. 2 dargestellten Kennlinien hat es sich als möglich erwiesen, den Wert des Einschaltstroms Is so zu verändern, s
    daß er größer, gleich oder kleiner als der Haltestrom IR ist,
    . I istg
    wie bereits vorgeschlagen wurde, Die Funktionsweise des Tor-oder Steuerübergangsbereiches 6a sei anhand der Kurven in Fig. 3 erläutert. Kurven IG..,IGp, IG3 und IG4 geben Strom-Spannung-Kennlinien für wachsende Werte eines Steuerstroms IG an, der an der Elektrode 19 angelegt ist. Eine erhöhte Injektion aus dem Bereich 6a in den Bereich 5 hinein wird durch eine angemessene negative Vorspannung der Elektrode 19 bezüglich der Elektrode 12 mit Hilfe eines Generators 32 und eines in Reihe liegenden, strombegrenzenden Widerstandes 33 erreicht, der über einen Schalter 32a zwischen den Elektroden 19 und 12angeschlossen ist, so daß die Schicht 6a als Emitter arbeiten kann. Durch die gesteigerte Vorspannung an der Elektrode 19 bezüglich der Eier,-. trode 12 wird die Injektion in den Bereich 5 hinein unabhängig vergrößert, so daß der Faktordes des npn-Abschnittes der Schaltvorrichtung mit vier Schichten zunimmt, so daß die Bedingungen für eine Zunahme des dz-faktors mit dem Strom und für die d Baktorsumme von diesem Abschnitt der Vorrichtung erfüllt werden können ; dadurch entsteht an dem mittleren Übergang ein Durchschlag und eine Umkehrung der Polung, wie bereits erklärt ist. In diesem Zustand, der für den angegebenen kleinen Abschnitt der Vorrichtung besteht, kann ein Strom quer zum Übergang Je fließen, daß der Hauptabschnitt der aus vier Schichten bestehenden Vorrichtung durchschlagen und leitend wird ; dabei besteht eine niedrige Impedanz zwischen den Elektroden 12 und 13. Die Herbeiführung der Leitung im Steuerabschnitt der Vorrichtung ist von einer temperaturstabilisierenden Wirkung des verkürzten Emitteraufbaus unabhängig.
  • Wie zuvor erwähnt ist, kann der Bereich 6a sehr klein ausgebildet sein ; somit sind nur sehr geringe Injektionsströme nötig, um den Durchschlag des Übergangs Je einzuleiten. Die Wirksamkeit des Bereiches 6a als Emitter kann auch verstärkt
    werden, wenn dieser sehr dicht an den Übergang Je gelegt wird,
    ohne daß die Durchbruchskennlinie der Vorrichtung bei der Sperrspannung beeinflußt wird ; aber der Faktor' des npn-Abschnittes wird vergrößert, wodurch seine Empfindlichkeit und die gesamte Steueransprechbarkeit der Vorrichtung gesteigert werden.
  • Die Vorrichtung gemäß Fig. 1 kann durch unterschiedliche Verfahren hergestellt werden. Bei einem Verfahren wird ein Plättchen aus Siliziumhalbleitermaterial mit n-Leitfähigkeit, dessen spezifischer Widerstand annähernd 15 Ohm. cm und dessen Dicke 9 mil (0, 23 mm) beträgt, in eine evakuierte, abgedichtete Quarzröhre zusammen mit einer Legierung, die aus Silizium und Gallium besteht, untergebracht, und mit einem reaktionsunfähigen Gas gefüllt. Die Temperatur des Plättchens wird auf etwa 12500 C erhöht, während die Temperatur der Legierung bis auf 10500 C gesteigert wird. Das aus der Legierung stammende Gallium diffundiert in das Plättchen hinein und bildet Bereiche, die den p-Bereichen 4 und 5 entsprechen.
