DE1199584B - Verfahren zur Stabilisierung eines sich selbst zersetzenden alkalischen Bades zur chemischen Abscheidung von Kupferueberzuegen - Google Patents

Verfahren zur Stabilisierung eines sich selbst zersetzenden alkalischen Bades zur chemischen Abscheidung von Kupferueberzuegen

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DE1199584B
DE1199584B DEG26750A DEG0026750A DE1199584B DE 1199584 B DE1199584 B DE 1199584B DE G26750 A DEG26750 A DE G26750A DE G0026750 A DEG0026750 A DE G0026750A DE 1199584 B DE1199584 B DE 1199584B
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copper
solution
oxygen
bath
formaldehyde
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DEG26750A
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Maynard Crosby Agens
Robert Michael Lukes
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General Electric Co
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General Electric Co
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/38Coating with copper
    • C23C18/40Coating with copper using reducing agents
    • C23C18/405Formaldehyde

Description

  • Verfahren zur Stabilisierung eines sich selbst zersetzenden alkalischen Bades zur chemischen Abscheidung von Kupferüberzügen Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Stabilisierung eines sich selbst zersetzenden alkalischen Bades zur chemischen Abscheidung von Kupferüberzügen auf metallischen und nichtmetallischen Unterlagen mit einem Gehalt an Kupferionen, Formaldehyd und einem Komplexbildner zur vollständigen komplexen Bildung der Kupferionen.
  • Kupferionen, Formaldehyd und einen Komplexbildner zur vollständigen komplexen Bindung der 'Kupferionen enthaltenden Bäder zur chemischen Abscheidung von Kupferüberzügen sind bekannt. Bei der chemischen Verkupferung tritt dabei folgende Reaktion auf: Läßt man jedoch das Verkupferungsbad bei Zimmertemperatur stehen, dann tritt die folgende Reaktion auf: Es fällt also Kupferoxydul aus, das durch das alkalische Formaldehyd weiter zu metallischem Kupfer reduziert wird. Die Lösung zersetzt sich also im Laufe der Zeit und wird wertlos.
  • Es ist bereits ein Verfahren zur chemischen Vernickelung bekannt, bei welchem in das Vernickelungsbad von außen ein inertes Gas eingeleitet wird, wodurch ein glatter und heller Nickelüberzug erzielt wird.
  • Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein Kupferionen, Formaldehyd und einen Komplexbildner enthaltendes Verkupferungsbad so zu stabilisieren, daß es längere Zeit ohne Zersetzung aufbewahrt werden kann.
  • Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe wird nun dadurch gelöst, daß ein sauerstoffhaltiges Gas durch das Bad geleitet wird. Es kann reiner Sauerstoff' oder mit neutralen Gasen verdünnter Sauerstoff; beispielsweise Luft, zur Anwendung kommen.
  • Es scheint, daß Sauerstoff entweder die Bildung von Kupferoxydul verhindert oder das Kupferoxydul so rasch in Kupferverbindungen rückoxydiert, daß kein sichtbarer Niederschlag entsteht. Dieser Vorgang wird durch die Beobachtungen bestätigt, daß die Verkupferungslösungen klar bleiben und selbst nach längerer Zeit .nicht ausfallen, wenn sie mit sauerstoffhaltigem Gas durchblasen worden sind. Wird der Gasstrom abgeschaltet, so bildet sich mit der Zeit ein Niederschlag, der fast unmittelbar nach erneuter Gaszufuhr verschwindet. Wird der Beginn der Gaszufuhr so lange verzögert, daß das Kupferoxydul in Kupfer umgewandelt wird, löst sich das Kupfer nicht mehr auf. Soll die Beständigkeit auch für diesen Fall gewahrt werden, so muß das Kupfer von der Lösung durch Filtrieren, Zentrifugieren oder Dekantieren getrennt werden.
  • Die besten Ergebnisse werden erzielt, wenn das Gas in sehr kleine Bläschen zerteilt ist, die gleichmäßig in der Lösung verteilt werden. Ohne eine solche gleichmäßige Dispersion des Gases bildet sich ein Niederschlag in den Teilen der Lösung, die nicht mit dem Gas in Berührung kommen. Dieser Zustand läßt sich sofort durch lebhaftes Rühren od. dgi. beheben. Man hat herausgefunden, daß das beste Verfahren zur Durchführung der Erfindung darin besteht, daß man den Gasstrom unter lebhaftem Rühren durch einen Disperser einleitet, z. B. durch eine gefrittete Glasscheibe oder eine poröse Keramikscheibe, so daß das Gas in sehr kleine Bläschen zerteilt wird. Da alle Metalle, die nicht von den alkalischen Lösungen angegriffen werden, katalytisch auf die Kupferlösung wirken, müssen der Disperser und die Gaszuleitung aus nichtmetallischen Stoffen bestehen. Selbstverständlich können mehrere Gasströme in die Lösung eingeleitet werden. Vorausgesetzt, daß die Gaszuleitungen in richtiger Weise angebracht sind und das Volumen des einströmenden Gases ausreichend ist. ist keine weitere Bewegung der Lösung erforderlich, da der Gasstrom bzw. die Gasströme selbst die notwendige Bewegung der Lösung hervorrufen. Die gesamte flüssige Phase sollte stets mit sauerstoffhaltigem Gas gesättigt sein. In Verbindung mit dem Durchblasen können Filter zur Entfernung aller festen Bestandteile verwendet werden. Es läßt sich ein überatmosphärischer Druck anwenden, der aber nicht erforderlich ist. Unteratmosphärischer Druck ist nicht zu empfehlen, da er keine ausreichende Sättigung der Lösung mit dem sauerstoffhaltigen Gas gestattet.
