DE1547711C3 - Process for the preparation of highly developable silver halide - Google Patents
Process for the preparation of highly developable silver halideInfo
- Publication number
- DE1547711C3 DE1547711C3 DE1547711A DE1547711A DE1547711C3 DE 1547711 C3 DE1547711 C3 DE 1547711C3 DE 1547711 A DE1547711 A DE 1547711A DE 1547711 A DE1547711 A DE 1547711A DE 1547711 C3 DE1547711 C3 DE 1547711C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- silver halide
- silver
- preparation
- photographic
- halogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- -1 silver halide Chemical class 0.000 title claims description 75
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 52
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 28
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 22
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 6
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical group [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 3
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 23
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 8
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 5
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 5
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 5
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 5
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 5
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 5
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- UDATXMIGEVPXTR-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical group O=C1NNC(=O)N1 UDATXMIGEVPXTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYENVTYBQKCILL-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazolidine-3,5-dithione Chemical compound S=C1NNC(=S)N1 WYENVTYBQKCILL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 3
- MDFFNEOEWAXZRQ-UHFFFAOYSA-N aminyl Chemical compound [NH2] MDFFNEOEWAXZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 238000012822 chemical development Methods 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical group SC1=NC=CN1 OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC=C1O WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPDYXWCBXQWHAI-UHFFFAOYSA-N 5-sulfanylidene-1,2,4-triazolidin-3-one Chemical group O=C1NNC(=S)N1 ZPDYXWCBXQWHAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical group O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N Ethylenethiourea Chemical group S=C1NCCN1 PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 2
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 2
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Chemical group 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Inorganic materials [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N thiouracil Chemical group O=C1C=CNC(=S)N1 ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZKWWERBNXLGLI-UHFFFAOYSA-N (2,5-dichlorophenyl)hydrazine Chemical compound NNC1=CC(Cl)=CC=C1Cl LZKWWERBNXLGLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAMBIJWZVIZZOG-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)hydrazine Chemical compound CC1=CC=C(NN)C=C1 XAMBIJWZVIZZOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZXQVCYHDMIIA-UHFFFAOYSA-N 1,1-diphenylthiourea Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C(=S)N)C1=CC=CC=C1 FPZXQVCYHDMIIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUIQANIDAMJELP-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydro-1,3,5-triazine Chemical compound C1NCN=CN1 FUIQANIDAMJELP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- ZWLWGULMKSZGRW-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibutyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound C(CCC)N1NC(=O)N(C1=O)CCCC ZWLWGULMKSZGRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYRRSGFYGKLVFF-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibutyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dithione Chemical compound C(CCC)N1NC(=S)N(C1=S)CCCC LYRRSGFYGKLVFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- FKMZWZGFVKCYKR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diphenyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound O=C1N(C=2C=CC=CC=2)C(=O)NN1C1=CC=CC=C1 FKMZWZGFVKCYKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHDMPABDCKUGMR-UHFFFAOYSA-N 1-octyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound C(CCCCCCC)N1NC(=O)NC1=O JHDMPABDCKUGMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFYLHMAYBQLBEM-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 WFYLHMAYBQLBEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 2-thiobarbituric acid Chemical group O=C1CC(=O)NC(=S)N1 RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWFMTHGMFVQPSE-UHFFFAOYSA-N 4-amino-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound NN1C(=O)NNC1=O BWFMTHGMFVQPSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical class NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DONGNZDECHITKF-UHFFFAOYSA-N 4-butyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dithione Chemical compound CCCCN1C(=S)NNC1=S DONGNZDECHITKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTLPCUOUNXWZMN-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound CCN1C(=O)NNC1=O FTLPCUOUNXWZMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=CC=C1 ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol sulfate Chemical compound OS(O)(=O)=O.CNC1=CC=C(O)C=C1.CNC1=CC=C(O)C=C1 ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICGLPKIVTVWCFT-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzenesulfonohydrazide Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)NN)C=C1 ICGLPKIVTVWCFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USUCKGULNGXXRO-UHFFFAOYSA-N 4-naphthalen-1-yl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound O=C1NNC(=O)N1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 USUCKGULNGXXRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOSUFRDROXZXLN-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound O=C1NNC(=O)N1C1=CC=CC=C1 GOSUFRDROXZXLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSCQSKLSWOQFNU-UHFFFAOYSA-N 5-butyl-1,3,5-triazinane-2-thione Chemical compound CCCCN1CNC(=S)NC1 WSCQSKLSWOQFNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWQRZHJVEYUBDY-UHFFFAOYSA-N 6-sulfanylidene-1,3-diazinane-2,4-dione Chemical compound O=C1CC(=S)NC(=O)N1 CWQRZHJVEYUBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090898 Desensitizer Drugs 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ODBPVOUIVTXBLI-UHFFFAOYSA-N OC1=NC(=NN1)[SeH] Chemical compound OC1=NC(=NN1)[SeH] ODBPVOUIVTXBLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNOILHPDHOHILI-UHFFFAOYSA-N Tetramethylthiourea Chemical compound CN(C)C(=S)N(C)C MNOILHPDHOHILI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- MUDHKEQEBJQRRG-GHXNOFRVSA-N [(z)-[4-(dimethylamino)phenyl]methylideneamino]thiourea Chemical compound CN(C)C1=CC=C(\C=N/NC(N)=S)C=C1 MUDHKEQEBJQRRG-GHXNOFRVSA-N 0.000 description 1
- IEIREBQISNYNTN-UHFFFAOYSA-K [Ag](I)(Br)Cl Chemical compound [Ag](I)(Br)Cl IEIREBQISNYNTN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMQATPITDSAIFV-KVTDHHQDSA-N [[(2R,3R,4R,5R)-2,3,4,5,6-pentahydroxyhexylidene]amino]thiourea Chemical compound C([C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO)=NNC(N)=S OMQATPITDSAIFV-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- OMQATPITDSAIFV-KCDKBNATSA-N [[(2S,3R,4S,5R)-2,3,4,5,6-pentahydroxyhexylidene]amino]thiourea Chemical compound C([C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO)=NNC(N)=S OMQATPITDSAIFV-KCDKBNATSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001462 antimony Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 150000001621 bismuth Chemical class 0.000 description 1
- FBXVOTBTGXARNA-UHFFFAOYSA-N bismuth;trinitrate;pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Bi+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O FBXVOTBTGXARNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- OIPQUBBCOVJSNS-UHFFFAOYSA-L bromo(iodo)silver Chemical compound Br[Ag]I OIPQUBBCOVJSNS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PKCHODKZKBAVIJ-UHFFFAOYSA-L chloro(iodo)silver Chemical compound Cl[Ag]I PKCHODKZKBAVIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229960005219 gentisic acid Drugs 0.000 description 1
- VKYBUEJAQKBUFU-UHFFFAOYSA-N hexylhydrazine Chemical compound CCCCCCNN VKYBUEJAQKBUFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N hydrazinecarbothioamide Chemical compound NNC(N)=S BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N hypobromite Inorganic materials Br[O-] JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMRYVIKBURPHAH-UHFFFAOYSA-N methimazole Chemical compound CN1C=CNC1=S PMRYVIKBURPHAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N o-dihydroxy-benzene Natural products OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000004686 pentahydrates Chemical class 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/49—Print-out and photodevelopable emulsions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/08—Sensitivity-increasing substances
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/496—Binder-free compositions, e.g. evaporated
- G03C1/4965—Binder-free compositions, e.g. evaporated evaporated
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/06—Silver salts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von lichtentwickelbarem Silberhalogenid, das nach Modifizierung mittels eines monomeren, bei lichtentwickelbaren Aufzeichnungsmaterialien üblichen Halogenakzeptors zur Bereitung von Silberhalogenidemulsionsschichten — wobei dann der Halogenakzeptor in der Silberhalogenidemulsionsschicht oder in einer an diese angrenzenden Schicht anwesend ist — oder bindemittelfreien aufgedampften Silberhalogenidschichten — wobei dann der Halogenakzeptor in einer an die bindemittelfreie aufgedampfte Silberhalogenidschicht angrenzenden Schicht anwesend ist — dient, in saurem Milieu.The invention relates to a process for the preparation of photo-developable silver halide, which according to Modification by means of a monomeric, customary in light-developable recording materials Halogen acceptor for the preparation of silver halide emulsion layers - in which case the halogen acceptor is present in the silver halide emulsion layer or in a layer adjacent to it - or binder-free vapor-deposited silver halide layers - in which case the halogen acceptor present in a layer adjacent to the binder-free vapor-deposited silver halide layer is - serves in an acidic environment.
