DE1589543A1 - Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Weichlotkontaktierung - Google Patents
Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner WeichlotkontaktierungInfo
- Publication number
- DE1589543A1 DE1589543A1 DE1967B0094403 DEB0094403A DE1589543A1 DE 1589543 A1 DE1589543 A1 DE 1589543A1 DE 1967B0094403 DE1967B0094403 DE 1967B0094403 DE B0094403 A DEB0094403 A DE B0094403A DE 1589543 A1 DE1589543 A1 DE 1589543A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- helix
- semiconductor
- solder
- contact pin
- semiconductor component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
- B23K35/26—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
- B23K35/262—Sn as the principal constituent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
- B23K35/26—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
- H01L23/043—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body
- H01L23/045—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body the other leads having an insulating passage through the base
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/36—Electric or electronic devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/29111—Tin [Sn] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45139—Silver (Ag) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/48137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/4823—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a pin of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8319—Arrangement of the layer connectors prior to mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/83801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01014—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01015—Phosphorus [P]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01027—Cobalt [Co]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01039—Yttrium [Y]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0105—Tin [Sn]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01051—Antimony [Sb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01074—Tungsten [W]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01083—Bismuth [Bi]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0133—Ternary Alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/10251—Elemental semiconductors, i.e. Group IV
- H01L2924/10253—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/157—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)
- Wire Processing (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Description
15895*3
R:. 8977
7.9.1967
7.9.1967
Anlage zur
Patent- «„^ΐΛ,,ν,,.
G ebrauohamuotorhilfs Anmeldung
R OB ER T B O S GZ GMBH, Stuttgart W, Breitscheidatraße 4
Halbleiterbauelement und. Verfahren, au seiner.
•Weichlotkontaktierung : .
Me Erfindung bezieht'sich auf ein Halbleiterbauelement mit einem,
als Anschlußkontakt dienenden Metallsockel und. mit einem auf diesem,
durch Lötung befestigten plättchenformi.gen, insbesondere aus
Silizium bestehenden Halbleiterkörper, der an seiner dem Sockel abgekehrten
Oberseite eine Zone entgegengesetzter Leitfähigkeit aufweist, die über einen mit Weichlot befestigten Anschlußdraht mit
einem Kontaktstift verbunden ist, der isoliert durch den Docke!
hindurchgeführt ist urtd mindestens an der den Halbleiter tragenden
Oberseite des Sockels über diesen vorsteht. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Weichlotkontaktierung, das bei einem
derartigen'Halbleiterbauelement mit Vorteil, angewendet werden kann.
Im einzelnen bezieilt sich die Erfindung vor allem auf solche Halblei terbauölemente, bei welchen der auf einem Metallsoekel mit seiner
009810/0889 ~ 2 ~
Robert Bosch GmbH .. . ' R.; 8977 Lr/3z
Stuttgart . " y '■■·■:
Rückseite.festgelötete Halbleiterkörper ein Transistorsystem oder
eine integrierte Schaltung enthält und. daher ah seiner freien Oberseite
zwei oder mehr· Zonen enthält, die gegeneinander isoliert über einzelne Anschlußdrähte mit je einem der in der Sockelplatte isoliert
befestigten Anschlußleiter verbunden werden sollen. . '■
Bei bekannten Leistungstransistoren, deren Kollektor mit einem auf
Bleibasis hergestellten Weichlot an der Sockelplatte festgelötet
ist, sind für die Basis- und Emitterzuleitung schwach.federn.de Drähte aus einer bronzeähnlichen Legierung vorgesehen. Diese sind
an den pfostenartigen Anschlußleitern festgeklemmt und drücken unter
eigener Verspannung mit ihrem anderen freien Ende' auf den Halbleiterkörper.