  • Die Konzentration des Galliums im Legierungsvorrat und die Diffusionszeit werden so reguliert, daß die gewünschten Eindringtiefen und die sich ergebenden Abmessungen der verschiedenen Schichten erhalten werden. Wenn sich der zuvor erwähnte Galliumvorrat auf einer Temperatur von 10500 C und das Plättchen auf einer Temperatur von 12500 C befinden beträgt die Diffusionszeit angenähert 60 h. Dann wird das Plättchen von einem passenden Hilfsmittel, z. B. einem säurebeständigen Wachs in bestimmten Bereichen verdeckt und anschließand mit einer Ätzlösung geätzt, (die 5 Raumteile 70% tiger Salpetersäure, 3 Raumteile 49 % tiger Fluorwasserstoffsäure und 3 Raumteile Essigsäureenthält), so daß sich aus dem Plättchen eine kreisrunde Pille bildet, deren Durchmesser 1/2 Zoll (12,7 mm) beträgt. Als nächstes wird die Pille in Trichloräthylen und dann in konzentrierter Salapetersäure (69%) gekocht ; danach wird sie der Reihe nach in Fluorwasserstoffsäure, in entionisiertem Wasser und in Aceton gespült. Infolge der vorgenannten Arbeitsgänge besitzt die Pille eine 3, 6 Mil (0,09 mm) dicke n-Schicht, die zwischen zwei p-Schichten von 2, 7 Mil (0, 07 mm) DicKe eingelegt ist. Eine Scheibe aus Aluminium mit einem Durchmesser von 0,495 Zoll (12,5 mm) und einer Dicke von 2 Mil (1 mm) eine Rückplatte aus Wolfram werden in dieser Reihenfolge auf die eine Seite der Pille in einem Kohlenstoffutter oder-halter gelegt ; zwei gesonderte Scheiben aus mit Antimon dotiertem Gold (99% Gold-1 % Antimon), von denen die eine einen Durchmesser von 410 Mil (10,4 mm) und eine Dicke von 2 Mil (0,05 mm) und die andere einen Durchmesser von 20 Mil (0, 51 mm) und eine Dicke von 2 Mil (0, 05mm) besitzen, werden auf die andere Seite der Pille in dem Spannfutter aufgelegte Der Halter mit der Pille und die flachliegenden Scheiben werden in einer nichtoxydierenden Atmosphäre durch einen Tunnelofen hindurchgezogen. Die Zeit und die Temperatur des Ofens werden derart gesteuert, daß die Gold-Antimonllegierung annähernd 1 1/2 Mil (0, 038 mm) eindringt. Auf diese Weise werden ein Hauptemitter mit n-Leitfähigkeit, der dem Bereich 6 entspricht, und ein Steueremitter mit n-Leitfähigkeit, der dem Bereich 6a entspricht, in der Pille ausgebildet. Ebenso wird ein leitender Kontakt an dem Bereich 4 von der Aluminiumscheibe und der Wolframplatte gebildet. Anschließned wird die noch4 nicht fertige Anordnung mit den Kontakten aus der Gold-Antimon-Legierung geschliffen, poliert, um das überschüssige Gold und Antimon zu entfernen, und mit der zuvor angegebenen Ätzung geätzt.
  • Auf der gesamten Oberfläche wird dann Aluminium aufgebracht und wahlweise entfernt, um die der Elektrode 12 der Fig. 1 entsprechende Elektrode zu bilden. Die Anordnung mit der Wolframrückplatte, an der eine Leitung befestigt wird, wird durch den Tunnelofen geführt, um die Wolframplatte und die Aluminiumauftragung an der Anordnung zu befestigen. Die gesamte Anordnung wird dann mit der bereits angegebenen Ätzlösung geätzt. Schließlich wird eine Leitung an dem Bereich, Ko, z. B. durch Anwendung von Wärme und Druck festgemacht.
  • Wenn auch im verherigen Beispiel spezielle Stoffe und Aufbauten erwähnt sind, so können doch je nach Wunsch Abänderungen vorgenommen werden. Die Gold-Antimon-Scheibe für die Steuerelektrode kann z. B. stärker dotiert werden und eine größere Materialdicke als die Gold-Antimon-Scheibe aufweisen, die für den Hauptemitter verwendet wird, so daß ein stärker dotierter Torbereich und ein weiterer Bereich erzeugt werden, der näher am Kollektorübergang liegt. Weitere Einzelheiten für die Fertigung der Vorrichtung seien in Verbindung mit den Fig. 8 und 9 erklärt.
