DE1522720A1 - Abbildungsverfahren - Google Patents

Abbildungsverfahren

Info

Publication number
DE1522720A1
DE1522720A1 DE19671522720 DE1522720A DE1522720A1 DE 1522720 A1 DE1522720 A1 DE 1522720A1 DE 19671522720 DE19671522720 DE 19671522720 DE 1522720 A DE1522720 A DE 1522720A DE 1522720 A1 DE1522720 A1 DE 1522720A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
image
plate
deformable
charge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19671522720
Other languages
English (en)
Other versions
DE1522720C3 (de
DE1522720B2 (de
Inventor
Goffe William Locke
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xerox Ltd
Original Assignee
Rank Xerox Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rank Xerox Ltd filed Critical Rank Xerox Ltd
Publication of DE1522720A1 publication Critical patent/DE1522720A1/de
Publication of DE1522720B2 publication Critical patent/DE1522720B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1522720C3 publication Critical patent/DE1522720C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/022Layers for surface-deformation imaging, e.g. frost imaging
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G16/00Electrographic processes using deformation of thermoplastic layers; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G17/00Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process
    • G03G17/10Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process using migration imaging, e.g. photoelectrosolography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

Dipl.-Ing. F.Weickmann, Dr. Ing. A/Weickmann, Dipl.-Ing. H. Weickmann Dipl.-Phys. D*. K. Fincke Patentanwälte
8 MÜNCHEN 27, mohlstäasse 22, rufnummer 483921/22 ' OZZ I jL\j
SBBM
RANK XEROX LIMITiSD, Hank Xerox House, 338, Euston Road, London li.W« 1, England
Abbildungsverfahren
auf
Die Erfindung bezieht sich/die Aufzeichnung und Viiedergabe von Bildern in einem Verfahren, bei dem das selektive Aus-« einanderreissen einer auf einem elektrostatisch verformbaren Film liegenden Schicht ausgenutzt wird.
Abbildungsverfahren, bei denen die elektrostatische Deformation plastischer Stoffe verwendet wird, sind bekannt und ■wurden in der Patentliteratur sowie andeneitig beschrieben. Ein derartiges Verfahren, das auch als Mattierungsverfahren bezeichnet wird, ist in einem Artikel mit dem Titel "A cyclic xerographic method based on frost deformation" von R.W. Gundlach und CJ. Claus, veröffentlicht im Journal of photographic science and engineering, January-February, I963. beschrieben. Es besteht in einer Kombination elektrostatischer Lade- und
909842/1379
optischer Belichtungsschritte, wodurch ein auf einer photcleitfähigen Schicht liegender thermoplastischer Film bei Einwirkung von warme oder Lösungsdämpfen selektiv verformt wird. Dieses Verfahren ist zur Reproduktion flächenhafter Bilder in gleicher './eise wie für Linienzeichnungen geeignet.
ftin weiteres Deformations-Abbildungsverfahren zur Reproduktion von Linienzeichnungen oder Umrissen von Flächenbiidem ist als Reliefverfahren bekannt, wobei die Deformation auf die Grenzlinien zwischen geladenen und nichtgeladenen Flächenteilen des thermoplastischen Films beschränkt ist. Das Reliefverfahren ist eingehend in der deutschen Patentanmeldung R tfltih IZa/5?e beschrieben.
Ferner wurde ein Verfahren zum selektiven Hinbringen von Haarrissen in einen thermcplastischenStcff in bildmäßiger Verteilung bekannt (a new surfaxe phencmencn in Thermoplastic layers and its use in recording information, von F.H. Hicoll, ACk nevlew. Vol. 25). Bei diesem Verfahren wird eine dünne oberflächenschicht auf dem thermoplastischen Stoff gebildet, die darauf geladen und erhitzt wird.
Bei Verwendung entsprechend geeigneter Stoffe können mit den vorstehend genannten Verfahren Bilder hergestellt werden, die durch reflektiertes oder hindurchtretendes Licht dchtbar gemacht werden. Jedes dieser Verfahren ist jedoch durch gevlsee Nachteile und stoffliche Einschränkungen gekennzeichnet.
- 3 -909842/ 1379
Sell z.B. ein Relief- oder Mattierungsbild durch Hindurchtreten des Lichtes sichtbar gemacht werden, so muß die verwendete photoleitfähx£e Schicht durchsichtig sein. Seilen die Bilder durch reflektiertes Licht sichtbar gemacht werden, so muß die phctcleltfähige Schicht oder die thermoplastische Schicht eine gut spiegelnde überfläche haben. Das vorstehen d genannte Verfahren zum Jinbriv:£en von Haarrissen erfordert die Ausbildung einer extrem dünnen oberflächenschicht auf dem thermoplastischen f-.toff. Ferner ist die Ausbildung eines elektrostatischen Ladungsbildes Inder üblicherweise beim elektrophotographischen Kopieren verwendeten Form erforderlich; dieses Ladungsbild besteht aus besonderen geladenen und nichtj-eladenen Flächenteilen.
kie vorliegende arfindun£ erlaubt die Anwendung einer großen mizahl verschiedener Stoffe zur Herstellung von Bildern hoher Auflösung, die optisch oder anderweitig durch geeignete Abtasteinrichtungen sichtbar gemacht werden. Sin weiterer Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht darin, daß man Tnformati onen mit einem wirtschaftlichen leicht herzustellenden Bildelement oder einer Bildplatte speichern kann. Abhängig von der jeweils verwendeten Einrichtung» kann entweder ein positives oder ein negatives Abbild direkt von einem optischen Bild hergestellt werden, wobei die normalen Anforderungen, wie sie an eine in den vorstehend genannten Deformati ons verfahren verwendete photoleitfähige Schicht gestellt werden, weitgehend vereinfacht sind.
