DE1106596B - Exposure metering device combined with a finder device - Google Patents

Description

Mit einer Suchereinrichtung vereinigte Belichtungsmeßeinrichtung Die Erfindung betrifft eine Belichtungsmeßeinrichtung, vorzugsweise eine mit einer Kamera vereinigte Belichtungsmeßeinrichtung.Light metering device Die combined with a finder device The invention relates to an exposure measuring device, preferably one with a camera unified exposure meter.

Bei Verwendung von Belichtungsmessern oder automatischen Belichtungsreglern kommt es trotz ordnungsgemäßem Arbeiten der Einrichtung vielfach zu Fehlbelichtungen. Die Ursache dieser Erscheinung ist darin zu sehen, daß das Meßergebnis der Belichtungsmeßeinrichtung der mittleren Beleuchtungsintensität des Motivs entspricht. Bei Aufnahmen, bei welchen zwischen dem eigentlichen Aufnahmeobjekt und dessen Umgebung große Helligkeitsunterschiede bestehen, wird das eigentliche Aufnahmeobjekt falsch belichtet. So kommt es beispielsweise bei Personenaufnahmen auf Schneefeldern, am Strand und bei Gegenlichtaufnahmen häufig zu Unterbelichtungen, bei Kunstlichtaufnahmen, bei welchen die Umgebung nicht vollständig ausgeleuchtet ist, sowie bei Aufnahmen aus Fenstern oder Torbögen zu Überbelichtungen.When using exposure meters or automatic exposure controls In spite of the proper functioning of the facility, there are often incorrect exposures. The cause of this phenomenon is to be seen in the fact that the measurement result of the exposure metering device corresponds to the mean lighting intensity of the subject. With recordings, with which there are large differences in brightness between the actual subject and its surroundings exist, the actual subject will be incorrectly exposed. This is how it happens, for example often when taking pictures of people in snowfields, on the beach and when taking backlit pictures to underexposure, in artificial light shots in which the surroundings are not complete is illuminated, as well as overexposure when taking pictures from windows or archways.

An sich können derartige Fehler vermieden werden, wenn ein entsprechend korrigierter Blenden- bzw. Belichtungszeitwert an der Kamera eingestellt wird. Während dies bei Kameras, bei welchen der Lichtwert von Hand aus auf die Einstellglieder an der Kamera übertragen werden muß, relativ einfach ist, ist eine Berücksichtigung der Beleuchtungskontraste bei gekuppelten Belichtungsmessern schwierig. Bei automatischen Belichtungs- bzw. Blendenreglern ist jedoch besonders bei wechselnden Lichtverhältnissen eine Korrektur überhaupt nicht möglich. Eine Korrektur des Blendenwertes bzw. der Belichtungszeit erfordert jedoch in jedem Fall ein tieferes Verständnis der Verhältnisse, wie es besonders bei weniger geübten Amateuren nur relativ selten anzutreffen ist.In principle, such errors can be avoided if a corresponding corrected aperture or exposure time value is set on the camera. While this is the case with cameras in which the light value is manually applied to the setting elements must be transmitted to the camera, is relatively simple, is a consideration the lighting contrasts with coupled light meters difficult. With automatic Exposure and aperture controls is particularly useful in changing light conditions a correction not possible at all. A correction of the aperture value or the In any case, exposure time requires a deeper understanding of the conditions as it is only found relatively rarely, especially with less experienced amateurs.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Einrichtung zu schaffen, die eine Korrektur der Anzeige der Belichtungsmeßeinrichtung auf sehr einfache Weise ermöglicht und damit auch den ungeübten Amateur in die Lage versetzt, bei Motiven mit starken Lichtkontrasten einwandfreie Aufnahmen zu erzielen.The object of the invention is to provide a device that has a Correction of the display of the exposure metering device is made possible in a very simple manner and thus enables even the inexperienced amateur to work with strong motifs Light contrasts to achieve perfect recordings.

Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, daß in den Sucherstrahlengang durchsichtige Masken einführbar sind, deren mittlere Zone eine vom übrigen Teil der Maske abweichende Lichtdurchlässigkeit aufweist, und mit diesen Masken an sich bekannte Einrichtungen, welche die Anzeige der Belichtungsmeßeinrichtung beeinflussen, gekuppelt sind. Dabei ist einer Maske mit einer gegenüber der Umgebung stärker absorbierenden Mittelzone eine Erhöhung und einer Maske mit einer gegenüber der Umgebung weniger absorbierenden Mittelzone eine Herabsetzung des Meßergebnisses der Belichtungsmeßeinrichtung zugeordnet. Der Benutzer muß daher nur durch Einführung der entsprechenden Maske versuchen, die Beleuchtungsunterschiede zwischen der Mittelzone des Sucherbildes und deren Umgebung herabzusetzen, wobei automatisch die Anzeige der Belichtungsmeßeinrichtung korrigiert wird.According to the invention this is achieved in that in the viewfinder beam path transparent masks can be inserted, the middle zone of which is one from the rest of the part the mask has different light transmission, and with these masks per se known devices which influence the display of the exposure metering device, are coupled. A mask with a mask is more absorbent than the environment Central zone an elevation and a mask with one less than the surrounding area absorbing central zone a reduction in the measurement result of the light metering device assigned. The user therefore only has to introduce the appropriate mask try the lighting differences between the central zone of the viewfinder image and reduce their surroundings, automatically displaying the exposure metering device is corrected.

Zweckmäßig erhöht bzw. vermindert die den Belichtungsmesser beeinflussende Einrichtung dessen Anzeige bei Einschaltung einer Maske etwa um einen Blendenwert (=3/1o° DIN), wobei vorzugsweise das Verhältnis der Lichtdurchlässigkeit der Mittelzone zur Lichtdurchlässigkeit der Randzone 2:1 bzw. 1:2 beträgt.Expediently increases or decreases the one influencing the exposure meter Setting up its display when a mask is switched on by about an aperture value (= 3/10 ° DIN), preferably the ratio of the light transmittance of the central zone to the light transmission of the edge zone is 2: 1 or 1: 2.

Es wurde festgestellt, daß eine Größe der Fläche der Mittelzone von einem Drittel der Gesamtfläche der Maske für die überwiegende Mehrzahl der Aufnahmen am zweckmäßigsten ist.It was found that a size of the area of the central zone of one third of the total area of the mask for the vast majority of the exposures is most appropriate.

Bei Kameras für ein Bildformat, dessen Seitenverhältnis wesentlich von dem üblichen Wert von 4:3 abweicht (z. B. bei Breitwandaufnahmen), ist es zweckmäßig, die Mittelzone der Suchermaske elliptisch oder rhomboidförmig auszuführen, wobei auch das Flächenverhältnis von dem angegebenen Wert abweichen kann.In cameras for an image format whose aspect ratio is essential deviates from the usual value of 4: 3 (e.g. for wide-screen recordings), it is advisable to the central zone of the finder mask should be elliptical or rhomboid, with the area ratio can also deviate from the specified value.

Zur Beeinflussung der Anzeige des Belichtungsmessers können Masken mit an sich bekannten Abdeckblenden für die Photozelle oder mit elektrischen Schaltern gekuppelt sein, welche in an sich bekannter Weise im Stromkreis der Photozelle Widerstände ein- bzw. ausschalten. Durch letztere Anordnung wird der Aufbau der Kamera in keiner Weise beeinflußt, da mechanische Kupplungen zwischen den Masken und der Bel ichtung smeßeinrichtung'fehl en: Die Erfindung wird im folgenden an Hand von in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.Masks can be used to influence the display of the exposure meter with known cover panels for the photocell or with electrical switches coupled be, which in a known manner in the circuit of the photocell resistors switch on or off. With the latter arrangement, the structure of the camera is not in any way Affected way, because mechanical couplings between the masks and the exposure smeßeinrichtung'fehl en: The invention is illustrated below with reference to in the drawing illustrated embodiments explained in more detail.

Fig. 1 zeigt einen Querschnitt durch eine Schmalfilmkamera, wobei die Teile, die zum Verständnis der Erfindung nicht erforderlich sind, weggelassen wurden; Fig. 2 ist ein vereinfachtes Schaltschema einer weiteren Ausführungsform gemäß der Erfindung.Fig. 1 shows a cross section through a narrow film camera, wherein the parts that are not necessary for an understanding of the invention are omitted became; Fig. 2 is a simplified circuit diagram of a further embodiment according to the invention.