Dabei entsteht jedoch ein ungleichmäßig verteilter Druck, welcher im Verlaufe des nachfolgenden Lötvorganges zu einer unerwünschten
Schräglage des Halbleiterkörpers und zu einer keilförmigen Kollektorlotschicht führen kann. Insgesamt gesehen ist es überhaupt
sehr schwierig, durch Verformung der bereits festgeklemmten Anschlußdrähte
den von ihnen auf den Halbleiterkörper ausgeübten federnden
Kontaktdruck so präzise zu dosieren, daß er auch noch während des Lötprozesses erhalten bleibt, wenn das unter dem Halbleiterkörper
liegende Lötplättchen schmilzt und den Halbleiterkörper absinken
läßt. Soweit eine Justierung der Anschlußdrähte bei den bekannten Kontaktierungsanordnungen sich überhaupt ohne Zuhilf.enahme von Vergrößerungsgläsern
oder Mikroskopen durchführen läßt, gestaltetes ich
besonders deshalb schwierig, weil ein bereits eingetretener Aufklemmprozeß
sich nicht ohne bleibende Deformation der Anschlußdrähte urid
der Anschlußleiter rückgängig machen läßt. Dies macht sich besonders
dann störend bemerkbar, wenn die mit den Anschlußdrähten zu verbindenden
Zonen.nur sehr kleine Abmessungen haben und daher beim Auf-'
klemmen der Anschlußdrähte genau getroffen werden müssen, was jedoch,
meist nicht ohne nachträgliche Korrektur möglich ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, beiHalbleiterbauelementen
der eingangs beschriebenen Art, insbesondere bei !Transistoren, oder ·
009818/0889
V,
J
Robert Bosch GmbH· _ · E. 8977 Lr/Sz
Stuttgart ' ■' . ' . ■ .
integrierten Schaltungen, eine wesentlich einfachere Kontaktierung ■
zu erzielen,.die auch mit ungeübten Arbeitskräften serienmäßig.durchgeführt
werden* kann- Hierzu ist erfindungsgemäß vorgesehen,' daß der
aus einem Werkstoff mit guter elektrischer Leitfähigkeit und Verlötbarkeit .bestehende Ansehlußdraht an "einem seiner Endabschnitte zu ·
einer Wendel aufgewickelt und mit dieser Wendel über seinen zugehörigen
Kontaktstift geschoben ist. !Zweckmäßig kann der Mittelabschnitt des Anschlußdrahtes - quer zur Wendelachse von der Wendel abstehen und
in den anderen, mit den Halbleiterkörper zu verlöteten Endabschnitt
übergehen, wobei dieser.andere Endabschnitt wenigstens annähernd in
die gleiche Richtung, zeigt wie die Achse der Wendel..Als besonders
zweckmäßig für den nachfolgenden Lötvorgang hat es sich erwiesen,
wenn der Innendurchmesser der Wendel geringfügig größer als der von
der Wendel umfaßte Durchmesser des Kontaktstifts ist. In diesem Fall
gleitet der auf seinen Kontaktstift aufgesetzte Ansehlußdraht mit1
seiner Wendel am Kontaktstift leicht nach unten und drückt dann praktisch
hur mit seinem eigenen, durch seine Größe genau definierten Gewicht
auf den Halbleiterkörper. Bei einer Transistoranordnung oder
einem integrierten Schaltkreis können sich die einzelnen Anschlußdrähte
völlig unabhängig voneinander und mit einem durch, ihr Eigengewicht
festgelegten Druck auf die einzelnen Anschlußzonen auflegen..
Sie stellen sich dabei automatisch auf die jeweilige Hohe der ihnen zugehörigen Anschlußzone ein. Im Verlaufe des nachfolgenden, zweckmäßigin
einem Durchlaufofen durchzuführenden LÖtprozesses können die
Anschlußdrähte dem sich infolge des Schmelzens des Lotes absenkenden
Halbleiterkörper folgen und sich außerdem in.die flüssigen Lotanhäu-rfungen
an den ihnen zugeordneten Ansohlußzonen leicht eindrücken.
Dieses Nachgleiten der Anschlußdrähte' und eine starke Vereinfachung
des LÖtprozesses läßt sich in weiterer Ausgestaltung der Erfindung
dadurch erzielen, daß das für die Lötverbindung zwischen dem Anschlußdraht
und seinem Kontaktstift vorgesehene Lot in Form eines
Ringes über der bereits auf den Kontaktstift aufgesetzten Wendel auf den Kontaktstift aufgeschoben wird und während des LÖtprozesses
die Wendel und den Kontaktstift umfließt, wobei die von der Wendel
009818/0889
Robert Bosch GmbH ' ■ · · R.'8977·Lf/Sz .
