DE102019205063A1 - Anordnungsverfahren für eine schutzfolie - Google Patents
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Abstract
Ein Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie zum Anordnen einer Schutzfolie an einer oberen Oberfläche eines Wafers, bei dem ein Bauelementbereich, der mehrere Bauelemente daran ausgebildet aufweist, und ein umfänglicher Zusatzbereich, der den Bauelementbereich umgibt, ausgebildet sind, wobei das Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie beinhaltet: einen ersten Vorbereitungsschritt für eine Schutzfolie zum Vorbereiten einer ersten Schutzfolie, die einen nicht haftvermittelnden Abschnitt entsprechend dem Bauelementbereich und einen haftvermittelnden Abschnitt, der eine haftvermittelnde Schicht aufweist, die in einer Umgebung eines nicht haftvermittelnden Abschnitts liegt, aufweist; einen Anbringungsschritt für eine Schutzfolie zum Anbringen der ersten Schutzfolie an dem umfänglichen Zusatzbereich; einen Anordnungsschritt für einen flüssigen Kunststoff zum Anordnen eines flüssigen Kunststoffs auf einem Bereich einer zweiten Schutzfolie; einen Integrationsschritt zum Integrieren der ersten Schutzfolie und der zweiten Schutzfolie miteinander; und einen Schneidschritt zum Schneiden der ersten Schutzfolie und der zweiten Schutzfolie.
Description
- HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- Technisches Gebiet
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie zum Anordnen einer Schutzfolie an einer oberen Oberfläche eines Wafers, bei dem ein Bauelementbereich, der mehrere Bauelemente darin ausgebildet aufweist, und ein umgebender zusätzlicher Bereich, der den Bauelementbereich umgibt, ausgebildet sind.
- Beschreibung des Stands der Technik
- Eine Schleifvorrichtung schleift die untere Oberfläche eines Wafers, der mehrere Bauelemente wie integrierte Schaltungen (ICs), Large-Scale-Integrations (LSIs) oder dergleichen aufweist, die durch geplante Teilungslinien aufgeteilt sind und an einer oberen Oberfläche des Wafers ausgebildet sind. Der Wafer wird dadurch auf eine vorbestimmte Dicke ausgebildet. Eine Teilungsvorrichtung, eine Laserbearbeitungsvorrichtung oder dergleichen teilen danach den Wafer in einzelne Bauelemente. Jedes der einzelnen Bauelemente wird in einer elektrischen Vorrichtung wie einem Mobiltelefon, einem Personalcomputer oder dergleichen verwendet.
- Die Schleifvorrichtung wird im Allgemeinen aus einem Einspanntisch, der den Wafer ansaugend hält, einem Schleifmittel, das drehbar eine Schleifscheibe zum Schleifen des Wafers, der an dem Einspanntisch gehalten ist, trägt, und ein Zufuhrmittel, welches das Schleifmittel zum Schleifen zuführt. Die Schleifvorrichtung kann den Wafer auf einer gewünschten Dicke fertigstellen. (Siehe zum Beispiel das
japanische Patent mit der Nummer 3556399 - Zusätzlich in einem Fall des Schleifens der unteren Oberfläche des Wafers, die mehrere hervorstehende Elektroden aufweist, die an jedem der Bauelemente ausgebildet ist, die hervorstehende Elektroden werden als Erhöhung bezeichnet, wird eine Schutzfolie, die eine haftvermittelnde Schicht (Klebstoffschicht) einer Dicke aufweist, die dazu geeignet ist, die hervorstehenden Elektroden aufzunehmen, an der oberen Oberflache des Wafers fixiert. Dadurch wird verhindert, dass der Wafer mit den hervorstehenden Elektroden als Beschädigungsstartpunkte beschädigt wird, wenn ein Kontaktdruck der Schleifscheibe sich an den hervorstehenden Elektroden konzentriert.
- DARSTELLUNG DER ERFINDUNG
- Jedoch, wenn eine Schutzfolie von der oberen Oberfläche des Wafers abgelöst wird, nachdem die untere Oberfläche des Wafers geschliffen wurde, bleibt ein Teil einer haftvermittelnden Schicht an den hervorstehenden Elektroden über. Es existieren folglich Probleme, dass die Qualität abnimmt und eine Trennung oder dergleichen auftritt.
- Es ist entsprechend ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie bereitzustellen, das die Beschädigung eines Wafers aufgrund von hervorstehenden Elektroden verhindern kann, sogar wenn die mehreren hervorstehenden Elektroden an der oberen Oberfläche eines Bauelements ausgebildet sind, und nicht dazu führt, dass die haftvermittelnde Schicht an den hervorstehenden Elektroden überbleibt, sogar wenn die Schutzfolie von der oberen Oberfläche des Wafers abgelöst wird.
