DE1498656A1 - Mikroanalysator-Abtastvorrichtung - Google Patents

Mikroanalysator-Abtastvorrichtung

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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/252Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
    • H01J37/256Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion

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Description

  • Mikroanalysator-Abtastvorrichtung Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Abtastung eines bestimmten Bereichs der Oberfläche einer Probe mittels eines Elektronenstrahls, beispielsweise für die Analyse von Proben aus Metall oder anderen stoffen durch Aussendung von Röntgenstrahlen unter dem Aufprall von Elektronen.
  • Eine solche Änalysatorvorrichtung enthält im wesentlichen: eine Elektronenquelle und eine geeignete Optik, die einen Elektronenstrahl auf einenPtnkt der Probe konzentriert; ein - ein Monochromator-Röntgenstrahlspektrometer und eine Vorrichtung, elche die Abtastung eines bestimmten Bereichs der Probe durch den Elektronenstrahl bewirkt.
  • Es sind Schnellabtastvorrichtungen gebaut worden, die mit Ablenkung des Elektronenstrahls arbeiten.
  • Diese Massnahme hat den Nachteil, dass die Fokussierungsbedingungen des Spektrometers verändert werden, so dass als Folge davon die"scheinbare Empfindlichkeit dieses Geräts für die gewählte Linie merklich verändert wird.
  • Unter d--r scheinbaren Empfindlichkeit versteht man das Verhältnis dr vom Empfänger Festgestellten Intensität zu der Intensität dr Röntgenstrahlung der Probe im Gegensatz zu der Eigenempfindlichkeit des Detektors, welche dem Verhältnis der vom Empfänger festgestellten Intensität zu der am Empfäi'ger ankommenden Strahlungsintensität entspricht und konstant ist.
  • Man kann mit einer konstanten scheinbaren Empfindlichkeit arbeiten, wenn die Abtastung der Probe ausschliesslich durch mechanische Verschiebung der Probe erfolgt, während der Monochromatorkristall und die Elektronenoptik feststehend bleiben. Eine solche Abtastung ist aber zwangsläufig langsam, weil die Abtastgeschwindigkeit durch die Trägheit der Probe und ihrer mechanischen Betätigungsvorrichtung Betätigungsvorrichtung begrenzt ist.
  • Das Ziel der erfindung ist die Schaffung einer Abtastvorrichtung, in welcher die Vorteile der mechanischen und der elektronischen Abtastung kombiniert sind, ohne dass deren Nachteile auftreten. erfindungsgemässe Lösung ermöglicht die durchführung einer schnellen Abtastung ohne merkliche Veränderung der Pokussierungsbedingungen des Spektrometers. Sie stützt sich auf die Peststellung, dass in bestimmten Spektrometern eine Vorzugsrichtung besteht, in welcher die Röntgenstrahlenquelle sich innerhalb vernünftiger Grenzen nach beiden eiten von der optimalen Einstellung entfernen kann, ohne dass die scheinbare Empfindlichkeit des Geräts für die analysierte Linie merklich verändert wird.
  • Erfindungsgemäss erfolgt die Blektronenstrahlabtastung eines bestimmten Bereichs der Probe durch die Überlagerung von zwei verschiedenen Bewegungen: 1.) Ein Elektronstrahlablenksystem bewirkt die schnelle Verschiebung des Auftreffpunktes des Elektronenstrahls auf der Oberfläche der Probe in der Vorzugsrichtung in Bezug auf das Spektrometer.
  • 2.) Eine mechanische Vtrstellvorrichtung für die Probe bewirkt eine translatorische Bewegung der Oberfläche der der Probe in ihrer Eigenebene und in einer Richtung, die senkrecht zu der Vorzugsrichtung steht, oder zumindest davon verschieden und nicht parallel dazu ist.
  • Die Erfindung wird nachstehend an Hand der Zeichnung beispielshalber erläutert. Darin zeigen: Fig. 1 das Prinzipschema eines Röntgenstrahlanalysators, Fig.2 ein Diagramm der Änderungen der scheinbaren Empfindlichkeit des Bpektrometers als Funktion der Änderungen des Einfallswinkels der Röntgenstrahlung bei einer Verschiebung des Auftreffpunktes des Elektronenstrahls in einer Richtung, die im wesentlichen senkrecht zur Vorzugsrichtung liegt, Fig.3 ein Schema zur Erläuterung des erfindungsgemässen Abtastprinzips, Fig .4 ein ausführungsbeispiel der halbelektronischen Abtastvorrichtung nach der Erfindung und Fig.5 ein Schaltschema der elektrischen Schaltungsanordnung für die Vorrichtung von Fig. 4.