■ - k -
909842/1379 Bad original
Das Bildelement oder die Bildplatte der vorliegendenErf3.ndung enthält eine dünne, teilchenförmige oder leciht zerbrechliche Schicht, sowie eine thermoplastische Schicht, die in Abhängigkeit von der jeweils angewendeten Verfahrensart währarl eines Teiles oder während des gesamten Verfahrens auf einer leitfähigen Unterlage aufgebracht oder mit dieser verbunden sein kann.
äin Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung eines optische sichtbaren Bildes ist folgendermaßen ausgebildet: auf eine Bildplatte, die aus einer leitfähigen Unterlage, einer thermoplastischen Schicht und einer lichtempfindlichen, aus Teilchen gebildeten Schicht besteht, wird eine gleichmäßige elektrostatische Oberflächenladung aufgebracht. Die geladene Bildplatte wird dann mit einem optischen Bild belichtet, so daß sich durch selektiven Ladungsausgleich ein entwickelbares Ladungsbild ergibt. Die thermoplastische Schicht wird dann erweicht, worauf die Teilchenschicht selektiv zerbrochen wird, wodurch sich die Teilchen derart ansammeln, daß sie ein durch reflektiertes oder hindurchgelassenes BLicht sichtbares Bild erzeugen.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung anhand der Figuren eingehend beschrieben.
Es zeigen:
Fig. 1 die vorzugsweise Ausführungsform einer Bildplatte, bestehend aus einer Schicht lichtempfindlicher Teilchen
909842/1379 - s.
— j —
auf einer thermoplastischen Schicht, die sich auf einer Unterlage befindet;
Fig. 2 das Aufbringen einer praktisch gleichmäßigen elektrostatischen Ladung,
Fig. 3 die Belichtung mit einem optischen Bild,
Fig. k die gemäß der Erfindung durchgeführte Entwicklung mit Wärmeeinwirkung,
Fig. 5 die Ausführungsform einer Bildplatte mit einer separaten phctoleitfähigen Schicht,
Fig. $ die Ausführungsform einer Bildplatte mit einer deformiertraren-photolei tfähigen Schicht,
Fi£. 7 die Ausführungsform einer Bildplatte, die zur Wiedergabe nichtoptischer Bilder geeignet ist und
Fig. 8 das direkte Aufbringen eines elektrostatischen Ladungsbildes .
Während verschiedene Arten von Bildplatten zur Bildherstellung gemäß dger vorliegenden Erfindung verwendet werden können, besteht die vazugsweise Ausführungsform einer Bildplatte aus einer Schicht lichtempfindlicher Teilchen, die sich auf einer
90 9842/13 70 . - 6 -
thermoplastischen Schicht befindet, welche durch eine leitfähige Unterlage getragen wird. Vorzugsweise, jedoch nicht notwendig, sind die thermoplastische Schicht und die Unterlage durchsichtig, und die lichtempfindliche Schicht ist im wesentlichen lichtundurchlässig.
Die vorzugsweise /iusf Uhrungsform der Bildplatte ist in Zig. 1
dargestellt, und zwar als Platte IC, die aus einer sehr dünnen Schicht 11 lichtempfindlicher Teilchen, einer relativ stärkeren thermplastischen Schicht 12 unci einer tragenden Unterlage 13 besteht. Die Unterlage 13 ist im allgemeinen elektrisch leitfähig cder mit einem elektrisch leitfähigen Stoff überzogen, wie z.B. Zinnoxyd oder Kupferiodid. «1s Unterlage 13 kann beispielsweise Nesa-llas (Pittsburgh Plate Glass Gcmpany) mit zufriedenstellenden Ergebnissen verwendet werden. Ist die Unterlage elektrisch «nichtleitend, so mu2 sie während bestimmter Schritte des vorliegenden Verfahrens mit einer elektrode vorübergehend in Berührung gebracht werden.
Die Schicht Ii muß bei Dunkelheit ausreichend elektrisch nichtleitend sein (d.h. bei Fehlen einer aktivierenden Strahlung), um eine elektrostatische Ladung zu halten, während die Schritte des vorliegendenVerfahrens durchgeführt werden, abgesehen von denjenigen flächenteilen, die mit Licht oder anderer aktivierender Strahlung beeinflußt wurden. Die Schicht 11 kann aus Selenteilchen oder anderen photoleitfähigen Teilchen bestehen, wie sie auch in der US-Patentschrift 3 121 0ü6 beschrieben sind,
909842/1379 " ? "
6AD ORiGtNAt
es können jedoch auch die verschiedensten lichtempfindlichen Farben und Pigmentstoffe, wie sie bei der xerographischen Technik bekannt sind, verwendet werden. Dje Schicht 11 kann auch die Form eines leicht zerbrechlichen Filsm haben.