Bei ausentwickelbaren photographischen Aufzeichnungsmaterialien, die eine hohe Empfindlichkeit besitzen und die Herstellung stabiler sichtbarer Bilder ermöglichen, erfolgt bekanntlich nach der bildgerechten Belichtung eine chemische Entwicklung, worauf fixiert und gewässert wird.Developable photographic materials which have high sensitivity and enable the production of stable, visible images, is known to be carried out according to the image-fair Exposure a chemical development, which is then fixed and watered.
Bei Verwendung der sogenannten auskopierbaren photographischen Aufzeichnungsmaterialien ist eine chemische Entwicklung nach der Belichtung nicht erforderlich und eine Fixierung nicht unbedingt nötig. Derartige photographische Aufzeichnungsmaterialien besitzen jedoch im allgemeinen eine geringere Empfindlichkeit als ausentwickelbare photographische Auf-Zeichnungsmaterialien und liefern Bilder einer vergleichsweise geringeren StabilitätWhen using the so-called copy-out photographic recording materials is one No chemical development required after exposure and fixation is not absolutely necessary. However, such photographic recording materials generally have a lower sensitivity as developable photographic recording materials and provide images of a comparatively lower stability
Neuerdings sind sogenannte lichtentwickelbare photographische Aufzeichnungsmaterialien bekanntgeworden, welche keine chemische Entwicklung erfordem, jedoch eine beträchtlich höhere Empfindlichkeit als die üblichen bekannten auskopierbaren photographischen Aufzeichnungsmaterialien besitzen. Photographische" Aufzeichnungsmaterialien dieses Typs können unter Erzielung ausgezeichneter stabiler Bilder chemisch fixiert werden, sie werden jedoch normalerweise nicht chemisch entwickelt, da vorhandene Bestandteile bestimmten Typs bei Verwendung üblicher photographischer Entwickler zu starker Schleierbildung führen.So-called light-developable photographic recording materials have recently become known, which does not require chemical development, but has considerably higher sensitivity than the conventionally known printable photographic recording materials. Photographic "recording materials of this type can be more stable with excellent performance Images are chemically fused, but they are usually not chemically developed because they are present Ingredients of certain types are too strong when using conventional photographic developers Lead to fogging.
Bisher war es notwendig, zur Herstellung von ausentwickelbaren, auskopierbaren und lichtentwickelbaren Aufzeichnungsmaterialien verschiedene Silberhalogenidemulsionen zu verwenden, d. h., zur Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien der drei angegebenen Typen konnte nicht von ein und derselben photographischen Silberhalogenidemulsion ausgegangen werden.Up to now it was necessary for the production of developable, copyable and light developable Using different silver halide emulsions for recording materials, d. i.e., for manufacture photographic recording materials of the three types indicated could not be of one and the same silver halide photographic emulsion.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung von lichtentwickelbarem Silberhalogenid anzugeben, das sich zur direkten Herstellung sichtbarer Bilder durch Bestrahlung mit Licht eignet, aber auch chemisch entwickelbar ist und daher sowohl zur Herstellung von ausentwickelbarem als auch von auskopierbarem als auch von lichtentwickelbarem Aufzeichnungsmaterial verwendbar ist.The invention is based on the object of a process for the production of photodevelopable To indicate silver halide that can be used to produce visible images by exposure to direct radiation Light is suitable, but can also be chemically developed and therefore both for the production of what can be developed as well as from copyable as well as from photodevelopable recording material usable is.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß die angegebene Aufgabe in besonders vorteilhafter Weise dadurch lösbar ist, daß die Silberhalogenidherstellung in Gegenwart bestimmter dreiwertiger Metallionen erfolgt.The invention is based on the knowledge that the specified object is particularly advantageous Way is solvable by the fact that the silver halide production in the presence of certain trivalent Metal ions takes place.
Gegenstand der Erfindung ist daher ein Verfahren zur Herstellung von lichtentwickelbarem Silberhalogenid, das nach Modifizierung mittels eines monomeren, bei lichtentwickelbaren Aufzeichnungsmaterialien üblichen Halogenakzeptors zur Bereitung von Silberhalogenidemulsionsschichten — wobei dann der Halogenakzeptor in der Silberhalogenidemulsionsschicht oder in einer an diese angrenzenden Schicht anwesend ist — oder bindemittelfreien aufgedampften Silberhalogenidschichten — wobei dann der Halogenakzeptor in einer an die bindemittelfreie aufgedampfte, Silberhalogenidschicht angrenzenden Schicht anwesend ist — dient, in saurem Milieu, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man die Silberhalogenidbildung in Gegenwart dreiwertiger Ionen des Arsens, Antimons, Wismuts, Goldes, Rhodiums oder Iridiums vornimmtThe invention therefore relates to a process for the production of light-developable silver halide, that after modification by means of a monomeric, in the case of light-developable recording materials usual halogen acceptor for the preparation of silver halide emulsion layers - where then the halogen acceptor in the silver halide emulsion layer or in a layer adjacent to it is present - or binder-free vapor-deposited silver halide layers - in which case the halogen acceptor present in a layer adjacent to the binder-free vapor-deposited silver halide layer is - serves in an acidic medium, which is characterized by the fact that silver halide is formed in the presence of trivalent ions of arsenic, antimony, bismuth, gold, rhodium or iridium undertakes
Durch die Erfindung wird erreicht, daß Bilder durch einfache bildweise Belichtung herstellbar sind sowie daß die aus den bei der Belichtung erhaltenen latenten Bildern erzeugten Bilder gegebenenfalls auch in üblicher bekannter Weise chemisch entwickelt und . fixiert werden können.The invention achieves that images can also be produced by simple image-wise exposure that the images generated from the latent images obtained during exposure may also be conventional known way chemically developed and. can be fixed.