  • Die Kupferlösung kann auch mit dem Gas behandelt werden, indem man dünne Filme der Lösung auf die zu metallisierenden Unterlagen fließen läßt. Auf diese Weise wird ein kleines Volumen der Flüssigkeit einem großen Volumen des sauerstoffhaltigen Gases ausgesetzt. Durch entsprechende Neigung der Unterlagen, die ein rasches Fließen der Flüssigkeit verursacht, läßt sich die notwendige Bewegung ebenfalls erreichen. Die zu überziehenden Unterlagen können stufenweise angeordnet werden, so daß die Flüssigkeit in Kaskaden von der einen auf die andere fällt. Wird eine nichtmetallische Sprühvorrichtung benutzt, so kann die Verkupferungslösung wie ein feiner Nebel aufgesprüht werden und das Durchblasen ersetzen. Bei jeder der genannten Ausführungsformen ist es gewöhnlich bei Verwendung eines Flüssigkeitsbehälters erforderlich, daß die Flüssigkeit im Behälter durchblasen wird. Auch hier kann ein Filter zur Beseitigung aller festen Bestandteile eingeschaltet werden.
  • Da die Menge an tatsächlich verbrauchtem Sauerstoff außerordentlich gering ist, ist die Konzentration des Sauerstoffs in dem verwendeten Gasgemisch nicht entscheidend. Der benötigte Anteil an Sauerstoff wird durch die Konzentration der Kupferionen bedingt. Diese Menge kann durch schwach konzentrierten Sauerstoff, der mit verhältnismäßig großer Geschwindigkeit eingeleitet wird, oder durch hochkonzentrierten Sauerstoff, der langsam eingeleitet wird, geliefert werden. Aus wirtschaftlichen Erwägungen ist die Verwendung eines Gases, das weniger als etwa 20% Sauerstoff enthält, das also weniger Sauerstoff enthält als Luft, nicht vorteilhaft, da Luft das billigste und ein jederzeit erhältliches sauerstoffhaltiges Gas liefert. Sauerstoff aus einer Sauerstoffbombe unter komprimiertem Druck ermöglicht eine einfache und bequeme Gaszufuhr, wenn keine anderen Möglichkeiten vorhanden sind oder wenn die Verkupferungsvorrichtung leicht beweglich sein soll. Die mit reinem Sauerstoff gewonnenen Ergebnisse waren jedoch den mit Luft erzielten nicht überlegen. Das sauerstoffhaltige Gas muß frei von D1en, Fetten und anderen Verunreinigungen sein, die die Güte der erzeugten Verkupferung beeinträchtigen würden. Der Behälter für die Kupferlösungen sollte so angeordnet sein, daß die austretenden Gase nur eine minimale Menge an Reagenzien mit sich führen können.
  • Die Erfindung liefert Bäder, welche eine chemische Verkupferung in Form eines glatten, haftenden Hberzuges bewirken. Die Bäder sind alkalisch und enthalten Formaldehyd oder andere Stoffe, die Formaldehyd enthalten, z. B. Paraformaldehyd, sowie komplex gebundene Kupferionen, die eine Ausfällung von Kupferhydroxyd verhüten.
  • Die Kupferionen der Lösung können Komplexsalze mit Tartraten oder Salicylaten bilden und mit einem Carbonat stabilisiert werden, das einer alkalischen Lösung mit bestimmter Hydroxylionenkonzentration beigegeben wird, d. h. mit einem pH-Wert zwischen 10 und 14. Für diesen Zweck geeignete Verbindungen sind: Weinsäure, Natriumtartrat, Kaliumtartrat, Kupfertartrat, Natrium-Kalium-Tartrat, Salicylsäure, Natriumsalicylat und Kupfersalieylat, die mit Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumcarbonat, Kaliumbicarbonat, Kupferca.rbonat und basischem Kupfercarbonat stabilisiert werden können.
  • Die bevorzugte Konzentration der Bestandteile der Verkupferungslösung bei einer Temperatur zwischen 20 und 100°C werden in Tabelle I aufgeführt, die die maximale und minimale Konzentration angibt. Die Werte sind in Mol je Liter angegeben.
    Tabelle I
    I I II @ III
    Grenzen für die Anteile in Mol/Liter der Lösung
    Minimum Maximum Minimum Maximum Minimum Maximum
    Art der Verkupferungslösung
    Komplexe Kupferionen [Cu(II)] . . . . . . . . . . . . . . . . 0,06 0,12 0,06 0,12 0,06 0,12
    Hydroxylgruppe (OH)- ........................ 0;5 1,5 0,5 1,5 0;5 1,5
    Formaldehyd (HCHO) ......................... 0,3 5,0 0,3 5,0 0,3 5,0
    Carbonat (COs)= . . . . . . . . . . . . . . . .. . . . . . . . . . . . . . 0,06 0,5 0,06 0,5 0,06 0,5
    Tartrat [C00 - CH(OH) - CH(OH) - C00] = . . 0,1 0,4 0,1 0;4
    Salicylat (HOC6H4C00)- ...................... 0.1 , 0,4 0,01 0,4
    Wasser (H20) . .... ...... . ..... ........... Ergänzung auf 1 1
    Neben den genannten Bedingungen wird zur Erzielung der Best n Ergebnisse empfohlen, daß das Verhältnis von komplexen Kupferionen und Carbonationen in der Kupfeilösung in dem Bereich zwischen 0,20 und 0,60 Mol/Liter liegt. Die Konzentrationen der Bestandteile in Mol/Liter, die bei bestimmten Temperaturen erforderlich sind, werden in Tabelle II angeführt.
    Tabelle II
    Temperaturbereich in °C
    20 bis 30I 40 bis 52I 70 bis 75 1 75 bis 80 I80 bis 100 1 25 bis 30
    Verkupferungslösung
    Nr.l Nr.2 Nr.3 Nr.4 Nr.5 j Nr.6
    Kupferkomplex [Cu(11)1 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 0,062 0,117 0,07 0,07 0,117 0,12
    Hydroxylgruppe ................................. 0,5 1,25 0,8'75 0,875 0,05 1,25
    Formaldehyd .................................... 1,1 0,88 0,55 0,55 0,33 2,2
    Carbonat ....................................... 0,12 0,476 0,06 0,06 0,30 0,30
    Tartrat ......................................... 0,016 0,227 0,266 0,283 0,283
    Salicylat ........................................ 0,58 0,362 0.362
    Lösungsmittel (H20) ................... . ......... Ergänzung auf 1 1
    Beispiel 4 kennzeichnet die Verwendung der Lösung Nr. 1 in Tabelle II.