  • Fig. 1 Fig. 1 zeigt einen Punkt 0 der Oberfläche der Probe, die in der Ebene liegt, welche senkrecht zu der Richtung Oz steht, in welcher ursprünglich der Elektronenstrahl ankommt. Die Einfallsebene des analysierten Röntgenstrahlenbündels ist die Ebene zOy. Die Zeichnung zeigt einen Analysatorkristall A und die Empfangs vorrichtung R, die beispielsweise ein Pronortionalzähler oder ein Szintillationszähler ist. Diese verschiedenen Teile sind so angeordnet und ausgerichtet, dass beim Auftreffen der Röntgenstrahlung der Probe auf dem Kristall A unter dem Einfallswinkel 40 die vom Kristall A gebrochene Strahlung im Gerät R fokussiert wird.
  • In der Darstellung ist zu erkennen, dass eine Verschiebung des Auftreffpunkts des Elektronenstrahls auf der Probe entlang der Achse Oy vom Punkt O zum Punkt M eine Änderung des Einfallswinkels um den Betrag # # zur Folge hat, welcher in erster Ordnung von der Verschiebung OM abhängt, während eine Verschiebung des Auftreffpunkts von 0 nach M entlang der Achse Ox eine (nicht dargestellte) Änderung # #' des Winkels #o zur Folge hätte, welche nur in sweiter Ordnung von der Verschiebung ON abhängt, also in Anbetracht der geringen Abmessungen der untersuchten Bereiche vernachlveigbar ist.
  • Die Die Zeichenebene yOz soll nachstehend als "Spektrometerebene" bezeichnet werden.
  • In Fig.2 sind auf der Ordinate die Änderungen der scheinbaren Empfindlichkeit 5 des Empfängers als Funktion der auf der Abszisse aufgetragenen Änderungen des Winkels Q für eine Verschiebung des Auftreffpunkts entlang der Achse Ox für die Linie NiKSi für eine besondere Spektrometerausführung dargestellt.
  • Es ist zu erkennen, dass für den betreffepden Fall eine Änderung # # des nfallawinkels Q vom Wert #o aus, für welchen das Spektrometer eingestellt ist, um eine Minute eine Schwächung der scheinbaren Empfindlichkeit um 80% hervorrufen kann.
  • Fig.3 zeigt einen Pfeil 1, der einen Elektronenstrahl darstellt, und ein elektrostatisches Ablenkplattenpaar 2, deren Achse parallel zur Achse Ox liegt, und welche eine Verschiebung des Elektronen strahls in der Ebene zOx bewirken, welche eine Vorzugsrichtung Ox des Spektrometers enthält. Wie zuvor erläutert wurde, kann der Auftreffpunkt des Elektronenstrahls auf der Probe bei feststehender Probe in der Richtung Ol verschoben werden, ohne dass dadurch die scheinbare Empfindlichkeit des Empfängers beeinträchtigt wird.
  • Zwischen Zwischen der Probe 3 und dem (nicht dargestellten) Empfänger ist der Analysatorkristall 4 angeordnet.
  • Eine mechanische Vorrichtung ermöglicht eine Verschiebung der Probe in der Richtung Oy.
  • Es ist zu bemerken, dass Vorzugsrichtungen bestehen können, welche nicht in der Ebene der Probe enthalten sind. So ist insbesondere die Strahlungsrichtung Ox -selbst eine Vorzugsrichtung. Ganz allgemein ist Jede Gerade eine Vorzugsrichtung, welche vom Punkt 0 ausgeht und in der Ebene enthalten ist, welche durch die Strahlungsrichtung Ol und die Senkrechte auf die die einfallenden und reflektieSen Röntgenstrahlen enthaltende Ebene definiert ist. Die verwendete Vorzugsrichtung ist vorzugsweise die Schnittlinie zwischen dieser Ebene und der Oberfläche der Probe. Es isttjedoch zu bemerken, dass die Richtung der elektronischen Abtastung etwas von der Vorzugsrichtung abweichen kann, ohne dass dadurch der Betrieb des Analysators praktisch beeinträchtigt wird. So kann man beispielsweise eine Abweichung der angewendeten Richtung von der zuvor definierten idealen Richtung von solcher Grösse zulassen, dass. der Cosinus des Winkels zwischen diesen beiden Richtungen grösser als 0,97 ist.
