DE1173328B - Magnification device for microfilms with a lamp which is surrounded by a semi-elliptical reflector - Google Patents

Description

Vergrößerungseinrichtung für Mikrofilme mit einer Leuchte, die von einem halbelliptischen Reflektor umgeben ist Die Erfindung bezieht sich auf eine Vergrößerungseinrichtung für Mikrofilme mit einer Leuchte, deren Lichtquelle von einem halbelliptischen Reflektor umgeben ist, wobei die Mikrofilmaufnahme im Bereich zwischen der Lichtquelle und dem Brennpunkt der Leuchte angebracht ist.Magnifying device for microfilms with a lamp, which by is surrounded by a semi-elliptical reflector. The invention relates to a Magnifying device for microfilms with a lamp, the light source of which is from is surrounded by a semi-elliptical reflector, with the microfilm in the area is mounted between the light source and the focal point of the lamp.

Die bekannten Vergrößerungseinrichtungen dieser Art besitzen zwischen Reflektor und Filmaufnahme Diffusionsplatten, um eine gleichmäßige Ausleuchtung der Filmfläche zu gewährleisten. Der zentrale Bereich des Films erhält sonst zuviel Licht. Derartige Diffusionsplatten haben jedoch den Nachteil, daß sie die auf den Film fallende Lichtmenge verringern.The known enlargers of this type have between Reflector and film holder diffusion plates to ensure even illumination to ensure the film surface. Otherwise the central area of the film will get too much Light. However, such diffusion plates have the disadvantage that they are on the Reduce the amount of light falling on the film.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vergrößerungseinrichtung zu schaffen, bei der eine gleichmäßige Ausleuchtung der Filmfläche ohne Verringerung der Lichtstärke in den Randbereichen der Filmfläche gewährleistet ist.The object of the invention is to create a magnifying device, in which a uniform illumination of the film surface without reducing the light intensity is guaranteed in the edge areas of the film surface.

Diese Aufgabe ist gemäß Erfindung dadurch gelöst, daß die Spiegeloberfläche des Reflektors in der Umgebung ihres Scheitelpunktes langgestreckte, gekrümmt verlaufende Deformationen aufweist. Durch diese Deformationen wird die auf den Mittelpunkt des Filmes fallende Lichtmenge vermindert und damit die gleichmäßige Ausleuchtung erreicht.This object is achieved according to the invention in that the mirror surface of the reflector in the vicinity of its apex elongated, curved Has deformations. Due to these deformations, the center point of the The amount of light falling on the film is reduced and thus uniform illumination is achieved.

Es ist bei konkaven Reflektoren, die nicht für Vergrößerungseinrichtungen dienen und auch keinen elliptischen Querschnitt aufweisen, bekannt, in der Nähe ihrer Scheitel Verformungen vorzusehen.It is in the case of concave reflectors that are not used for magnifiers serve and also do not have an elliptical cross-section, known in the vicinity to provide deformations at their apex.

Die Deformationen der Spiegeloberfläche des erfindungsgemäßen Reflektors bestehen vorzugsweise aus im Abstand voneinander angeordneten, sich nahe vom Scheitelpunkt aus in Richtung auf den Refektorrand erstreckende Rinnen. Dabei ist vorteilhaft die Spiegeloberfläche des Reflektors nach der Ellipsenformel y2 = x (12,7 - 0,35 x) ausgebildet, wobei x in Zentimetern eines Spiegeloberflächenpunktes vom Reflektorscheitelpunkt und y in Zentimetern die Entfernung dieses Punktes von der Reflektorachse, von der Achse aus senkrecht gesehen, ist.The deformations of the mirror surface of the reflector according to the invention preferably consist of spaced apart, close to the apex from grooves extending in the direction of the edge of the refector. This is beneficial the mirror surface of the reflector according to the ellipse formula y2 = x (12.7 - 0.35 x), where x is in centimeters of a mirror surface point from the reflector vertex and y, in centimeters, is the distance of this point from the reflector axis from which Axis seen from perpendicular is.

Zweckmäßig ist der Reflektor an seinem Scheitelpunkt mit einer Öffnung versehen, welche zur Durchführung von Leitungen für die Lichtquelle dient, für die mit Vorteil eine Hochdruckentladelampe mit einer Leitungsentladung entlang der Reflektorachse vorgesehen ist.The reflector is expediently provided with an opening at its apex provided, which is used for the implementation of lines for the light source for with advantage a high-pressure discharge lamp with a line discharge along the reflector axis is provided.

