DE1667537A1 - Process for the production of high percentage hydrogen acids of the halogens that are largely free of impurities - Google Patents

Process for the production of high percentage hydrogen acids of the halogens that are largely free of impurities

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DE1667537A1 DE19681667537 DE1667537A DE1667537A1 DE 1667537 A1 DE1667537 A1 DE 1667537A1 DE 19681667537 DE19681667537 DE 19681667537 DE 1667537 A DE1667537 A DE 1667537A DE 1667537 A1 DE1667537 A1 DE 1667537A1
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Description

Verfahren zur Gewinnung von hochprozentigen und weitgehend von Verunreinigungen freien. Wasserstoffsäuren der Halogene Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Gewinnung von hochprozentigen und weitgehend von Verunreinigungen freien Wasserstoffsäuren der Halogene und 2seudo-Halogene aus gasförmigen bzw. flüssigen, verdünnten und/oder verunreinigten Gemischen, wobei die Lösungen bzw. Gemische mit einem zumindest teilweise selektiv absorbierenden organischen Lösungsmittel behandelt werden, das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv einer Behandlung zur weitestgehenden Abtrennung der Verunreinigungen unterworfen wird und die Halogenwasserstoffsäure sodann von dem Absorbens abgeschieden wird. Es sind eine Mehrzahl von der Reinigung und/oder der Konzentration vor, verdünnten, gegebenenfalls Verunreinigungen aufweisenden Wasserstoffsäuren der Halogene, sei es im Zuge der Gewinnung der Säuren, sei es zwecks Aufbereitung der Säuren, dienendeilVerfahren bekannt bzw. vorgeschlagen worden, bei denen die die Säure enthaltende Lösung bzw. das Gemisch zunächst mit einem die Lösung bzw. das Gemisch absorbierenden organischen Lösungsmittel behandelt werden, das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv sodann einer die Verur_reinigungenaustreibenden Spülbehandlung mit ged-gneten Gasen bzw. Dämpfen unterworfen wird,und das gereinigte Absorbtiv daraufhin von dem Absorbens abgeschieden wird, woran sich gegebenenfalls noch eine Aufkonzentration der Säure anschließt. Die zu reinigende und/ oder zu konzentrierende Säure kann dabei in flüssiger oder gasförmiger Konsistenz vorliegen. Die einzelnen Behandlungsstufen insbesondere der Absorptionsvorgang und der sich daran anschließende Reinigungsvorgang, können sich zeitlich überschneiden.Process for the recovery of high percentage and largely of impurities free. Hydrogen acids of the halogens The invention relates to a method for Extraction of high-percentage hydrogen acids that are largely free of impurities of halogens and 2seudo-halogens from gaseous or liquid, diluted and / or contaminated mixtures, the solutions or mixtures with at least partially selectively absorbent organic solvents are treated, the absorbent with the absorbent taken up by him, a treatment for the greatest possible separation which is subjected to impurities and then the hydrohalic acid from the absorbent is deposited. There are a majority of the cleaning and / or the concentration before, diluted, possibly containing impurities Hydrogen acids of the halogens, be it in the course of the extraction of the acids, may be it is known or proposed for the purpose of processing the acids been, in which the solution containing the acid or the mixture initially with treated with an organic solvent absorbing the solution or the mixture the absorbent with the absorbent it has taken up then one which drives out the pollutants Rinsing treatment with gneted gases or vapors is subjected, and the cleaned Is then absorbed by the absorbent deposited, what may be a concentration of the acid follows. The one to be cleaned and / or too Concentrating acid can be in liquid or gaseous consistency. The individual treatment stages, in particular the absorption process and the self The subsequent cleaning process can overlap in time.