- In Übereinstimmung mit einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie zum Anordnen einer Schutzfolie an einer oberen Oberfläche eines Wafers bereitgestellt, an dem ein Bauelementbereich und ein umfänglicher Zusatzbereich ausgebildet sind, wobei mehrere Bauelemente an dem Bauelementbereich ausgebildet sind und der umfängliche Zusatzbereich den Bauelementbereich umgibt, wobei das Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie beinhaltet: einen ersten Vorbereitungsschritt für eine Schutzfolie zum Vorbereiten einer ersten Schutzfolie, die einen nicht anhaftenden Abschnitt entsprechend dem Bauelementbereich und einen haftvermittelnden Abschnitt aufweist, der eine haftvermittelnde Schicht aufweist, die in einer Umgebung des nicht haftvermittelnden Abschnitts liegt; einen Anbringungsschritt für eine Schutzfolie zum Positionieren des Wafers in einem Öffnungsabschnitt eines Rahmens, der den offenen Abschnitt zum Aufnehmen des Wafers aufweist, Positionieren des nicht haftvermittelnden Abschnitts der ersten Schutzfolie an dem Bauelementbereich des Wafers, Positionieren des haftvermittelnden Abschnitts an dem umgebenden Zusatzbereich und dem Rahmen und Fixieren der ersten Schutzfolie an dem umfänglichen Zusatzbereich und dem Rahmen; einen Kassettenaufnahmeschritt zum Aufnehmen des Wafers, der in dem Rahmen durch die Schutzfolie angeordnet ist, in einer Kassette; einen ersten Tischplatzierungsschritt zum Herausnehmen des Wafers, der in dem Rahmen durch die erste Schutzfolie angeordnet ist, aus der Kassette und platzieren des Wafers, der in dem Rahmen durch die erste Schutzfolie angeordnet ist, an einem ersten Tisch; einen Legeschritt zum Legen einer zweiten Schutzfolie, die keine haftvermittelnde Schicht aufweist, auf einen zweiten Tisch; einen Aufbringungsschritt für flüssigen Kunststoff zum Tragen des Rahmens und Abnehmen des Wafers von dem ersten Tisch, um die erste Schutzfolie der zweiten Schutzfolie zuzuwenden, und Aufbringen eines flüssigen Kunststoffs auf einem Bereich der zweiten Schutzfolie, wobei der Bereich dem Zentrum des Wafers entspricht; einen Integrierungsschritt zum Verteilen des flüssigen Kunststoffs über einer gesamten Oberfläche entsprechend dem Wafer durch die zweite Schutzfolie und der ersten Schutzfolie durch Drücken des Wafers gegen den flüssigen Kunststoff mit der ersten Schutzfolie und Anbringen der ersten Schutzfolie an der zweiten Schutzfolie und Integrieren der ersten Schutzfolie und der zweiten Schutzfolie miteinander; und einen Schneidschritt zum Schneiden der ersten Schutzfolie und der zweiten Schutzfolie entlang eines äußeren Umfangs des Wafers.
- Vorzugsweise beinhaltet das Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie ferner einen Extraktionsschritt für eine Zentrumskoordinate zum Detektieren des äußeren Umfangs des Wafers, der an dem ersten Tisch platziert ist, und Extrahieren von Zentrumskoordinaten des Wafers und in dem Schneidschritt werden die erste Schutzfolie und die zweite Schutzfolie entlang des äußeren Umfangs des Wafers auf der Basis der Zentrumkoordinaten des Wafers geschnitten. Vorzugsweise wird in dem Aufbringungsschritt für flüssigen Kunststoff ein flüssiger Kunststoff auch auf einem Bereich der ersten Schutzfolie aufgebracht, wobei der Bereich dem Zentrum des Wafers entspricht. Vorzugsweise, wird in dem Integrationsschritt der zweite Tisch durch einen transparenten Körper ausgebildet und der flüssige Kunststoff wird durch Bestrahlen des flüssigen Kunststoffs mit ultraviolettem Licht durch den zweiten Tisch und die zweite Schutzfolie ausgehärtet. Bevorzugt wird nach dem Schneidschritt der Wafer, an dem die erste Schutzfolie und zweite Schutzfolie angeordnet sind, in einer Kassette zum Aufnehmen des Wafers eingehaust.
- Entsprechend einem anderen Weg der vorliegenden Erfindung ist ein Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie zum Anordnen einer Schutzfolie an einer oberen Fläche eines Wafers bereitgestellt, an dem ein Bauelementbereich und ein umfänglicher Zusatzbereich ausgebildet sind, mehrere Bauelemente an dem Bauelementbereich ausgebildet sind und der umfängliche Zusatzbereich den Bauelementbereich umgibt, wobei das Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie beinhaltet: einen Vorbereitungsschritt zum Vorbereiten des Wafers, der in einem Rahmen durch eine erste Schutzfolie angeordnet ist, durch Positionieren des Wafers in einem Öffnungsabschnitt des Rahmens, der den Öffnungsabschnitt zum Aufnehmen des Wafers aufweist, Positionieren eines nicht haftvermittelnden Abschnitts der ersten Schutzfolie an dem Bauelementbereich des Wafers, wobei die erste Schutzfolie den nicht haftvermittelnden Abschnitt entsprechend dem Bauelementbereich und einen haftvermittelnden Abschnitt, der eine haftvermittelnde Schicht beinhaltet, an einer Umgebung des nicht haftvermittelnden Abschnitts aufweist, Positionieren des haftvermittelnden Abschnitts an dem umgebenden Zusatzbereich und dem Rahmen und Fixieren der ersten Schutzfolie an dem umgebenden Zusatzbereich und dem Rahmen; einen ersten Tischplatzierungsschritt zum Platzieren des Wafers, der in dem Rahmen durch die erste Schutzfolie angeordnet ist, an einem ersten Tisch; einen Legeschritt zum Legen einer zweiten Schutzfolie, die keine haftvermittelnde Schicht aufweist, auf einen zweiten Tisch; einen Aufbringungsschritt für flüssigen Kunststoff zum Tragen des Rahmens und Entfernen des Wafers von dem ersten Tisch, um die erste Schutzfolie der zweiten Schutzfolie zuzuwenden, und Aufbringen eines flüssigen Kunststoffs auf einen Bereich der zweiten Schutzfolie, wobei der Bereich dem Zentrum des Wafers entspricht; einen Integrationsschritt zum Verteilen des flüssigen Kunststoffs über eine gesamte Oberfläche entsprechend dem Wafer durch die zweite Schutzfolie und die erste Schutzfolie durch Drücken des Wafers gegen den flüssigen Kunststoff durch die erste Schutzfolie und Fixieren der ersten Schutzfolie an der zweiten Schutzfolie und Integrieren der ersten Schutzfolie und der zweiten Schutzfolie miteinander; und einen Schneidschritt zum Schneiden der ersten Schutzfolie und der zweiten Schutzfolie entlang eines äußeren Umfangs des Wafers.