Gemäß Fig. 1 ist im Inneren des Gehäuses 1 einer Schmalfilmkamera ein Schieber 2 angeordnet, der zwei verschiedene Masken aufweist. Die Maske 3 besitzt eine glasklare Mittelzone 3 a, während der übrige Teil der Maske mit einem Graubelag versehen ist. Die Mittelzone 4a der :Maske 4 ist demgegenüber mit einem Graubelag versehen, während die Randzone glasklar ausgeführt ist. Zwischen den Masken 3 und 4 ist ein Fenster 5 angeordnet, das gegebenenfalls mit Klarglas versehen sein kann. In der gezeichneten Stellung befindet sich das Fenster 5 im Strahlengang des Suchers der Kamera. Der Schieber 2 kann mittels eines Griffes 6 vertikal verschoben werden, so daß die Masken 3 und 4 in den Strahlengang des Suchers eingeführt werden können. Um zu verhindern, daß der Schieber in Zwischenstellung stehenbleibt, ist ein Sprung- bzw. Rastwerk vorgesehen, welches im dargestellten Beispiel aus einer Kurvenbahn 7 und einer federnd gelagerten Rolle 8 besteht. Mit dem Schieber 2 ist eine Blende 13 gekuppelt, welche die Photozelle 14 je nach der Stellung des Schiebers 2 verschieden stark abdeckt. Gegenüber bisher üblichen Photozellen ist die verwendete Zelle 14 etwas größer bzw. leistungsfähiger, da bei normaler Aufnahme gemäß der in Fig. 1 gezeigten Stellung ein Teil der Zelle abgedeckt ist. Die Abdeckung der Photozelle hat den Vorteil, daß die Charakteristik der Belichtungsmeßeinrichtung nicht verändert wird, kann jedoch manchmal aus baulichen Gründen schwer zu realisieren sein. Die gezeigte Kamera weist einen an sich bekannten gekuppelten Belichtungsmesser auf, bei welchem durch Verdrehen des Blendenstellhebels 9 des Kameraobjektivs 10 unter Zwischenschaltung geeigneter Kuppeleinrichtungen der im Sucher sichtbare Zeiger 11 des Belichtungsmessers verstellbar ist und mit einem im Sucher angeordneten Fadenkreuz 12 od. dgl. zur Deckung gebracht wird. Die Kupplung zwischen Objektivblende und Belichtungsmesser kann in an sich bekannter Weise durch Einschaltung von Widerständen im Photozellenstromkreis oder durch Verstellen einer Blende vor der Photozelle erfolgen.According to FIG. 1, a narrow film camera is inside the housing 1 a slide 2 is arranged, which has two different masks. The mask 3 has a crystal clear central zone 3 a, while the remaining part of the mask is covered with gray is provided. In contrast, the central zone 4a of the mask 4 has a gray coating provided, while the edge zone is made crystal clear. Between masks 3 and 4 a window 5 is arranged, which can optionally be provided with clear glass. In the position shown, the window 5 is in the beam path of the viewfinder the camera. The slide 2 can be moved vertically by means of a handle 6, so that the masks 3 and 4 can be inserted into the beam path of the viewfinder. To prevent the slide from stopping in the intermediate position, a jump or locking mechanism is provided, which in the example shown consists of a curved path 7 and a spring-loaded roller 8 consists. With the slide 2 is a diaphragm 13 coupled, which the photocell 14 depending on the position of the slide 2 different heavily covers. The cell used is 14 compared to the previously customary photocells somewhat larger or more powerful, since with normal recording according to the in Fig. 1 part of the cell is covered. The cover of the photocell has the advantage that the characteristics of the exposure metering device do not change However, it can sometimes be difficult to implement for structural reasons. the The camera shown has a known coupled exposure meter, in which by turning the diaphragm adjusting lever 9 of the camera lens 10 below Interposition of suitable coupling devices of the pointer visible in the viewfinder 11 of the exposure meter is adjustable and with a crosshair arranged in the viewfinder 12 or the like. Is brought to cover. The coupling between lens hood and Exposure meter can be used in a manner known per se by switching on resistors in the photocell circuit or by adjusting a panel in front of the photocell.