Stuttgart ■ ' . · - .
geschaffene große Oberfläche ein Abtropfen deö Lotes sicher verhindert.
."·■··. . -
Ferner erlaubt es die erf indungsgemäße.Anordnung und Ausbildung der
Anschlußdrähte, infolge der Drehbeweglichkeit der Wendel auf den Kontaktstiften,
daß die relative Lage der freien, von den Wendeln abgekehrten Endabschnitte der Anschlußdrähte zueinander derart eingestellt
werden können, wie es die auf der Oberfläche des Halbleiterkörpers vorgegebene, geometrische Anordnung der einzelnen Kontaktstellen
verlangt. Ina gleichzeitigen' Zusammenspiel· von wenigen Dreh-
und Schiebebewegungen des vor dem Verlöten auf· dem Sockel noch frei
beweglichen Halbleiterkörpers lassen sich auch ohne komplizierte Justiereinrichtungen die Anschlußdrähte in die erforderliche Lage
bringen. Vor allem ist es dabei von Vorteil, daß man zum Fixieren der Lage sowohl des Halbleiterkörpers als auch der Anschlußdrähte
verhältnismäßig einfache Montageschablonen verwenden kann, welche bei einer Serienfertigung die vorgeformten und über geeignete Zulauf
rinnen zugeführten Anschlußdrähte über die Kontaktstifte ein-" fallen lassen und deren noch freibewegliche Endabschnitte, an der
vorgesehenen Kontaktstelle festhalten;
Weitere Einzelheiten und zweckmäßige Weiterbildungen ergeben sich
aus den Unteransprüchen in Verbindung mit dem in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiel."
Es zeigen:
Fig. 1 einen Leistungstransistor, bei welchem die zu seiner
Kontaktierung dienenden Einzelteile in auseinandergezogenem
Zustand dargestellt sind,
Fig. 2 den fertig verlöteten Transistor ebenso wie in Fig. 1 im Schrägbild, während in den
Fig. 3 zwei nach der Erfindung gestaltete Anschlußdrähte in .
und 4 unterschiedlicher Ausführungsform stark vergrößert
wiedergegeben sind.
009818/0889
- 5 -' ■
Kobert Bosell GmbH ' R. 8977 .Lr/Sz
Stuttgart . · · " ■■·■".-"-.
Der Transistor hat eine als Boden für sein, im übrigen nicht darge- '
stelltes Gehäuse der TO-3.-Größe dienende S.ockelplatte 1 aus Metall*
in welcher mit Glaseinschmelzungen 2 zwei Kontaktstifte 3 und 4 befestigt sind. Das ■ Transistorsystem befindet sich in einem aus n-leitendem
Silizium-Grundmaterial bestehenden Halbleiterplättchen 5, ■
das bei der Montage mit seiner den Kollektoranschluß enthaltenden Rückseite unter Zwischenlage eines etwa.0,1 mm starken, aus Pb' 99
Sn-1 bestehenden Lötplättchens 6 auf die Sockelplatte 1 aufgelegt
und dort in dem nachfolgend beschriebenen Lotvorgang festgelötet
wird. Das Halbleiterplättchen trägt an seiner Oberseite eine ungefähr
zentral liegende Anschlußstelle 7 £ür den Transistoremitter
und eine nähe dem Plättchenrand liegende Anschlußstelle 8 für'die ■-.
Basis des Transistors. ' ' ; ' ;
Beide Anschlußstellen sind mit einem kräftigen Auftrag von Pb 99"
Sn 1 vorverbleit. - . .