- Entsprechend der vorliegenden Erfindung, sogar wenn mehrere hervorstehende Elektroden an der oberen Oberfläche eines Bauelements ausgebildet sind, werden die hervorstehenden Elektroden durch die erste Schutzfolie, den flüssigen Kunststoff und die zweite Schutzfolie aufgenommen. Es ist darum möglich, eine Beschädigung des Wafers aufgrund der hervorstehenden Elektroden, wenn eine Schleifvorrichtung die untere Oberflache des Wafers schleift, zu verhindern. Zusätzlich entsprechend der vorliegenden Erfindung kommt der nicht anhaftende Abschnitt, der keine haftvermittelnde Schicht aufweist, in Kontakt mit dem Bauelementbereich und der haftvermittelnde Abschnitt ist an dem umfänglichen Zusatzbereich angebracht, an dem keine Bauelemente ausgebildet sind. Folglich bleibt die haftvermittelnde Schicht nicht an den hervorstehenden Elektroden über, sogar wenn die erste Schutzfolie von der oberen Oberfläche des Wafers abgelöst wird, sodass Probleme des Nachlassens der Qualität der Bauelemente und das Auftreten von Verbindungsfehlern und dergleichen gelöst werden kann.
- Das obige und andere Ziele, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung und die Weise des Realisierens dieser wird klarer und die Erfindung selbst am besten durch ein Studieren der folgenden Beschreibung und der beigefügten Ansprüche mit Bezug zu den angehängten Figuren, die eine bevorzugte Ausfuhrungsform der Erfindung zeigen, verstanden.
- Figurenliste
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1A ist eine perspektivische Ansicht eines Wafers, eines Rahmens und eines Vakuumtischs; -
1B ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand darstellt, in dem der Wafer und der Rahmen an dem Vakuumtisch platziert sind; -
2 ist eine perspektivische Ansicht einer ersten Schutzfolie; -
3 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand darstellt, in dem die erste Schutzfolie an einem umfänglichen Zusatzbereich und dem Rahmen angebracht ist; -
4 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem die erste Schutzfolie durch eine Rolle gedrückt wird; -
5 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem eine erste Schutzfolie geschnitten wird; -
6 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem ein Kassettenaufnahmeschritt durchgeführt wird; -
7 ist eine perspektivische Ansicht eines Zustands, in dem ein erster Tischplatzierungsschritt durchgeführt wird; -
8 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem ein Extrahierungsschritt für eine Zentrumskoordinate durchgeführt wird; -
9 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand darstellt, in dem ein Legeschritt durchgeführt wird; -
10 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem ein Aufbringungsschritt für flüssigen Kunststoff durchgeführt wird; -
11A ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand darstellt, in dem die erste Schutzfolie einer zweiten Schutzfolie zugewandt ist; -
11B ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand darstellt, in dem ein Integrationsschritt durchgeführt wird; -
12 ist eine Schnittansicht, die einen Zustand darstellt, in dem der Wafer, die erste Schutzfolie, die zweite Schutzfolie und ein flüssiger Kunststoff miteinander integriert sind; -
13 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand darstellt, in dem ein Schneidschritt durchgeführt wird; und -
14 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Zustand darstellt, in dem der Wafer, an dem die Schutzfolien angeordnet sind, in einer Kassette eingehaust ist. - DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM
- Eine Ausführungsform des Anordnungsverfahrens für eine Schutzfolie entsprechend der vorliegenden Erfindung wird im Folgenden mit Bezug zu den Figuren beschrieben.
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1A stellt einen Wafer2 dar, an dem eine Schutzfolie durch ein Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie entsprechend der vorliegenden Erfindung angeordnet werden soll. Eine obere Oberfläche2a des Wafers2 in der Form einer Scheibe ist durch mehrere rechteckige Teile durch geplante Teilungslinien4 in der Form eines Gitters aufgeteilt. Ein Bauelement6 wie ein IC, ein LSI oder dergleichen ist in jedem der mehreren rechteckigen Bereiche ausgebildet. Wie in1A dargestellt, beinhaltet die obere Oberfläche2a des Wafers2 einen Bauelementbereich8 , in dem mehrere Bauelemente6 ausgebildet sind, und einen umfänglichen Zusatzbereich10 , der den Bauelementbereich8 umgibt, und in dem keine Bauelemente6 ausgebildet sind. Zusätzlich, wie in einem Teil der Bauelemente6 vergrößert in1A dargestellt, sind mehrere hervorstehende Elektroden12 , die als Erhöhungen bezeichnet werden, an der oberen Oberfläche der Bauelemente6 ausgebildet. Gleichzeitig ist jede hervorstehende Elektrode12 mit einer Elektrode an einer Leiterplatte verbunden, wenn die geteilten Bauelemente6 an der Leiterplatte montiert werden. - In der Ausführungsform, die in den Figuren dargestellt ist, wird ein erster Vorbereitungsschritt für eine Schutzfolie zuerst durchgeführt, indem eine erste Schutzfolie, die eine nicht anhaftenden Abschnitt entsprechend dem Bauelementbereich