Die Schicht 12 soll beispielsweise aus Staybellte-Ester 10 (ein zu Jü % hydrierter Glyzerolharzester, der Hercules Powder Company) bestehen, oder aus einem anderen, für die elektrostatische Defonnationsabblldung geeigneten Material gebildet sein, wie sie z.B. in den Uo-Patentschrift 3 113 179 und 3 196 011 sowie in der genannten deutschen Patentanmeldung H 35^-Ok beschrieben sind. In diesem Zusammenhang sei bemerkt, daß viele Kunststoffe eine Oberflächen-Vorbehandlung erforderlich ist, wie sie eingehend in der deutschen Patentanmeldung R ^1261 IXa/57^ beschrieben ist, um diese Stoffe beim xerographischen Deformations verfahren nutzbringend anwenden zu können. Es hat sich jedoch herausgestellt, daß derartige Stoffe für die Schicht 12 der vorliegenden Erfindung sogar ohne diese Vorbehandlung verwendet werden können.
wie bereits angeführt, wird gemäß der vorliegenden Erfindung ein elektrostatisches Ladungsbild auf der Platte IC erzeugt, das dem zu reproduzierenden Bild entspricht, wonach die Schicht 12 erweicht wird, so daß die otpischen Eigenschaften der Blatte in bildmäßiger Verteilung geändert werden. Die optische Erzeugung des elektrostatischen Ladungsbildes wird allgemein am meisten
- 8 -909842/1379
durchgeführt und ist auch bei Durchführung der vorliegenden Erfindung zugrundegelegt, obwohl auch andere Verfahren zur Erzeugung entwickelbarer elektrostatischer Ladungsbilder auf der erfindungsgemäßen Bildplatte verwendet werden können. Die optische Erzeugung des Ladungsbildes kann vorteilhaft derart durchgeführt v/erden, daß eine gleichmäßige elektrostatische Ladung auf die in F'g. 1 gezeigte Bildplatte aufgebracht wird, und daß dann ein Lichtbild auf die lichtempfindliche Schicht projiziert wird, wodurch sich ein entwickelbares Ladungsbild ergibt.
Wie in Fig. 2 dargestellt ist, kann eine praktisch gleichmäßige elektrostatische Ladung auf die Platte 10 aufgebradit werden, indem eine Korona-uitladungseinrichtung I1+ über die Oberfläche der Platte in geringem Abstand zu dieser geführt wird. Für die Beschreibung des Abbilduigsverfahrens sei vorausgesetzt, daß die Schicht 12 aus einer stjr^belite-Schicht basteht und eine Stärke von 2 Mikron besitzt. Durch das Stromversorgungsgerat 15 wird eine Hochspannung an die Korcna-Einrichtung gelegt, durch die ein Potential von ca. kOü V auf die Schicht 11 gegenüber der Unterlage 13 aufgebracht wird. Dieser Schritt wird bei Fehlen einer aktivierenden Strahlung für die Schicht 11 durchgeführt.
Wird eine Platte mit einer nichtleitfähigen Unterlage verwendet, so kann sie vorübergehend mit einem elektrisch geerdeten leit fähigen Teil in Berührung gebracht werden, um eine Aufladung in der dargestellten V/eise zu erreichen. Andererseits sind in der xerographischen Technik zur Aufladung xerographischem·
909842/1379 "9 ~
Platten mit nichtleitenden Unterlagen andere Verfahren bekannt, die gleichfalls angewendet werden können. Beispielsweise kann die Platte 10 geladen werden, indem sie zwischen zwei Korona- -ritladungseinrichtungen hindurchgeführt wird, die ein entgegengesetztes elektrisches Potential führen.
Fig. 3 zeigt den nächsten Schirtt der Belichtung der Platte 10 mit einem zu reproduzierenden Lichtbild. Dazu wird die dargestellte Kamera 16 oder jede andere zur selektiven Belichtung der Schicht 11 mit aktivierender Stählung geeignete Einrichtung verwendet, um ein entwickelbares Ladungsbild zu erzeugen. Im dargestellten Falle enthält die Kamera 16 ein Originalbild 17, das durch Lampen 18 ausgeleuchtet und durch ein Objektiv 19 auf die Platte IO projiziert wird. Andere Verfahren, z.B. die Kontaktbelichtung, können gleichfalls angewendet werden. Die Lampen l8 oder dieentsprachend verwendeten einrichtungen sollen Licht oder eine andere Strahlung mit einer .vellenlän* e erzeugen, auf die die Schicht 11 anspricht. Allgemein kann bei fast allen lichtempfindlichen Stoffen das Licht von Glühlampen, SRöntgenstrahlen oder Strahlen geladener Teilchen verwendet werden. Es ist nicht von Bedeutung, daß der Belichtungsschritt entweder eine Entladung der Platte oder eine Verengerung der elektrischen Felder in den belichtetenFlächenteilen erzaigt. Vielmehr ist eine selektive Verlagerung der Ladungen an die Grenzschicht zwischen den Schichten 11 und 12 ausreichend, um ein entwickelbares Ladungsbild gemäß der vorliegenden Erfindung zu erzeugen.
- 10 909842/1379
In Fig. k ist das Erweichen der 3hicht 12 dargestellt, wodurch diese durch Wirkung der mit den elektrostatischen Ladungen verbundenen mechanischen Kräfte physikalisch geändert wird. Jedes geeignete tirweichungsverfahren kann angewendet werden, vorttausgesetzt, daß es nicht die elektrische Leitfähigkeit der ühicht 12 bis zu einem Punkt erhöht, an dem die elektrischen Ladungen vor der Deformation der Schicht 12 in bildmäßiger Verteilung abgeleitet werden. In der dargestellten Ausführungsform wird die Schicht 12 durch die Einwirkung von «iärnie erweicht, und ein Heizelement 22 ist unterhalb der Platte 10 angeordnet.