  • Die in Fig. 4 dargestellte Vorrichtung enthält wie zuvor ein elektrostatisches Ablenkplattenpaar 48, deren Achse parallel parallel zur Richtung Ox liegt, und welches die Abtastung einer Probe 41 entlang der Richtung Ox bewirkt, wobei derNttelpunkt des abgetasteten Bereichs der Probe im Punkt 0 liegt. Die Zeichnung zeigt ferner den Analysator kristall 49 und das Fenster 410 des für die Röntgenstrahlen empfindlichen Empfängers Die Probe 41 liegt auf einem Probenträgertisch 42, der von einem feststehenden Gestell 44 über zwei biegsame Lamellen 43 getragen wird. Die eine Lamelle 43 ist mit einem Ende eines starren Hebels 45 verbunden, dessen anderes Ende eine Spule 46 trägt, die im Luftspalt eines Permanentmagnets 47 liegt und von einem Strom i durchflossen wird.
  • Die Xeile 42 bis 47 bewirken zusammen eine mechanische Bewegung der Probe in der Richtung Oy in folgender Weise: Der Ablenksteuerstrom i für die Richtung Oy bewirkt eine Bewegung der Spule 46 in der Richtung Oy. Da diese spule fest mit dem starren Hebel 45 verbunden ist, werden dadurch die biegsamen Lamellen 45 mitgenommen. Wenn diese Lamellen ausreichend lang gegen die in dieser Richtung gewünschte maximale Ablenkung ß sind, entspricht die Bewegung der Oberfläche des Tischs und damit der Probe sehr angenähert einer translatorischen Bewegung in der Richtung Oy in der Ebene xOy.
  • Fig. 5 Fig.5 zeigt ein Schaltungsschema, das bei einem Spektrometer nach Fig.4 folgendes ermöglicht : 1.) Die Abtastung der Probe in Richtung der Achsen Ox und Oy, 2.) zu ) die Ablenkung eines Katodenstrahloszillographen synchron mit den zuvor genannten Abtastbewegungen und 3.) die Helligkeitsmodulation des Lichtpunktes des Oszillographen durch dB vom Empfänger festgestellte Intensität. Man erhält dadurch ein Bild des abgetasteten Bereichs für die betreffende Röntgenlinie.
  • Fig.5 zeigt einen 50 Hz-Sägezahngenerator 51, der über einen Verstärker 52 einen Übertrager 510 speist.
  • Eine Sekundärwicklung 511 dieses tbertragers ist mit dem Ablenkplattenpaar für denAbtastelektronenstrahl verbunden, während die andere Sekundärwicklung 512 mit den Vertikalablenkplatten 513 der Katodenstrahlröhre 514 verbunden ist.
  • Ein 5kHz-Sinusspannungsgenerator 53 speist nach sagezahnförmiger Modulation mit 1/12 Hz durch ein mit 6U/min angetriebenes lineares Variometer 54, einen Verstärker 55 Verstärker 55. An den Ausgang dieses Verstärkers ist ein Übertrager 515 angeschlossen, dessen eine Sekundärwicklung 516 nach Demodulation in einer schematisch durch die Gleichrichter 517 und 518, die Widerstände 519, 520, 521 und die Kapazität 522 dargestellte Xemodulationsschaltung die Probenträgerspule, wihrend die andere Sekundärwicklung 523 gleichfalls nach Demodulation in einer durch die Dioden 524, 525, die Widerstände 526, 527 und die Kondensatoren 528, 529 dargestellten Demodulatorschaltung die Horizontalablenkplatten 530 der Katodenstfahlröhre 514 speist.
  • Die Ablenkungen in den Richtungen Ox und Oy sowie die Bildablenkungen können vorzugsweise nach einem symmetrischen Sägezahngesetz (Dreieckspannung) anstatt nach einem Sägezanngesetz mit schnellem Rücklauf erfolgen.
  • Dadurch wird einerseits vermieden, dass die Probe zu plötzlichen Beschleunigungen unterworfen wird, und andrerseits können übertrager mit verhältnismässig kleiner Bandbreite verwendet werden.
  • Bei 58 ist das Röntgenstrahlspektrometer angedeutet, das an eine Impulszähleinrichtung 59 angeschlossen ist, welche nach entsprechender Verstärkung und Impulsformung Impulse zur Modulation der Helligkeit des Lichtflecks der Katodenstrahlröhre abgibt.
  • Die Die Erfindung ist natürlich nicht auf das dargestellte und beschriebene Ausführungsbeispiel beschränkt. Insbesondere kann die schnelle Ablenkung auch in einer anderen Vorzugerichtung als der zuvor beschriebenen erfolgen, falls eine solche andere Vorzugsrichtung besteht.
  • Patent ansprüche