8 und einen haftvermittelnden Abschnitt, der eine haftvermittelnde Schicht beinhaltet, die in der Umgebung des nicht haftvermittelnden Abschnitts liegt, aufweist. Eine kreisförmige Folie, die mit Bezugszeichen14 in2 gekennzeichnet ist, ist ein Beispiel der ersten Schutzfolie, die in dem Vorbereitungsschritt für eine Schutzfolie vorbereitet wird. Die kreisförmige Folie weist einen kreisförmigen nicht haftvermittelnden Abschnitt14a entsprechend dem Bauelementbereich8 und einen ringförmigen haftvermittelnden Abschnitt14b (Abschnitt der durch das Schraffierte angegeben ist) auf, der eine haftvermittelnde Schicht beinhaltet, die in der Umgebung des nicht haftvermittelnde Abschnitts14a liegt. Mit Bezug zu1A und2 ist ein DurchmesserL3 des nicht haftvermittelnden Abschnitts14a , der keine haftvermittelnde Schicht aufweist, größer als ein DurchmesserL1 des Bauelementbereichs8 und kleiner als ein DurchmesserL2 des Wafers2 (L2 > L3 > L1) - Nachdem der erste Vorbereitungsschritt für eine Schutzfolie durchgeführt wurde, wird ein Anbringungsschritt für eine Schutzfolie durchgeführt, der den Wafer
2 an einem offenen Abschnitt eines Rahmens, der den offenen Abschnitt zum Aufnehmen des Wafers2 aufweist, den nicht haftvermittelnden Abschnitt14a der ersten Schutzfolie14 an dem Bauelementbereich8 des Wafers2 positioniert und den haftvermittelnden Abschnitt14b der ersten Schutzfolie14 an dem umfänglichen Zusatzbereich10 und den Rahmen positioniert und die erste Schutzfolie14 an dem umfänglichen Zusatzbereich10 und dem Rahmen fixiert. In dem Anbringungsschritt für eine Schutzfolie wird zunächst, wie in1A und1B dargestellt, der Wafer2 in einem offenen Abschnitt18a des ringförmigen Rahmens18 positioniert, der den Öffnungsabschnitt18a zum Aufnehmen des Wafers2 in einem Zustand aufweist, in dem die obere Oberfläche2a nach oben orientiert ist und der Wafer2 und der Rahmen18 sind an einem kreisförmigen Vakuumtisch20 platziert. Ein oberer Endteil des Vakuumtischs20 ist mit einem porösen kreisförmigen Vakuumteil22 bereitgestellt, das mit einem Saugmittel (nicht dargestellt) verbunden ist. - Als nächstes, wie in
3 dargestellt, wird ein nicht haftvermittelnder Abschnitt14a an dem Bauelementbereich8 positioniert, wobei der haftvermittelnde Abschnitt14b an dem umfänglichen Zusatzbereich10 und dem Rahmen18 positioniert wird und die erste Schutzfolie14 an dem umfänglichen Zusatzbereich10 und dem Rahmen18 fixiert wird. Gleichzeitig ist in3 der Einfachheit halber die erste Schutzfolie14 durch eine doppelt gestrichene Linie dargestellt, sodass der Wafer2 und ein innerer umfänglicher Kantenabschnitt des Rahmens18 , die unterhalb der ersten Schutzfolie14 liegen, sichtbar sind. Wie oben beschrieben ist der DurchmesserL3 des nicht haftvermittelnden Abschnitts14a größer als der DurchmesserL1 des Bauelementbereichs8 und ist kleiner als der DurchmesserL2 des Wafers2 (L2 > L3 > L1). Folglich, wenn die erste Schutzfolie14 an dem Wafer2 und dem Rahmen18 fixiert ist, kommt der nicht haftvermittelnde Abschnitt14a , der keine haftvermittelnde Schicht aufweist, in Kontakt mit dem Bauelementbereich8 und der haftvermittelnde Abschnitt14b ist an dem umfänglichen Zusatzbereich10 fixiert, an dem die Bauelemente6 nicht ausgebildet sind. Die haftvermittelnde Schicht kommt deshalb nicht in Kontakt mit den hervorstehenden Elektroden12 der Bauelemente Ziffer6 . - Als nächstes generiert das Saugmittel eine Saugkraft in einer oberen Oberfläche des Vakuumteils
22 und der Vakuumtisch20 saugt den Wafer2 , den Rahmen18 und die erste Schutzfolie14 an und halt diese. Wie in3 dargestellt, ist der Durchmesser der ersten Schutzfolie14 (äußerer Durchmesser des haftvermittelnden Abschnitts14b) größer als der Durchmesser des Vakuumteils22 . Folglich, wenn das Saugmittel betätigt wird, kann eine vorbestimmte Saugkraft an der oberen Oberfläche des Vakuumteils22 generiert werden. Als nächstes, wie in4 dargestellt, werden der Wafer2 und die erste Schutzfolie14 in engen Kontakt miteinander durch Drücken der ersten Schutzfolie14 durch eine Walze24 gebracht. Gleichzeitig, wenn die erste Schutzfolie14 gegen die Walze24 gedrückt wird, kann die erste Schutzfolie14 durch Aufwärmen weich gemacht werden, um einen engen Kontakt zwischen dem Wafer2 und der ersten Schutzfolie14 zu verbessern. Als nächstes, wie in5 dargestellt, wird die erste Schutzfolie14 , die an dem Rahmen18 liegt, durch eine geeignete Schneidvorrichtung wie einem Cutter, der eine drehbare kreisförmige Klinge oder dergleichen aufweist, geschnitten, um einen ringförmigen äußeren Teil der ersten Schutzfolie14 zu entfernen, wobei der ringförmige äußere Teil außerhalb der umfänglich geformten Schneidlinie28 liegt. Der Anbringungsschritt für eine Schutzfolie ist folglich durchgeführt. - Nachdem der Anbringungsschritt für eine Schutzfolie durchgeführt wurde, wie in
6 dargestellt, wird ein Kassettenaufnahmeschritt durchgeführt, der den Wafer2 , der in dem Rahmen18 durch die erste Schutzfolie14 an angeordnet ist, in einer Kassette30 aufnimmt. Der Kassettenaufnahmeschritt nimmt mehrere Wafer2 in der Kassette30 auf, wobei die untere Oberfläche2b des Wafers2 nach oben gerichtet ist (d. h. mit den ersten Schutzfolien14 nach oben gerichtet) . Dann wird die Kassette30 , welche die Wafer2 aufgenommen aufweist, zu einem Ort gefördert, an dem der folgende Schritt durchgeführt wird. - Nachdem der Kassettenaufnahmeschritt durchgeführt wurde, wie in