Die Hitzeerweichung der Schicht 12 ermöglich eine Deformation dieser Schicht entsprechend dem elektrostatischen Ladungsbild, so daß sich mikroskopisch unebene Flächenteile bilden, die der Platte ein mattiertes Aussehen verIeiäiη. Zusätzlich wird die schicht 11 an den Deformationsstellen zerbrochen, und die die Schicht 11 bildenden Teilchen werden dadurch selektiv angesammelt, so daß die optischen Sigenschaflen dar Platte geändert werden. 5s hat sich herausgestellt, daß die Platte an den mattierten Flächenteilen relativ durchsichtig und nichtreflektierend wird, und zwar in erster Linie dadurch, daß die Teilchen sich übereinander anordnen und sich in den Tälern oder Falten des Deformationsbildes ansammeln, wodurch die erhöhtenleile des Bildesnicht mehr bedeckt sind- In diesem Zusammenhang sei bemerkt, daß die Deformation nicht dauerhaft sein muß, um die Platte 10 eelektiv klar und durchsichtig zu machen. Ist das Zerbrechen der Schicht 11 durchgeführt, so kößen die Deforma-
\ - 11 -
M 909842/1379
6AD
ticnen ohne Zerstörung des aufgezeichnetenBildes stattfinden. Die Licht-absorbierendenbigenschaften an den verübergehend deformierten Flächenteilen der Schicht 11 sind weitgehend reduziert, verglichen mit denjenigen ächichtteilen, die nach den beschriebenen iJeli chtungs schritte α unzerbrochen bleiben.
übwuhl das durch dieses Verfahren erzeugte Bild in einfacher ..■eise durch nnsehengeorüft xverden kann, ist es sehr gut, zur Darstellung mit Diaprojektion geeignet. Die entwickelte Platte Iu kann als Prcjelrtionsbild zur Erzeugung eines großen V/iedergabebildes hcher Auflösung auf einem siehtbarenSchirm o.a. verwendet werden, .-bhärigig von den für die Platte Il verwendeten Ctrffsn kann das Bild auch durch optische Linrichtungen sichtbar gemacht werden, die mit reflektiertem anstatt hindurchgelassenem Licht arbeiten. Ferner kann eine V/iedergabe durch eine geeignete Abtasteinrichtung erfolgen, mit der die selektive Verlagerung der Teilchen festgestellt wird. Beispielsweise kann in Verbindung mit einer Schicht 11, die einen magnetischen Anteil enthält, eine magnetische Abtasteinrichtung verwendet werden.
Die folgenden speziellen Beispiele dienen der weiterenErläuterung des erfinduagsgemäßen Verfahrens, sollen die Erfindung jedoch in keiner leise einschränken. Die Bezeichnungen "negativ" und "positiv" sind Im photog^hischen Sinne verwendet. Besteht das Originalbild z.B. aus schwarem Druck auf weißem Papier, so ergibt sich in gleicher V/eise ein Positivbild, ein Negativbild würde jedoch als heller Druck auf scharzem Hinteregrund
909842/1379 β» «WWW-
■'■:.-■ - 12 -
erscheinen. Negativbilder werden erzeugt, wenn die Deformation der Schi ent 12 (und damit das Zerbrechen und die Verlagerung der Teilchen in der Schicht 11) auf Flächentellen der Platte • auftritt, die den dunklen Flächenteilen des optischen Bildes der Belichtung entsprechen. Positive Bilder ergeben sich, wenn die Deformation auf den beliditeten Flächenteilen der Platte auftritt.
Boispiel I
:Jine Bildplatte wird hergestellt durch Aufbringen einer dünnen Schicht aus amorphem Sälen von ca. 0,5 Mikron Stärke mittels Va^uumaufdampfung auf eine Schicht aus dem Styrolharz Piccotex 100 (Pennsylvania Industrial Chemical Company), deren Stärke ca. 2 Mikron beträgt und die auf einer mit Aluminium überzogenen Mylar-Pclyesterfolie (l^.I.duPont de Nemours Co., Inc.) aufgebracht ist.
Auf die Selenschicht wird mittels einer Korona-Entladungseinrichtung eine praktisch gleichmäßige Überflächenladung von ca. +1930V aufgebracht. Dann wird die Platte mit einem optischen Bild belichtet, wobei die B?lichtungssträke *+3 Lux-Sekunden beträgt und eine Wolfram-Lampe verwendet wird. Die belichtete Platte wird ungef. 10 Sekunden lang auf 1000C erhitzt, wodurch sich infolge des Zerbrechens der Selenschicht ein Ne£ati-\ttld ergibt und sich die Teilchen an den nichtbelichtetenFlächenteile der Platte ansammeln.
- 13 909842/13 7 9
Bei sniel II
Das Verfahren aus Beispiel t wird wiederholt mit der ausnähme, daj.. das ^elen durch Vakuumauf dämpfung auf eine ?. Mikron starke Schicht aus Cteybelite lL (ein Glycerinester von hydriertem Ki lophonium) anstatt auf PlccoteK (L. aufgebracht wird, ^s wirö eine ^adung von ca. +!%> V aufgebracht, die Belichtung v;ird mit 6*+ iiux-Jekunden tiurchceführt. .^s ergibt sich wieder ei μ negatives bild.