  • Bei einem weiteren Verfahren zur Ausbildung der Vorrichtung gemäß Fig. 1 unter Benutzung einer total diffundierten Pille wird folgendermaßen ausgeführt. Das Ausgangsmaterial ist im wesentlichen das gleiche wie beim vorherigen Verfahren, nämlich ein n-Siliziumplättchen mit einem spezifischen Widerstand von annähernd 15 Ohm-cm und einer Dicke von 7 Mil (0,178 mm). Wie beim vorherigen Beispiel wird Gallium eindiffundiert ; lediglich did Diffusionszeit beträgt annähernd 17 h, so daß ein p-Bereich von etwa 2 Mil (0,051 mm) Dicke entsteht. Das Plättchen wird dann dadurch oxydiert, daß es feuchtem Sauerstoff etwa 5 h lang bei einer Temperatur von annähernd 1240°C ausgesetzt wird. Das gesamte Plättchen wird dann auf geeignete Weise z. B. durch einen Überzug mit Photoresist abgedeckt. Das Plättchen wird dann mit einem Glasdekkel bedeckt, das ein gewünschtes Muster für den Liohtdurchgang trägt. Dann wird Licht auf die Abschirmung geworfen und entsprechend dem gewünschten Muster das Photoresist dem Licht ausgesetzt. Der nichtbelichtete Bereich wird anschließend mit Ammoniumbifluorit geätzt, um das Siliziumoxyd zu entfernen.
  • Dann wird das Photoresist entfernt, so daß eine pnp-Struktur zurückbleibt, die gewisse ausgewählte Bereiche mit einem Oxydüberzug trägt. Als nächstes wird Phosphor in den Aufbau, der nun voneinem Oxyd verhüllt wird, in einer offenen Röhre ein-
    diffundiert, in der das Plättchen bei einer Temperatur von
    12500C und der Phosphorvorrat als Phosphorpentoxyd (P205) bei
    einer Temperatur von 2000C 10 min lang gehalten werden, so
    daß sich auf dem Aufbau ein Phosphorniederschlag bildet. Der Phosphorvorrat wird nicht weiter erwärmt und das Plättchen 6 H lang auf einer Temperatur von 125000 gehalten. Dann wird das Plättchen in Flußsäure 2 min lang geätzt, um am Plättchen zurückbleibendes Oxyd zu entfernen und schließlich mit ionisiertem Wasser gespült, mit Aceton getrocknet, um es zu reinigen. Auf beiden Seiten des Plättchens wird dann Aluminium aufgedampft. Als nächstes werden bestimmte Bereiche des Plättchens mit einer säurebeständigen Abdeckung z. B. aus Apiezonwachs bedeckt und dann mit der bereits erwähnten Ätzlösung geätzt, um das Plättchen als Pille auszubilden und Aluminiumkurzschlüsse an unerwünschten Bereichen der einzelnen Pille zu entfernen. Auf beiden Seiten der Pille werden Wolframrückplatten in Berührung mit den Aluminiumniederschlägen aufgelegt ; dann wird die soweit hergestellte Anordnung durch einen Tunnelofen gezogen, der auf etwa 700Da einige Minuten lang gehalten wird, um die Elektroden daran festzumachen. In anderer Hinsicht ist der Anschluß der Elektroden an die Vorrichtung der gleiche wie bei dem vorherigen Beispiel und wird noch näher in Verbindung mit den Figuren 8 und 9 erläutert.
  • In Fig. 4 ist eine Schaltvorrichtung mit vier Schichten und drei Elektroden ähnlich der Vorrichtung nach Fig. 6 zu sehen.
  • Bei dieser Vorrichtung sind jedoch die Steuerelektrode und der Steuerbereich dicht an den Bereich gelegt, wo die Elektrode 12 mit dem Bereich 5 einen Kontakt bildet. Diese Vor-
    richtung kann in der Weise angefertigt werden, wie in Verbin-
    C>
    dung mit der Vorrichtung gemäß Fig. 1 beschrieben ist. Die Arbeitsweise ist im wesentlichen dieselbe wie die Arbeitsweise der Vorrichtung gemäß Fig. 1. Die Spannung-Strom-Kennlinien der Vorrichtung gemäß Fig. 4 sind in Fig. 5 für verschiedene Werte des Steuerstroms IG angegeben.