  • Das folgende Verfahren wird zur Herstellung der erfindungsgemäßen Verkupferungslösung vorgeschlagen. Zuerst löst man das kupferhaltige Salz in Wasser, so daß eine erste Lösung entsteht. Dann löst man das Tartrat bzw. Salicylat in Wasser, so daß man eine zweite Lösung erhält. Drittens werden die Hydroxyl- und Carbonatbestandteile in Wasser gelöst. Darauf gibt man die erste und zweite Lösung zusammen und fügt zu der entstandenen Mischung die dritte Lösung hinzu. Schließlich setzt man Formaldehyd zu und füllt mit Wasser auf 1 1 auf. Eine andere Art von komplexbildenden Verbindungen sind die Athylenaminessigsäuren. Verkupferungslösungen, die diese Säuren enthalten, bestehen aus einer wäßrigen Lösung mit einem pH-Wert zwischen 10 und 14 und umfassen Formaldehyd und eine Komplexverbindung von Kupferionen und einer Athylenaminessigsäure, die entweder die Äthylendiamintetraessigsäure, die Diäthylentriaminpentaessigsäure oder 1,2-Cyclohexylendiamintetraessigsäure ist.
  • Diese komplexbildenden Verbindungen haben die folgenden Strukturformeln
    1. Äthylendiamintetraessigsäure
    HOOCCH2\ /CH2COOH
    N-CH2-CH2-N
    HOOCCHz \CH2COOH
    2. Diäthylentriaminpentaessigsäure
    CH2COOH
    HOOCCH2 CH2COOH
    HOOGCH2 # N CH2 - CH2 - N - CH2 - CH2 - N #CH2COOH
    3. 1,2-Cyclohexylendiamintetraessigsäure
    HOOCCH2#N-CH CH-NZCH2COOH
    HOOCCH2,' / \ '\CH2COOH
    CH2 CH2
    CH2 - CH2
    Es fallt auf, daß diese drei komplexbildenden Säuren eine gemeinsame chemische Struktur insofern besitzen, als sie alle Poly-(tertiäramine)-Verbindungen sind, die mindestens zwei tertiäre Aminogruppen enthalten, die durch eine gesättigte Acetylengruppe voneinander getrennt sind. Außerdem hat jede End-Aminogruppe zwei Carboxylgruppen und jede mittlere Aminogruppe eine Carboxylgruppe. Es scheint, daß diese Struktur, die derartige Verbindungen kennzeichnet, neben dem pH-Wert die Stabilität der Lösungen hervorruft und eine glatte, festhaftende Verkupferung bewirkt. Aus diesem Grund sind alle Chemikalien mit einer gleichen Struktur ebenfalls für diesen Zweck geeignet. Beispiele solcher Lösungen sind (a) Die folgenden Bestandteile wurden in Wasser gelöst, so daß 1 1 Lösung entstand:
    Bestandteile Gewicht in g
    Kupfersulfatpentahydrat ........ 50
    Natriumlauge ...... 1***"***** 20
    Athylendiamintetraessigsaures
    Natrium ........... ....... .. 133
    175 crils der öben angegebenen Lösung wurden iri einem gleichen Volumen Wasser gelöst und 5d c1113 einer wäßrigen Formaldehydlösung von 35 Gev i Aubprozent hinzugefügt.
  • ('s) @ 1 i,ösung wurde aus den folgenden Bestandteiier hergestellt:
    Molare
    Bestandteile Konzentration
    Kurfürsulf.t .................. 0,10
    Äthylendiamintetraessigsäure .... 0,10
    Kaliumlauge . . . . . . . . . . . . . . . . . 0,40
    'G'ormaldehyd ................ 0,30
    (c) 1 1 Lösung wurde aus den folgenden Bestandteile.. hergestellt:
    '" Moiare
    BestanClseile Konzentration
    Kupfersulfat ..... . . . . . . . . . . . . . 0,10
    Diäthylentriaminpentaessigsäure . 0,10
    ,#ffi #ge .
    imlau ................. 0,90
    Formald°hyd .............. - - - 0,30
    Andere Verkupferungslösungen sind solche, die eine wäßrige Lösung mit einem pH-Wert von 10 bis 14 darstellen und aus Formaldehyd und einem Komplexsalz aus Kupferionen und Alkanolamines;:igsäure mit der Formel bestehen, worin m und n ganze Zahlen von mindestens 1 und höchstens 2 darstellen, p eine ganze Zahl von mindestens 0 und höchstens 1, die Summe von m, n und p gleich 3 ist. R ist ein Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen und der n;' besteht aus Wasserstoff oder Methyl. R kann folgende Kohlenwasserstoffreste darstellen: Methyl, Athyl, Propyl, Butyl, Amyl, Hexyl, Heptyl, Octyl, Nonyl, Decyl, fhenyl, Tolyl, Xylyl, Athylphenyl, Naphthyl, Benzyl, Phenäthyl, usw. Da diese R-Gruppen nicht an der Verkupferungsreaktion teilnehmen oder zur Komplexbildung der Kupferionen beitragen, sind ihre genauen chemischen Bauformeln unwichtig, vorausgesetzt, daß sie nicht die komplexbildende oder die Verkupferungsreaktion beeinflussen.
  • lsi p = 0, so können als komplexbildende Mittel vei wendet werden.- N-(2-oxyrrtethyl)-N,N-di-(carboxycnethyl)-aniin, N-(2-oxypropyl)-N,N-di-(carboxytxtetlryl)-amin, N,N-di-(2-oxyäthyl)-N-earboxymetiiyiaiiliii, N,=N-di-(2-oxypropyl)-N-carboxymethyl-. amin, N-(2-oxyäthyl)=N-(2-oxypropyl)-N-carboxymethylarrrin.