III
.in positives Bild wird folgendermaßen hergestellt. Zuerst wird eine Platte durch Vakuumaufdampfung von 3elen mit einer Schichtstärke von 0,2 bis u,5Ki-kron auf eine 2 Mikron starke Schicht aus Piccotex 100 aufgebracht, das auf einer Kesa-ilasüntorLage vir^esehen 1st. ..i: wird eine Oberfläche·!ladung V" ι ca. -1. L V au fi-f? bracht und dan» -:-\ <- .-Jr^'. t·:. t. >n£ mit 3^ -t ·■·__,:,— ■"runde·! unter Vr. rv/nenciunp .^tvr ..i If ram-: -.a-e :lr.tmpf öui'cj^'.c-f t,..rl. Flu'cI. _ rl/i ^ιΐΊΡ. der usiichteten °-.r. tt·^ ca. ix v.e^unde" · ." .L. ν - e tv ibt sich ein:1 uef .~rn?-t I l η d-i· Γη·., th^ri'ös in el·' ι bexLchteten Flächente! Lp-, in Lt ein^r Verlader.; dc-s ^eLd u·, s: UKk- die dunklen flache it-i 1? des . rip;: nt- L bild es Ln t-l.-! c ..----r ..' -i.se auf d^m ..bb? Id uunkel ers^h^I.n-""!.
Beispiel IV
:in Positivbild wird hergestellt, indem eine Platte verwendet v,
90984 2/1379
die aus einer L, ?. bis 0,5 M Ια· cn starken ~ lensdi c-.t aufgedampft auf eine '-\ 111. krön starve schicht aur. ^w ';l 6 L^-Ji 1'1.!-Om-. UoI1Z (."> nsral .lectrlc Ccmpan^) und einer i.esa- hierunter U,i;e... besteht. Die Platte erhalt oiio o'nerf lücherilad.ri.; vni ca. -31 ·ι Ve iiii LtoIi- einer rerona-Liitladurirselnrlchtu'!·; und ·;'}■'! dam mit oinem .-.i.ld belichtet, wozu, eine- L=;lichturii-sftilr'-e v<■»; 3." .jU:-·- ^o>unde-i uii'd. Cas ?■_ si. tiv-IJild ergibt ε j ei. durc:. ca. :u: Te]-U1-den iuvu;e ..r.-!':.t^u:.t auf Ιλ"^·
LeisρIcI V
Mit den \ ?rfai.re-iöc c-.i'i.tte.'i ci.;e J^ispLel I -.:'_::.t.>t. nie· ·ι >-!.ί ..<■■- £.-ativbild unter Vor.-;-5.-icijr.f; (■.■'. ner Platte, die li^r^ erteilt vilrd, 1 'Gorn lit; )dui.i;üollr:r.o Γ d'£ c te I L'.'i.vn (".aticnal "'i-^ine 0> . / Über 2i. .e ^cheici.t r.v-ü ^t.-.., noli te IC -"'i.nctl'iar:^ Vl ■■ ca. ;. IliVrt-.
_v;e-i r-'lor latt-"', die α ;::ci ". '.iurr.c.ufd'm pf v--.' ·"';·:[■ ^c:.'η'·.Λ. • ,ο 'r. r pi.-: π. ..·!?.: mil -.:-... ., '.'.' 'τ', ι ^ t.;-r· "■■<·.· a ' -ine ^ iüVr.-i :!·'ΐΊ:ε· .o.Jci.t aus: ' ,ar; ortem -^cccnul L> -."■'.· ti· l l-;.-':-.'iV.'.-i "Λ or/.va π-,.■f-rcti i'fnari: (r""'n:;?ylv'---"ia Lnciustri a L Jnemical Z»t. ι auf einer r·.'t ..1 ir i nium 'iberr,'.,έΊί' My i.ar-Pel^ei-terft. lie hergestellt, ■j-ercien, verarEchaulicnen die r-.asvji r>u-ir. der Ladn--;-arülsritäli auf die B* !dart. ..ird eine oberf läc.neiladung vm -2ll V auf eine Platte auftSnracnt, dann eine bo Li ent mn; nit einer .;clfram-
- 15 -909842/1379
6AÜ -"
Fadenlampe und 3? ~u::-~ekunden durchgeführt und die Platte dann It- Sekunden lang auf ICC0*- erhitzt, so ergibt such sin pcsitives Bild. :ird derselbe Prozeß mit einer Überflächenladung ve: ^ +2C-O V durchgeführt, so ergibt sich ein negatives .MIc! ve11 dem celben Uri£inalbild.
Durch empirische .irgebn= sse wird die vorstehende! E der , rfindung bestätigt, dalu die Bildart (positiv oder negativ) durch die spezielle Kom'd nati on der für die Platte Ic verwendeten Stoffe bestimmt ist. Im gewissen Fall kann die umgekehrte Bildart durch Umkehrung der Prlarität der aufgebrachten Ladung: erhalten werden, 'wie bereits ausgeführt wurde, wird durch die Belichtung der Schult 11 mit aktivierender Strahlung; eine selektive Verlagerung der Ladung erreicht. Sin positives Bild (Deformation in den belichtetenFlächentellen) ergibt sich, wenn die folgenden "Bedingungen vorliegen: die Belichtung der Schicht 11 mit dem optischenBild verursacht eine selektive ßawqpng von Ladung zur Grenzschicht zwischen don Schichten 11 und und die Erhitzung ^verursacht keinen Ladungseintritt in die Schicht 12. Negative Bilder ergeben sich, wenn der Belichtungschritt e ine selektive VerlagerungÖer Ladung an der Grenzschicht verursacht und ein Ladungseintritt ergibt sich, wenn die Schicht 12 erweicht wird. Ss sei ferner bemerkt, daß Negativbilder erzeugt werden, wenn die Stoffe der Platte derart ausgewählt sind, daß die Belichtung der Schicht 11 mit aktivierender Strahlung einen Ladungseintritt in die Schicht 12
- 16 -
9 0-9 842/1379- 6AD original
verursacht,
,oevor die Erhitzung d ur ehr, e führt, wird .