Die Erfindung kann bei der Herstellung von auf im Vergleich zum lichtempfindlichen Silberhalogenidfilm weniger empfindlichem Material, wie z. B. ultraviolettempfindlichem Diazomaterial, zu erhaltenden Vergrößerungen vorteilhaft verwendet werden, wobei eine Ultraviolettlichtquelle gebraucht wird.The invention can be used in the manufacture of on compared to photosensitive Silver halide film less sensitive material, such as. B. ultraviolet sensitive Diazo material, magnifications to be obtained are advantageously used, with an ultraviolet light source is needed.

Die Erfindung wird an Hand schematischer Zeichnungen an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. Darin zeigt F i g. 1 einen Vorder- und Seitenaufriß einer Lichtquelle nach der Erfindung, F i g. 2 eine Innenansicht des Reflektors der in F i g. 1 dargestellten Lichtquelle, F i g. 3 die Verwendung der Lichtquelle für einen Mikrofilmvergrößerungsapparat und F i g. 4 die Lichtquelle zusammen mit den ihr zugeordneten optischen Elementen der optischen Projektionsanordnung des in F i g. 3 dargestellten Vergrößerungsapparates.The invention is illustrated by means of schematic drawings of an exemplary embodiment explained in more detail. In it, F i g. 1 is a front and side elevation of a light source according to the invention, FIG. FIG. 2 shows an interior view of the reflector of the FIG. 1 shown Light source, FIG. 3 shows the use of the light source for a microfilm enlarger and F i g. 4 the light source together with the optical elements assigned to it the optical projection arrangement of the device shown in FIG. 3 illustrated enlarger.

Die in F i g. 1 und 2 gezeigte Lichtquelle weist eine Quecksilberdampfbogenlampe 1 auf, welche von einem Reflektor 2 umgeben ist, der an seinem Scheitelpunkt mit einer öffnung 3 und an seinem an derselben anliegenden Spiegeloberflächenabschnitt mit Mulden 4 versehen ist, welche sämtlich in gleicher Richtung spiralartig angeordnet sind. Der eine hochpolierte Innenoberfläche aufweisende Aluminiumreflektor 2 stellt ein Ellipsoid der ungefähren obengenannten Formel mit einer Axiallänge von 10 cm von seinem Scheitelpunkt aus dar, wobei der Durchmesser der am Scheitelpunkt liegenden Öffnung 3,5 cm lang ist. Der Maximaldurchmesser des Reflektors ohne den Flansch 5 beträgt 19,5 cm. Der Lampenmittelpunkt ist vom Reflektorscheitelpunkt 3,5 cm entfernt, während der Lampenbrennpunkt 34 cm vom Scheitelpunkt oder 30,5 cm vom Lampenmittelpunkt entfernt ist. Die maximale Tiefe der zweckmäßigerweise sinusförmig ausgebildeten Mulden, welche eine glattgewellte, ununterbrochene lichtreflektierende Spiegeloberfläche bilden, beträgt 0,05 cm.The in F i g. The light source shown in 1 and 2 comprises a mercury vapor arc lamp 1, which is surrounded by a reflector 2, which at its apex with an opening 3 and at its mirror surface section resting thereon is provided with troughs 4, all of which are spirally arranged in the same direction are. The aluminum reflector 2, which has a highly polished inner surface an ellipsoid of the approximate formula above with an axial length of 10 cm from its vertex, being the diameter of that lying at the vertex Opening is 3.5 cm long. The maximum diameter of the reflector without the flange 5 is 19.5 cm. The center of the lamp is from the apex of the reflector 3.5 cm away, while the lamp focus is 34 cm from the apex or 30.5 cm from the center of the lamp. The maximum depth of the expedient sinusoidal troughs, which have a smoothly corrugated, uninterrupted light-reflecting Form mirror surface is 0.05 cm.