  • In Fig. 6 ist eine andere Schaltvorrichtung mit vier Schichten und drei Elektroden gemäß der Neuerung dargestellt. Bei dieser Ausführungsform stellt die Elektrode 12 keinen Ohmschen, also nichtgleichrichtenden Kontakt mit dem Bereich 5 her. Der notwendige elektrische Kontakt mit dem Bereich 5 wird, damit die Torelektrode 19 richtig arbeitet, in verschiedener Weise ausgeführt. Die Leistungsfähigkeit von Teilen des Bereiches 6 in der Nähe der Oberfläche neben dem Übergang JE1 als Emitter kann durch eine starke Konzentration an Verunreinigungen in den Oberflächenbereichen neben dem Übergang JE gesenkt werden, so daß ein Kriechstrom zum p-Bereich 5 entsteht. Der notwendige leitende Weg zum Bereich 5 kann auch durch einen umgekehrten Sättigungsstrom und Zener-Stromwirkungen mit Strom versorgt werden. Die Spannung-Strom-Kennlinien der Vorrichtung gemäß Fig. 6 sind in Fig. 7 für verschiedene Werte des Steuer-
    stroms IG zu sehen.
    G
    Die Vorrichtung der Fig. 6 kann ähnlich wie die Vorrichtung der Fig. 1 angefertigt werden, wobei natürlich unterschiedliche spezifische Widerstände für die verschiedenen Bereiche zugelassen werden müssen, um die gewünschte Betriebsweise zu erhalten.
  • Die Fig. 8 und 9 zeigen weitere konstruktive Merkmale der Vorrichtung nach Fig. 10. Der Körper 2 ist auf einer leitenden Platte 35 montiert, die aus Wolfram oder einem anderen Material bestehen kann, die an dieser mit einem Lötmittel 34 angelötet ist. Wie bereits erwähnt, kann der Körper 2 an der Wolframplatte durch einen Niederschlag 36 aus Aluminium befestig ; sein, der am Körper 2 entsprechend angebracht und an der Platte 35 angelötet ist. In ähnlicher Weise kann eine Plat-
    te 38 aus Wolfram oder einem anderen Material bestehen, an der
    ein äußerer Leiter 39 angelötet ist ; die Herstellung des Kontaktes kann mit Hilfe eines Niederschlages 37 aus Aluminium erfolgen, der entsprechend am Körper angebracht und leitend an der Wolframplatte festgemacht ist. Der steuernde Leiter 19 kann ein Draht sein, der entweder an einem Gold-Antimon-Niederschlag auf dem n-Bereich angelötet oder durch einen Bindung mit Wärme und Druck befestigt ist. Die konstruktiven Merkmale gemäß den Fig. 8 und 9 können auch bei den anderen Ausführungsformen angewendet werden.
  • In zig. 10 ist eine Schaltvorrichtung mit vier Schichten und mehreren Elektroden zu sehen, Die Vorrichtung ist der Vorrichtung gemäß der Fig. 1 ähnlich. Bei dieser läuft die Zwischenschicht 5 auf beiden Seiten des n-Bereiches 6 zur Oberfläche.
  • In ähnlicher Weise erstreckt sich die Zwischenschicht 3 auf der Unterseite der Vorrichtung zu beiden Seiten des p-Bereiches 4. Kurzschließende Kontakte 12 und 33 sind wie bei der Vorrichtung der Fig. 1 angebracht. Außerdem ist der Steuerbereich 6a mi n-Leitfähigkeit in gleichrichtendem Kontakt mit dem Bereich 5 an der Seite ausgebildet, die von der kurzgeschlossenen Stelle
    abgewendet ist. Die Vorrichtung der Fig. 10 kann in ähnlicher
    Weise wie die Vorrichtung der Fig. 1 angefertigt werden.