7 dargestellt, wird ein erster Tischplatzierungsschritt durchgeführt, der den Wafer2 , der in dem Rahmen18 durch die erste Schutzfolie14 angeordnet ist, aus der Kassette30 entnimmt und den Wafer2 an einem ersten Tisch32 platziert. Der erste Tisch32 in einer kreisförmigen Form in der Ausfuhrung, die in den Figuren dargestellt ist, ist dazu ausgestaltet auf der Basis eines Steuerungssignals von einem Steuerungsmittel (nicht dargestellt) gedreht zu werden. Zusätzlich speichert eine Aufnahmeeinheit des Steuerungsmittels die Größe des Rahmens18 , die Zentrumskoordinaten des ersten Tischs32 und der gleichen vorher. Dann in dem ersten Tischplatzierungsschritt wird der Wafer2 an dem ersten Tisch32 in einem Zustand platziert, in dem die untere Oberfläche2b nach oben orientiert ist, sodass eine Positionsbeziehung zwischen dem ersten Tisch32 und dem Rahmen18 eine vorbestimmte Positionsbeziehung ist. - In der Ausführungsform, die in den Figuren dargestellt ist, nachdem der erste Tischplatzierungsschritt durchgeführt wurde, wird ein Extraktionsschritt für eine Zentrumskoordinate durchgeführt, welche die Zentrumskoordinaten des Wafers
2 durch Detektieren des äußeren Umfangs des Wafers2 , der an dem ersten Tisch32 platziert ist, extrahiert. Wie in8 dargestellt nimmt das Bildaufnahmemittel34 , das oberhalb des Wafers2 positioniert ist, drei Punkte an dem äußeren Umfang des Wafers2 (drei Punkte die durch Bezugszeichen36a ,36b und36c in8 zum Beispiel dargestellt sind) auf, während der erste Tisch32 intermittierenden gedreht wird. Das Bildaufnahmemittel34 ist elektrisch mit dem oben beschriebenen Steuerungsmittel verbunden. Ein Bild, das durch das Bildaufnahmemittel34 aufgenommen wurde, wird in das oben beschriebene Steuerungsmittel eingegeben. Dann erhält das oben beschriebene Steuerungsmittel die Koordinatenposition der drei Punkte auf der Basis des Bilds, das durch das Bildaufnahmemittel34 aufgenommen wurde, und berechnet die Zentrumskoordinaten des Wafers2 auf Basis der Koordinaten der drei Punkte. Wie oben beschrieben, sind die Größe des Rahmens18 und die Zentrumskoordinaten des ersten Tischs32 bekannt und die Positionsbeziehung zwischen dem ersten Tisch32 in dem Rahmen18 ist eine vorbestimmte Positionsbeziehung. Folglich kann das Steuerungsmittel auch eine Beziehung zwischen der zentralen Position des Rahmens18 und der zentralen Position des Wafers2 auf der Basis der berechneten Zentrumskoordinaten des Wafers2 berechnen. Gleichzeitig kann der Extraktionsschritt für eine Zentrumskoordinate unmittelbar vor einem Schneidschritt durchgeführt werden, der später beschrieben wird. - Vor oder nach dem ersten Tischplatzierungsschritt oder dem Extraktionsschritt für eine Zentrumskoordinate oder zusammen mit dem ersten Tischplatzierungsschritt oder dem Extraktionsschritt für eine Zentrumskoordinate wird ein Legeschritt, wie in
9 dargestellt, durchgeführt, der eine zweite Schutzfolie40 , die keine haftvermittelnde Schicht aufweist, auf einen zweiten Tisch38 legt. In der Ausführungsform, die in den Figuren dargestellt ist, wird der zweite Tisch38 durch einen transparenten Körper (zum Beispiel Glas) ausgebildet und eine Bestrahlungsvorrichtung42 für ultraviolettes Licht wird unterhalb des zweiten Tischs38 angeordnet. - Nachdem der Legeschritt durchgeführt wurde, wie in
10 dargestellt, wird ein Aufbringungsschritt für flüssigen Kunststoff durchgeführt, der den Rahmen18 trägt und den Wafer2 von dem ersten Tisch32 nimmt, um die erste Schutzfolie14 der zweiten Schutzfolie40 zuzuwenden, und flüssigen Kunststoff44 (zum Beispiel einen ultraviolett aushärtenden Kunststoff) auf einem Bereich der zweiten Schutzfolie40 aufbringt, wobei der Bereich dem Zentrum des Wafers2 entspricht. Bei dem Aufbringungsschritt für einen flüssigen Kunststoff ist es bevorzugt, einen flüssigen Kunststoff44' (gleicher Kunststoff wie der Kunststoff, der auf die zweite Schutzfolie40 aufgebracht wurde) auch auf einem Bereich der ersten Schutzfolie14 aufzubringen, wobei der Bereich dem Zentrum des Wafers2 entspricht. Folglich, wenn der flüssige Kunststoff44 in einem Integrationsschritt, der im Folgenden beschrieben wird, verteilt wird, werden der flüssige Kunststoff44' an der ersten Schutzfolie14 und der flüssige Kunststoff44 an der zweiten Schutzfolie40 miteinander verbunden, sodass ein Auftreten von Luftblasen in dem flüssigen Kunststoff44 verhindert wird. - Nach dem der Aufbringungsschritt für ein flüssigen Kunststoff durchgeführt wurde, wie in
11A und11B dargestellt, wird ein Integrationsschritt durchgeführt, der den flüssigen Kunststoff44 über eine gesamte Oberfläche des Wafers2 verteilt, durch die zweite Schutzfolie40 und die erste Schutzfolie14 , indem der Wafer2 gegen den flüssigen Kunststoff44 durch die erste Schutzfolie14 gedrückt wird und die erste Schutzfolie14 an der zweiten Schutzfolie40 fixiert wird und die erste Schutzfolie14 und zweite Schutzfolie40 miteinander integriert werden. Wenn der Wafer2 in dem Integrationsschritt gedrückt wird, werden die untere Oberfläche2b des Wafers2 und die zweite Schutzfolie40 parallel zueinander ausgerichtet, indem das gesamte der unteren Oberfläche2b des Wafers2 gleichzeitig durch eine Presse (nicht dargestellt) gepresst wird, die eine Druckoberflache mit einer größeren Fläche als die Fläche des Wafers2 oder dergleichen aufweist. Zusätzlich in dem Fall, in dem ultraviolett aushärtender Kunststoff als der flussige Kunststoff44 verwendet wird, wird ultraviolettes Licht von der Bestrahlungsvorrichtung42 für ultraviolettes Licht durch den zweiten Tisch38 und die zweite Schutzfolie40 , ohne den flüssigen Kunststoff44 auszuhärten, aufgebracht. Der Wafer2 , der in dem Rahmen18 durch die erste Schutzfolie14 angeordnet ist, und die zweite Schutzfolie40 werden dadurch miteinander durch den flüssigen Kunststoff44 integriert. Wenn die erste Schutzfolie14 , der flüssige Kunststoff44 und die zweite Schutzfolie40 in einer geschichteten Weise an der oberen Oberfläche2a des Wafers2 angeordnet sind, werden die hervorstehenden Elektroden12 durch die erste Schutzfolie14 , den flüssigen Kunststoff44 und das zweite Schutzelement40 , wie in12 dargestellt, eingebettet. - Nachdem der Integrationsschritt durchgeführt wurde, wird ein Schneidschritt durchgeführt, der die erste Schutzfolie