Falls erwünscht, können die vorstehend beschriebenen Lade- und Belichtungsschri tte gleichzeitig anstatt nacheinander ausgeführt Werden. Eine speziell zur gleichzeitigen Durchführung dieser Schritte geeignete .einrichtung ist beispielsweise in der deutscher Patentanmeldung A .393Su IXa/57e beschrieben.
In Fig. 5 ist. eine weitere Ausführungsform einer Bildplatte dargestellt, die für ein Informationsaufzeichnungsverfahren verwendet werden kann, bei dem abhängig von der elektrostatischen Deformation einer Schicht die Anordnung, einer auf dieser Schicht vorgesehenen Teilchenschicht geändert wird. Dieses sowie die im folgenden noch beschriebenenVerfahren dienen zur Herstellung und Verwendung elektrostatischer Bilder, wie sie bei der Slektrophotographie üblicher sind. Wird eine optische Herstellung des elektrostatischenBildes angewendet, so verursacht der BeIichtungsschritt im allgemeinen eine entsprechende Verringerung der elektrischen Felder auf der Platte in den belichteten Flächenteilen. Die nichtoptische Herstellung des elektrostatischen Bildes besteht in der direkten Ausbildung bestimmter geladener bzw. ungeladener Flächentelle. Wie gezeigt ist, besteht die Platte 30 aus einer Teilchenschicht 31» einer thermoplaste schenSchicht 32, einer photoleitfähigen Schicht 33 und der Unterlage 31+· Im wesentlichen besteht diese Ausführungsform
also/der normalen Platte, wie sie für xerographische Deformati ons abbildung verwendet wird, mit der Ausnahme, daß sie mit
909842/1379
einer zusätzlichen Schicht31 versehen ist, um die optischen j-.igenschaf ten und die Deformationsfälligkeit zu verbessern.
Auf der Bildplatte 31 kann ein Bild in der durch die US-Patentschrift 3196 011 beschriebenen Heise hergestellt werden. 3s sei ferner bemerkt, daß, falls für die Schicht 31 ein lichtabsorbierender Stoff verwendet werden soll, die Belichtung der Schicht 33 durch die Unterlage 31+ hindurch erfolgen kann, wie es für xer©graphische Verfahren bekannt ist,
tAne geeignete Zusammensetzung spezieller Stoffe für die Platte 3ü i^fe folgendermaßen ausgebildet: die schicht 31 besteht aus trraphitteilchen, die Schicht 32 aus staybelita Lster^ IC, die phi-tolei-tfühlte Jchicht 33 aus glasförmigem Selen , und die unterlage 3k aus Kesa-XLas. Selbstverständlich können glsichwerti^e ttcffe- auch verwendet werden, wobei, ihre optischen liigenscUaften lediglich die für den j owe ill gen VerwendungssecV güiti.vjen Erfordernisse erfüllen müssen.
in Fie. 6 ist eine weitere Ausfiüiruncsfcrm ein^r Bildpistte darc-estellt, die in den durch die l·1!-.. Γ - h dargestellfö-i Verfaiirenssehritteti verwendet vierde.i kaun. Diese Λ· ldplatte Ut besceht aus einer defcrmierbaren. Schicht f42, die selbst leitfähig ist, e:ner Unterlage lf3* und einer Schicht 4l, di» aus v/insUienleilchen besteht. Die;-e müssen ledisrlich eine kd geringe Leitfäigkeit besitsen, daß sie etee elel-rtros-ta.tiaPi-Vl1-ng entsprechend den Erfordernissen des vorliegenden Verfah-
9098 4 2/1379 ~
/ZU
rens halten.können. ■
•'Die Platte ko besteht vorteilhaft aus der folgenden Zusammensetzung spezieller Stoffe: die Schicht ^l, au« Graphit, die Schicht LH aus 2,5-bis-(p-amincphenyl)l,3»^-cxadiazcl, und die ochicht 4 3 aus Nesa-Glas. Gleichwertige otcffe können gleichfalls verwendet werden.