Als vorteilhaft erweist sich dabei die Verwendung von solchen Absorbentien, die eine selektive Absorption ermöglichen. Entsprechende Absorbentien sind beispielsweise 2olyaether und Polyole. Die Absorbentien weisen nun aber auch ein Aufnahmevermögen für andere Stoffe auf, sei es, daß diese in der Ausgangslösung bzw. in dem Ausgangsgemisch, sei es, daß diese in den Medien enthalten sind, mit denen das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorptiv zum Zwecke der Reinigung und/oder zum Zwecke der anschließenden Abscheidung des teilweise gereinigten Absorptivs vom Absorbens behandelt wird. Zum Zwecke der weitergehenden Reinigung ist es in aller Regel erforderlich, einen Teil des in mehr oder weniger reiner Form anfal- Lenden Absorptivs zu rezirkulieren, wodurch die Ausbeute verschlechtert wird. Die dabei letztlich anfallende Säure weist aber immer noch einen relativ niedrigen Reinheitsgrad und eine relativ geringe Konzentration auf, da merkliche Gehalte an Verunreinigungen und Wasser an das Absorbens angelagert bleiben und mitgeschleppt werden. So werden auf diese Weise allenfalls Säurekonzentrationen in der Größenordnung von 50 bis 6U;% erzielt. ist Luft gegenwärtig oder bildet sich während des Verfahrens Sauerstoff - und sei es in geringen Spuren - machen sich in unerwünschter Weise Xorrosionserscheinungen an der Anlage zur Durchi'iihrung des Verfahrens bemerkbar. In Anwesenheit von Sauerstoff bann es im übrigen auch zu einer Polymerisation bzw. zu einer Verkrakung des als Absorbens dienenden organischen Lösungsmittels kommen.The use of absorbents which enable selective absorption has proven to be advantageous. Corresponding absorbents are, for example, olyaethers and polyols. The absorbents now also have an absorption capacity for other substances, be it that these are contained in the starting solution or in the starting mixture, be it that these are contained in the media with which the absorbent with the absorptive absorbed by it for the purpose the cleaning and / or for the purpose of the subsequent separation of the partially cleaned absorptive from the absorbent. For the purpose of further purification, it is generally necessary to recirculate part of the absorbent which is obtained in a more or less pure form, as a result of which the yield is impaired. The acid that ultimately arises, however, still has a relatively low degree of purity and a relatively low concentration, since noticeable levels of impurities and water remain attached to the absorbent and are carried along with it. In this way, at most, acid concentrations of the order of 50 to 6U;% are achieved. if air is present or if oxygen is formed during the process - even if only in small traces - xorrosion phenomena in the system for carrying out the process become noticeable in an undesirable manner. In the presence of oxygen, polymerization or coking of the organic solvent serving as absorbent can also occur.

Der Erfindung gemäß wird nunmehr ein Verfahren zur Gewinnung von hochprozentigen und weitgehend von Verunreinigungen freien Wasserstoffsäuren der Halogene und Pseudo-Halogene aus gasförmigen bzw. f7.iissigen, verdünnten und/oder verunreinigten Gemischen, wobei die Lösungen b--w- Gemische mit einem zumindest teilweise selektiv absorbierenden organischen Lösungsmittel behandelt werden, das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv einer BehandLung zur weitestgehenden Abtrennung der Verunreinigungen unterworfen wird 1 und die Halogenwasserstoffsäure sodann von dem Abar;e schieden wird. vorgeschla7en. das dadurch gel#:er:nzeicliilet ist, daß das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv in einer Trennkolonne im Gegenstrom mit einem die Verunreinigungen und das Wasser austreibenden Inertgas durchspült wird, und die Halogenwasserstoffsäure sodann in an sich bekannter Weise von dem Absorbens abgeschieden wird.According to the invention there is now a method for the production of high percentage and hydrogen acids of the halogens and pseudo-halogens that are largely free of impurities from gaseous or liquid, dilute and / or contaminated mixtures, wherein the solutions b - w mixtures with an at least partially selectively absorbent organic solvents are treated, the absorbent with the absorbed by it Subject to absorbent treatment to separate the impurities as far as possible becomes 1 and the hydrohalic acid is then separated from the Abar; e. suggested. that is what #: er: nzeicliilet is that the absorbent with the absorbed by him in a separating column in countercurrent with a die Impurities and the water expelling inert gas is flushed through, and the Hydrohalic acid is then separated from the absorbent in a manner known per se will.