14 und die zweite Schutzfolie40 entlang des äußeren Umfangs des Wafers2 schneidet. Der Schneidschritt kann durchgeführt werden, wobei der Wafer2 an einem Einspanntisch46 , der zum Beispiel in13 dargestellt ist, platziert ist. Der Durchmesser des Einspanntischs46 ist kleiner als der DurchmesserL2 des Wafers2 . Ein oberer Endteil des Einspanntischs46 ist mit einer porösen kreisförmigen Saugeinspannung48 bereitgestellt, die mit dem Saugmittel (nicht dargestellt) verbunden ist. Zusätzlich ist der Einspanntisch46 so ausgestaltet, dass er drehbar ist. - In dem Schneidschritt wird zunächst das Drehzentrum des Einspanntischs
46 und das Zentrum des Wafers2 miteinander ausgerichtet und in einem Zustand, in dem die untere Oberfläche2b des Wafers2 nach oben orientiert ist, wird der Wafer2 an dem Einspanntisch46 platziert, während der Rahmen18 getragen ist. In der Ausführungsform, die in Figuren dargestellt ist, nimmt die Aufnahmeeinheit des oben beschriebenen Steuerungsmittels auch die Zentrumskoordinaten des Einspanntischs46 vorher auf. Wenn der Wafer2 an dem Einspanntisch46 platziert ist, während der Rahmen18 getragen ist, werden das Drehzentrum des Einspanntischs46 und das Zentrum des Wafers2 miteinander auf der Basis der Beziehung zwischen der zentralen Position des Wafers2 und der zentralen Position des Rahmens18 ausgerichtet, wobei die Beziehung in dem Extraktionsschritt für eine Zentrumskoordinate berechnet wird. Als nächstes wird eine Schneidkante52 eines Schneidwerkzeugs oberhalb des äußeren Umfangs des Wafers2 positioniert. Als nächstes werden die erste Schutzfolie14 und die zweite Schutzfolie40 entlang des äußeren Umfangs des Wafers2 durch einen sich drehende Einspanntisch46 und Absenken der Schneidkante52 , die oberhalb des äußeren Umfangs des Wafers2 positioniert ist, geschnitten. Folglich in der Ausführungsform, die in den Figuren dargestellt ist, werden die erste Schutzfolie14 und die zweite Schutzfolie40 entlang des äußeren Umfangs des Wafers2 auf der Basis der Zentrumskoordinate des Wafers2 geschnitten, wobei die Zentrumskoordinaten in dem Extraktionsschritt für eine Zentrumskoordinate extrahiert werden. Dann, nachdem der Schneidschritt durchgeführt wurde, wird der Wafer2 , an dem die erste Schutzfolie14 und die zweite Schutzfolie40 angeordnet sind, in einer Kassette54 aufgenommen, die mehrere Wafer2 aufnehmen kann und die Kassette54 wird zu einer Schleifvorrichtung gebracht, welche die untere Oberfläche2b des Wafers2 schleift. - Wie oben beschrieben in der Ausführungsform, die in den Figuren dargestellt ist, sogar wenn mehrere hervorstehende Elektroden
12 an den oberen Oberflächen der Bauelemente6 ausgebildet sind, werden die hervorstehenden Elektroden12 durch die erste Schutzfolie14 , den flüssigen Kunststoff44 und die zweite Schutzfolie40 aufgenommen. Es ist darum möglich eine Beschädigung an dem Wafer2 aufgrund der hervorstehenden Elektroden12 zu verhindern, wenn die Schleifvorrichtung die untere Oberfläche2b des Wafers2 schneidet. Zusätzlich in der Ausführungsform, die in den Figuren dargestellt ist, kommt der nicht haftvermittelnde Abschnitt14a , der keine haftvermittelnde Schicht aufweist, in Kontakt mit dem Bauelementbereich8 und der haftvermittelnde Abschnitt14b an dem umfänglichen Zusatzbereich10 fixiert ist, in dem keine Bauelemente6 ausgebildet sind. Folglich bleibt die haftvermittelnde Schicht nicht an den hervorstehenden Elektroden12 über, sogar wenn die erste Schutzfolie14 von der oberen Oberfläche2a des Wafers2 gelöst wird, sodass Probleme einer abnehmenden Qualität der Bauelemente6 und eines Verursachens eines Trennens oder dergleichen gelöst werden können. - Gleichzeitig in der Ausführungsform, die in den Figuren dargestellt ist, wurde ein Beispiel beschrieben, das den Vorbereitungsschritt für eine erste Schutzfolie, den Anbringungsschritt für eine Schutzfolie und den Kassettenaufnahmeschritt beinhaltet. Jedoch muss das Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie entsprechend der vorliegenden Erfindung diese Schritte nicht beinhalten. D. h., wenn ein Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie entsprechend der vorliegenden Erfindung durchgeführt wird, kann das Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie entsprechend der vorliegenden Erfindung erst mit einem Vorbereitungsschritt zum Vorbereiten eines Wafers