Der in F i g. 3 gezeigte Mikrofilmvergrößerungsapparat ist mit einer aus Lampe 18 und Reflektor 19 zusammengesetzten Lichtquelle nach der Erfindung versehen, welche auf das das Mikrofilmbild enthaltende Filmfenster 22 durch den Wärmefilter 20 hindurch Licht richtet. Das Vergrößerungslinsensystem des Vergrößerungsapparates ist mit 23 und der das vergrößerte Bild auf die Sichte- bzw. Kopierunterlage 17 zurückwerfende Spiegel mit 15 bezeichnet.The in F i g. The microfilm enlarging apparatus shown in Fig. 3 is provided with a light source composed of lamp 18 and reflector 19 according to the invention, which onto the film window 22 containing the microfilm image through the heat filter 20 directs light through it. The magnifying lens system of the enlarger is at 23 and the enlarged image on the viewing or copying base 17 Reflecting mirror is designated by 15.

Die optische Projektionseinrichtung des in F i g. 3 gezeigten Vergrößerungsapparates ist in F i g. 4 dargestellt und besteht aus einer aus Lampe 18 und Reflektor 19 zusammengesetzten Lichtquelle, dem Wärmefilter 20, dem Verschluß 21, dem Kondensor 56, einer negativen konvex-konkaven Linse 54. durch welche die Petzval-Bildkrümmung des Mikrofilmfensters 22 und der vier Linsen 64, 65, 66 und 67 des Vergrößerungslinsensystems 23 geebnet und im wesentlichen der Krümmung der konvexen Oberfläche der Linse 54 angeglichen wird.The optical projection device of the FIG. 3 shown enlarger is in Fig. 4 and consists of a lamp 18 and reflector 19 composite light source, the heat filter 20, the shutter 21, the condenser 56, a negative convex-concave lens 54. through which the Petzval image curvature the microfilm window 22 and the four lenses 64, 65, 66 and 67 of the magnifying lens system 23 and substantially the curvature of the convex surface of lens 54 is adjusted.

Claims (5)

Patentansprüche: 1. Vergrößerungseinrichtung für Mikrofilme mit einer Leuchte, deren Lichtquelle von einem halbelliptischen Reflektor umgeben ist, wobei die Mikrofilmaufnahme im Bereich zwischen der Lichtquelle und dem Brennpunkt der Leuchte angebracht ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegeloberfläche des Reflektors (2) in der Umgebung ihres Scheitelpunktes langgestreckte, gekrümmt verlaufende Deformationen (4) aufweist. Claims: 1. Magnifying device for microfilms with a Luminaire whose light source is surrounded by a semi-elliptical reflector, where the microfilm recording in the area between the light source and the focal point of the Luminaire is attached, characterized in that the mirror surface of the reflector (2) elongated, curved deformations in the vicinity of their apex (4). 2. Einrichtung gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Deformationen (4) der Spiegeloberfläche des Reflektors (2) aus im Abstand voneinander angeordneten, sich nahe vom Scheitelpunkt aus in Richtung auf den Reflektorrand erstreckenden Rinnen bestehen. 2. Device according to claim 1, characterized in that the deformations (4) the mirror surface of the reflector (2) from spaced apart, extending near the apex in the direction of the reflector edge There are gutters. 3. Einrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegeloberfläche des Reflektors nach der Ellipsenformel y= = x (12,7 - 0,35 x) ausgebildet ist. wobei x in Zentimetern die Axialentfernung eines Spiegeloberflächenpunktes vom Reflektorscheitelpunkt und Y in Zentimetern die Entfernung dieses Punktes von der Reflektorachse, von der Achse aus senkrecht gesehen, ist. 3. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the mirror surface of the reflector is designed according to the elliptical formula y = = x ( 12.7-0.35 x) . where x in centimeters is the axial distance of a mirror surface point from the reflector vertex and Y in centimeters is the distance of this point from the reflector axis, viewed perpendicularly from the axis. 4. Einrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor an seinem Scheitelpunkt mit einer Öffnung versehen ist, welche zur Durchführung von Leitungen für die Lichtquelle dient. 4. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the reflector has an opening at its apex is provided, which is used to lead through lines for the light source. 5. Einrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Lichtquelle eine Hochdruckentladelampe mit einer Leitungsentladung entlang der Reflektorachse vorgesehen ist. In Betracht bezogene Druckschriften: Deutsche Patentschriften Nr. 334 592. 598 643, 653 215, 490 006, 622156, 753 691; USA.-Patentschrift Nr. 1 633 228.5. Device according to one of the preceding claims, characterized in that as a light source a high pressure discharge lamp with a line discharge along the Reflector axis is provided. Related publications: German Patent Specifications No. 334 592, 598 643, 653 215, 490 006, 622156, 753 691; U.S. Patent No. 1 633 228.