  • Ist p = 1, so können als komplexbildende Mittel verwendet werden: N-(2-oxyäthyl)-N-carboxymethylmethylamin, N=(2-oxypropyl)-N-carboxymethylamin, N-(2-oxyäthyl)-N-carboxymethyläthylamin, N-(2-oxypropyl)-N-carboxymethylbutylamin, N-(2-oxyäthyl)-N-carboxymethyldecylamin, N-(2-oxypropyl)-N-carboxymethylbenzylamin, N-(2-oxyäthyl)-N-carboxymethylphenäthylamin, N-(2-oxypropyl)-N-carboxymethylphenylamin, N,N'-di-(2-oxyäthyl)-N,N'-di-(carboxymethyl)-äthylendiamin, N,N'-di-(2-oxypropyl)-N,N'-di-(carboxymethyl)-äthylendiamin und N-(2-oxyäthyl)-N'-(2-oxypropyl)-N,N'-di-(carboxymethyl)-äthylendiamin.
  • Die folgenden Beispiele kennzeichnen die Verwendung der oben aufgeführten Lösungen (a) Eine Lösung aus den folgenden Bestandteilen wurde herizestellt:
    - Molare
    Bestandteile Konzentration
    Kupfersulfat .................. 0,1
    Natriumlauge ................. 0,8
    N,N-di-(2-oxyäthyl)-glycin ...... 0,2
    Formaldehyd ................. 0,3
    (b) Eine Lösung aus den folgenden Bestandteilen wurde herp-estellt:
    - Molare
    Bestandteile Konzentration
    Kupfersulfat .................. 0,1
    Natriumlauge ................. 0,7
    N-(2-oxyäthyl)-n-N',N'-tricarboxy-
    methyläthylendiamin . . . . . . . . . 0,1
    Formaldehyd ................. 0,4
    (c) Eine Lösung aus den folgenden Bestandteilen in der angegebenen Konzentration wurde hergestellt:
    ` Molare
    Bestandteile Konzentration
    Kupfersulfat .................. 0,10
    Natriumsalz des N-(2-oxyäthyl)-
    N-carboxymethylmethylamin .. 0,3
    Natriumlauge ................. 0,4
    Formaldehyd ................. 0,3
    Weitere Verkupferungslösungen bestehen aus einer wäßrigen Lösung mit einem pH-Wert zwischen 10 und 14 und enthalten Formaldehyd, in dem das Kupfersalz mit einem Alkanolamin der folgenden Strukturformel eine Komplexverbindung bildet. R ist ein Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, und außerdem stellt R die dar, wenn p = 0 und n = 1 ist. R' besteht aus Wasserstoff oder Methyl: m ist eine ganze Zahl von mindestens 1 und höchstens 4. n eine ganze Zahl von mindestens 0 und höchstens 3. p eine ganze Zahl von mindestens 0 und höchstens 1. Die jeweiligen Werte von m, n und p müssen so gewählt werden. daß die folgende Formel gilt: n+m=3-@p. Kohlenwasserstoffreste, die durch R dargestellt werden können, sind: Methyl, Äthyl, Propyl. Butyl. Amyl, Hexyl, Heptyl, Octyl, Nonyl, Decyl, Phenyl, Tolyl. Xylyl, Naphthyl, Äthylnaphthyl, Benzyl, Phenäthyl, usw. R kann mehr als 10 Kohlenstoffatome enthalten; aber die Verwendung der Verbindungen von R mit mehr als 10 Kohlenstoffatomen bringt keine Vorteile mit sich. da diese Gruppe nicht an den entscheidenden Reaktionen der Verkupferungslösungen teilnimmt. Außerdem verringern größere Kohlenwasserstoffreste die leichte Löslichkeit der Stoffe in wäßrigen Lösungen. Vorzugsweise werden Verbindungen mit wenigstens 2 Alkylresten am Stickstoffatom des Amins verwendet, in denen R einen Kohlenwasserstoffrest mit nicht mehr als 4 Kohlenstoffatomen darstellt. Die folgenden Beispiele beziehen sich auf die eben genannten Lösungen.
  • Die unten aufgeführten Bestandteile werden in Wasser gelöst, so daß I 1 Lösung der angegebenen Konzentration entsteht:
    Molare
    Bestandteile
    Konzentration
    Kupfersulfat .................. 0.1
    Komplexbildende Mittel ....... 0.2
    Natriumlauge ................. 0.6
    Formaldehyd ................. 0.3
    Die nachstehend genannten Amine können einzeln als komplexbildende Verbindung zur Herstellung einer andernfalls verdoppelten Lösung verwendet werden: Triäthanolamin N(CH2CH20H)3 N.N-Diäthyl-äthanolamin (C2Hs)2N(CH2CH20H) N,N-Dimethyl-äthanolamin (CH3)2N(CH2CH20H) N.N,N',N'-Tetra-bis-(2-oxypropyl)-äthylendiamin
    N-Methyldiäthanolamin
    CH2CH20H
    CH3- N' Tripropanolamin \CH2CH20H
    N(CH2 - CHOH)3
    CH3
    Tetraäthanolammoniumhydroxyd
    HO - N(CH2CH20H)4
    N-Butyldiäthanolamin
    C4H9 - N(CH2CH20H)2
    Andere bekannte selbstbeschleunigende Verkupferungslösungen, z. B. die von S. W e i n in seiner Schrift »Copper Films« (PB 111237, U.S.-Department of Commerce. Office of Technical Services, 1953) sind für das erfindungsgemäße Verfahren brauchbar.