Zur Ausbildung eines elektrostatischen Ladungsbildes kann auch eine nienteptische ^inrichtune verwendet werden, "wodurch eine lichtempfindlichkeit der Bildplatte nient erforderlich ist. .'. ι irlg. 7 ":-st eine dazu reeiffnete Bildnle.tte 1+5- Echerr.eticch dar^este LIt, dve sup der Trilchenschicht pl« ev-ier d&runterlie- £-e-iden ύ-'-ΐt rmierbare·"! .Jc.".\cht 5'i und -i ner rr terIa^e 53 besteht. Liese Bildplatte :'rt ah'ilich uo:'je-i.i£:9 ι abs Flg. 1 ausgebildet m: 1. der- '."^tarsOhi^d, d&r- -31c Teilche-i nicht Lic.hternpfindü-ch sein müssen. I "3 :_c:!~.i'f..t 51 muß ledii.,lch co we;ii£' lel.tfihii' aeivil da?, sie für da? vorliegende Verfahre·! «in el^ktro-tatisches bild halten )■';.· i\. _
Zur Λιη-Όΐ'Ια'.χ·-....· tinc-s elektrostatischen Le.dur;£sn\ldes auf der .'. chic *.t 51 ν?.-·ι \ jede^ reeirnete Verfahren verwendet werden, beisrieliTweise .a&s '■■'- ?ig c scheniatisch dargestellte. Kier wird durch e:.-'.-3■ Lcl.Boloai .50 mittel:, oi-iSr m" t eier ^trcnnerscrgur^I 5t virburiäbr.en ΙΊ. rcn.a-j.ritladuitr^^iari.chtur.£ 57 ^'- elektroatati^ch^s i.?taari£sai Id Luf gstracht. „rliält die . ?'._-i'ona*-„fit-■ ladun^se i"-iZ"icr.tun.£ 57 sins £parniuii£ und wird sie ir. einer Ibt'-.e -oLrallel .^ur bildr/latte vor und zurUckbewe^t, -so- wird
"■ 9 QWi 2/ 1379
SADOr.JGINAL
auf der schicht 51 sin elektrostatisches Ladungsbild erzeugt, dessenVerteilung den -Perforationen der Schablone $6 entspricht« die schema tisch durch die -!v-förmige Öffnung 59 dargestellt sind.
V>itere '-Möglichkeiten zur -ausbildung elektrostatischer Bilder auf einer aufgeladenen Oberfläche sind in der elektrostatischen ■ Technik bekannt und können anstelle eines der dargestellten Verfahren angewendet' werden. Beispielsweise kann nahe der Schicht 51 eine speziell geformte ' jilektr-ode angeordnet -werden, die gegenüber der unterlage 53 mit einer Hochspannung ver~sorgt wird. Ferner kann das Ladungsbild auch durch einen i,lektrcnen-. strahl geringer Energie erzeugt werden. Für eine derartige Bildherstellung muß die Größe der elektrostatischen Ladung für jede gegebene Stoffzusammensetzung nur so groß sein, daß eine ' zumindest zweitweis'e Deformation gemäß dem vorstehend beschriebenen Verfahren erreicht wird.
Nach der Ausbildung des elektrostatischenBildes auf der -chicht 51 wird der Erweichungsschritt;» der im Zusammenhang, mit Fig. k beschrieben wurde, zur Entwicklung eines sichtbarenBildes auf der Platte 50 durchgeführt.
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand spezieller Stoffe und Einrichtungen beschrieben wurde» sollen -diese Äusführungsbeis ρ ie lein-: keiner V/eise einschränkend verstanden werden.
- Patentansprüche -
- 20 BAD ORiGiNAL

Claims (1)

  1. Patentansprüche:.
    1. Verfahren zur Herstellung eines sichtbarenBildes, dadurch gekennzeichnet, daß eine Bildplatte (10) mit einer verformbaren Schicht (12) und einer darauf angeordneten zerbrechlichen Schicht .(11) verwendet wird, und daß die Verformbare Schicht (12) entsprechend dem zu reproduzxerendenBild (17) elektrostatische verformt wird, wodurch die zerbrechliche Schicht (11) zerbrochen wird und sich deren Teile auf den verformten Flächenteilen der verformbaren Schicht (12) ansammeln. ...
    2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet» daß die zerbrichliche Schicht (11) lichtempfSndlich ist.
    3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die verformbare Schicht (12) aus einem thermoplastischen Stoff besteht. ■■ ■
    k. Verfahren nach einem der vorhergehendenÄnsprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die zerbrechliche Schicht (11) aus 'leuchen besteht.
    5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Anspüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Bildplatte (10) ein dem zu erzeugenden sichtbaren Bild entsprechendes elektrostatisches ladungsbilderzeugt wird, dessen Ladung zumindest so groß ist, daß sie eine Verformung der verformbarenSchicht (12) bei deren
    ■ 9-09842/1379
    - 21 -
    - ZX-
    ichun^ hervorruft.
    6. Verfahren nach nnspruch 5*"'dadurch gekennzeichnet, daß die IJi.ldplatte (10,). erhitzt wird, wodurch die verformbare -'wchieht (12)-in einer dem elektrostatischen Ladungsbild entsprechenden Verteilung erweicht "wird,· und die zerbrechliche Cchicht (11) zerbrochen wird, so daß sich derenTellchen ir: der ,reriarintenVerteilung ansammeln und auf der Sildulatte (1.) aas sichtbare Bild erzeugen.
    7»-... '-Verfahren nach Anspruch 5 cder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die "zerbrec'i liehe Schicht (11) llcntempfEndlich ist und daß das LadLin£-sbild durch aufbringen einer ^leichmäßlgen. eloktrestatischen Lad'un£ auf die zerbrechliche Schicht (11) und selektive Belihtung der zerbrechlichen Schicht (11) mit aktivierender Strahlung in einer dem .zuerzeugenden sichtbarenBild entsprechenden Verteilung hergestellt wird.
    8. Verfahren nach .-inspruch 7* dadurch gekennzeichnet, daß die aktivierende strahlung ein optisches HeIl-D uiikel-Li ent bild ■ dars teilt. ■
    9. Verfahren nach einem der verhergehenden' Ansprüche, .da-, durch gekennzeichnet, daß die- serbrechHehe.Schicht- (11) aus
    - besteht. ■ ·
    9:09842/ V379 6ADORlGiNAt
    IG. Verfahren, nach Anspruch 9» .dadurch re'-en^zeichnet, da;! die verfc/rmbare [,chlcht (12) aus einem hydrierten jlyzerclhar;;-oster besteht.