2 , der in einem Rahmen18 durch eine erste Schutzfolie14 angeordnet ist (siehe6 ), begonnen werden. Der Wafer2 , der in dem Vorbereitungsschritt vorbereitet wird, wird detailliert beschrieben, wobei der Wafer2 , der in dem Rahmen18 durch die erste Schutzfolie14 angeordnet ist, durch Positionieren des Wafers2 in einem offenen Abschnitt18a des Rahmens18 , der einen offenen Abschnitt18a zum Aufnehmen des Wafers2 aufweist, Positionieren eines nicht haftvermittelnden Abschnitts14a der ersten Schutzfolie14 an einem Bauelementbereich8 des Wafers2 , wobei die erste Schutzfolie14 einen nicht haftvermittelnden Abschnitt14a entsprechend dem Bauelementbereich8 des Wafers2 und einen haftvermittelnden Abschnitt14b , der eine haftvermittelnde Schicht beinhaltet, der in der Umgebung des nicht haftvermittelnden Abschnitts14a liegt, aufweist, Positionieren des haftvermittelnden Abschnitts14b an einem umfänglichen Zusatzbereich10 des Wafers2 an dem Rahmen18 und Fixieren der ersten Schutzfolie14 an dem umfänglichen Zusatzbereich10 und dem Rahmen18 vorbereitet wird. Danach, nachdem der Vorbereitungsschritt durchgeführt wurde, wird der erste Tischplatzierungsschritt durchgeführt, der den Wafer2 , der in dem Rahmen18 durch die Schutzfolie14 angeordnet ist, an einem ersten Tisch32 platziert. Nachdem der erste Tischplatzierungsschritt durchgeführt wurde, wird mindestens der Legeschritt, der Aufbringungsschritt für flüssigen Kunststoff, der Integrationsschritt und der Schneidschritt wie in der vorgenannten Ausführungsform durchgeführt. - Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die Details der oben beschriebenen bevorzugten Ausführungsform beschrankt. Der Umfang der Erfindung wird durch die angehängten Ansprüche definiert und alle Änderungen und Modifikationen, die in das Äquivalente des Umfangs der Ansprüche fallen, werden dadurch durch die Erfindung umfasst.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
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- JP 3556399 [0003]
Claims (6)
- Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie zum Anordnen einer Schutzfolie an einer oberen Oberflache eines Wafers, an dem ein Bauelementbereich und ein umfänglicher Zusatzbereich ausgebildet sind, mehrere Bauelemente an dem Bauelementbereich ausgebildet sind und der umfängliche Zusatzbereich den Bauelementbereich umgibt, das Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie aufweist: einen ersten Vorbereitungsschritt für eine Schutzfolie zum Vorbereiten einer ersten Schutzfolie, die einen nicht anhaftenden Abschnitt entsprechend dem Bauelementbereich und einen anhaftenden Abschnitt, der eine haftvermittelnde Schicht in einer Umgebung des nicht anhaftenden Abschnitts aufweist, aufweist; einen Anbringungsschritt für eine Schutzfolie zum Positionieren des Wafers in einem Öffnungsabschnitt eines Rahmens, der den Öffnungsabschnitt zum Aufnehmen des Wafers aufweist, Positionieren des nicht haftvermittelnden Abschnitts der ersten Schutzfolie an dem Bauelementbereich des Wafers, Positionieren des haftvermittelnden Abschnitts an dem umgebenden Zusatzbereich und dem Rahmen und Anbringen der ersten Schutzfolie an dem umfänglichen Zusatzbereich und dem Rahmen; einen Kassettenaufnahmeschritt zum Aufnehmen des Wafers, der in dem Rahmen durch die erste Schutzfolie angeordnet ist, in einer Kassette; einen ersten Tischplatzierungsschritt zum Herausnehmen des Wafers, der in dem Rahmen durch die erste Schutzfolie angeordnet ist, aus der Kassette und Platzieren des Wafers, der in dem Rahmen durch die erste Schutzfolie angeordnet ist, an einem Tisch; einen Legeschritt zum Legen einer zweiten Schutzfolie, die keine haftvermittelnde Schicht aufweist, auf einen zweiten Tisch; einen Anordnungsschritt für flüssigen Kunststoff zum Tragen des Rahmens und Herausnehmen des Wafers von dem ersten Tisch, um die erste Schutzfolie der zweiten Schutzfolie zuzuwenden, und Anordnen eines flüssigen Kunststoffs an einem Bereich der zweiten Schutzfolie, wobei der Bereich dem Zentrum des Wafers entspricht; einen Integrationsschritt zum Verteilen des flüssigen Kunststoffs über die gesamte Oberfläche entsprechend dem Wafer durch die zweite Schutzfolie und die erste Schutzfolie, indem der Wafer gegen den flüssigen Kunststoff durch die erste Schutzfolie gedrückt wird, und Anbringen der ersten Schutzfolie an der zweiten Schutzfolie und Integrieren der ersten Schutzfolie und zweiten Schutzfolie miteinander; und einen Schneidschritt zum Schneiden der ersten Schutzfolie und der zweiten Schutzfolie entlang eines äußeren Umfangs des Wafers.
- Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie nach
Anspruch 1 , ferner aufweisend: Einen Extraktionsschritt für eine Zentrumskoordinate zum Detektieren des äußeren Umfangs des Wafers, der an dem ersten Tisch platziert ist, und Extrahieren von Zentrumskoordinaten des Wafers, wobei in dem Schneidschritt die erste Schutzfolie und die zweite Schutzfolie entlang des äußeren Umfangs des Wafers auf der Basis der Zentrumskoordinaten des Wafers geschnitten werden. - Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie nach
Anspruch 1 oder2 , wobei in dem Anordnungsschritt für flüssigen Kunststoff ein flüssiger Kunststoff auch auf einem Bereich der ersten Schutzfolie aufgebracht wird, wobei der Bereich dem Zentrum des Wafers entspricht. - Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei in dem Integrationsschritt der zweite Tisch durch einen transparenten Körper ausgebildet ist und der flüssige Kunststoff durch Bestrahlen des flüssigen Kunststoffs mit ultraviolettem Licht durch den zweiten Tisch und die zweite Schutzfolie ausgehärtet wird.
- Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei nach dem Schneidschritt der Wafer, an dem die erste Schutzfolie und die zweite Schutzfolie angeordnet sind, in einer Kassette zum Aufnehmen des Wafers aufgenommen wird.