  • Der Temperaturbereich für das Verkupfern liegt zwischen dem Gefrierpunkt und 50°C, üblicherweise zwischen 15 und 35°C. Bevorzugt werden Temperaturen zwischen 20 und 30°C. Die Konzentration der Bestandteile in der wäßrigen Lösung kann variiert werden, aber sie setzt sich üblicherweise wie folgt zusammen
    Bestandteile Molare Konzentration
    Kupferionen ................................ 0,05 bis 0,20
    Alkali* ..................................... 4- bis 6fache molare Konzentration des Kupfers
    rt- Menge zur Erzielung eines pH-Wertes von 10 bis 14
    Komplexbildende Verbindung . . . . . . . . . . . . . . . . . mindestens 1, gewöhnlich 2 Stickstoffatome je Kupfer-
    . atom. Höchstkonzentration beliebig, wirtschaftlich
    bedingt
    Formaldehyd (einschließlich Paraform) ........ mindestens die. 2fache molare Konzentration der
    Kupferionen zur vollständigen Auswertung des
    Kupfers erforderlich. Höchstkonzentration beliebig,
    i nur wirtschaftlich bedingt
    * Bevorzugte Alkalien sind Alkalimetallhydroxyde, z. B. die Tetraalkylammoniumhydroxyde oder die Tetraalkanolammoniumhydroxyde.
    Natriumlauge, Kaliumlauge, die Tetraalkylammoniumhydroxyde und die Tetraalkanolammoniumhydroxyde, z. B. Tetramethylammonium-,
    hydroxyd, Diäthyldimethylammoniumhydroxyd, Tetraäthanolammoniumhydroxyd, Tetraäthylammoniumhydroxyd u. dgl. werden be-
    sonders gern verwendet, da sie mit den komplexbildenden Verbindungen keine Komplexverbindungen eingehen, wodurch weit größere
    Zusätze an komplexbildenden Mitteln als das oben angegebene Mindestmaß gefordert würden.
    Das Kupferion der Lösung kann von jeder Kupferverbindung geliefert werden, die in einer wäßrigen Lösung hinreichend stark ionisiert, so daß die gewünschte Komplexverbindung gebildet werden kann. Kupfersulfat und -nitrat sind zwei leicht erhältliche Kupfersalze, die leicht wasserlöslich sind und daher den genannten Anforderungen entsprechen. Andere leicht erhältliche, verwendbare Kupfersalze sind: Kupferchlorid, Kupferacetat und Kupferhydroxyd.
  • Zur Verringerung der Größe der Wasserstoffgasblasen, die in der Lösung erzeugt werden, können oberflächenaktivierende Mittel zugesetzt werden. Alkohole, z. B. Methyl-, Äthyl-, Propylalkohol u. dgl., die wasserlöslich sind, tragen zur Verringerung der Oberflächenspannung bei. Oberflächenaktivierende Mittel können sowohl ionisch, z. B. quaternäres Ammoniumsalz, Alkylphenolsulfonat, Alkylsulfat, als auch nichtionisch, z. B. Polyäthylenglykole und deren Monoäther, sein.
  • Alle diese Lösungen sorgen für eine einfache Verkupferung von katalytisch aktiven Metallflächen. Diese Unterlagen können aus beliebigem Stoff hergestellt sein, der mit einem sichtbaren oder unsichtbaren Metallüberzug versehen ist, so daß die Lösung zur Verkupferung angeregt wird. Die Unterlagen können also aus Metall bestehen oder können nichtmetallische Schichtträger sein, die mit einem sichtbaren oder unsichtbaren metallischen Film überzogen sind.
  • Die Verkupferungslösung läßt sich sowohl zur Verkupferung von Metallteilen als auch zur Verkupferung nichtmetallischer Flächen verwenden. Fast jede gereinigte Metallfläche, die nicht mit alkalischen wäßr igen Lösungen reagiert, kann lediglich durch die Berührung mit der Lösung verkupfert werden. Es lassen sich zwar auch metallische Unterlagen, die mit alkalischen Lösungen reagieren, durch die genannten Lösungen verkupfern, aber der entstaneene Überzug ist dann nicht glatt und haftend. Die Reaktion des Metalls mit der Lösung erzeugt Wasserstoff, der die Güte des Überzugs beeinträchtigt.
  • eile, Fette, Schmutz und andere Verunreinigungen verhindern das notwendige Benetzen der metallischen Oberflächen und sollten vor dem Verkupfern entfernt werden, wenn sie nicht vorsätzlich aufgetragen werden, damit bestimmte Gebiete gegen die Verkupferung abgeschirmt werden. Wird die Verkupferung in einem bestimmten Muster gewünscht, so empfiehlt sich ein derartiges Vorgehen.
  • Metalle, die sich durch das Verfahren verkupfern lassen, sind: Eisen, Cobalt, Nickel, Gold, Silber, Platin, Palladium, Rhodium, Zinn, Kupfer usw. einschließlich solcher Legierungen, wie Kohlenstoff stähle, nichtrostende Stähle, Monel-Metall, Karatgold, Sterling- und Münzensilber, Platin-Iridium-Legierungen u. a. m.
  • Für die Verkupferung nichtmetallischer Flächen ist es notwendig, diese vor Einwirken der Lösung in bekannter Weise mit einem öberzug aus einem katalytischen Metall zu überziehen. Jedes der obengenannten Metalle kann für einen solchen Überzug verwendet werden. Aus praktischen Erwägungen ist es nur möglich, nichtmetallische Flächen mit Nickel, Cobalt, Kupfer, Rhodium, Silber, Gold, Platin und Palladium -zu überziehen. Am besten wird die nichtmetallische Oberfläche aufgerauht. 'Jas kann entweder durch chemische oder mechanische Behandlung, z. B. durch chemisches Ätzen, chemische Einwirkung von Lösungsmitteln, Schmirgeln, Sandstrahlbehandlung u. dgl. geschehen.