Zur Verbindung dieser beiden Kontaktstellen. 7 und Q mit-, den beiden
Kontaktstiften 3 und 4 sind 0,2 mm starkeAnschlußdrähte/aus hoch- ,
gereinigtem Silber vorgesehen, die in. der nachstehend beschriebenen Weise vorgeformt sind. Wie Fig. 3 in der Vergrößerung deutlich erkennen läßt, sind die Anschlußdrähte 10 an einem ihrer Endabschnitte
zu einer Wendel 11 aufgewickelt, wobei der Innendurchmesser dieser
Wendel geringfügig größer als der Außendurchmesser der Kontaktstifte
3 bzw. 4 gewählt ist. Diese Wendel läßt sich in einfacher Weise auf
Drahtwickelmäschinen so herstellen, daß der in Fig. 3 mit 12 bezeich-·
nete Mittelabschnitt des Anschlußdrahtes etwa rechtwinklig von der
Wickelachse der Wendel 11 absteht. Der andere Ehdabschnitt 13, welcher
zur unmittelbaren Kontaktgäbe mit der Emitteranschlußstelle 7
bzw. der Basißanschlußstelle 8 bestimmt ist, kann im gleichen Arbeitsgang
so abgebogen werden, daß er wenigstens annähernd in die gleiche Richtung zeigt, wie die Achse der Wendel und - vom Mittelabschnitt 12
aus gesehen - sleft in die glöiche ßichtulig wie diese-erstreckt.
0098187088a
Robert Bosch GmbH . ■ . . R..8977 Lr/Sz
Stuttgart ·
Wenn die Anschlußdrähte 10 mit ihren Wendeln 11 auf die Kontaktstifte
3 "bzw. 4 aufgesetzt sind, fällen sie durch ihr eigenes. Gewicht so weit nach unten, daß sie auf dem Haibleiterplättchen 5 zur
Auflage kommen, wobei es ohne weiteres möglich.ist, die gegen das Halbleiterplättchen gerichteten unteren Endabschnitte 13 der Anschlußdrähte
mit Hilfe von Schablonen so zu fassen und dabei das Halbleiterplättchen so. festzuhalten, daß sie mit ihren beim Abscheren
von einer Vorratsrolle scharfkantig gewordenen Stirnflächen 14 auf den vorverbleiten Anschlußstellen .während des Transports
in einen nicht dargestellten Lötofen sitzen bleiben. Vorher
wird jedoch noch das zur Lötverbindung zwischen den Wendeln 11 und
den Kontaktstiften 3.bzw. 4 erforderliche Lot in Form eines Lotringes 15 auf das freie Ende des bereits den Anschlußdraht tragenden
Kontaktstiftes aufgesetzt. Die Lotringe 15 bestehen vorteilhaft aus
einer Weichlotlegierung mit einem Schmelzpunkt, der um mindestens
500C, vorzugsweise 70° bis 800C-, niedriger, liegt als der Schmelzpunkt
desjenigen Lotes, welches an der Rückseite des Halbleiterplättchens
für den Anschluß des Kollektors und an der Oberseite an
den mit .7 und 8 bezeichneten Stellen für den Basis- bzw. Emitteranschluß
vorgesehen ist. Besonders vorteilhaft ist hierfür die Verwendung eines eutekti3chen Weichlotes Sn 96 Ag 4, das einen Zusatz
von einigen Zehntel. Gewichtsprozenten, vorzugsweise 0,1 bis 1.%,,.
Bi oder Sb enthält. Dieses Weichlot empfiehlt sich besonders be,i
aus Silizium bestehenden Halbleiterelementen und ist dann sehr zweckmäßig, wenn sich im Durchlaufofen die Kontaktstifie langsamer
erwärmen als die Sockelplatte. ■ .... _ ,, ·,.-...;, ,t,...
Da der Innendurchmesser der Lotringe 15 ebenfalls größer als .der , „
Außendurchmesser der Kontaktstifte 3 bzw. 4 ist,, kann, ein einwandfreies Auffädeln der Lotringe auf die spitz/zulauf enden Kon takt-stifte
und anschließend eine sichere Anlage des Lot rings, an seiner Wendel" erzielt werden. Das Gewicht, des Lotrings, übt dann eine er-,
wünschte, wenn auch nur kleine zusätzliche Kraft auf den Anschlußd.raht
aus, wodurch ein etwaiges unerwünschtes.-Abgleit on der scharf.-kantigen
Stirnfläche 14 von der Kontaktstelle auf dem Halbleiterpläbtchen
zusätzlich erschwort wird.
