DE1302192B - - Google Patents

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DE1302192B
DE1302192B DENDAT1302192D DE1302192DA DE1302192B DE 1302192 B DE1302192 B DE 1302192B DE NDAT1302192 D DENDAT1302192 D DE NDAT1302192D DE 1302192D A DE1302192D A DE 1302192DA DE 1302192 B DE1302192 B DE 1302192B
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nickel
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plating
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phosphorus
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • C23C18/34Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
    • C23C18/36Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/001Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

TabelleTabel

tt GG Phosphorphosphorus Menge an
reinem Ni
im Nieder-
Amount of
pure Ni
in the low
Aus dem Bad
nieder
geschlagener
From the bathroom
low
beaten
Minu
ten
Minu
th
(mg)(mg) %% All » X ~ Ά\^^*\^ί
schlag (mg)
All » X ~ Ά \ ^^ * \ ^ ί
impact (mg)
Prozentsatz
des Ni
percentage
of the Ni
33 399399 8,48.4 365365 1818th 33 370370 Q Q
Ο,Ο
QQ
Ο, Ο
337337 1717th
44th 394394 9,09.0 359359 1818th 55 352352 10,710.7 314314 1616 66th 255255 12,812.8 222222 1111 88th 170170 13,713.7 147147 7,57.5 1010 8080 19,119.1 6565 33

Gesamtmenge des Ni in %
Patentanspruch:
Total amount of Ni in%
Claim:

90,590.5

Zum Widerstandsschweißen von Metallteilen auf diese aufgebrachte Zwischenschicht hohen elektrischen Widerstandes, wobei bei wärmeempfindlichen Teilen die Schicht ein Nickel-Phosphor-Belag mit mindestens 12% Phosphor ist, der auf dem Wege der stromlosen Abscheidung aus einem einen Säure neutralisierenden Komplexbildner auf Aminbasis enthaltenden Bad erzeugt ist, nach Patentanmeldung P 14 40 528.8-34, dadurch gekennzeichnet, daß der Belag nur im äußeren Bereich mindestens 12% Phosphor enthält.For resistance welding of metal parts on this applied intermediate layer high electrical resistance, the layer being a nickel-phosphorus coating in the case of heat-sensitive parts with at least 12% phosphorus, which is generated by electroless deposition from an acid-neutralizing complexing agent is produced on an amine-based bath, according to patent application P 14 40 528.8-34, characterized in that the covering only in the outer area is at least 12% Contains phosphorus.

Claims (1)