  • Um den Fachleuten das erfindungsgemäße Verfahren eingehender zu erläutern, werden die folgenden Ausführungsbeispiele, die die Erfindung in keiner Weise abgrenzen sollen, angeführt. Alle Angaben sind, wenn nicht anders angegeben, in Gewichtseinheiten aufgeführt. Beispiel 1 1 1 einer Verkupferungslösung wurde durch Auflösen der folgenden Bestandteile in der erforderlichen Wassermenge hergestellt:
    Bestandteile Gewicht in g
    Kupfersulfatpentahydrat . . .. . . .. 25
    Triäthanolamin . ... . .. . ... . . . .. 60
    Natriumlauge . . 16
    Wäßriges Formaldehyd (370%ig) 25 ml
    Die oben angegebene Lösung wurde in zwei Teile geteilt. Der eine Teil wurde zum Vergleich benutzt und ohne weitere Behandlung bei Zimmertemperatur stehengelassen. Der andere Teil wurde mit Luft durchblasen, die durch eine gefrittete Glasscheibe in die Lösung geleitet wurde; es wurde dabei nicht gerührt. Nach Ablauf von etwa 2 Stunden hatte die Zersetzung der Vergleichslösung eingesetzt, was durch die Ausfällung von Kupfer nachweisbar war. Die durchblasene Probe blieb klar und unverändert. Dann ließ man beide Lösungen eine Nacht lang unberührt stehen. Die Vergleichslösung hatte sich vollständig zersetzt, wie die Farblosigkeit der Lösung und die Ausfällung des gesamten vorhandenen Kupfers am Boden des Gefäßes bewies. Die durchblasene Probe zeigte noch immer eine blaue Färbung und besaß einen pH-Wert von 11,5. Eine geringe Menge Kupfermetall in der Lösung zeigte an, daß die Lösung nicht gerührt war. Das Verfahren wurde wiederholt, mit dem Unterschied, daß dieses Mal die Lösung lebhaft während der Einführung der Luft gerührt wurde. Nach Ablauf von 12 Stunden war keine Zersetzung der Metallisierungslösung nachweisbar, und der pH-Wert betrug 11,9. Ein Stück Pappe, das mit Phenolharz überzogen und mit Sandstrahlen behandelt worden war, wurde 1 Minute lang in Stannochloridlösung getaucht und damit vorbehandelt. Die Stannochloridlösung wurde durch Auflösen von 10 g Stannochlorid in 10 cm3 Salzsäure mit einer molaren Konzentration von 12 Mol/ Liter hergestellt. Nachfolgend wurde das Blatt mit Wasser abgespült und 1 Minute lang in eine Palladiutnchloridlösung getaucht. Diese Lösung bestand aus 0,5 g Palladiumchlorid, das in 10 cm3 Salzsäure mit einer molaren Konzentration von 12 Mol/Liter gelöst war. Dann wurde es erneut mit Wasser abgespült. Wurde dieses vorbereitete Blatt in eine durchblasene Lösung eingebracht, so wurde ein heller, zusammenhängender Kupferüberzug aufgetragen, und gleichzeitig entwickelte sich Wasserstoff auf der Oberfläche.
  • Beispiel 2 Die Lösung vom Beispiel 1 wurde verdoppelt und in zwei Teile geteilt. In den einen Teil wurden etwa 8 cm3 Stickstoff je Stunde eingeführt. In den zweiten Teil der Lösung wurde die gleiche Menge reiner Sauerstoff eingeleitet. Nach Ablauf von 11/2 Stunden begann die mit Stickstoff durchblasene Lösung sich zu zersetzen und war nach 21/2 Stunden vollständig zersetzt, wie die Farblosigkeit der Lösung anzeigte. Die mit Sauerstoff durchblasene Lösung besaß noch eine klare blaue Färbung und zeigte auch nach 48 Stunden keine Zerfallserscheinungen. Lediglich das Formaldehyd war teilweise verbraucht. Das verbrauchte Formaldehyd wurde aufgefüllt und der pH-Wert auf 12,8 erhöht. Wurde ein Stück Pappe, das mit Phenolharz überzogen und wie im Beispiel 1 vorbehandelt worden war, in diese Lösung gebracht, so stellte man eine Verkupferung von etwa 0,025 mm je Stunde fest. Wenn eine etwa 0,1 mm starke Verkupferung erreicht worden war, wurde die Probe aus der Lösung entnommen. Die Lösung wurde erneut 24 Stunden lang mit Sauerstoff durchblasen. Wurde nachfolgend eine vorbehandelte Phenolharzpappe in die Lösung getaucht, so schlug sich das Kupfer mit der gleichen Geschwindigkeit von 0,025 mm je Stunde nieder. Als eine Verkupferung der Probe von 0,075 mm Stärke erreicht war, wurde das Blatt herausgenommen. Insgesamt war die Lösung etwa 48 Stunden lang klar, zur Verkupferung brauchbar und ohne Anzeichen der Zersetzung geblieben. Beispiel 3 21 Lösung wurden aus den folgenden Bestandteilen in der angegebenen Konzentration hergestellt:
    Mol
    Bestandteile are
    Konzentration
    Kupfersulfat . . . . . . . . . . . . . . . . . . 0,10
    Rthylendiamintetraessigsäure .... 0,10
    Kaliumlauge .................. 0,80
    Formaldehyd ................. 0,30
    Ein mit Phenolharz überzogenes Pappstück von 127 cm2, das mit Palladium, wie im Beispiel 1 beschrieben, vorbehandelt worden war, wurde in die Lösung eingebracht. 0,21 Luft wurden je Minute durch einen gefritteten Glasfilter als Disperser in die Lösung geblasen, die gleichzeitig mit einer mechanischen Rührvorrichtung lebhaft gerührt wurde. Nach 5 Stunden wurden weitere 25 crn3 Formaldehyd und 2 cm3 eines Benetzungsmittels aus einem Äthylen-und Propylenoxydpolymeren zugesetzt. Die Stärke der Verkupferung betrug 0,150 bis 0,175 mm. Die Kupferlösung hatte sich nicht zersetzt. Nach Ablauf von weiteren 11j2 Stunden war die Lösung noch einwandfrei zur Verkupferung verwendbar. Dann ließ man sie 15 Stunden lang (über Nacht) stehen. Während dieser Zeit trat keine Zersetzung ein, und die Lösung konnte nach wie vor zum Verkupfern verwendet werden; allerdings arbeitete sie sehr langsam. Man setzte nochmals 50 cm3 Formaldehyd und eine solche Menge Kaliumlauge zu, daß die anfängliche molare Konzentration der Base um weitere 0,80 Mol erhöht wurde. Dadurch wurde erreicht, daß die Lösung wieder zu einer raschen Verkupferung führte. Nach 41/2 Stunden verkupferte die Lösung noch mit einer Geschwindigkeit von 0,0025 mm je Stunde, und die Gesamtstärke der aufgetragenen Kupferschicht betrug etwa 0,0625 mm. Obgleich die Lösung sich nicht in unerwünschter Weise zersetzte, wurde die Verkupferung bei dieser Stärke abgebrochen, da die Lösung einen pH-Wert von 2 erreicht hatte, also stark sauer war, so daß 56 g von der ursprünglich zugesetzten 60 g Äthylendiamintetraessigsäure durch Filtrieren aas der Lösung zurückgewonnen werden konnten, weil diese Säure bei einem solchen pH-Wert in der Reaktionslösung unlöslich ist.