I,tit der Verwendung von Inertgas werden. in überraschender und in vorteilhafter Weise die aufgezeigten, in Zusammenhang mit den vorbekannten Reinigungs- und Konzentrationsverfahren verbundenen Nachteile vermieden. Da mit dem Inertgas sowohl die Verunreinigungen als auch das Wasser weitestgehend ausgetrieben werden, erübrigt sich überdies der sonst noch erforderliche, sich an die Reinigung und Abtrennung der Halogenwasserstoffsäure anschließende Verfahrensschritt zur weiteren Konzentrierung der Säure. Zweckmäßigerweise erfolgt der Zusatz von Inertgas auch in der Absorptionskolonne. Es hat sich nämlich herausgestellt; daß dadurch die Selektivität bei der Aufnahme der Säure durch das Absorbens gegenüber den Verunreinigungen und dem Wasser verbessert wird. Zu # w diesem Zwecke kann ohne. weiteres das aus der Trennkoloririe austretende, mit Verunreinigungen beladene Spülgas, das außerdem stets etwas Säure mitreißt, teilweise oder ganz in die AbsorptionskoIonne au h eingeleitet werden. Durch diese Maßnahme werdenie Säureverluste durch Mitreißen von Säure im Inertgasstrom verringert oder ganz vermieden, die Ausbeute wird also verbessert. für den Verfahrensablauf, insbesondere für die Abtrennung des Wassers, bedarf es einer oberhalb der Verdampfungstemperatur des Wassers liegenden Minimaltemperatur. Die obere Grenze der Temperatur ist bedingt durch die Temperaturbeständigkeit des als Absorbens dienenden organischen Lösungsmittels und/oder den Verdampfungspunkt den Säuregemisches. Für den Ablauf des Verfahrens hat sich ein Temperaturgefälle, in der Regel im Gegenstrom zur flüssigen Phase, als zweckmäßig erwiesen. Die jeweils gewünschten Temperaturbedingungen lassen sich durch in den Kolonnen angeordnete Heiz- und/oder Kühlaggregate steuern. Der Einsatz vorgewärmten Inertgases kann zweckmäßig sein.I, tit be using inert gas. In a surprising and advantageous manner, the indicated disadvantages associated with the previously known purification and concentration processes are avoided. Since both the impurities and the water are largely expelled with the inert gas, there is also no need for the process step, which is otherwise required after the purification and separation of the hydrohalic acid, for further concentration of the acid. Inert gas is expediently also added in the absorption column. Because it turned out; that this improves the selectivity in the uptake of the acid by the absorbent with respect to the impurities and the water. To # w this purpose can be done without. Another is the flushing gas which emerges from the separating color and is laden with impurities, which also always entrains some acid, partly or completely into the absorption column ouch be initiated. By doing this, the acid losses reduced or completely avoided by entrainment of acid in the inert gas stream, so the yield is improved. for the process sequence, in particular for the separation of the water, a minimum temperature above the evaporation temperature of the water is required. The upper limit of the temperature is due to the temperature resistance of the organic solvent serving as the absorbent and / or the evaporation point of the acid mixture. A temperature gradient, usually in countercurrent to the liquid phase, has proven to be expedient for the process to run. The temperature conditions desired in each case can be controlled by heating and / or cooling units arranged in the columns. The use of preheated inert gas can be useful.