Werden nach dem Verfahren der Erfindung Silberhalogenide in einem sauren Milieu in Gegenwart der angegebenen dreiwertigen Metallkationen hergestellt und zur Herstellung von auskopierbaren oder ausentwickelbaren Aufzeichnungsmaterialien verwendet, so werden hochempfindliche Produkte erhalten. Die hohe Empfindlichkeit der erhaltenen Silberhalogenidschichten ist überraschend, da viele der erfindungsgemäß verwendbaren dreiwertigen Metallkationen als starke Desensibilisatoren für photographische Silberhalogenidemulsionen bekannt sind. So ist es z. B. aus der Zeitschrift BuIg. Akad. Sei. Izvestia po Fiziko-Chima, 2, 1962, S. 219 bis 228, bekannt, daß Wismut photographische Silberhalogenidemulsionen stark desensibilisiert. Die starke Desensibilisierungswirkung von Rhodium wird beispielsweise in der englischen Ausgabe des Buches »Photographic Chemistry«, Bd.I, 1958, S. 318, von P. Glafkides beschrieben.Are silver halides in an acidic medium in the presence of the process of the invention specified trivalent metal cations produced and for the production of copyable or developable If recording materials are used, highly sensitive products are obtained. the high sensitivity of the silver halide layers obtained is surprising, since many of the inventive useful trivalent metal cations as strong desensitizers for photographic applications Silver halide emulsions are known. So it is B. from the magazine BuIg. Akad. Izvestia po Fiziko-Chima, 2, 1962, pp. 219-228, known that bismuth photographic silver halide emulsions severely desensitized. The strong desensitizing effect of rhodium is shown, for example, in the English edition of the book "Photographic Chemistry", Vol. I, 1958, p. 318, by P. Glafkides described.
Ein unter Verwendung eines ein erfindungsgemäß hergestelltes Silberhalogenid enthaltenden photogra-A photograph containing a silver halide produced according to the invention is used
phischen Aufzeichnungsmaterials erzeugtes Auskopierbild ist jedoch infolge seiner auf Grund der Anwesenheit üblicher Halogenakzeptoren verbesserten Empfindlichkeit gegenüber weiterer Gesamtbelichtung recht unbeständig. Es kann nun der Halogenakzeptor aus dem Material entfernt werden, beispielsweise durch Waschen oder durch Behandlung mit einer oxydierenden Verbindung, z. B. mit Bromwasser, saurer Permanganatlösung, Natriumhypochloritlösung oder N-Bromosuccinimid, nach der bild weisen Auskopierbelichtung, wodurch ein wesentlich stabileres Bild zu erhalten ist.However, the print-out image produced by the phical recording material is due to its presence common halogen acceptors improved sensitivity to further overall exposure quite inconsistent. The halogen acceptor can now be removed from the material, for example by washing or by treatment with an oxidizing compound, e.g. B. with bromine water, acidic permanganate solution, sodium hypochlorite solution or N-bromosuccinimide, as shown in the picture Copy-out exposure, resulting in a much more stable image.
Die erfindungsgemäß hergestellten Silberhalogenide enthalten die Metallionen im Innern der Kristalle. Bei der Herstellung der Silberhalogenidkristalle, die bekanntlich durch Vereinigung eines wasserlöslichen Silbersalzes mit einem wasserlöslichen Halogenid erfolgt, können die dreiwertigen Metallionen entweder gemeinsam mit dem wasserlöslichen Silbersalz der Lösung des wasserlöslichen Halogenids zügegeben werden oder umgekehrt, d. h., die dreiwertigen Metallionen können in der wäßrigen Lösung des Halogenids der Lösung des Silbersalzes zugesetzt werden. Dabei können in bekannter Weise beispielsweise einerseits Silbernitratlösungen und andererseits Natrium- oder Kaliumjodidlösungen oder -bromidlösungen oder -chloridlösungen verwendet werden. Ferner ist es möglich, die dreiwertigen Metallionen in das zur Ausfällung des Silberhalogenids verwendete Reaktionsgefäß gemeinsam mit einem hydrophilen Kolloid, z. B. Gelatine, einzuführen. Die dreiwertigen Metallionen können dabei in Form von wasserlöslichen anorganischen Salzen, organischen Metallsalzen, Komplexen oder in Form von anderen Verbindungen, die dreiwertige Metallionen während der Bildung des Silberhalogenids erzeugen, verwendet werden.The silver halides produced according to the invention contain the metal ions in the interior of the crystals. at the production of silver halide crystals, which is known to be obtained by combining a water-soluble Silver salt is made with a water-soluble halide, the trivalent metal ions can be either added together with the water-soluble silver salt of the solution of the water-soluble halide be or vice versa, d. That is, the trivalent metal ions can be present in the aqueous solution of the Halide can be added to the solution of the silver salt. In this case, in a known manner, for example on the one hand silver nitrate solutions and on the other hand sodium or potassium iodide solutions or bromide solutions or chloride solutions can be used. It is also possible to use the trivalent metal ions into the reaction vessel used to precipitate the silver halide along with a hydrophilic one Colloid, e.g. B. gelatin to introduce. The trivalent metal ions can be in the form of water-soluble inorganic salts, organic metal salts, complexes or in the form of other compounds, which generate trivalent metal ions during the formation of the silver halide is used will.
Die Konzentration an den angegebenen dreiwertigen Metallionen kann sehr verschieden sein. Als zweckmäßig hat es sich erwiesen, zur Herstellung der Silberhalogenide nach der Erfindung Konzentrationen von mindestens 1 χ 10 ~9, vorzugsweise 1 χ 10~6 bis 2 Molprozent, bezogen auf Silberhalogenid, zu verwenden.The concentration of the specified trivalent metal ions can vary widely. It has proven to be advantageous to use for the preparation of the silver halides according to the invention concentrations of at least 1 χ 10 ~ 9, preferably 1 χ 10 ~ 6 to 2 mole percent based on silver halide.