  • Beispiel 4 1 1 Lösung wurde aus den folgenden Bestaiidi:t;ileri hergestellt:
    Bestandteile Gewicht in g
    Kupfernitrattrihydrat .......... 15
    Natriumlauge . . . . . . . . . . . . . . . . . ?0
    Natriumbicarbonat ............ 10
    Natrium-Kalium-Tartrat .... . ... 3(t
    Diese Lösung wurde in vier gleiche T:--le von 250 cm3 geteilt, und jedem Teil wurden 23 cni3 einer 37o/oigen wäßrigen Formaldehydiösung zugsetzt. Ein Teil wurde bei Zimmertemperatur unbehandelt stehengelassen. Der zweite Teil wüi°au rntt Luft durchblasen, die zur Zerteilung des Gässtic@riies durch eine gefrittete Glasscheibe geleitet wurde. Zwei Pappblätter, die irtit F'lienolharz äüerzogeii waren, % erden wie im Beispiel 1 präpariert wid in den dritten und vierten Teil der Lösung gefaucht. Der dritte Teil wurde nicht durchblasen, und der vierte Teil wurde wie der zweite durchblasen. In beiden Teilen der Lösung wurde die 'oesciinirgelte Pappe rasch verkupfei t. Nach etwa 20 Minuten begannen die beiden Lösungen, die nicht durchblasen wurden, d. h. die erste und die dritte, sich zu zersetzen. Die einsetzende Ausfällung des Kupferoxyduls zeigte die Zersetz=ung an. Die zweite und die vierte Lösung waren noch klar; nach 7 Stunden waren keine Zersetzungserscheinungen zu beobachten. Beispiel s Eine Metallisierungslösung aus drei Lösungen, diL zur Herstellung von Kupferspiegeln verwciidet den, wurde, wie unten angegeben, hergestellt: Lösung A Kupfersulfatpentahydrat ....... 20 g Glycerol ...... . . . . . . . . . . . . . . . 80 cm3 Wäßriges Ammoniumhydroxyd (28°,1oig) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 20 c.-r3 Lösung B Natriumlauge (9"!oig) . . . . . . . . . 400 cn?3 Rohrzucker (10°'=ig) . . . . . . . . . . 200 cm3 Salpetersäure . . . . . . . . . . . . ..... 0.5 crn3 Wasser . . . . . . . . . ...... . ...... 250 rm3 Lösung C Wäßriges Formaldehyd (37"/oig) 80 cm-, Wasser ....... . . . . . . . . . . ..... 1250 em3 Die drei Lösungen .wurden in folgendem -@,erliättilis gemischt: Lösung A .................... 120 cm3 Lösung B .................... 850 cm3 Lösung C ...... « ...... z ...... 1330 err3 Die entstandene Verkupferungslösung -"vL;rde in zwei Teile geteilt. Eiii Teil wurde niit etwa 15 crrirt Luft je Stunde durchblasen, während der ä1iW2,2 Teil als Vergleichslösung bei Zimmerteniptratur stehengelassen wurde. Wurde ein Stück mit ?heriolharz überzogener Pappe, das wie im Beispiel 1 mit Palladium vorbehandelt worden war, in jeden der beiden Lösungsteile getaucht, so verkupferte sich die empfänglich gemachte Fläche. Die Proben wurden aus der Lösung genommen und die Lösungen über Nacht stehengelassen. Am Morgen hatte sich ein glatter Kupferspiegel an den Wänden des Becherglases der nicht durchblasenen Lösung gebildet. Die Lösung selbst war nunmehr frei von Kupfer. Bei Verwendung solcher Lösungsmischung ist also keine D@@rp@h@nheh"l:.t:g für die Verkupferung einer ::ich`:n°@?lischen (glilsernen) Fläche nötig. Die durchblasene Lösung hatte sich in keiner Weise zersetzt, wedrybildete sie einen Kupferspiegel, noch wurde das Kupferoxydul ausgefällt. Nach 3 Tagen war sie im;,t-zr noch beständig und verkupferte die präparierte Fläche. Wurde die Luftzufuhr abgestellt, so bildete sich innerhalb einer Nacht ein Kupferspiegel an den Wänden des Behälters.
  • Beispiel 6 11 Lösung wurde aus den folgenden Bestandteilen in der angegebenen Konzentration hergestellt:
    Moiare
    Bestandteile Konzentration
    Kupfersulfat . . . . . . . . . . . . . . . . . . 0,1
    Glycerol ...................... 0,45
    Ammoniumhydroxyd .......... 0,4
    Natriumlauge ................. 0,6
    Formaldehyd (370%ig) . . . . . . . . . 80 cm3
    Diese Lösung wurde in zwei Teile geteilt. Der eine wurde wie im Beispiel 5 mit Luft durchblasen. Beide Teile verkupferten eine mit Phenolharz überzoLone, wie im Beispiel l vorbehandelte Pappe. Der nicht durchblasene Teil der Lösung zersetzte sich in 15 bis 20 Minuten, während der durchblasene noch nach 5 Stunden, als die Prüfung abgebrochen wurde, zur Verkupfcrung führte.