Aus wirtschaftlichen und verfahrenstechnischen Gründen wird man das Absorbens nach Abscheidung der gereinigten Säure der Absorptionskoionne im Rücklauf wieder zuführen. Insbesondere hierbei wacht sich -in vorteilhafter Weise bemerkbar, daß die Wirksamkeit des Absorbens bei der Verwendung von Inertgas als Spülgas prakti:;"#:h uneingeschränkt erhalten bleibt. Gleichermaßen läßt sich das Inertgas rückgewinnen und wieder einsetzen* ' Einen Anwendungsfall, bei dem sich das erfindungsgemäße Verfahren a 1.s oear,nders vorteilhaft ergreist, stellt die Gewinnung von hochpr-);:en-t-iger Und weitgehend SiP4-freier Flußsäure aus ü,,SiP6-Zösun-L geil sowie aus gasförmigen bzw. flüssigen, ILF, SiP4 und/oder H2SiFh erithal terNen fremischen, wobei die Lösungen bzw. Gemische mit einem als Absorbens wirkenden aliphatischen Polyaether oder Polyol behandelt werden, das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv einer Behandlung zur weitestgehenden Abtrennung des SiF4 unterworfen wird, und die Flußsäure sodann von dem Absorbens abgeschieden wird, dar, bei der das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv in einer Trennkolonne im Gegenstrom mit einem das SiF4 und das H20 austreibenden Inertgas durchspült wird, und die Flußsäure sodann in an sich bekannter Weise von dem Absorbens abgeschieden wird. Einmal gelangt man hierbei zu Flußsäurekonzentrationen wie sie mit den bekannten Verfahren nicht erzielt werden, zum anderen wird gerade die mit Flußsäure beim Hinzutreten von Sauerstoff verbundene Korrosion ausgeschaltet.For economic and procedural reasons, you will Absorbent after separation of the purified acid of the absorption coefficient in the return flow feed again. In particular, this wakes up - in an advantageous manner, noticeably, that the effectiveness of the absorbent when using inert gas as the purge gas is practical:; "#: h remains unrestricted. The inert gas can also be recovered and use again * 'An application in which the inventive Procedure a 1.s oear, nders advantageously takes place, represents the extraction of hochpr -) ;: en-t-iger And largely SiP4-free hydrofluoric acid from ü ,, SiP6-Zösun-L cool and from gaseous or liquid, ILF, SiP4 and / or H2SiFh preserve foreign substances, the solutions or mixtures with one Aliphatic polyether acting as an absorbent or polyol are treated, the absorbent with the absorbent it has taken up a treatment for the greatest possible separation of the SiF4 is subjected, and the Hydrofluoric acid is then separated from the absorbent, in which the absorbent with the absorbent it has taken up in a separating column in countercurrent an inert gas expelling the SiF4 and H2O is flushed through, and the hydrofluoric acid is then separated from the absorbent in a manner known per se. Once got there one here to hydrofluoric acid concentrations as they are not with the known processes can be achieved, on the other hand, it is precisely that with hydrofluoric acid when oxygen is added associated corrosion eliminated.

Insbeenndere in Zusammenhang mit der Gewinnung von Flußsäure haben sich als Absorbens Polyglykol und als Spülgas Stickstoff als zweckmäßig erwiesen. Aber auch Kohlensäure kann als Spülgas Verwendung finden. Günstige Arbeitstemperaturen erreicht man durch Einstellen eines Temperaturgefälles von etwa 350C vom Fuß zum Kopf der Kolonne, das heißt im Gegenstrom zur flüssigen Phase wobei die niedrigere Kopftemperatur mindestens 1000C betragen muß.Especially in connection with the production of hydrofluoric acid Polyglycol as the absorbent and nitrogen as the flushing gas proved to be expedient. But carbonic acid can also be used as a purge gas. Favorable working temperatures can be achieved by setting a temperature gradient of about 350C from the foot to the Head of the column, i.e. in countercurrent to the liquid phase with the lower Head temperature must be at least 1000C.

Bei der Gewinnung von Flußsäure aus li2SiF6 -Lösungen sowie aus gasförmigen bzw. flüssigen, HF, SiF, und/oder H2 SiF4 enthaltenden Gemischen kann das von dem Inertgas ausgetriebene SiF4 und das I120 sowie mitgeschleppte Flußsäure aufgearbeitet urid bs wiedergewonnene bzw. durch Hydrolyse umgebildete H2SiF6 der Absorptionskolonne im Kreislauf zugeführt werden, so daß eine praktisch 100%ige Ausbeute erzielt wird.When obtaining hydrofluoric acid from li2SiF6 solutions and from gaseous ones or liquid mixtures containing HF, SiF and / or H2 SiF4 can be the Inert gas expelled SiF4 and the I120 as well as entrained hydrofluoric acid worked up urid bs recovered or H2SiF6 converted by hydrolysis the absorption column are fed in the circuit, so that a practically 100% Yield is achieved.

In der Zeichnung ist eine Anlage zur Durchführung des erfindungs-.;emäßen Verfahrens in ganz schematischer Weise dargestellt.The drawing shows a system for carrying out the invention Procedure shown in a very schematic way.