009818/0889V
- . . ·■-, - ^CFtfä^ -7-
Robert Bosch GmbH
Stuttgart
Stuttgart
R. 8977 Lr/Sz
Wie Versuche gezeigt haben,, kann man trotz der beim'Durchfahren eines
LÖtofens unvermeidlich auftretenden Erschütterungen sogar ohne die
oben erwähnten. Haiteschablonen auskommen,
ten der Stirnfläche 14- der dem Halbleiter
der Anschlußdrähte sich in die Weichlotsctiicht ah der betreffenden
Kontaktstelle bereits bei sehr geringen Brück oberflächlich eingraben.
Dieser dem. Verrutschen entgegenwirkende Stabilisierungseffekt
wird noch unterstützt durch den relativ hohen Reibungskoeffizienten
des Weichlotplättchens 6, das für den -3
ist. ' ·'■■■"■-■
ist. ' ·'■■■"■-■
weil die gratartigen Kanzugekehrten .Endabschnitte
Beim anschließenden Durchlauf durch einen
gefüllten· Tunnelofen schmelzen die Lotriinge I5 auf, so daß das geschmolzene Lot den Kontaktstift und die Wendel Il benetzen kann.
Sobald auch die einen höheren Schmelzpunkt aufweisenden Lote an
den Stellen 6, 7, 8. schmelzflüssig Werder
plättchen geringfügig absinkt, können die Wendeln 11 auf den Kontaktstiften soweit
srohere Kontaktgabe zwischen ihren Endabs
schlußzonen 7 bzw. 8 erzielt wird..
lektoränschlüß vorgesehen
mit inerter Gasatmosphäre
und dabei das Halbleiter-Anschlußdrahte
mit ihren
nachrutschen, daß eine chnitten 15 und den An-
Abweichend von derHPig. 3 dargestellten 4usführungsform für die
'Anschlußdrähte 10 können diese auch in die in Fig. 4- wiedergege
bene Gestilt gebracht werden., welche sich
im wesentlichen dadurch unterscheidet, dg.ß der zur Kontaktgabe mit
dem Halbleiterplättchen unmittelbar vorgesehene Endabschnitt 13* -
vonrMittelabschnitt 12' aus gesehen - in
gegengesetzte Richtung erstreckt. Von.besonderem Vorteil ist hier
bei, daß das freitragende Drahtstück nur
von derjenigen nach Mg. 3
eine zur Wendel 11( enteine
gegenüber Fig. 3 ge
ringere Länge zu haben braucht und.dann kleineren Widerstand und
höhere Schüttelfestigkeit hat. Xn jedem !falle wird jedoch durchdie
e-rfindungsgemäße Ausbildung des anderen Endabschnittes des Anschlußdrahtes
als Wendel erreicht, daß die Montage eines Halbleiterbauelements weitgehend automatisiert und - sovait überhaupt manuelle Arbeitsgänge
erforderlich sind - mit ungeübten Hilfskräften durchgeführt
worden kann. ' ■ „
009818/0889 ortQlNAL SH8PEGTED
Claims (10)
1. Halbleiterbauelement mit einem als Anschlußdraht dienenden Me.tallsockel
und mit einem auf diesem durch Lotung befestigten platt-"
chenförmigen, insbesondere αμβ Silizium bestehenden Halbleiterkorper
, cfer. an seiner dem Sockel abgekehrten Oberseite eine Zone
entgegengesetzter Leitfähigkeit aufweist, die über einen mit • Weichlot befestigten Anschlußdraht mit einem Kontaktstift ver-
bunden is_t, der und mindestens .·
Sockels über di Anschlußdraht ( del'(11) aufgew
geschoben ist. u:
isoliert durch den Sockel hindurchgeführt ist
in .der den Halbleiter tragenden Oberseite des isen vorsteht, dadurch gekennzeichnet, daß der
0) an einem seiner Endabschnitte zu einer Wenckelt
und mit dieser über den Kontaktstift (3, 4) id daß der Mittelabschnitt (12) des Anschlußdrahteε
quer zur Wendel mit dem Hälbleiwobei dieser ani
gleiche Richtun
2. Halbleiterbaue.l daß der Innendu der von der Wen ist.
ichse von der Wendel absteht und in den anderen, ;erkörper verlöteten Endabschnitt (13) übergeht,
ere Endabschnitt, wenigstens annähernd in.die
zeigt wie die Achse der Wendel.
ment nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
chmesser der Wendel (11) geringfügig größer als el umfaßte Durchmesser des Kontaktstiftes 0, ^
3. Halbleiterbauelement nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß der zweite, mit dem Halbleiterkörper verlötete Endabschnitt.