Claims (8)

  1. P'atentansprüche 1. Vorrichtung zur Abtastung eines Bereichs der Oberfläche einer Probe in einer Mikroanalysatoreinrichtung mit einem sPektrometer, in welchem die Probe beim Auftreffen eines Elektronenstrahls , der in einer ersten Richtung ankommt, eine Strahlung in einer zweiten Richtung abgibt, welche anschliessend in eine dritte Richtung reflektiert wird, gekennzeichnet durch eine erste Ablenkvorrichtung, (48, Fig.4), welche die Verschiebung des Elektronenstrahle entlang einer vierten Richtung bewirkt, in welcher der Elektronenstrahl verschoben werden kann, ohne dass dadurch die scheinbare Empfindlichkeit des Spektrometers merklich verändert wird, und durch eine zweite Ablenkvorrichtung (41 bis 47, Filz 4), welche eine Verschiebung der Probe in einer anderen Richtung bewirkt, die in der Ebene der Probe enthalten ist und die vierte Richtung schneidet.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, ddurch gekennzeichnet, dass die vierte Richtung durch die Schnittlinie zwischen der Ebene der Probe und der Ebene definiert ist, welche durch die zweite Richtung verläuft und senkrecht zu der Ebene steht, die durch die zweite und die dritte Richtung definiert ist.
  3. 30 3. Vorrichtung nach Anspruch dadurch gekennzeichnet, dass die vierte Richtung im wesentlichen senkrecht zu der ersten und zu der zweiten Richtung steht.
  4. 4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die vierte Richtung einen Winkel, dessen Cosinus grösser als 0,97 ist, mit der Ridtung bildet, welche durch die SchnittliniS der Ebene der Probe mit der Ebene ifiniert ist, welche durch die zweite Richtung verläuft und senkrecht zu der Ebene steht, die durch die zweite und die dritte Richtung definiert ist.
  5. 5. VOrrichtung nach einem der vorhergehenden AnsprUche, dadurch gekennzeichnet, dass die weitere Richtung senkrecht zu der vierten Richtung steht.
  6. 6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Ablenkvorrichtung einen Probenträgertisch, ein Paar mit dem Tisch verbundene flexible Lamellen und Einrichtungen zur Abbiegung der Lamellen in der weiteren Richtung enthält.
  7. 7. VOrrichtung nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch ein erstes, festatehendes Gestellglied, an welchem eine der der Lamellen befestigt ist, ein zweites Gestellglied, das beweglich gegen das erste uestellglied ist und mit der anderen biegsamen Lamelle verbunden ist, und durch eine elektromechanische Vorrichtung, welche die Bewegung des zweiten Gestellglieds in der weiteren Richtung bewirkt.
  8. 8. Vorrichtung nach Anspruch 5, oder einem der folgenden Ansprüche unter Rtickbeziehung auf Anspruch 5, gekennzeichnet durch eine Katodenstrahlröhre mit einem Vertikalablenkplattenpaar und einem Horizontalablenkplattenpaar, deren Elektronenstrahlsystem mit dem Empfänger des Spektrometers verbunden ist, Einrichtungen zur Zuführung einer ersten Srigezahnspannung zu der Ablenkvorrichtung für den Elektronenstrahl des Analysators und synchron dazu zu den Vertikalablenkplatten der Katodenstrahlröhre, und durch Einrichtungen zur Zuführung einer zweiten Sagezahnspannung zu der elektromechanischen Verstellvorrichtung für die Probe und synchron dazu zu den Horizontalablenkplatten der Katodenstrahlröhre.
DE19641498656 1963-04-25 1964-04-24 Verfahren und Vorrichtung zum schnellen Abtasten einer Zone der Oberfläche einer Probe mit einem Elektronenstrahl zum Zweck der Röntgenmikroanalyse Expired DE1498656C3 (de)

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DE1498656B2 DE1498656B2 (de) 1973-06-28
DE1498656C3 DE1498656C3 (de) 1974-01-24

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DE19641498656 Expired DE1498656C3 (de) 1963-04-25 1964-04-24 Verfahren und Vorrichtung zum schnellen Abtasten einer Zone der Oberfläche einer Probe mit einem Elektronenstrahl zum Zweck der Röntgenmikroanalyse

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US3333100A (en) * 1964-07-06 1967-07-25 United States Steel Corp Coating thickness measuring apparatus wherein a scanning electron beam produces characteristic x-rays detected by plural detectors
AT289428B (de) * 1967-10-24 1971-04-26 Gerhard Dr Doerfler Einrichtung zur automatischen Fokussierung von Röntgenspektrometern für Elektronenstrahl-Mikrosonden

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GB1030042A (en) 1966-05-18
DE1498656C3 (de) 1974-01-24
DE1498656B2 (de) 1973-06-28
FR1366011A (fr) 1964-07-10

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