Bei der Aufnahme unter extremen Beleuchtungsverhältnissen, z. B. bei Gegenlichtaufnahmen, wird durch Verstellen des Schiebers 2 die Maske 3 in das Sucherbild eingeführt, wodurch die Umgebung des eigentlichen Aufnahmeobjektes durch den Graubelag der Maske abgedeckt wird und die Beleuchtungskontraste vermindert werden. Hingegen wird bei Aufnahmen, beispielsweise aus Fenstern oder Torbögen, die Maske 4 in den Strahlengang des Suchers eingeführt. Der Benutzer muß daher bei starken Lichtkontrasten durch Verstellen des Schiebers 2 lediglich versuchen, die Lichtkontraste des Aufnahmebildfeldes auszugleichen, wodurch selbsttätig die Anzeige des Belichtungsmessers korrigiert wird. Fig. 2 zeigt eine andere Ausführungsform, die bezüglich ihres Einbaues in die Kamera verschiedene Vorteile mit sich bringt. Mit 14 ist die Photozelle, mit 15 das Meßsvstem bezeichnet. 16 und 17 sind Parallelwiderstände, die durch mit den Masken 3, 4 gekuppelte Schalter 18 und 19 in den Photozellenstromkreis eingeschaltet werden können. In der gezeigten Stellung ist nur der Widerstand 17 eingeschaltet, wobei im Sucher das Klarglasfenster 5 eingeführt ist (vgl. Fig. 1). Wird die Maske 3 in das Sucherbild eingeschaltet, so wird der Schalter 18 geschlossen, befindet sich hingegen die Maske 4 im Strahlengang des Suchers, so sind beide Schalter 18, 19 geöffnet, so daß die Widerstände wirkungslos sind. An sich ist auch eine Kombination der Ausführungen gemäß Fig.1 und 2 möglich.When recording under extreme lighting conditions, e.g. B. at Backlit shots, by moving the slide 2, the mask 3 is in the viewfinder image introduced, whereby the environment of the actual subject through the gray coating the mask is covered and the lighting contrasts are reduced. On the other hand is when recording, for example from windows or arches, the mask 4 in the Beam path of the viewfinder introduced. The user must therefore with strong light contrasts simply try to adjust the light contrasts of the recording image field by adjusting the slide 2 compensate, which automatically corrects the display of the exposure meter will. Fig. 2 shows another embodiment which, with regard to its installation in the camera has several advantages. At 14 there is the photocell, with 15 denotes the measuring system. 16 and 17 are parallel resistors that go through with the Masks 3, 4 coupled switches 18 and 19 switched on in the photocell circuit can be. In the position shown, only the resistor 17 is switched on, the clear glass window 5 being inserted in the viewfinder (see FIG. 1). Will the mask 3 switched into the viewfinder image, the switch 18 is closed, is located on the other hand, if the mask 4 is in the beam path of the viewfinder, both switches 18, 19 open so that the resistors are ineffective. In itself there is also a combination the designs according to Fig. 1 and 2 possible.

Die dargestellten Ausführungsbeispiele können in verschiedener Weise abgeändert werden. So können beispielsweise die Masken 3, 4 auf einem schwenkbaren Träger angeordnet sein. Es ist auch denkbar, die Masken als Teile eines flexiblen Bandes auszubilden, das über Rollen geführt ist und gegebenenfalls aufgewickelt wird. Die Masken selbst können durch entsprechendes Belichten von lichtempfindlichen Platten bzw. Filmen hergestellt werden. Es können jedoch auch Gläser, wie sie unter den Markenbezeichnungen Umbral oder Neophan im Handel erhältlich sind, verwendet werden.The illustrated embodiments can be used in various ways be modified. For example, the masks 3, 4 on a pivotable Be arranged carrier. It is also conceivable to use the masks as parts of a flexible one Forming tape that is guided over rollers and wound up if necessary will. The masks themselves can be exposed to light-sensitive Plates or films are produced. However, glasses like those below can also be used the brand names Umbral or Neophan are commercially available will.

Die Erfindung ist besonders für gekuppelte Belichtungsmesser und automatische Belichtungs- bzw. Blendenregler geeignet, jedoch nicht auf solche beschränkt.The invention is particularly useful for coupled light meters and automatic ones Exposure or aperture regulator suitable, but not limited to such.

Es ist auch nicht erforderlich, den Belichtungsmesser in eine Kamera einzubauen. So kann beispielsweise der Belichtungsmesser mit einem sogenannten Motivsucher vereinigt werden.It is also not necessary to have the light meter in a camera to be built in. For example, the exposure meter can be equipped with a so-called motif finder be united.