(13) langer ist als die Wendel (11). D
009818/0889
■-*■-■■. ι ■ 1S89543
Robert Bosch. GmbH '. S 'S.. 8977 kr/Sz
Stuttgart'
4. Halbleiterbauelement nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite, mit dem Halbleiterkörper verlötete Endabschnitt
(13 ·) nach einer zur Wendel (H') entgegengesetzten Richtung ab-
: gebogen ist.
5. Halbleiterbauelement nach einem der Ansprüche 1-bis 4-,. dadurch'.'
gekennzeichnet, daß die Wendel (11) mit dem Kontaktstift (3, 4-)
durch ein Lot verbunden ist, dessen Schmelzpunkt um mindestens
um 600C tiefer liegt als der Schmelzpunkt desjenigen-Lotes, mit
welchem der andere Endabschnitt (13) des Anschlußdrahtes (10) am
Halbleiterkörper, (5) befestigt ist. ' .,.,.. .' ' "
6. Halbleiterbauelement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
- "^ daß die Wendel (11) mit einem Lot aus einer eutektischen oder
nahezu eutektischen Weichlotlegierung, insbesondere einer Legierung
aus 96. % Sn, und ■ 4·. % Ag mit- dem Eontaktstift (3, 4-) verbunden
ist» , . - , ; ■■ ■ '...-..."-■■ ■·■■.'-.■
7. Halbleiterbauelement nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß-.-das. Lot: einen Zusatz von 0,1 bis 0,8 Gew. % Bi oder Sb
enthält.. ■■ ■ ,- ■ . -.- = . ■ ■ - .. · ■ . .-. l - -: - ,
8. Halbleiterbauelement nach Anspruch 7? insbesondere als Transi-
* storanordnung, dadurch gekennzeichnet, daß zum Festlöten des
• Halbleiterköfpe'rs ~ (5)' auf dem: Sockel:· {i) und/oder -der Anschlußdrä&te
'(10) ah dievZone (7, 8) bzw. Zonen ein Weichlot auf Blei-
0 0 9818/0889 ^- ; « ζ _ ■
Robert Bosch GmbH ' ΊΟ R,. 8977 Lr/3z
■ Stuttgart . . ■ ■■■■'■ .". ■■
oder Zannbasis, insbesondere ein Lot der Zusammensetzung Pb 99
Sn 1 verwendet ist. - . ■.':
9· Verfahren zum Verlöten eines Halbleiterbauelements nach einem
der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das für die Lötverbindung zwischen der Wendel, (11) des, Anschlußdrahtes (10)
und dem Kontaktstift (3,-4·) erforderliche Lötmittel in, Form eines
vorzugsweise lose sitzenden Ringes (1.5) über den bereits die aufgesetzte Wendel (11) tragenden Kontaktstift (3,4-) geschoben
und dann in einem.vorzugsweise inerte Atmosphäre' enthaltenden
oder evakuierten Lötofen, insbesondere einejiff Durchlauf of en erschmolzen
wird. . " - ' ■ ·
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der mit
dem Halbleiterkörper zu verbindende Endabschnitt Cl3) des An-Qchlußdrahtes
(10) vor dem Aufschieben des .Anschlußdrahtes auf den Kontaktstift (3, 4) mit einer Löt.schicht überzogen* wird.