Die Herstellung der Silberhalogenidkristalle erfolgt unter sauren Bedingungen. Der pH-Wert des Reaktionsmilieus wird während der Silberhalogenidausfällung zweckmäßig unterhalb 6, vorzugsweise unterhalb 5, gehalten. Geeignete Säuren zur Einstellung des pH-Wertes des Ausfällmilieus sind beispielsweise Phosphorsäure, Trifluoressigsäure, Bromwasserstoffsäure, Chlorwasserstoffsäure, Schwefelsäure und Salpetersäure. The silver halide crystals are produced under acidic conditions. The pH of the reaction environment is advantageously below 6, preferably below, during silver halide precipitation 5, held. Suitable acids for adjusting the pH of the precipitation medium are, for example Phosphoric acid, trifluoroacetic acid, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid.
Vorzugsweise besitzen die erfindungsgemäß hergestellten Silberhalogenidkristalle Korngrößen von durchschnittlich 0,01 bis 10 Mikron, insbesondere von 0,05 bis 2 Mikron.The silver halide crystals produced according to the invention preferably have grain sizes of 0.01 to 10 microns average, more preferably 0.05 to 2 microns.
Nach dem Verfahren der Erfindung herstellbare Silberhalogenide sind z. B. Silberchlorid, Silberbromid, Silberbromidjodid, Silberchloridjodid und SiI-berchloridbromidjodid. Vorzugsweise bestehen die Silberhalogenidkristalle zu mindestens 50 Molprozent aus Silberbromid, zu weniger als 10 Molprozent aus Silberjodid und zum Rest aus Silberchlorid.Silver halides which can be prepared by the process of the invention are e.g. B. silver chloride, silver bromide, Silver bromide iodide, silver chloride iodide and silver chloride bromide iodide. Preferably the silver halide crystals consist of at least 50 mole percent silver bromide and less than 10 mole percent from silver iodide and the remainder from silver chloride.
Bei den erfindungsgemäß hergestellten Silberhalogeniden kann es sich sowohl um solche handeln, die latente Bilder vorwiegend im Innern der Kristalle bilden, wie sie z. B. in der USA.-Patentschrift 2 592 250 beschrieben werden, als auch um solche, die latente Bilder vorwiegend auf der Oberfläche der Kristalle bilden.The silver halides produced according to the invention can be either those which latent images mainly form inside the crystals, such as those found in e.g. B. U.S. Patent 2,592,250 as well as those containing latent images predominantly on the surface of the Form crystals.
Zur Herstellung eines photographischen Aufzeichnungsmaterials unter Verwendung des erfindungsgemäß gewonnenen Silberhalogenids sind die verschiedensten bekannten Halogenakzeptoren verwendbar, die zur Herstellung von lichtentwickelbaren Silberhalogenidemulsionsschichten üblicherweise verwendet werden.For the production of a photographic recording material using the according to the invention obtained silver halide the most diverse known halogen acceptors can be used, those commonly used for the preparation of light developable silver halide emulsion layers will.
Als besonders geeignet haben sich Stickstoff enthaltende Halogenakzeptoren erwiesen. Besonders geeignete stickstoffhaltige Halogenakzeptoren sind solche der folgenden allgemeinen Formeln:Nitrogen-containing halogen acceptors have proven to be particularly suitable. Particularly suitable nitrogen-containing halogen acceptors are those of the following general formulas:
undand
R3
R1 — N — R2 R 3
R 1 - N - R 2
worin bedeuten:where mean:
R, R1 und R3 jeweils Wasserstoffatome, gegebenenfalls substituierte Alkylreste oder gegebenenfalls substituierte Arylreste oder Acylreste, beispielsweise der FormelR, R 1 and R 3 are each hydrogen atoms, optionally substituted alkyl radicals or optionally substituted aryl radicals or acyl radicals, for example of the formula
*-< t>4* - <t> 4
V_, JK.V_, JK.
worin R4 ein Wasserstoffatom, ein Alkylrest oder ein Arylrest ist,wherein R 4 is a hydrogen atom, an alkyl radical or an aryl radical,
R2 ein stickstoffhaltiger Rest, z. B. ein Aminorest oder ein Thiocarbamylrest, einschließlich eines substituierten Amino- oder Thiocarbamylrestes,R 2 is a nitrogenous radical, e.g. B. an amino radical or a thiocarbamyl radical, including a substituted amino or thiocarbamyl radical,
D die zur Vervollständigung eines heterocyclischen Ringes mit vorzugsweise 5 oder 6 Atomen erforderlichen Atome, wobei vorzugsweise mindestens 2 Atome des Ringes aus Stickstoffatomen bestehen und der Ring mindestens einen zweiwertigen Rest der FormelD those necessary to complete a heterocyclic ring with preferably 5 or 6 atoms Atoms, preferably at least 2 atoms of the ring consisting of nitrogen atoms and the ring has at least one divalent radical of the formula
Il —c—Il —C—
enthält, worin X die Bedeutung eines Schwefel-, Sauerstoff- oder Selenatoms oder eines Immorestes der Formel =NH besitzt.contains, wherein X is a sulfur, oxygen or selenium atom or an immo radical has the formula = NH.
Sind die Substituenten D oder R2 direkt über ein Stickstoffatom an das Stickstoffatom des Halogenakzeptors der angegebenen Formeln gebunden, so weist mindestens eines der Stickstoffatome ein Wasserstoffatom auf.If the substituents D or R 2 are bonded directly to the nitrogen atom of the halogen acceptor of the given formulas via a nitrogen atom, at least one of the nitrogen atoms has a hydrogen atom.
Besitzt R2 die Bedeutung eines Aminorestes, so kann es sich um einen solchen der FormelIf R 2 has the meaning of an amino radical, it can be one of the formula
—N—N
R5 R 5
R6 R 6
handeln, worin R5 und R6 Wasserstoffatome oder Alkylreste, Arylreste oder Acylreste der für R1 und R3 angegebenen Bedeutung sein können.act, in which R 5 and R 6 can be hydrogen atoms or alkyl radicals, aryl radicals or acyl radicals of the meaning given for R 1 and R 3.