Die Anlage besteht im wesentlichen aus der Absorptionskolonne Abscheidungs- 11, der Trennkolonne 12, der eeem#änlage 13 und gegebenenfalls der Aufbereitungsanlage 14.The system essentially consists of the absorption column Deposition 11, the separating column 12, the eeem # änlage 13 and optionally the processing plant 14.

Die zu reiniger.de, überhitzte Lösung wird durch die Zuleitung 16 in den unteren Teil der Absorptionskolonne 11 eingeleitet und strömt dem durch die Zuleitung 17 in den oberen Teil der Absorptionskolonne 11 eingeleitet:n Absorbens entgegen. Dabei findet eine Anlagerung der Bestandteile des aufzuarbeitenden Gemisches an das Absorbens statte und zwar unter Bevorzugung der zu gewinnenden Säure.The overheated solution at reiniger.de is fed through line 16 introduced into the lower part of the absorption column 11 and flows through the Feed line 17 introduced into the upper part of the absorption column 11: n absorbent opposite. The constituents of the mixture to be worked up accumulate on the absorbent, preferring the acid to be obtained.

Das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv tritt am Boden der Absorptionskolonne 11 aus und gelangt durch die Verbindungsleitung 18 über Kopf in die Trennkolonne 12, in der ihm das im unteren Teil der Trennkolonne 12 durch die Zuleitung 19 eingeleitete vorgewärmte Inertgas entgegenströmt. Das Inertgas streift selektiv die von dem Absorbens aufgenommenen Verunreini-,;uri,Yen und das Wasser ab und tritt mit den Verunreinigungen und dem Wauser beladen über Kopf aus der Trennkolonne 12 aus. Das nunmehr nur noch mit Säure beladene Absorbens tritt -am Boden aus der Trennkolonne 12 aus und gelangt durch die Verbindungsleitung 21 in die Abscheidungsanlage 13, in der die Säure in an sich bekannter Weise von dem Absorbens abgeschieden wird. Die abgeschiedene Säure tritt über Kopf aus der Abscheidungsanlage 13 aus und gelangt durch die Abteilung 22 zu einer nicht dargestellten Abfüllstation. Das am Boden aus der Abscheidungsanlage 13 austretende Absorbens wird durch die Leitung 17', 17 in die Absorptionskolonne 11 zurückgepumpt (23).The absorbent with the absorbent it has taken up occurs on the floor the absorption column 11 and passes through the connecting line 18 overhead in the separating column 12, in which it in the lower part of the separating column 12 by the feed line 19 introduced preheated inert gas flows in the opposite direction. The inert gas selectively brushes the impurities taken up by the absorbent -,; uri, yen and that Water drains off and comes out overhead laden with the impurities and the water the separating column 12 from. That which is now only laden with acid Absorbent emerges from the separating column 12 at the bottom and passes through the connecting line 21 in the separation system 13, in which the acid in a known manner from the absorbent is deposited. The separated acid emerges overhead from the Separation system 13 and passes through the department 22 to a not shown Filling station. The absorbent emerging from the separation system 13 at the bottom is pumped back through the line 17 ', 17 into the absorption column 11 (23).

Das aus der Trennkolonne 12 austretende,mit den Verunreinigungen und dem Wasser beladene Inertgas kann, gegebenenfalls teilweise, durch die Verbindungsleitung 1t3 der Absorptionskolonne 11 zugeführt werden, sofern die die selektive Anlagerung des Absorbtivs an das Absorbens fördernde Wirkung des Inertgases ausgenutzt werden soll, der Überschuß, gegebenenfalls auch das gesatnüi mit den Verunreinigungen und dem Wasser beladene Inertgas, wird durch die Leitung 24 der Aufbereitungsanlage 14 zugeführt, oder aber abgeführt. Die gegebenenfalls durch die Absorptionskolonne 11 geleitete Teil- oder Gesamtmenge des Inertgases tritt über Kopf aus der Absorptionskolonne 11 aus und gelangt zusammen mit den nicht absorbierten Bestandteilen des Ausgangsgemisches durch die Verbindungsleitung 24' in die Zeitung 24.The emerging from the separation column 12, with the impurities and Inert gas laden with the water can, if appropriate partially, pass through the connecting line 1t3 of the absorption column 11 are fed, provided that the selective addition of the absorbent to the absorbent promoting effect of the inert gas can be exploited should, the excess, possibly also the total with the impurities and The inert gas laden with water is passed through line 24 of the treatment plant 14 supplied or discharged. If necessary, through the absorption column 11 directed partial or total amount of the inert gas emerges overhead from the absorption column 11 and arrives together with the unabsorbed constituents of the starting mixture through the connecting line 24 'into the newspaper 24.