Claims (1)

PATENTANSPRÜCHE: 1. Mit einer Suchereinrichtung vereinigte Belichtungsmeßeinrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß in den Sucherstrahlengang durchsichtige Masken (3, 4) einführbar sind, deren mittlere Zone (3a, 4a) eine vom übrigen Teil der Maske abweichende Lichtdurchlässigkeit aufweist und mit diesen Masken an sich bekannte Einrichtungen (13, 16, 17), welche die Anzeige der Belichtungsmeßeinrichtung beeinflussen, gekuppelt sind. z. Belichtungsmeßeinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Maske mit einer gegenüber der Umgebung stärker absorbierenden Mittelzone vorgesehen und mit einer Einrichtung gekuppelt ist, die das Meßergebnis der Belichtungsmeßeinrichtung erhöht, wenn die Maske in den Sucherstrahlengang eingeführt ist. 3. Belichtungsmeßeinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Maske mit einer gegenüber der Umgebung weniger absorbierenden Mittelzone vorgesehen und mit einer Einrichtung gekuppelt ist, die das Meßergebnis der Belichtungsmeßeinrichtung herabsetzt, wenn die Maske in den Sucherstrahlengang eingeführt ist. 4. Belichtungsmeßeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß bei Einschaltung einer Maske (3, 4) in den Sucherstrahlengang die Anzeige des Belichtungsmessers um einen Blendenwert (3/1o° DIN) erhöht bzw. vermindert wird. 5. Belichtungsmeßeinrichtung nach einem der vorhergehendenAnsprüche,dadurch gekennzeichnet, dar das Verhältnis der Lichtdurchlässigkeit der Mittelzone (3a, 4a) zur Randzone der Maske (3, 4) 2:1. bzw. 1:2 beträgt. 6. Belichtungsmeßeinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Fläche der Mittelzone (3a, 4a) etwa ein Drittel der Gesamtfläche der Maske (3. 4) beträgt. 7. Belichtungsmeßeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittelzone kreisförmig ist. B. Belichtungsmeßeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die die Anzeige des Belichtungsmessers beeinflussenden Einrichtungen, die mit den durchsichtigen Masken gekuppelt sind, aus an sich bekannten Abdeckblenden (13) für die Photozelle bestehen. 9. Belichtungsmeßeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die die Anzeige des Belichtungsmessers beeinflussenden Einrichtungen, die mit den durchsichtigen Masken gekuppelt sind, aus an sich bekannten Anordnungen zur Beeinflussung der Anzeige des Belichtungsmessers mit Hilfe von zu- und abschaltbaren Widerständen (16, 17) im Photozellenstromkreis bestehen. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 751203. PATENT CLAIMS: 1. Exposure measuring device combined with a viewfinder device, characterized in that transparent masks (3, 4) can be introduced into the viewfinder beam path, the middle zone (3a, 4a) of which has a light permeability that differs from the rest of the mask and with these masks per se known devices (13, 16, 17) which influence the display of the exposure metering device are coupled. z. Exposure measuring device according to Claim 1, characterized in that a mask is provided with a central zone which is more strongly absorbing than the surroundings and is coupled to a device which increases the measurement result of the exposure measuring device when the mask is introduced into the viewfinder beam path. 3. Exposure metering device according to claim 1 or 2, characterized in that a mask is provided with a central zone which is less absorbent than the surroundings and is coupled to a device which reduces the measurement result of the exposure metering device when the mask is inserted into the viewfinder beam path. 4. Exposure metering device according to one of claims 1 to 3, characterized in that when a mask (3, 4) is switched on in the viewfinder beam path, the display of the exposure meter is increased or decreased by an aperture value (3 / 1o ° DIN). 5. Exposure measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the ratio of the light transmittance of the central zone (3a, 4a) to the edge zone of the mask (3, 4) is 2: 1. or 1: 2. 6. Exposure measuring device according to one of the preceding claims, characterized in that the area of the central zone (3a, 4a) is approximately one third of the total area of the mask (3. 4). 7. Exposure measuring device according to one of claims 1 to 6, characterized in that the central zone is circular. B. Exposure metering device according to one of claims 1 to 7, characterized in that the devices influencing the display of the exposure meter, which are coupled to the transparent masks, consist of per se known cover panels (13) for the photocell. 9. Exposure metering device according to one of claims 1 to 7, characterized in that the devices influencing the display of the exposure meter, which are coupled to the transparent masks, consist of known arrangements for influencing the display of the exposure meter with the aid of switchable and disconnectable resistors (16, 17) exist in the photocell circuit. Documents considered: German Patent No. 751203.