    In Fig. 11 sind die Spannung-Strom-Kennlinien der Vorrichtung
    der Fig. 10 zu sehen. Wenn die Elektrode 12 positiv gegenüber
    der Elektrode 33 ist, erhält der Übergang Je eine Vorspannung in Durchlaßrichtung, wie im dritten Quadranten des Diagramms gemäß Fig. 11 zu sehen ist. Wenn die Elektrode 12 eine negative Vorspannung zur Elektrode 33 erhält, liegen die Kennlinien für die Durchlaßrichtung als Kurvenschar im ersten Quadranten vor. Diese Kurven zeigen Spannung-Strom-Kennlinien für verschiedene Werte von IG1-IG4'die an der Elektrode 19 liegen.
  • In Fig. 12 ist eine Schaltvorrichtung mit fünf Schichten und mehreren Elektroden zu sehen, deren Steuerelektroden an ihren verschiedenen Zwischenschichten angeschlossen sind. Diese Fig. zeigt einen Querschnitt durch eine Schaltvorrichtung, deren Spannung-Strom-Kennlinien in Fig. 13 aufgezeichnet sind. Diese
    Vorrichtung enthält fünf Schichten 40-44, von denen jeweils
    die Leitfähigkeit benachbarter Schichten entgegengesetzt ist.
    In der Vorrichtung liegen somit vier pn-Übergänge JE
    CD 19 JE2'JC1
    und J02 vor. Der Übergang JE1 ist zwischen der n-und p-Schicht
    40 und 42 ausgebildet, während der Übergang J c1 zwischen der p-und n-Schicht 42 und 44 liegt. Der Übergang JC2 ist zwischen der p-und n-Schicht 43 und 44 hergestellt. Die Abschlußschichten 40 und 41 weisen dieselbe Leitfähigkeit, nämlich die n-Leitfähigkeit auf und sind in der Breite mit den benachbarten Schichten 42 und 43 kurzgeschlossen ; sie stellen verlängerte Oberflächen dar, die in derselben Ebene wie die Außenfläche der Schichten 40 und 41 liegen. Elektroden 45 und 46 stellen einen leitenden Kontakt mit den äußeren Flächen des Halblei. terkörpers her, aus dem die Vorrichtung gebildet ist, An den Elektroden 45 und 46 sind Drähte 47 und 48 angeschlossen. In den Bereichen 42 und43 ist ein Bereich 50 bzw. 51 mit n-Leitfähigkeit ausgebildet, an dem eine Elektrode 52 bzw. 53 angeschlossen ist. Wie hervorgehoben sei, kann der Aufbau gemäß der Fig. 12 in ähnlicher Weise wie die Vorrichtung der Fig.
  • 1 angefertigt werden. In Fig. 13 ist eine idealisierte Auftragung der Spannung-Strom-Kennlinien der Vorrichtung gemäß Fig. 12 zu sehen. Die Vorrichtung der Fig. 12 sei als symmetrischer Schalter mit fünf Bereichen und zwei verkürzten Emittern bezeichnet, der Spannungen mit beiden Vorzeichen, die an den Klemmen liegen, umschaltet, Der Betrieb der Vorrichtung gemäß der Fig. 12 sei in Verbindung mit der Kurve der Fig. 13 erläutert. Es sei angenommen, daß die an der Elektrode 45 angelegte Spannung gegenüber der an der Elektrode 46 angelegten Spannung negativ ist.