In der Aufbereitungsanlage 14 kann gegebenenfalls eine Rückgewinnung des Inertgases erfolgen, das dann durch die Leitungen 19', 19 in die Trennkolonne 12 zurückgeleitet wird, unter Umständen auch eine Rückgewinnung von mitgeschleppter Säure bzw, Aufbereitun@von geeigneten Verunreinigungen zur Säure, die dann durch die Zeitungen 16', 16 in die Absorptionskolonne 11 zurückgeleitet wird. Nicht aufzubereitende Verunreinigungen bzw. Rückstände werden durch die Ableitung 26 abgeführt.In the processing plant 14, a recovery can if necessary of the inert gas, which is then passed through the lines 19 ', 19 in the separating column 12 is returned, possibly also a recovery of entrained acid or processing of suitable impurities to the acid, which are then returned to the absorption column 11 through the newspapers 16 ', 16 will. Impurities or residues that cannot be processed are removed by the discharge 26 discharged.

Die Beaufschlagung der Absorptionskolonne 11 mit Inertgas ist mittels des in der Verbindungsleitung 18 vorgesehenen Dreiwegehahns 2'T regulierbar.The loading of the absorption column 11 with inert gas is by means of of the three-way valve 2'T provided in the connecting line 18 can be regulated.

Die Temperaturverhältnisse in der Absorptionskolonne 11 und in der Trennkolonne 12 sind mittels der in den Kolonnen 11 und 12 angeordneten Heiz- bzw. Kühlelemente 28 beeinflußbar.The temperature conditions in the absorption column 11 and in the Separating column 12 are arranged in the columns 11 and 12 by means of the heating or Cooling elements 28 can be influenced.

Durch die Zuleitung 29 iat die Einleitung azeotroper Säure in die Trennkolonne 12 möglich.Through the feed line 29 iat the introduction of azeotropic acid into the Separating column 12 possible.

Die beschriebene Anlage wurde zur Gewinnung von gereinigter, =chprozentiger Flußsäure aus verdünnten H2SiF6-Zösungen (I und II) verwendet, wobei bekanntlich besonders schwierige verfahrenstechnische Probleme auftreten. Bei den unter II aufgeführten Versuchen wurde zusätzlich azeotrope Flußsäure in die Trennkolonne eini@espeist, die als Sumpfprodukt bei der Rektifikation der hochprozentigen Flußsäure anfällt. Als Abeorbens wurde Polyglykol mit einem mittleren hlolgewicht von 400 eingesetzt. Als Spülgas wurde Stickstoff verwendet. In dem Anlagenteil Absorptionskolonne - Trennkolonne wurde im Gegenstrom zur flüssigen Phase ein Temperaturgefälle von 105 bis 133°C eingestellt. Die Absorptionskolonne und die Trennkolonne können natürlich auch zu einer Baueinheit zusammengefaßt sein. ian wird dann gegebenenfalls im oberen Teil der Anlage eine Zapfstelle für die Entnahme einer Teilmenge des Spülgases vorsehen. In Parallelversuchen wurde teils Stickstoff (B) als Spülgas, teils kein Spülgas (A) eingesetzt. Eine Teilmenge des stickstoffhaltigen Spülgases wurde durch die Absorptionskolonne geleitet.The plant described was used to obtain purified, = chprozentiger Hydrofluoric acid from dilute H2SiF6 solutions (I and II) is used, which is known particularly difficult procedural problems arise. For those listed under II In addition, azeotropic hydrofluoric acid was fed into the separating column, which is obtained as a bottom product in the rectification of the high percentage hydrofluoric acid. Polyglycol was used as an absorbent with a medium weight of 400 used. Nitrogen was used as the purge gas. In the part of the plant absorption column - Separating column was in countercurrent to the liquid phase, a temperature gradient of 105 to 133 ° C. The absorption column and the separation column can of course can also be combined into one structural unit. ian is then possibly in the upper Provide part of the system with a tap for withdrawing a portion of the purging gas. In parallel tests, partly nitrogen (B) was used as the purging gas and partly no purging gas (A) inserted. A portion of the nitrogen-containing purge gas was through the Absorption column passed.