Besitzt R2 die Bedeutung eines Thiocarbamylrestes, so kann es sich um einen solchen der FormelIf R 2 has the meaning of a thiocarbamyl radical, it can be one of the formula
S R7 SR 7
Il /Il /
— C —N- C -N
handeln, worin R7 und R8 die Bedeutung der Substituenten R5 und R6 des Aminorestes besitzen können. Besonders vorteilhafte, Stickstoff enthaltende Halogenakzeptoren lassen sich durch die folgenden Formeln I bis IV wiedergeben:act, wherein R 7 and R 8 can have the meaning of the substituents R 5 and R 6 of the amino radical. Particularly advantageous, nitrogen-containing halogen acceptors can be represented by the following formulas I to IV:
R10 S R11 R 10 SR 11
R9 —N —C —N —R12 R 9 - N - C - N - R 12
R13 — N — C — N — RR 13 - N - C - N - R
1414th
(D(D
(H)(H)
2020th
4040
hierin bedeuten:here mean:
R9, R10, R", R12, R13, R14, R15, R16, R17 und R18 jeweils Wasserstoffatome, Alkylreste, Arylreste oder Acylreste, wie für R1 und R3 angegeben, E ein Schwefel-, Sauerstoff- oder Selenatom oder ein Iminorest und Q und Z die zur Vervollständigung eines heterocyclischen 5- oder 6gliedrigen Ringes erforderlichen Atome.R 9 , R 10 , R ″, R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 are each hydrogen atoms, alkyl radicals, aryl radicals or acyl radicals, as indicated for R 1 and R 3 , E is sulfur -, oxygen or selenium atom or an imino radical and Q and Z the atoms required to complete a heterocyclic 5- or 6-membered ring.
Beispielsweise können Q und Z die zur Vervollständigung eines der folgenden Ringe erforderlichen Atome darstellen:For example, Q and Z can be whatever is required to complete one of the following rings Represent atoms:
eines Triazolthiolringes,
eines Mercaptoimidazolringes,
eines Imidazolidinthionringes,
eines Triazinthiolringes,
eines Thiobarbitursäureringes,
_ eines Thiouracilringes und
eines Urazolringes, einschließlich
eines Thiourazolringes.of a triazolethiol ring,
a mercaptoimidazole ring,
an imidazolidinthione ring,
a triazinthiol ring,
a thiobarbituric acid ring,
_ of a thiouracil ring and
a urazole ring, including
of a thiourazole ring.
Besitzen in den angegebenen Formeln die Substituenten die Bedeutung eines Arylrestes, so bestehen diese vorzugsweise aus einem Naphthyl- oder Phenylrest, die gegebenenfalls durch Alkylgruppen, Halogenatome oder Acylreste substituiert sein können. Besitzen die Substituenten der angegebenen Formel die Bedeutung von Alkylresten, so besitzen diese normalerweise 1 bis 20 Kohlenstoffatome, vorzugsweise 1 bis 8 Kohlenstoffatome. Auch diese Alkylreste können gegebenenfalls substituiert sein, beispielsweise durch Arylreste, Halogenatome oder Acylreste.If the substituents in the formulas given have the meaning of an aryl radical, they exist these preferably consist of a naphthyl or phenyl radical, optionally substituted by alkyl groups or halogen atoms or acyl radicals can be substituted. If the substituents of the formula given have the When alkyl radicals are defined, these normally have 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms. These alkyl radicals can also optionally be substituted, for example by aryl radicals, halogen atoms or acyl radicals.
Typische Halogenakzeptoren vom sogenannten Thioharnstofftyp der Formeln I und II werden beispielsweise in der deutschen Patentschrift 1 295 997 beschrieben.Typical halogen acceptors of the so-called thiourea type of the formulas I and II are, for example in German Patent 1,295,997.
Typische Halogenakzeptoren vom Hydrazintyp der angegebenen Formel III werden beispielsweise in der USA.-Patentschrift 2 588 982 beschrieben.Typical halogen acceptors of the hydrazine type of the formula III given are, for example, in U.S. Patent 2,588,982.
Typische Halogenakzeptoren der angegebenen Formel IV sind Urazole und Thiourazole, wie sie beispielsweise in der deutschen Patentschrift 1 472 863 beschrieben werden.Typical halogen acceptors of the formula IV given are urazoles and thiourazoles, such as, for example in German Patent 1,472,863.
Im folgenden werden einige Beispiele von zur Herstellung des photographischen Materials nach der Erfindung besonders geeignete Stickstoff enthaltende Halogenakzeptoren angegeben:The following are some examples of methods for preparing the photographic material according to Invention particularly suitable nitrogen-containing halogen acceptors indicated:
l,3-Dimethyl-2-imidazolidinthion, 2-Imidazolidinthion,l, 3-dimethyl-2-imidazolidinthione, 2-imidazolidinthione,
l-Phenyl-5-mercaptotetrazol,l-phenyl-5-mercaptotetrazole,
Thiosemicarbazid,Thiosemicarbazide,
Tetramethylthioharnstoff,Tetramethylthiourea,
p-Dimethylaminobenzaldehyd-Thiosemicarbazon, p-dimethylaminobenzaldehyde thiosemicarbazone,
1 -Isopen tyl-2-thioharnstoff,
l-(2-Diäthylaminoäthyl)-l,2,5,6-tetrahydro-1-isopotyl-2-thiourea,
l- (2-diethylaminoethyl) -l, 2,5,6-tetrahydro-
l,3,5-triazin-4-thiol,
1,2-Bis-(l ,2,5,6-tetrahydro-1,3,5-triazin-l, 3,5-triazine-4-thiol,
1,2-bis- (1,2,5,6-tetrahydro-1,3,5-triazine-
4-thiol)äthan,
l-Phenyl-2-thioharnstoff,
l,3-Diphenyl-2-thioharnstoff,
4-Thiobarbitursäure,
2-Thiouracil,
l-Acetyl-2-thioharnstoff,
1 ,S-Dibenzyl^-thioharnstoff,
1,1 -Diphenyl-2- thioharnstoff,
1 -Äthyl-1 -(a-naphthy l)-2-thioharnstoff,
2-Mercaptoimidazol,
5-Selenourazol,
Hydrazin,4-thiol) ethane,
l-phenyl-2-thiourea,
l, 3-diphenyl-2-thiourea,
4-thiobarbituric acid,
2-thiouracil,
l-acetyl-2-thiourea,
1, S-dibenzyl ^ -thiourea,
1,1-diphenyl-2-thiourea,
1-ethyl-1 - (a-naphthy l) -2-thiourea, 2-mercaptoimidazole,
5-selenourazole,
Hydrazine,
Phenylhydrazin, Hydrochlorid, 2,5-Dichlorophenylhydrazin,
1 - Pheny 1-2-imidazolidinthion, 4,5-Diphenyl-4-imidazolidin-2-thion,
l-Methyl-2-mercaptoimidazol, 1 -n-Butyl-1,2,5,6-tetrahydro- 1,3,5-triazin-4-thiol,
Phenylhydrazine, hydrochloride, 2,5-dichlorophenylhydrazine,
1 - Pheny 1-2-imidazolidinthione, 4,5-diphenyl-4-imidazolidine-2-thione, 1-methyl-2-mercaptoimidazole, 1 -n-butyl-1,2,5,6-tetrahydro-1,3 , 5-triazine-4-thiol,