  • Der Übergang JE1 wirkt als ein leistungsfähiger verkürzter Emitter. Der Übergang J, wirkt als Kollektor, der schalten
    soll. Der Übergang J02 wirkt als weiterer Emitter, während der
    Übergang JE2 eine Vorspannung in Sperrichtung anzunehmen sucht, aber wegen des Kurzschlusses infolge der Elektrode 46 keine Spannung beibehalten kann. Die Vorrichtung schaltet in der angenommenen Polung wie die Vorrichtung der Fig. 1 und weist eine Kennlinie auf, die im ersten Quadranten der Fig. 13 zu sehen ist. Wenn nun die angelegte Spannung das umgekehrte Vorzeichen erhält, so ergibt sich aus der Symmetrie dieser Konstruktion, dasswieder das Schalten einsetzt, wie aus der Kennlinie im dritten Quadrant der Fig. zu erkennen ist. Bei einer üblichen npnpn-oder pnpnp-Vorrichtung mit zwei Elektroden wird geschaltet, ohne daß der eine oder der andere Emitterübergang die entgegengesetzte Vorspannung erhält, so daß ein Strom nur bei der Durchschlagspannung des Übergangs hindurchgelassen wird. Wenn die Elektrode 45 negativ zur Elektrode 46 ate gepolt ist, wird die Vorrichtung bei einem speziellen Spannungswert VBOR leitend ; wenn die Elektrode 45 positiv hinsichtlich der Elektrode 46 gepolt ist, wird die Vorrichtung in ähnlicher Weise bei einem anderen speziellen Spannungswert VBOL leitend, wie in Fig. 13 zu sehen ist. Kurvemscharen I-
    i und I C)
    IG5 und Ip.-1-j5 zeigen die Veränderung der Spannung-Strom-
    Kennlinien an den Elektroden 45,46 der Vorrichtung für verschiedene Werte des Steuerstroms, der an den Steuerbereichen 50 bzw. 51 angelegt ist. Bei Zunehmenden Werten des Steuerstroms schaltet die Vorrichtung in den Leitungszustand in Durchlaßrichtung bei niedrigeren Werten der Spannung, die zwischen Elektroden 45 und 46 eingelegt ist.
  • Wie zuvor erwähnt, bestehen die Kriterien für einen Durchbruch in der Durchlaßrichtung am Übergang Jci in dem einen Fall und am Übergang JC2 in dem anderen Fall, sp daß die Stromverstärkung mindestens des einen Transistorabschnittes, in den die Vorrichtung auflösbar ist, im Leitungszustand in Durchlaßrichtung einen Verstärkungsfaktor besitzt, der mit dem Strom zunimmt ; die Summe ver Verstärkungsfaktoren oder beiden Transistorabschnitte ist daher bei einem mittleren STrom gleich oder größer als eins. Diese Bedingungen für die Zündung bei einer speziellen Spannung, die an den den Hauptstrom führenden Elektroden 45 und 46 angelegt ist, können von geeigneten Strömen in den Bereichen 50 und 51 mit n-Leitfähigkeit erfüllt werden. Natürlich würde ein Signal an der einen Steuerelektrode 50 uder 51 nur dann eine Wirkung haben, wenn die Hauptelektroden 45 und 46 entsprechend gepolt sind. Natürlich kann das Umschalten der Vorrichtung in den leitenden Zustand durch eine gleichzeitige Zuführung von Steuerströmen an die beiden Steuerelektroden 50 und 51 erfolgen.
  • Die Vorrichtung der Fig. 12 kann in Schaltungen, in denen übliche Steuervorrichtungen mit vier Schichten und drei Elektroden verwendet werden, die allgemein als gesteuerte Gleichrichter bezeichnet werden, und in anderen Schaltungen verwendet werden, bei denen Schaltkennlinien in zwei Richtungen und die Multiplizität der Steuerlemente voll ausgenutzt wird.
  • Typische Vorrichtungen der zuvor beschriebenen Arten können Ströme von mehr als 50 A in der Durchlaßrichtung durchlassen, während der Spannungsabfall in Durchlaßrichtung geringer als 2 V ist ; die Durchschlagspannung zwischen den den Hauptstrom führenden Elektroden ist dabei größer als 400 V. Derartige Vorrichtungen sind bei Temperaturen oberhalb 165°0 stabil. Ein typischer Wert für einen Steuer-oder Torstrom derartiger Vorrichtungen beträgt 200 pA.
  • Die zuvor erläuterten Vorrichtungen können in Schaltungen benutzt werden, in denen die üblichen, gesteuerten Gleichrichter benutzt werden ; für Unterschiedein der Arbeitsweise können entsprechende Veränderungen zugelassen werden. Wenn auch die verscheiede. nen Vorrichtungen zum großen Teil nach Diffusionsverfahren angefertigt sind, so sind doch auch andere Verfahren und Verfahrenskombinationen zur Ausbildung der zuvor beschriebenen Konstruktionen anwendbar.