- Anordnungsverfahren für eine Schutzfolie zum Anordnen einer Schutzfolie an einer oberen Oberfläche eines Wafers, bei der ein Bauelementbereich und ein umfänglicher Zusatzbereich ausgebildet sind, wobei mehrere Bauelemente an dem Bauelementbereich ausgebildet sind und der umfängliche Zusatzbereich den Bauelementbereich umgibt, das Anordnungsverfahren für ein Schutzelement aufweist: einen Vorbereitungsschritt zum Vorbereiten eines Wafers, der in einem Rahmen durch eine ersten Schutzfolie angeordnet ist, durch Positionieren des Wafers in einem offenen Abschnitt des Rahmens, der den offenen Abschnitt zum Aufnehmen des Wafers aufweist, Positionieren eines nicht haftvermittelnden Abschnitts, der ersten Schutzfolie an dem Bauelementbereich des Wafers, wobei die Schutzfolie den nicht haftvermittelnden Abschnitt entsprechend dem Bauelementbereich und einen haftvermittelnden Abschnitt, der eine haftvermittelnde Schicht beinhaltet, die in einer Umgebung des nicht haftvermittelnden Abschnitts liegt, aufweist, Positionieren des haftvermittelnden Abschnitts an dem umfänglichen Zusatzbereich und dem Rahmen und Fixieren der ersten Schutzfolie an dem umfänglichen Zusatzbereich und dem Rahmen; einen ersten Tischplatzierungsschritt zum Platzieren des Wafers, der in dem Rahmen durch die Schutzfolie angeordnet ist, an einem ersten Tisch; einen Legeschritt zum Legen einer zweiten Schutzfolie, die keine haftvermittelnde Schicht aufweist, auf einen zweiten Tisch; einen Anordnungsschritt für flüssigen Kunststoff zum Tragen des Rahmens und Nehmen des Wafers von dem ersten Tisch, wodurch die erste Schutzfolie der zweiten Schutzfolie zugewandt wird, und Aufbringen eines flüssigen Kunststoffs auf einen Bereich der zweiten Schutzfolie, wobei der Bereich einem Zentrum des Wafers entspricht; einen Integrationsschritt zum Verteilen des flüssigen Kunststoffs über eine gesamte Oberfläche entsprechend dem Wafer durch die zweite Schutzfolie und die erste Schutzfolie durch Drücken des Wafers gegen den flüssigen Kunststoff durch die erste Schutzfolie und Fixieren der ersten Schutzfolie an der zweiten Schutzfolie und Integrieren der ersten Schutzfolie und der zweiten Schutzfolie miteinander; und einen Schneidschritt zum Schneiden der ersten Schutzfolie und der zweiten Schutzfolie entlang eines äußeren Umfangs des Wafers.
Applications Claiming Priority (2)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210129260A1 (en) * | 2019-11-06 | 2021-05-06 | Disco Corporation | Wafer processing method |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7408442B2 (ja) * | 2020-03-11 | 2024-01-05 | 株式会社ディスコ | 検査方法 |
JP2021186893A (ja) * | 2020-05-26 | 2021-12-13 | 株式会社ディスコ | 透明部材又は半透明部材を貼り合わせた貼り合わせワークの研削方法、及び貼り合わせワークの研削装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS556399A (en) | 1978-06-26 | 1980-01-17 | Gte Sylvania Inc | Photography flash lamp with static charge protector |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE334531B (de) | 1969-06-09 | 1971-04-26 | Husqvarna Vapenfabriks Ab | |
JPS5320058B2 (de) * | 1974-03-25 | 1978-06-24 | ||
JPH0224848A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Canon Inc | 光記録媒体用基板の製造方法 |
JP3556399B2 (ja) | 1996-07-29 | 2004-08-18 | 株式会社ディスコ | 半導体ウエーハの研磨方法 |
JP2001259961A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-25 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
JP4974639B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2012-07-11 | 日東電工株式会社 | 粘着テープ切断方法およびこれを用いた装置 |
JP2009188010A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Lintec Corp | 脆質部材用支持体および脆質部材の処理方法 |
JP5415732B2 (ja) * | 2008-09-17 | 2014-02-12 | リンテック株式会社 | 表面保護用シート |
JP5320058B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2013-10-23 | 株式会社ディスコ | 樹脂被覆方法および樹脂被覆装置 |
JP5455443B2 (ja) * | 2009-05-28 | 2014-03-26 | リンテック株式会社 | ウェハ加工用シート |
JP2011060898A (ja) * | 2009-09-08 | 2011-03-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | ワーク収納カセット |
JP5486405B2 (ja) * | 2010-05-27 | 2014-05-07 | 株式会社ディスコ | ウェーハの中心位置検出方法 |
JP2013089845A (ja) * | 2011-10-20 | 2013-05-13 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハカセット |
JP6045817B2 (ja) * | 2012-05-28 | 2016-12-14 | 株式会社ディスコ | 貼着方法 |
JP2013258364A (ja) * | 2012-06-14 | 2013-12-26 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状物の貼着方法 |
US9768089B2 (en) * | 2013-03-13 | 2017-09-19 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Wafer stack protection seal |
JP6215059B2 (ja) * | 2014-01-10 | 2017-10-18 | 株式会社ディスコ | マーク検出方法 |
CN105934811B (zh) * | 2014-01-22 | 2020-07-17 | 琳得科株式会社 | 保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及加工物的制造方法 |
US9159621B1 (en) * | 2014-04-29 | 2015-10-13 | Applied Materials, Inc. | Dicing tape protection for wafer dicing using laser scribe process |
JP6385131B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2018-09-05 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
US9390993B2 (en) * | 2014-08-15 | 2016-07-12 | Broadcom Corporation | Semiconductor border protection sealant |
JP6475519B2 (ja) | 2015-03-10 | 2019-02-27 | 株式会社ディスコ | 保護部材の形成方法 |
JP6479517B2 (ja) * | 2015-03-17 | 2019-03-06 | 株式会社ディスコ | 保護部材の形成方法 |
JP6657515B2 (ja) * | 2015-08-31 | 2020-03-04 | 株式会社ディスコ | ウェーハを処理する方法および該方法で使用するための保護シート |
DE102015216619B4 (de) * | 2015-08-31 | 2017-08-10 | Disco Corporation | Verfahren zum Bearbeiten eines Wafers |
JP2017079291A (ja) * | 2015-10-21 | 2017-04-27 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS556399A (en) | 1978-06-26 | 1980-01-17 | Gte Sylvania Inc | Photography flash lamp with static charge protector |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210129260A1 (en) * | 2019-11-06 | 2021-05-06 | Disco Corporation | Wafer processing method |
US11712747B2 (en) * | 2019-11-06 | 2023-08-01 | Disco Corporation | Wafer processing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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