Dje Patentanmeldung P 14 40 528.8-34 betrifft eine zum Widerstandsschweißen von Metallteilen auf diese auf gebrachteZwischenschichthohenelektrischen Widerstandes, wobei bei wärmeempfindlichen Teilen die Schicht ein Nickel-Phosphor-Belag mit mindestens 12°/0 Phosphor ist, der auf dem Wege der stromlosen Abscheidung aus einem einen Säure neutralisierenden Komplexbildner auf Aminbasis enthaltenden Bad erzeugt ist.DJE patent application P 14 40 528.8-34 relates to a resistance welding of metal parts on them on placed between the high resistance layer, wherein in the heat-sensitive parts of the layer is a nickel-phosphorus coating of at least 12 ° / 0 phosphor which a by way of electroless plating of an acid-neutralizing amine-based complexing agent is produced. Eine Verbesserung dieser Zwischenschicht kann erreicht werden, wenn gemäß der Erfindung der Belag nur im äußeren Bereich mindestens 12% Phosphor enthält.An improvement in this intermediate layer can be achieved if, according to the invention, the covering contains at least 12% phosphorus only in the outer area. Dadurch, daß das Vernickeln chemisch und erschöpfend erfolgt, ergbit sich eine Nickelschicht, die von innen nach außen einen zunehmenden Phosphorgehalt hat, z. B. innen 8 bis 9 % und außen 15 bis 20°/0. Dieser Aufbau der Nickelschicht, bei dem die Außenseite den niedrigsten Schmelzpunkt aufweist, hat den Vorteil, daß mit einem — gegenüber der Zwischenschicht nach dem Hauptpatent — noch niedrigeren Wärmeaufwand zuverlässig dicht geschweißt werden kann, weil nicht mehr das gesamte Materialvolumen beider Zwischenschichten im Schweißbereich auf den teigigen bzw. flüssigen Zustand erhitzt werden muß, sondernbereits eine die Verflüssigung der beiden einander berührenden äußeren Schichtbereiche (mit ihrem — wegen des höheren P-Gehalts — etwas niedrigeren Schmelzpunkt, höheren elektrischen Widerstand und ihrer niedrigeren Wärmeleitfähigkeit) sicherstellende Wärmezufuhr für eine absolut dichte Schweißverbindung genügt.The fact that the nickel-plating is done chemically and exhaustively, a nickel layer resulted, which from the inside to the outside has an increasing phosphorus content, e.g. B. inside 8 to 9% and outside 15 to 20 ° / 0 . This structure of the nickel layer, in which the outside has the lowest melting point, has the advantage that - compared to the intermediate layer according to the main patent - an even lower heat input can be reliably and tightly welded because the entire material volume of both intermediate layers in the welding area is no longer on the pasty or liquid state has to be heated, but a heat supply ensuring the liquefaction of the two contacting outer layer areas (with their - due to the higher P content - slightly lower melting point, higher electrical resistance and their lower thermal conductivity) is sufficient for an absolutely tight welded joint . Erwähnenswert ist auch die beachtliche Beständigkeit der für die betreffende Anwendung niedergeschlagenen Nickelschicht mit hohem Phosphorgehalt gegen Wasserstoffsuperoxyd, was bei der Herstellung von Transistorhüllen wichtig ist, denn Transistorelemente müssen vor Abschluß der Hülle mit Wasserstoffsuperoxyd behandelt werden, was viele Metalle jedoch nicht vertragen.It is also worth mentioning the considerable persistence of the precipitated for the application in question Nickel layer with high phosphorus content against hydrogen peroxide, which is the case during manufacture of transistor shells is important, because transistor elements must be sealed with hydrogen peroxide before the shell treated, which many metals cannot tolerate. Die erwünschte Schichtdicke des Nickels, z. B. 2 'bis 5 Mikron je nach der Gestaltung der zu verschweißenden Teile, läßt sich dadurch einstellen, daß man bei der Herstellung der Vernickelungsflüssigkeit von der jeweils erforderlichen Nickelsalzmenge ausgeht. Die Temperatur des Vernickelungsbades wird vorzugsweise nicht höher als etwa 85°C gewählt, weil sonst auch Nickel auf dem Material der Durchführung abgesetzt wird, das dann vor der Verschweißung durch eine gesonderte Bearbeitung entfernt werden muß. Eine Mindesttemperatur von 65° C ist erforderlich, um eine hinreichende Abscheidegeschwindigkeit des Nickels zu erzielen und mindestens 90 % des in Lösung vorhandenen Nickels niederzuschlagen.The desired layer thickness of the nickel, e.g. B. 2 'to 5 microns depending on the design of the one to be welded Parts can be adjusted by making the nickel plating fluid is based on the amount of nickel salt required in each case. The temperature of the nickel plating bath is preferably no higher than about 85 ° C., because otherwise there will also be nickel on the material of the bushing is deposited, which must then be removed by a separate processing before welding. A minimum temperature of 65 ° C is required to achieve a sufficient deposition rate Achieve nickel and deposit at least 90% of the nickel present in solution. Bei der gleichzeitigen Anbringung einer Nickelschicht auf eine Vielzahl von Teilen empfiehlt es sich, zum Erhalten einer regelmäßigen Bedeckung die Vernickelung in einer umlaufenden Trommel durchzuführen. When applying a nickel layer to a large number of parts at the same time, it is advisable to to obtain a regular coverage, nickel-plating is carried out in a rotating drum. Das Verfahren nach der Erfindung zur Herstellung eines Niederschlages, der durch erschöpfende chemische Vernickelung erhalten ist und der einen zunehmenden Phosphorgehalt aufweist, wird nachstehend an Hand eines Beispieles näher erläutert.The method of the invention for producing a precipitate by exhaustive chemical Nickel plating is obtained and which has an increasing phosphorus content, is hereinafter referred to an example explained in more detail. Es fand ein Bad Verwendung, das auf einen halben Liter 2 g Nickel in Form von Nickelchlorid und weiterA bath was used that contained 2 g of nickel in the form of nickel chloride for half a liter and further ίο 0,22 Mol/l Natriumhypophosphit, 0,4 Mol/l Essigsäure und 0,3 Mol/l Natriumazetat enthielt. Der pH-Wert der Lösung war 4,5. In dieses Bad, das auf eine Temperatur von 85° C erhitzt wurde, wurde eine gewogene phosphorfreie Metallplatte eingebracht, während einer bestimmten Zeit (i) im Bad gehalten und dann getrocknet und wieder gewogen. Auf diese Weise wurde die Menge an niedergeschlagenem Nickel ermittelt. Danach wurde der Phosphorgehalt des Niederschlages analytisch bestimmt. Durch Einsatz weiterer Platten in das Bad während unterschiedlicher Zeiten (i), bis das Bad zu etwa 9O°/o erschöpft war, und durch Analyse des Niederschlages wurde nachstehende Tabelle über die während der angegebenen Zeiträume nacheinander aus dem Bad niedergeschlagenen Nickelmengen (G) und die Phosphorgehalte dieser Niederschlagsmengen ermittelt.ίο 0.22 mol / l sodium hypophosphite, 0.4 mol / l acetic acid and 0.3 mol / l sodium acetate. The pH of the solution was 4.5. In this bathroom that is on a temperature of 85 ° C was heated, a weighed phosphorus-free metal plate was inserted, held in the bath for a specified time (i) and then dried and weighed again. To this The amount of nickel deposited was determined in this way. After that, the phosphorus content was of the precipitation determined analytically. By using more panels in the bathroom during different Times (i) until the bath was about 90% exhausted and by analyzing the precipitate the table below was successively removed from the bath over the periods indicated The amount of nickel deposited (G) and the phosphorus content of these amounts of precipitation are determined.
DENDAT1302192D Pending DE1302192B (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1302192B true DE1302192B (en) 1970-10-15

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ID=620887

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DENDAT1302192D Pending DE1302192B (en)

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DE (1) DE1302192B (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3518867A1 (en) * 1984-05-24 1985-12-19 Aisin Seiki K.K., Kariya, Aichi GALVANIZING BATH FOR ELECTRICITY GALVANIZING FOR THE FORMATION OF A NICKEL ALLOY COATING WITH HIGH PHOSPHORUS CONTENT
US4714804A (en) * 1985-02-08 1987-12-22 Aisin Seiki Kabushikikaisha Rotary switch having rotary contacts with an amorphous alloy coating

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3518867A1 (en) * 1984-05-24 1985-12-19 Aisin Seiki K.K., Kariya, Aichi GALVANIZING BATH FOR ELECTRICITY GALVANIZING FOR THE FORMATION OF A NICKEL ALLOY COATING WITH HIGH PHOSPHORUS CONTENT
US4714804A (en) * 1985-02-08 1987-12-22 Aisin Seiki Kabushikikaisha Rotary switch having rotary contacts with an amorphous alloy coating

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