  • Obgleich der Erfindungsgegenstand in Verbindung mit speziellen Ausführungsformen beschrieben ist, können doch von einem Fachmann Abänderungen getroffen werden. Wenn auch die Vorrichtungen im allgemeinen rechteckig dargestellt sind, so können auch kreisrunde, zylindrische und anders geformte Vorrichtungen benutzt werden. Während die Steuerbereiche der Vorrichtung als
    n-leitend angegeben sind, können auch S+euerbereiche mit
    p-Leitfähigkeit bei Vorrichtungen verwendet werden, bei
    denen die Leitfähigkeit der verschiedenen Bereiche umgekehrt, also im Gegensatz zur Beschreibung ist.

Claims (9)

  1. S ohutzansprüohe 1. Halbleitervorrichtung mit einem Halbleiterkörper (3), dessen einer Bereich (5) mit der einen Leitfähigkeit einen Bereich (6) mit der entgegengesetzten Leitfähigkeit, an dem sich eine Elektrode (12) in Ohmschem Kontakt mit einem niedrigen Widerstand befindet, unter Bildung eines pn-Übergangs (JE) enthält, d a d u r c h g e k e n n z e ich n e t, daß Vorrichtungen einen Leitungsweg mit niedriger Impedanz von dieser Elektrode (12) zu dem ersten Bereich (5) herstellen, daß eine weitere Elektrode (13) leitend an dem Körper in dem Bereich (4) der einen Leitfähigkeit abseits von dem Übergang (9) befestigt ist, und daß ein weiterer Bereich (6a) mit der entgegengesetzten Leitfähigkeit vorhanden ist, an dem eine dritte Elektrode (19) angeschlossen ist.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n nz e i c h n e t, daß der zwischen dem Bereich (5) mit der einen Leitfähigkeit und dem Bereich (6) der entgegengesetzten Leitfähigkeit gebildete pn-Übergang (9) großflächig ist, und daß sich der weitere Bereich (6a) entgegengesetzter Leitfähigkeit in dem Bereich (5) der einen Leitfähigkeit befindet und zwischen diesen Bereichen (5,6a) ein kleinflächiger pn-Übergang (JE4) gebildet ist.
  3. 3. Halbleitervorrichtung mit einem Halbleiterkörper, dessen Bereich (5) mit der einen Leitfähigkeit unter Bildung eines po-obergangs (9,10) einen Bereich (6) der entgegengesetzten Leitfähigkeit enthält, d a d u r c h g e k e n n z e i c hn e t, daß eine Elektrode (12) in Ohmschem Kontakt mit niedrigem Widerstand mit der Oberfläche beider Bereiche (5,6) neben dem Übergang (10) steht, daß eine weitere Elektrode (6a) leitend am Körper an dem Bereich (5) der einen Leitfähigkeit vom Übergang (10) entfernt befestigt ist, und daß ein weiterer Bereich (4) entgegengesetzter Leitfähigkeit in dem Körper vorgesehen ist, an dem eine dritte Elektrode (13) angeschlossen ist (Fig. 1l
  4. 4. Halbleitervorrichtung mit einem vier Schichten (3-6) beider Leitfähigkeiten enthaltenden Halbleiterkörper, d a d u r c h g e k e n n z d i c h n e t, daß die Schichten der einen Leitfähigkeit zwischen den Schichten der entgegengesetzten Leitfähigkeit unter Bildung mehrerer pn-Übergänge $JE., 29JC) liegen, daß mit einer äußeren Schicht des Körpers eine Elektrode (12) in Ohmschem Kontakt mit geringem Widerstand steht, daß eine Vorrichtung einen Leitungsweg mit niedrigem Widerstand von der einen Elektrode (12) zu einer benachbarten Zwischenschicht (5) entgegengesetzter Leitfähigkeit liefert, daß eine weitere Elektrode (13) mit der einen Außenfläche der anderen äußeren Schicht (4) des Körpers in Ohmschem Kontakt mit niedrigem Widerstand steht, daß ein Bereich (6a) der einen Leitfähigkeit in der benachbarten Zwischenschicht (6) entgegengesetzter Leitfähigkeit vorhanden ist, und daß eine dritte Elektrode (6a) an dem Bereich (5) entgegengesetzter Leitfähigkeit angeschlossen ist (Fig. 6).
  5. 5. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 4, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t, daß die Übergänge (JE, 9 JE2 und Ja) und die weitere Elektrode (13) großflächig sind, und daß der Bereich (6a) der einen Leitfähigkeit mit der benachbarten Zwischenschicht (5) entgegengesetzter Leitfähigkeit einen kleinflächigen pn-Übergang (JE4) bildet.
  6. 6. Halbleitervorrichtung mit einem vier Schichten (3-6) beider Leitfähigkeiten enthaltenden Halbleiterkörper, d ad u r c h g e k e n n z e ich n e t, daß die Schichten der einen Leitfähigkeit zwischen den Schichten der entgegengesetzten Leitfähigkeit unter Bildung mehrerer pn-Übergänge (JE1'JE2'Je) liegen, daß eine Elektrode (12) mit einer Oberfläche einer äußeren Schicht (6) des Körpers und einer freiliegenden Oberfläche der benachbarten Zwischenschicht (5) in Ohmschem Kontakt mit niedrigem Widerstand steht, daß eine weitere Elektrode (13) mit einer Oberfläche der anderen äußeren Schicht (14) des Körpers in Ohmschem Kontakt mit niedrigem Widerstand steht, und daß ein Bereich 06a) der einen Leitfähigkeit in der benachbarten Zwischenschicht (5) vorhanden ist, an dem eine dritte Elektrode (19) angeschlossen ist (Fig. 4).
  7. 7. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 6, d a d u r c g ek e n n z e i c h n e t, daß die Übergänge (JE1'JE2'Je) großflächig sind, daß die Elektrode (12) in großflächigem, Ohmschem Kontakt mit niedrigem Widerstand mit der Oberfläche der äußeren Schicht (8) steht, und daß der Bereich (6a) der einen Leitfähigkeit in der benachbarten Zwischenschicht (5) entgegengesetzter Leitfähigkeit unter Bildung eines flächigen pn-Überganges vorhanden ist.
  8. 8. Halbleitervorrichtung mit einem vier Schichten (3-6) beider Leitfähigkeiten enthaltenden Halbleiterkörper, d a du r c h g e k e n n z e i c h n e t, daß die Schichten der einen Leitfähigkeit zwischen den Schichten der entgegengesetzten Leitfähigkeit unter Bildung mehrerer pn-Übergänge (JE1,JE2,J6) liegen, daß eine Elektrode (12) mit einer Oberfläche einer äußeren Schicht (6) und einer freiliegenden Oberfläche einer benachbarten Zwischenschicht (5) in Ohmschem Kontakt mit niedrigem Widerstand steht, daß eine weitere Elektrode (33) mit einer Oberfläche der anderen äußeren Schicht (4) und einer freiliegenden Oberfläche einer benachbarten Zwischenschicht (3) in Ohmschem Kontakt mit niedrigem Widerstand steht, und daß eine dritte Elektrode (6a) mit der einen Zwischenschicht (5) in Verbindung steht und einen injizierenden Kontakt mit dieser bildet (Fig. 10).
  9. 9. HalbleiGervorrichtumg mit einem fünf Schichten beider Leitfähig. keiten enthaltenden Halbleiterkörper, d a d u r c h g e k e n nz e i c h n e t, daß die Schichten der einen Leitfähigkeit zwischen den Schichten der entgegengesetzten Leitfähigkeit unter Bildung mehrerer pn-Übergänge liegen, daß eine Elektrode (45) mit einer Oberfläche einer äußeren Schicht (40) des Körpers und einer freiliegenden Oberfläche einer benachbarten Zwischenschicht (42) in Ohmschem Kontakt mit niedrigem Widerstand steht, daß eine weitere Elektrode (46) mit einer Oberfläche einer weiteren äußeren Schicht (41) und einer Oberfläche ein benachbarten Zwischenschicht (43) in Ohmschem Kontakt mit niedrigem Widerstand steht, und daß eine dritte Elektrode (50 oder 51) mit der einen Zwischenschicht (42 oder 43) einen gleichrichtenden Kontakt herstellt (Fig. 12),
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