  • Beispiel ? Um gewisse Aufschlüsse über die zersetzungshemmende Wirkung von Sauerstoff in den Verkupferungslösungen zu erhalten, wurde eine Lösung aus den folgenden Bestandteilen in der angegebenen Konzentration hergestellt:
    Bestandteile Ntoiare
    Konzentration
    Äthylendiamintetraessigsäure .... 0,10
    Kaliumlauge .................. 0,60
    0,05 Mol Kupferoxydul wurden dieser Lösung zugesetzt, die mechanisch gerührt wurde und in die etwa 8 cm3 Luft je Stunde eingeleitet wurden. Nach 4 Stunden war alles Kupferoxydul aufgelöst, womit bewiesen ist, daß Sauerstoff fähig ist, das in einer solchen Lösung vorhandene Kupferoxydul aufzulösen. Formaldehyd wurde absichtlich nicht zugesetzt, da in seiner Anwesenheit Kupferoxydul zu Kupfer reduziert wird.
  • Schließlich konnte auch nachgewiesen werden, daß das Durchblasen mit einem sauerstoffhaltigen Gas die Zersetzung der Verkupferungslösung aufhalten kann, wenn die Gaszufuhr bald nach Beginn der Zersetzung einsetzt.
  • Wie die angeführten Beispiele beweisen, ist das Stabilisierungsverfahren auf alle Lösungen anwendbar, denen die Reaktion von Formaldehyd mit einem Kupferkomplexsalz in einer alkalischen Lösung zugrunde liegt, wodurch eine Verkupferung bewirkt werden soll.
  • Verkupferungslösungen,die erfindungsgemäß durchblasen werden, können bei höheren Temperaturen als die gewöhnlichen Lösungen verwendet werden.

Claims (6)

  1. Patentansprüche: 1. Verfahren zur Stabilisierung eines sich selbst zersetzenden alkalischen Bades zur chemischen Abscheidung von Kupferüberzügen auf metallischen und nichtmetallischen Unterlagen, mit einem Gehalt an Kupferionen, Formaldehyd und Komplexbildnern zur vollständigen komplexen Bindung der Kupferionen, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t, daß ein sauerstoffhaltiges Gas durch das Bad geleitet wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als sauerstoffhaltiges Gas Luft verwendet und diese durch die gesamte Badlösung dispers verteilt wird.
  3. 3. Bad zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es einen pH-Wert zwischen 10 und 14 aufweist und es als Komplexbildner ein Amin mit der Formel enthält, in der m eine Zahl von 1 bis 4, p = 0 oder 1, n eine Zahl von 0 bis 3, die Summe von m + n = 3 + p, R ein Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 10 Kohlenwasserstoffatomen ist und für den Fäll, daß p = 0 und n = 1 ist, R auch die Gruppe sein kann und R' Wasserstoff oder die Methylgruppe bedeutet..
  4. 4. Bad nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß es als Komplexbildner eine Äthylenaminessigsäure enthält.
  5. 5. Bad nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß es als Komplexbildner eine Alkanolaminessigsäure der Formel enthält, in der m und n = 1 oder 2, p = 0 oder 1, m + n + p = 3, R ein Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder ein Rest der Formel ist und R' Wasserstoff oder die Methylgruppe ' bedeutet.
  6. 6. Bad nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß es als Komplexbildner ein durch Carbonat stabilisiertes Tartrat oder Salicylat enthält. In Betracht gezogene Druckschriften Deutsche Patentschriften Nr. 583 393, 731 102 österreichische Patentschrift Nr. 190 766; britische Patentschriften Nr. 490159, 503 034; USA.-Patentschrift Nr. 2 136 024; »Metallurgia«, 1953, S. 172.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0132594A1 (de) * 1983-07-25 1985-02-13 Hitachi, Ltd. Lösung zum stromlosen Plattieren mit Kupfer

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE583393C (de) * 1931-03-25 1933-09-02 Johnson Steel & Wire Company I Verfahren zum UEberziehen von Draht
GB490159A (en) * 1936-07-01 1938-08-10 Paolo Misciattelli Improvements in and relating to the manufacture of copper plated silver mirrors
US2136024A (en) * 1935-05-03 1938-11-08 Metal Forming & Coating Inc Process and apparatus for producing metallic coatings on various articles
GB503034A (en) * 1936-10-21 1939-03-30 Saint Gobain Wet-method process of metallization
DE731102C (de) * 1941-12-13 1943-02-03 Dr Herbert Brintzinger Verfahren zur Erzeugung metallischer UEberzuege
AT190766B (de) * 1954-05-18 1957-07-25 Gen Am Transport Verfahren zur chemischen Vernickelung

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE583393C (de) * 1931-03-25 1933-09-02 Johnson Steel & Wire Company I Verfahren zum UEberziehen von Draht
US2136024A (en) * 1935-05-03 1938-11-08 Metal Forming & Coating Inc Process and apparatus for producing metallic coatings on various articles
GB490159A (en) * 1936-07-01 1938-08-10 Paolo Misciattelli Improvements in and relating to the manufacture of copper plated silver mirrors
GB503034A (en) * 1936-10-21 1939-03-30 Saint Gobain Wet-method process of metallization
DE731102C (de) * 1941-12-13 1943-02-03 Dr Herbert Brintzinger Verfahren zur Erzeugung metallischer UEberzuege
AT190766B (de) * 1954-05-18 1957-07-25 Gen Am Transport Verfahren zur chemischen Vernickelung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0132594A1 (de) * 1983-07-25 1985-02-13 Hitachi, Ltd. Lösung zum stromlosen Plattieren mit Kupfer

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