p-Toluolsulfonylhydrazin,
Hexylhydrazin,
Thioharnstoff,p-toluenesulfonylhydrazine,
Hexylhydrazine,
Thiourea,
l-Methyl-2-imidazolidinthion,
d-Mannosethiosemicarbazon, Morpholino-2-propanthiosemicarbazon, d-Galactosethiosemicarbazon,
Urazol,
3-Thiourazol,
3,5-Dithiourazol,
3,5-Dithiourazol, Hydrazinsalz, 4-Aminourazol, Hydrazinsalz,
3,5-Dithiourazol, Hydrazinsalz, Urazol, Natriumsalz,
4-( 1 -Naphthyl)urazol,
4-Äthylurazol,
1-Phenylurazol,
4-Phenylurazol,
1-Buty !urazol,
1-Octylurazol,
4-Butyl-3,5-dithiourazol,
1,4-Dipheny !urazol,l-methyl-2-imidazolidinthione, d-mannosethiosemicarbazone, morpholino-2-propanthiosemicarbazone, d-galactosethiosemicarbazone, urazole,
3-thiourazole,
3,5-dithiourazole,
3,5-dithiourazole, hydrazine salt, 4-aminourazole, hydrazine salt, 3,5-dithiourazole, hydrazine salt, urazole, sodium salt,
4- (1-naphthyl) urazole,
4-ethylurazole,
1-phenylurazole,
4-phenylurazole,
1-buty! Urazole,
1-octylurazole,
4-butyl-3,5-dithiourazole,
1,4-diphenyl urazole,
5555
1,4-Dibutylurazol,1,4-dibutylurazole,
l,4-Dibutyl-3,5-dithiourazol,1,4-dibutyl-3,5-dithiourazole,
1 ^-Diphenyl-S^-dithiourazol,1 ^ -diphenyl-S ^ -dithiourazole,
l-AthyM-phenyW^-dithiourazol,l-AthyM-phenyW ^ -dithiourazole,
3-Thio-5-iminourazol, p-Tolylhydrazin, Hydrochlorid,3-thio-5-iminourazole, p-tolylhydrazine, hydrochloride,
a-Naphthylhydrazin,a-naphthylhydrazine,
a-Benzyl-a-phenylhydrazin.α-Benzyl-α-phenylhydrazine.
Andere geeignete Halogenakzeptoren sind bei- ίο spielsweise Stannosalze, wie z. B. Stannochlorid, wie in der USA.-Patentschrift 3 033 678 beschrieben, aromatische Mercaptane, wie beispielsweise Thiosalicylsäure, Hydrochinone, wie beispielsweise Hydrochinon, Chlorohydrochinon, Gentisinsäure und t-Butylhydrochinon, Brenzkatechine, wie beispielsweise Phenylbrenzkatechin und t-Butylbrenzkatechin, p-Aminophenole, wie beispielsweise N-Methyl-p-aminophenolsulfat, 3-Pyrazolidon, wie beispielsweise 1-p-aminophenolsulfat, 3-Pyrazolidon, wie beispielsweise 1-Phenyl-3-pyrazolidon, 4-Methyl-1 -phenyl-3-pyrazolidon und l-Phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidon, Phenyldiamine, Nitrile, Phenole, Glycin, Natriumsulfit, alkalische Stoffe, z. B. Borax und Alkalimetallhydroxyde.Other suitable halogen acceptors are also ίο for example stannous salts, such as. B. stannous chloride as described in U.S. Patent 3,033,678, aromatic Mercaptans, such as thiosalicylic acid, hydroquinones, such as hydroquinone, Chlorohydroquinone, gentisic acid and t-butyl hydroquinone, catechols such as phenyl catechol and t-butylpyrocatechol, p-aminophenols, such as N-methyl-p-aminophenol sulfate, 3-pyrazolidone, such as 1-p-aminophenol sulfate, 3-pyrazolidone, such as, for example, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 4-methyl-1-phenyl-3-pyrazolidone and 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, phenyldiamines, nitriles, phenols, glycine, sodium sulfite, alkaline Substances, e.g. B. borax and alkali metal hydroxides.
Der Halogenakzeptor kann im photographischen Aufzeichnungsmaterial, d. h. beispielsweise in einer Silberhalogenidemulsionsschicht oder in einer Zwischenschicht, in den verschiedensten Konzentrationen vorliegen. Als zweckmäßig hat es sich erwiesen, Konzentrationen von 0,01 bis 100 Molprozent, vorzugsweise 0,1 bis 25 Molprozent, bezogen auf das Silberhalogenid, zu verwenden.The halogen acceptor can be present in the photographic material, i. H. for example in a Silver halide emulsion layer or in an intermediate layer, in the most varied of concentrations are present. It has proven to be expedient to use concentrations of 0.01 to 100 mol percent, preferably 0.1 to 25 mole percent based on the silver halide to be used.
Unter Verwendung der erfindungsgemäß gewonnenen Silberhalogenide hergestellte photographische Aufzeichnungsmaterialien sind in verschiedenster Weise verwendbar, z. B. im Rahmen von Bürokopierverfahren, pianographischen Druckverfahren und übertragungsverfahren.Photographic prints made using the silver halides obtained in accordance with the present invention Recording materials can be used in a wide variety of ways, e.g. B. in the context of office copying procedures, pianographic printing processes and transmission processes.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.The following examples are intended to illustrate the invention in more detail.
Die Silberhalogenidkristalle der photographischen Aufzeichnungsmaterialien der Beispiele 1, 3 bzw. 4 besaßen durchschnittliche Korngrößen von etwa 0,8, 0,06 bzw. 0,1 Mikron.The silver halide crystals of the photographic recording materials of Examples 1, 3 and 4, respectively possessed average grain sizes of about 0.8, 0.06 and 0.1 microns, respectively.
Es wurde zunächst eine lichtempfindliche Gelatine-Silberchlorobromidemulsion mit 5 Molprozent Chlorid und 95 Molprozent Bromid hergestellt, indem gleichzeitig unter Rühren eine wäßrige Lösung von Silbernitrat und eine wäßrige Lösung von Alkalimetallhalogeniden zu einer wäßrigen Gelatinelösung von 60°C bei einem pH-Wert von 2,0, eingestellt mit Salpetersäure, zulaufen gelassen wurden. Die Emulsion diente als Vergleichsemulsion.It first became a photosensitive gelatin-silver chlorobromide emulsion with 5 mole percent chloride and 95 mole percent bromide prepared by simultaneously stirring an aqueous solution of Silver nitrate and an aqueous solution of alkali metal halides to form an aqueous gelatin solution of 60 ° C at a pH of 2.0, adjusted with nitric acid, were allowed to run in. the Emulsion served as a comparative emulsion.
Eine zweite Emulsion wurde in gleicher Weise hergestellt, mit der Ausnahme jedoch, daß der wäßrigen Gelatinelösung 122 mg Wismutnitrat-Pentahydrat pro Mol Silberhalogenid zugesetzt wurden.A second emulsion was prepared in the same way, except that the aqueous Gelatin solution 122 mg of bismuth nitrate pentahydrate per mole of silver halide were added.