009818/0889
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1967B0094403 DE1589543B2 (de) | 1967-09-12 | 1967-09-12 | Halbleiterbauelement und verfahren zu seiner weichlotkontaktierung |
US757407A US3584265A (en) | 1967-09-12 | 1968-09-04 | Semiconductor having soft soldered connections thereto |
BR202214/68A BR6802214D0 (pt) | 1967-09-12 | 1968-09-11 | Elemento de construcao semicondutor e processo para contacta-lo por meio de solda macia |
NL6812965A NL6812965A (de) | 1967-09-12 | 1968-09-11 | |
GB43177/68A GB1181198A (en) | 1967-09-12 | 1968-09-11 | Improvements in or relating to Semiconductor Components |
FR1580674D FR1580674A (de) | 1967-09-12 | 1968-09-12 | |
ES358071A ES358071A1 (es) | 1967-09-12 | 1968-09-12 | Perfeccionamientos en la construccion de elementos semi- conductores. |
DE1966001*A DE1966001C3 (de) | 1967-09-12 | 1969-03-08 | Halbleiterbauelement. Ausscheidung aus: 1911915 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1967B0094403 DE1589543B2 (de) | 1967-09-12 | 1967-09-12 | Halbleiterbauelement und verfahren zu seiner weichlotkontaktierung |
DE1589543 | 1967-09-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1589543A1 true DE1589543A1 (de) | 1970-04-30 |
DE1589543B2 DE1589543B2 (de) | 1972-08-24 |
Family
ID=25753329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1967B0094403 Pending DE1589543B2 (de) | 1967-09-12 | 1967-09-12 | Halbleiterbauelement und verfahren zu seiner weichlotkontaktierung |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3584265A (de) |
BR (1) | BR6802214D0 (de) |
DE (1) | DE1589543B2 (de) |
ES (1) | ES358071A1 (de) |
FR (1) | FR1580674A (de) |
GB (1) | GB1181198A (de) |
NL (1) | NL6812965A (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2514922A1 (de) * | 1975-04-05 | 1976-10-14 | Semikron Gleichrichterbau | Halbleiterbauelement |
EP0354392A1 (de) * | 1988-07-29 | 1990-02-14 | Hitachi, Ltd. | Weichlot und dessen Verwendung in einem elektronischen Schaltkreis |
DE102019103140A1 (de) * | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Jenoptik Optical Systems Gmbh | Verfahren zum Löten eines oder mehrerer Bauteile |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3715633A (en) * | 1971-07-15 | 1973-02-06 | J Nier | Semiconductor unit with integrated circuit |
US3789274A (en) * | 1972-07-24 | 1974-01-29 | Sprague Electric Co | Solid electrolytic capacitors having hard solder cathode coating |
JPS5756527Y2 (de) * | 1977-02-25 | 1982-12-04 | ||
US4151544A (en) * | 1977-12-27 | 1979-04-24 | Motorola, Inc. | Lead terminal for button diode |
JPS5946434B2 (ja) * | 1978-01-10 | 1984-11-12 | キヤノン株式会社 | 半導体レ−ザ装置 |
DE3401404A1 (de) * | 1984-01-17 | 1985-07-25 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Halbleiterbauelement |
US5393489A (en) * | 1993-06-16 | 1995-02-28 | International Business Machines Corporation | High temperature, lead-free, tin based solder composition |
CN102581410B (zh) * | 2012-02-29 | 2016-04-27 | 扬州虹扬科技发展有限公司 | 一种二极管芯片的焊接工艺 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2595497A (en) * | 1949-01-22 | 1952-05-06 | Rca Corp | Semiconductor device for two-stage amplifiers |
US3065525A (en) * | 1957-09-13 | 1962-11-27 | Sylvania Electric Prod | Method and device for making connections in transistors |
US3161811A (en) * | 1960-02-15 | 1964-12-15 | Clevite Corp | Semiconductor device mount |
BE630360A (de) * | 1962-03-30 | |||
BE672186A (de) * | 1964-11-12 | |||
US3381081A (en) * | 1965-04-16 | 1968-04-30 | Cts Corp | Electrical connection and method of making the same |
US3413145A (en) * | 1965-11-29 | 1968-11-26 | Rca Corp | Method of forming a crystalline semiconductor layer on an alumina substrate |
US3429980A (en) * | 1966-02-17 | 1969-02-25 | Wolf Guttmann | Electronic component package and cover |
US3390450A (en) * | 1966-06-09 | 1968-07-02 | Rca Corp | Method of fabricating semiconductor devices |
-
1967
- 1967-09-12 DE DE1967B0094403 patent/DE1589543B2/de active Pending
-
1968
- 1968-09-04 US US757407A patent/US3584265A/en not_active Expired - Lifetime
- 1968-09-11 NL NL6812965A patent/NL6812965A/xx unknown
- 1968-09-11 GB GB43177/68A patent/GB1181198A/en not_active Expired
- 1968-09-11 BR BR202214/68A patent/BR6802214D0/pt unknown
- 1968-09-12 FR FR1580674D patent/FR1580674A/fr not_active Expired
- 1968-09-12 ES ES358071A patent/ES358071A1/es not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2514922A1 (de) * | 1975-04-05 | 1976-10-14 | Semikron Gleichrichterbau | Halbleiterbauelement |
EP0354392A1 (de) * | 1988-07-29 | 1990-02-14 | Hitachi, Ltd. | Weichlot und dessen Verwendung in einem elektronischen Schaltkreis |
DE102019103140A1 (de) * | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Jenoptik Optical Systems Gmbh | Verfahren zum Löten eines oder mehrerer Bauteile |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR6802214D0 (pt) | 1973-02-27 |
FR1580674A (de) | 1969-09-05 |
GB1181198A (en) | 1970-02-11 |
ES358071A1 (es) | 1970-04-16 |
US3584265A (en) | 1971-06-08 |
NL6812965A (de) | 1969-03-14 |
DE1589543B2 (de) | 1972-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2243181C3 (de) | Verfahren zum Herstellen epitaktischer Halbleiterschichten aus der flüssigen Phase | |
DE977615C (de) | Verfahren zur Herstellung eines fuer Signaluebertragungsvorrichtungen bestimmten Halbleiterelements | |
DE1018557B (de) | Verfahren zur Herstellung von gleichrichtenden Legierungskontakten auf einem Halbleiterkoerper | |
DE1589543A1 (de) | Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Weichlotkontaktierung | |
DE976348C (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen mit pn-UEbergaengen und nach diesem Verfahren hergestellte Bauelemente | |
DE2305019C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum epitaktischen Aufwachsen von Halbleiterschichten mittels Flüssigphasen-Epitaxie | |
DE1026875B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Halbleitern | |
DE1005647B (de) | Verfahren zum Verhindern negativer Leitungskanaele in der p-leitenden Zone eines Germaniumtransistorelementes und ein nach diesem Verfahren hergestelltes Germaniumtransistorelement | |
DE1118360B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines einlegierten Kontaktes an einem Siliziumkoerper | |
DE1236660B (de) | Halbleiteranordnung mit einem plattenfoermigen, im wesentlichen einkristallinen halbleiterkoerper | |
DE8910519U1 (de) | Lötdraht als Hartlot | |
DE1115367B (de) | Verfahren und Legierungsform zum Herstellen einer Halbleiteranordnung durch Aufschmelzen einer Elektrode auf einen Halbleiterkoerper | |
DE1262388B (de) | Verfahren zur Erzeugung eines nicht-gleichrichtenden UEbergangs zwischen einer Elektrode und einem dotierten thermoelelktrischen Halbleiter fuer ein thermoelektrisches Geraet | |
DE6608171U (de) | Halbleiterbauelement. | |
DE1248167B (de) | Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements durch Einlegieren einer Elektrode in einen Halbleiterkoerper aus Germanium | |
DE2000096A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum epitaktischen Anbringen einer Halbleitermaterialschicht auf einer flachen Seite eines einkristallinen Substrats und Produkt,insbesondere Halbleiterbauelement,das durch dieses Verfahren hergestellt ist | |
AT212880B (de) | Verfahren und Legierform zum Aufschmelzen eines Kontaktes auf einen halbleitenden Körper | |
DE969748C (de) | Verfahren zur Herstellung eines gesteuerten, elektrisch unsymmetrisch leitenden Halbleitersystems | |
DE1018556B (de) | Transistor | |
DE1167162B (de) | Lot zum Verloeten von Teilen, von denen eines Gold enthaelt, und Verfahren zum Loeten mit diesem Lot | |
DE1058635B (de) | Verfahren zum Auflegieren von Legierungsmaterial auf einen Halbleiterkoerper zur Herstellung eines Sperrschicht-UEbergangs oder sperrfreien ohmschen Anschlusses | |
DE1966001A1 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE1080695B (de) | Verfahren zur Herstellung eines Elektrodensystems mit einem halbleitenden Koerper und mindestens einer Legierungselektrode | |
AT200187B (de) | Kristalldiode | |
DE1911915C3 (de) | Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Hersteilung |