Die Aussagen über die Ausbeute und den Trenneffekt machenden Versuchsergebnisse sind aus Tabelle 1 zu entnehmen. Tabelle 2 enthält Angaben aus Langzeit-Versuchen, die Rückschlüsse auf die Beständigkeit des Absorbens bei der Verwendung eines Inertgases als Spülgas zulassen, wobei die mit A gekennzeichneten Versuche in Anwesenheit von Sauerstoff gefahren wurden, und die mit B gekennzeichneten Versuche in sauerstofffreier Stickstoffatmosphäre.The test results that make statements about the yield and the separation effect can be found in Table 1. Table 2 contains information from long-term tests, the conclusions on the resistance of the absorbent when using an inert gas as a purge gas, with the tests marked A in the presence of Oxygen were run, and the experiments marked with B were oxygen-free Nitrogen atmosphere.

Aus Tabelle 1 - siehe dort insbesondere die mit X und Y gekennzeichneten Werte - ist zu entnehmen, daß höchste Flußsäurekonzentrationen bei geringsten SiF4-Gehalten'erzielt werden, wenn Stickstoff als Spülgas eingesetzt wird. Wie aus den entsprechenden Werten unter II hervorgeht, gelingt auf diesem Wege auch eine Aufkonzentrierung der azeotropen Flußsäure, ohne daß der Wasseranteil im mit Flußsäure beladenen Absorbens ansteigt. Aus Tabelle 2 ist zu entnehmen, daß bei Verwendung von Stickstoff als Spülgas das Absorbens auch über längere Zeiträume seine volle Absorptionsfähigkeit beibehält. From Table 1 - see in particular the values marked with X and Y - it can be seen that the highest hydrofluoric acid concentrations are achieved with the lowest SiF4 contents when nitrogen is used as the flushing gas. As can be seen from the corresponding values under II, the azeotropic hydrofluoric acid can also be concentrated in this way without the proportion of water in the absorbent loaded with hydrofluoric acid increasing. From Table 2 it can be seen that when nitrogen is used as the flushing gas, the absorbent retains its full absorption capacity even over longer periods of time.

Claims (1)

A_n s r ü c h e 1. Verfahren zur Gewinnung von hochprozentigen und weitgehend von Verunreinigungen freien Wasserstoffsäuren der Halogene und Pseudo--Halogene aus gasförmigen bzw. flüssigen, verdünnten und/oder verunreinigten Gemischen, wobei die Lösungen bzw. Gemische mit einem zumindest teilweise selektiv absorbierenden organischen Lösungsmittel behandelt werden, das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv einer Behandlung zur weitestgehenden Abtrennung der Verunreinigungen unterworfen wird,und die Halogenwasserstoffsäure sodann von dem Absorbens abgeschieden wird, dadurch gekenn- zeichnet, da13 das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv in einer Trennkolonne im Gegenstrom mit einem die Verunreinigungen und das Wasser austreibenden Inertgas durchspült wird,und die Halogenwasserstoffsäure sodann in an sich bekannter Weise von dem Absorbens abgeschieden wird, 2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet dVrch einen Zusatz von Inertgas auch während des Absorptionsvorganges. 3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Absorptionskolonne aus der Trennkolonne austretendes, mit Verunreinigungen beladenes Inertgas zugeführt wird. .. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, gekennzeichnet durch die Verwendung eines vorgewärmten Inertgases. 5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, gekennzeichnet durch ein Temperaturgefälle im Gegenstrom zur flüssigen Phase. 6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,-daß das Inertgas zurückgewonnen und der Trennkolonne im Rücklauf zugeführt wird. 7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Absorbens nach Abscheidung der Halogenwasserstoffsäure der Absorptionskolonne im-Rücklauf zugeführt wird. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Trennkolonne azeotrope Säure zugeführt wird. 9o Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 8 zur Gewinnung von hochprozentiger und weitgehend SiF4-freier Flußsäure aus H2SiF6-Lösungen sowie aus gasförmigen bzw.,flüssigen, HF, SiF4 und/ oder H2SiF6 enthaltenden Gemischen, wobei die Lösungen bzw. Gemische mit einem als Absorbens wirkenden aliphatischen Polyaether oder Polyol behandelt werden, das Absorbens mit dem von ihm azfgenommenen Absorbtiv einer Behandlung zur weitestgehenden Abtrennung des SiF4 unterworfen wird, und die FluLisäure sodann von dem Absorbens abgeschieden wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv in einer Trennkolonne im Gegenstrom mit einem das SiF4 und das H20 austreibenden Inertgas durchspült wird, und die F1ußsäure sodann in an sich bekannter Weise von dem Absorbens abgeschieden wird. 10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Absorbtiv mit Polyglykol behandelt wird. 11. Verfahren nach den Ansprüchen 9 und 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Absorbens mit dem von ihm aufgenommenen Absorbtiv mit Stickstoff durchspült wird. 12. Verfahren nach den Ansprüchen 9 bis 11, gekennzeichnet durch ein Temperaturgefälle von 100 bis 135 o0. 13. Verfahren nach den Ansprüchen y bis 12, dadurch gekennzeichnet, aaß das von dem Inertgas ausgetriebene SiF4 und das H20 soyrie mitgeschleppte Flußsäure aufgearbeitet und das rückgewonnene H2SiF6 der Absorptionskolonne im Rücklauf zugeführt wird. .. A_n sr ü che 1. Process for the production of high-percentage and largely impurity-free hydrogen acids of the halogens and pseudo-halogens from gaseous or liquid, dilute and / or contaminated mixtures, the solutions or mixtures with an at least partially selectively absorbent organic solvent treated, the absorbent is subjected to the image taken by him Absorbtiv a treatment for the maximum separation of the impurities, and the hydrohalic acid then from the absorbent deposited is marked by lines, DA13 the absorbent with the image taken by him Absorbtiv in a separation column in Countercurrent is flushed with an inert gas expelling the impurities and the water, and the hydrohalic acid is then separated from the absorbent in a manner known per se nges. 3. The method according to claims 1 and 2, characterized in that the absorption column exiting from the separating column and laden with impurities is fed. .. Process according to Claims 1 to 3, characterized by the use of a preheated inert gas. 5. The method according to claims 1 to 4, characterized by a temperature gradient in countercurrent to the liquid phase. 6. The method according to claims 1 to 5, characterized in that the inert gas is recovered and fed to the separating column in the reflux. 7. The method according to claims 1 to 6, characterized in that the absorbent is fed to the absorption column in the reflux after deposition of the hydrohalic acid. Process according to Claims 1 to 7, characterized in that azeotropic acid is fed to the separating column. 9o Process according to claims 1 to 8 for the production of high percentage and largely SiF4-free hydrofluoric acid from H2SiF6 solutions and from gaseous or liquid mixtures containing HF, SiF4 and / or H2SiF6, the solutions or mixtures with an absorbent acting aliphatic polyether or polyol are treated, the absorbent with the absorbent taken up by it is subjected to a treatment for the greatest possible separation of the SiF4, and the hydrofluoric acid is then separated from the absorbent, characterized in that the absorbent with the absorbent taken up by it in one The separating column is flushed in countercurrent with an inert gas which expels the SiF4 and the H20, and the hydrofluoric acid is then separated off from the absorbent in a manner known per se. 10. The method according to claim 9, characterized in that the absorbent is treated with polyglycol. 11. The method according to claims 9 and 10, characterized in that the absorbent is flushed with the absorbent taken up by it with nitrogen. 12. The method according to claims 9 to 11, characterized by a temperature gradient of 100 to 135 o0. 13. The method according to claims y to 12, characterized in that the SiF4 expelled by the inert gas and the hydrofluoric acid carried along by the inert gas are worked up and the recovered H2SiF6 is returned to the absorption column. ..
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