Beide Emulsionen wurden jeweils mit 5,0 Molprozent Dithiourazol, Hydrazinsalz, als Halogenakzeptor, bezogen auf das Silberhalogenid, versetzt und auf einen photographischen Papierträger aufgetragen. Both emulsions were each with 5.0 mol percent dithiourazole, hydrazine salt, as halogen acceptor, based on the silver halide, offset and applied to a photographic paper support.
Proben der erhaltenen photographischen Materialien wurden dann in gleicher Weise belichtet, und zwar mit kaltem weißem fluoreszierendem Licht von 134000 Lux-Minuten.Samples of the photographic materials obtained were then exposed in the same manner, and with cold white fluorescent light of 134,000 lux minutes.
Die gemessenen Reflexionsdichten, die durch ein Wrattenfilter Nr. 15 gemessen wurden, sind in der folgenden Tabelle zusammengestellt:The measured reflection densities, which were measured by a No. 15 Wratten filter, are shown in FIG compiled in the following table:
Bi(NO3J3 ■ 5H2OPresence of
Bi (NO 3 J 3 · 5H 2 O
jano
Yes
1,010.70
1.01
Es wurden weitere photographische Emulsionen des im Beispiel 1 beschriebenen Typs hergestellt. Dabei wurde den Emulsionen an Stelle von Wismutnitrat jedoch Ammoniumchlororhodat in verschiedenen Konzentrationen zugegeben. Die erhaltenen Emulsionen wurden dann, wie im Beispiel 1 beschrieben, auf Papierträger aufgetragen und getestet. Dabei wurden die folgenden Ergebnisse erhalten:Additional photographic emulsions of the type described in Example 1 were prepared. Instead of bismuth nitrate, ammonium chlororhodate was added to the emulsions in various ways Concentrations added. The emulsions obtained were then, as described in Example 1, applied to paper backing and tested. The following results were obtained:
Nachdem im Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurden verschiedene photographische Emulsionen mit Silberhalogenidkristallen geringer Korngröße hergestellt, wobei jedoch an Stelle von Wismutnitrat, Pentahydrat, Gold-, Arsen- und Antimonsalze, wie in der folgenden Tabelle angegeben, verwendet wurden. Die Prüfung der erhaltenen photographischen Materialien erfolgte ebenfalls wie im Beispiel 1 beschrieben. Es wurden folgende Ergebnisse erhalten:Following the procedures described in Example 1, various photographic emulsions were prepared made with silver halide crystals of small grain size, but instead of bismuth nitrate, Pentahydrate, gold, arsenic and antimony salts as indicated in the table below were used. The photographic materials obtained were also tested as described in Example 1. The following results were obtained:
Nachdem im Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurde eine Gelatine-Silberchloridbromidemulsion mit Silberhalogenidkristallen mittlerer Korngröße hergestellt, die jedoch an Stelle des Wismutsalzes 5 mg (NH4J3RhCl6 pro Mol Silberhalogenid enthielt.According to the method described in Example 1, a gelatin silver chlorobromide emulsion with silver halide crystals of average grain size was prepared, but instead of the bismuth salt contained 5 mg (NH 4 I 3 RhCl 6 per mole of silver halide.
Vor dem Auftragen der Emulsion auf einen Träger wurde sie, wie im Beispiel 1 beschrieben, mit Dithiourazol, Hydrazinsalz, als Halogenakzeptor, versetzt.Before applying the emulsion to a carrier, it was, as described in Example 1, with dithiourazole, Hydrazine salt, added as halogen acceptor.
Nach einer Belichtung, wie im Beispiel 1 beschrieben, wurde für die Emulsionsschicht eine Dichte von 1,25 gemessen.After exposure as described in Example 1, the emulsion layer had a density of 1.25 measured.
In einem Vergleichsversuch wurde eine zweite Emulsion bereitet, bei deren Herstellung jedoch keine Rhodiumionen zugesetzt wurden. Die Zugabe desIn a comparative experiment, a second emulsion was prepared, but none during its preparation Rhodium ions were added. The addition of the
309 509/414309 509/414
Rhodiumsalzes erfolgte vielmehr erst gemeinsam mit dem Halogenakzeptor kurz vor der Beschichtung der Emulsion auf den Träger. Bei der Belichtung des erhaltenen photographischen Materials wurde eine Dichte von 1,09 ermittelt.Rather, the rhodium salt was only added together with the halogen acceptor shortly before the coating the emulsion on the carrier. When the photographic material obtained was exposed, a Density of 1.09 determined.
Es wurden feinkörnige Gelatine-Silberchlorid- und Silberchloridbromidemulsionen gemäß Beispiel 2 her-Fine-grain gelatin silver chloride and silver chlorobromide emulsions were produced according to Example 2
gestellt, wobei die Ausfallung der Silberhalogenidkristalle in Gegenwart von Ammoniumchlororhodat erfolgte. Die Emulsionen wurden nach Zusatz von Hydrochinon als Halogenakzeptor auf Papierträger aufgetragen.posed, with the precipitation of the silver halide crystals took place in the presence of ammonium chlororhodate. The emulsions were after the addition of Hydroquinone applied to a paper carrier as a halogen acceptor.
Die erhaltenen photographischen Materialien wurden, wie im Beispiel 1 beschrieben, getestet. Es zeigte sich, daß eine rasche Auskopierung erfolgte und Bilder hoher Dichtestufen erhalten werden konnten.The photographic materials obtained were tested as described in Example 1. It showed that a quick copy-out occurred and images of high density levels could be obtained.