    11. Verfahren .lach- rvisnruch o, dadurch ^ekenuselehnet, dal cP-e verformung der verformbaren schicht (lt j; &*/■ den hellen Ctellor
    des Bildes stattfindet. . " . ■
    Ir.-. Verfaulten nach ..nsnrucli -i-, dadurch gekennzeichnet, daß nie Verfcrmun.c d-:-r verf ormbaren£chicht (12/ an den dunklen ο te Ilen des Bildes stattfindet. .-.·''
    13. Verfahren nach einem der vorher gehend on ."inspruche,. dadurch gekennzeior.-iet, ci&ji :.:i der verf ormbarer. schicht (1?/ winsi£:e ...rhöhunä.en und Vertiefuii^en gebildet werden, und d&u du-3 Teilchen der . aerbrechlicuo"\ Schicht (11) sich in den Vertiefungen ansammeln, wcdurch sich auf der Bildplatte (10) ei.nj, sichtbares Bild nrgibt. :
    lLt. Verfahre·, nach ansprach 1, dadurcü £ekennzefchnet, da^. die verfcrmbarä Schicht (^i, Fi^. 6) n.nctcleitifuhii· ist.
    15. Verfahren nach Anspruch l·1+, dadurch gekennzeichnet, daß a-jf die bildplatte (4v)' ■ ein.3 ^leiciiraäiige elektrostatische Lad.un·; auf£e„br6c}it yird, daß die photoleitfäiiige «verfcrmbare Schicht (h2) zur erzeugung eines elektrostatischen Laduu£s-
    -23
    9 09842/1379: ; , -BAD OBiGiNAL
    & -23 "
    bildes mit aktlvierender Strahlung belichtet v;ird, und daß sie dann erweicht wird, wodurch sie sich selektiv verformt, die zerbrechliche Cchlcht C+l) zerbricht und deren Teilchen sich selektiv in deiiVer tief ungen der verformten Schicht (1+2) ansammeln und die Bildplatte (Lt-ü) selektiv durchsichtig machen.
    16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die £r-veichung der verformbaren, ochicht C+2) durch Erwärmung bewirkt wird. :
    ^AD ORIGINAL 909842/1379 ^ '
    Lee rs
DE19671522720 1966-01-13 1967-01-13 Verfahren zur Herstellung eines Deformationsbildes Expired DE1522720C3 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US52042366A 1966-01-13 1966-01-13
US52042366 1966-01-13
DER0045049 1967-01-13

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1522720A1 true DE1522720A1 (de) 1969-10-16
DE1522720B2 DE1522720B2 (de) 1976-02-05
DE1522720C3 DE1522720C3 (de) 1976-09-16

Family

ID=

Also Published As

Publication number Publication date
FR1507656A (fr) 1967-12-29
NL6700396A (de) 1967-07-14
CH487436A (de) 1970-03-15
DE1522720B2 (de) 1976-02-05
SE328774B (de) 1970-09-21
GB1177371A (en) 1970-01-14
BE692613A (de) 1967-06-16
ES335453A1 (es) 1968-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69034082T2 (de) Herstellungsverfahren und Reproduktionsverfahren für Filter, und Verfahren zur Herstellung von photographischen Filtermaterialien
DE2554162A1 (de) Abbildungsverfahren
DE1943391A1 (de) Abbildungsverfahren
DE2053135A1 (de) Einrichtung zum Reproduzieren von Farbbildern
DE2110553A1 (de) Elektrofotografisches Abbildungsverfahren und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
DE1522634A1 (de) Verfahren und Aufzeichnungstraeger zur xerografischen Aufzeichnung von farbigen Bildern
DE2364967A1 (de) Lichtempfindliche platte fuer elektrophotographie
DE1522720A1 (de) Abbildungsverfahren
DE2045146A1 (de) Abbildungsverfahren
DE2164622C3 (de) Verfahren zum Abbilden eines elektrofotografisch hergestellten, transparenten Reliefbildes
DE1522720C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Deformationsbildes
DE1815217C3 (de) Abbild ungsverf ahren
DE2427626A1 (de) Abbildungsverfahren
DE1017911B (de) Material und Verfahren fuer die elektrostatische Bildherstellung und eine Einrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
DE2100184A1 (de) Abbildungsverfahren
DE1157478B (de) Elektrophotographisches Material
DE1817226C3 (de) Elektrofotograf Isches Auf zeichn ungsmaterial und Aufzeichnungsverfahren zu dessen Anwendung
DE2518581A1 (de) Verfahren zur herstellung einer vesikularen photographischen abbildung
DE2131718C3 (de) Verfahren zum Erzeugen eines elektrostatischen Potentialbildes von mehreren Vorlagen
DE1817221A1 (de) Bilderzeugungssystem
DE1950026A1 (de) Elektrofotografische Druck- oder Kopiervorrichtung
DE1572373C3 (de) Photoelektrosolographisches Abbildungsverfahren
DE2233878C2 (de) Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial
DE1964201C3 (de) Elektrophotographisehes Aufzeichnungsverfahren
DE1497068C3 (de) Elektrophotographische Kopiervorrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)