Claims (2)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR24443A FR1456581A (en) | 1965-07-13 | 1965-07-13 | New radiation sensitive product |
| US48192765A | 1965-08-23 | 1965-08-23 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1547711A1 DE1547711A1 (en) | 1970-02-19 |
| DE1547711B2 DE1547711B2 (en) | 1973-03-01 |
| DE1547711C3 true DE1547711C3 (en) | 1973-09-20 |
Family
ID=26164743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1547711A Expired DE1547711C3 (en) | 1965-07-13 | 1966-07-12 | Process for the preparation of highly developable silver halide |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3447927A (en) |
| JP (1) | JPS5025809B1 (en) |
| BE (1) | BE683561A (en) |
| DE (1) | DE1547711C3 (en) |
| FR (1) | FR1456581A (en) |
| GB (1) | GB1158014A (en) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3725073A (en) * | 1967-05-25 | 1973-04-03 | Xerox Corp | Light developable,direct writing,silver halide emulsions containing gold,iodine,lead and copper |
| JPS4933781B1 (en) * | 1968-05-10 | 1974-09-10 | ||
| BE756627A (en) * | 1969-09-26 | 1971-03-01 | Du Pont | DIRECT POSITIVE EMULSIONS CONTAINING AMINO-BORANS AND BISMUTH DESALTS |
| BE756067A (en) * | 1969-09-29 | 1971-02-15 | Eastman Kodak Co | ANTI-HALO ENHANCED PHOTOGRAPHIC PRODUCT |
| US3705148A (en) * | 1970-04-03 | 1972-12-05 | Eastman Kodak Co | Photographic films on heat resistant cellulose triacetate |
| US3690888A (en) * | 1970-06-04 | 1972-09-12 | Eastman Kodak Co | Process of making silver halide emulsions having polyvalent metal ions occluded therein |
| US3748137A (en) * | 1970-12-10 | 1973-07-24 | Eastman Kodak Co | Photosensitive and thermosensitive elements and process for development |
| US3854949A (en) * | 1971-03-10 | 1974-12-17 | Eastman Kodak Co | Silver halide photographic compositions and processes for obtaining positive images |
| JPS5517374B2 (en) * | 1971-11-09 | 1980-05-10 | ||
| JPS51127720A (en) * | 1975-04-30 | 1976-11-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Method for sensitizing silver halide photographic light sensitive mate rials |
| US4076532A (en) * | 1976-01-16 | 1978-02-28 | Eastman Kodak Company | Thermosensitive image-forming element and method of processing thereof |
| GB1560005A (en) * | 1976-08-11 | 1980-01-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic emulsions |
| US4221863A (en) * | 1978-03-31 | 1980-09-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Formation of silver halide grains in the presence of thioureas |
| US4650746A (en) * | 1978-09-22 | 1987-03-17 | Eastman Kodak Company | High contrast photographic emulsions and elements and processes for their development |
| EP0143424B1 (en) | 1983-11-25 | 1990-06-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-developable light-sensitive materials |
| US4710631A (en) * | 1984-08-28 | 1987-12-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Temperature compensation for a semiconductor light source used for exposure of light sensitive material |
| JPS61209433A (en) * | 1985-02-18 | 1986-09-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heat developable photosensitive material |
| US4775613A (en) | 1985-03-30 | 1988-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-developable light-sensitive material |
| US4661438A (en) | 1985-04-04 | 1987-04-28 | Eastman Kodak Company | Quaternized tellurium salt fog inhibiting agents for silver halide photography |
| EP0204530B1 (en) | 1985-05-31 | 1991-09-11 | Konica Corporation | Method for forming direct positive color image |
| JPH0677131B2 (en) * | 1986-05-02 | 1994-09-28 | 富士写真フイルム株式会社 | Silver halide photographic light-sensitive material |
| DE69001808T2 (en) * | 1990-03-19 | 1994-01-05 | Agfa Gevaert Nv | Photographic room light materials containing halogen acceptors. |
| JP3041736B2 (en) * | 1991-11-01 | 2000-05-15 | コニカ株式会社 | Silver halide photographic material |
| JPH05165139A (en) * | 1991-12-17 | 1993-06-29 | Konica Corp | Dye image forming method |
| DE69422773D1 (en) * | 1993-08-31 | 2000-03-02 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic light-sensitive material |
| US5374497A (en) * | 1993-08-31 | 1994-12-20 | Eastman Kodak Company | Donor element for use in a dry color proofing process |
| JPH0887097A (en) * | 1994-09-16 | 1996-04-02 | Konica Corp | Picture forming method |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2717833A (en) * | 1952-05-12 | 1955-09-13 | Sperry Rand Corp | Direct positive emulsions |
| BE620828A (en) * | 1961-08-01 |
-
1965
- 1965-07-13 FR FR24443A patent/FR1456581A/en not_active Expired
-
1966
- 1966-07-01 BE BE683561D patent/BE683561A/xx unknown
- 1966-07-12 DE DE1547711A patent/DE1547711C3/en not_active Expired
- 1966-07-13 GB GB31467/66A patent/GB1158014A/en not_active Expired
-
1967
- 1967-03-24 US US625590A patent/US3447927A/en not_active Expired - Lifetime
-
1969
- 1969-07-04 JP JP44052542A patent/JPS5025809B1/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE683561A (en) | 1966-12-16 |
| FR1456581A (en) | 1966-10-28 |
| JPS5025809B1 (en) | 1975-08-27 |
| DE1547711B2 (en) | 1973-03-01 |
| DE1547711A1 (en) | 1970-02-19 |
| US3447927A (en) | 1969-06-03 |
| GB1158014A (en) | 1969-07-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1547711C3 (en) | Process for the preparation of highly developable silver halide | |
| DE3315589C2 (en) | ||
| DE1255484B (en) | Photographic light-sensitive material comprising at least one silver salt emulsion light-sensitive layer | |
| DE2811025A1 (en) | SILVER SALTS OF 3-AMINO-1,2,4-MERCAPTOTRIAZOL DERIVATIVES | |
| DE1281845B (en) | Silver halide photographic emulsion | |
| DE1547780B2 (en) | Fogged direct positive silver halide photographic emulsion | |
| DE1170778B (en) | Silver halide copy emulsion containing a heavy metal salt | |
| DE1177002B (en) | Process for preventing fogging and halogen silver photographic light-sensitive emulsion or photographic material | |
| DE2034064B2 (en) | Color photographic recording material | |
| DE1929223A1 (en) | Developer-precursor compounds and their uses in photography | |
| DE1772026A1 (en) | Photographic recording material | |
| DE2100622C2 (en) | Photosensitive silver halide emulsion | |
| DE2850612A1 (en) | PHOTOMATERIAL AND PHOTOGRAPHICAL DEVELOPER | |
| DE1547726C3 (en) | Process for making visible silver photographic images | |
| DE1019171B (en) | Process for the production of direct positive photosensitive material | |
| DE2325039C2 (en) | Silver halide color photographic emulsion | |
| DE2112728C3 (en) | Color photographic recording material | |
| DE2212550A1 (en) | Use of azotriazoles and azotetrazoles as antifoggants and antispot agents and selective desensitizers in photographic silver halide emulsions and in photographic baths, and photographic recording material containing these compounds | |
| DE3020262C2 (en) | Treatment solution for the silver salt diffusion transfer process | |
| DE1547970A1 (en) | Solution for stabilizing a developed image in a silver halide photographic material | |
| DE2222832A1 (en) | Process for the production of photographic images | |
| DE69028801T2 (en) | Sensitivity and contrast enhanced doped silver halide emulsions | |
| DE2607895A1 (en) | PROCESS FOR DEVELOPING A LIGHT SENSITIVE PHOTOGRAPHIC SILVER HALOGENIDE MATERIAL | |
| DE1772088C3 (en) | Fixing solution for silver halide photographic light-sensitive materials | |
| DE2049502A1 (en) | Photographic development process and developer solution suitable therefor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
| EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |