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Stand der Technik
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Die Erfindung betrifft eine Reinigungsanlage und Reinigungsverfahren insbesondere für Behandlungsanlagen in der Lackiertechnik.
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In der Lackiertechnik sind übliche Vorbehandlungs- und Tauchlackieranlagen in der Art konstruiert und gebaut, dass bei möglichst geringen Investitions-Kosten eine technisch leicht zu wartende Anlage realisiert wird, welche die erforderliche Produkt-Qualität liefert.
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In den Anlagen werden zur Bekämpfung von Bakterien in erster Linie Strahlung (z.B. UV-Lampen), Ultraschall, Elektroimpulse und verschiedene chemische Desinfektionsmittel (z.B. oxidative, systemische, etc.) eingesetzt.
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Offenbarung der Erfindung
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Eine Aufgabe der Erfindung ist, ein Verfahren zur Reinigung von Behandlungsanlagen zu verbessern.
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Eine weitere Aufgabe ist die Schaffung einer Reinigungsanlage zur Durchführung des Verfahrens.
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Eine weitere Aufgabe ist die Schaffung einer Behandlungsanlage, die zuverlässig zu reinigen ist.
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Die Aufgaben werden durch die Merkmale der unabhängigen Ansprüche gelöst. Günstige Ausgestaltungen und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus den weiteren Ansprüchen, der Beschreibung und der Zeichnung.
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Die Erfindung betrifft nach einem Aspekt der Erfindung ein Verfahren zum Reinigen einer Behandlungsanlage mit wenigstens einem Teilbereich, in dem Fluid zur Behandlung von Bauteilen aufbewahrt und/oder eine Behandlung von Bauteilen mit dem Fluid durchgeführt wird, wobei der wenigstens eine Teilbereich in von dem Fluid entleertem Zustand einer Reinigungssequenz unterzogen wird und nach der Reinigungssequenz mit dem Fluid beaufschlagt wird.
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Es ergibt sich ein Reinigungsverfahren, bei dem weitestgehend umweltschonende und abbaubare Stoffe eingesetzt werden können, die gut mit den mittlerweile eingesetzten umweltschonenden Reinigungs- und Beschichtungschemikalien und Tauchlacken im Bereich der Vorbehandlungs- und Tauchlackieranlagen, verträglich sind. Obwohl die eingesetzten Reinigungs- und Beschichtungschemikalien und Tauchlacke anfällig für mikrobiologische Belastungen sind, kann eine unerwünschte mikrobiologische Belastung der Anlage vermieden werden. Eine Verkeimung der Anlagen kann verhindert werden.
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In bekannten Anlagen und Verfahren müssen häufig große Mengen bakteriostatischer und/oder bakterizider Mittel eingesetzt werden, um die bakteriologische Situation in den Anlagen unter Kontrolle zu bringen oder in tolerierbaren Grenzen zu halten.
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Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren kann insbesondere in Großanlagen in der Lackiertechnik, in denen ein großer Durchsatz für eine Serienfertigung mit geringen Unterbrechungen notwendig ist, trotz des Fehlens an bakterizider Wirkung der bekannten Reinigungschemikalien und Tauchlacke auf einen Einsatz bakteriostatischer und/oder bakterizider Mittel größtenteils oder sogar ganz verzichtet werden. So kann eine Resistenzbildung bei den Bakterien aufgrund unsachgemäßen Einsatzes vermieden werden, was wiederum für den Prozess und somit die Produktqualität vorteilhaft ist. Ebenso werden unerwünschte Folgen für die Umwelt und den Menschen vermieden, vom Aufwand der Bekämpfung ganz zu schweigen. Die Reinigungssequenz kann innerhalb weniger Stunden durchgeführt werden und gegebenenfalls mit Wartungsarbeiten kombiniert werden. Je nach Anforderung kann die Reinigungssequenz beispielsweise wöchentlich oder zweiwöchentlich oder nach Bedarf durchgeführt werden.
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Vorteilhaft kann das Verfahren im Bereich der Beschichtung von Bauteilen, insbesondere der allgemeinen Vorbehandlung von metallischen Teilen wie Schrauben, Blechen, Formteilen und dergleichen, im Umfeld der Galvanik, der Pulverbeschichtung, der Eloxieranlagen, der Aluminiumlackierung, Kunststofflackierung und Automobillackieranlagen, bei denen gegebenenfalls Wasserentsalzungssysteme zum Einsatz kommen, und bei denen Metall- und Kunststoffteile vorbehandelt und im Anschluss beschichtet werden. In einer solchen Umgebung werden Tauchbäder, Spritztunnels und dergleichen für eine große Zahl an Bauteilen über einen langen Zeitraum verwendet.
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Besonders günstig ist das Verfahren bei der Reinigung von Wasseraufbereitungseinrichtungen sowie Wassertanks und Vorbehandlungsanlagen in der Lackiertechnik einsetzbar.
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Weitere günstige Anwendungsmöglichkeiten finden sich im Bereich der Tauchlackierung und dem angeschlossenen Anolythsystem.
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Vorteilhaft kann die Behandlungsanlage darauf hin ausgelegt sein, dass eine gute Reinigungsfähigkeit der Teilanlagen und/oder der Gesamtanlage gegeben ist.
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Die Reinigungssequenz kann automatisiert erfolgen und somit eine reproduzierbare Reinigung und Desinfektion der Teilbereiche gewährleisten. Eine bedarfsgerechte Reinigung und Desinfektion ist möglich bei weitgehendem Ausschluss des „menschlichen Faktors“ beim Reinigungs- und Desinfektionsergebnis, bei der Erhaltung der Prozess- und somit Produktqualität in der Vorbehandlungs- und Tauchlackieranlage. Optional ist eine teilweise manuelle Bedienung möglich.
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Einsparung von Energie und Reinigungschemikalien und somit von Kosten im Rahmen der Anlagenreinigung und Abwasserbehandlung sind möglich, bei gleichzeitiger Schonung der Umwelt sowie Schonung des am Markt erhältlichen, eingeschränkten Desinfektionsmittelpools, wie sie beispielsweise in der so genannten europäischen REACH-Verordnung aufgeführt sind.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung des Verfahrens kann nach einer vorgegebenen Benutzungsdauer des wenigstens einen Teilbereichs die Reinigungssequenz wiederholt werden. Auf diese Weise ist eine Eingrenzung insbesondere eines Bakterienbefalls der Behandlungsanlage möglich.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung des Verfahrens kann die Reinigungssequenz folgende Schritte umfassen. Es kann zunächst ein Spülen des wenigstens einen Teilbereichs mit einer Spülflüssigkeit erfolgen. Als Spülflüssigkeit kann Wasser eingesetzt werden. Hierzu kann Frischwasser oder auch eine Reinigungsflüssigkeit aus dem letzten Spülgang der vorhergehenden Reinigungssequenz verwendet werden. Darauf kann ein Reinigen des wenigstens einen Teilbereichs mit Lauge erfolgen. Als Lauge kann Natronlauge NaOH eingesetzt werden. Dies kann von einem Spülen des wenigstens einen Teilbereichs mit einer Spülflüssigkeit gefolgt sein. Danach kann ein Reinigen des wenigstens einen Teilbereichs mit Säure erfolgen, insbesondere um Laugenreste zu neutralisieren. Als Säure sind Salpetersäure HNO3, Phosphorsäure H3PO4, Schwefelsäure H2SO4 gut geeignet. Danach kann ein Spülen des wenigstens einen Teilbereichs mit einer Spülflüssigkeit, insbesondere Wasser, folgen. Darauf kann ein Desinfizieren des wenigstens einen Teilbereichs mit wenigstens einem Desinfektionsmittel erfolgen. Optional kann eine Mischung von Desinfektionsmitteln eingesetzt werden. Nach der Reinigungssequenz kann der wenigstens eine Teilbereich bzw. die Behandlungsanlage in den normalen Betriebszustand versetzt werden.
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Während der Reinigungssequenz können verschiedene Parameter, wie Säurekonzentration, Laugenkonzentration, Druck, Temperatur, Durchfluss im Vorlauf und/oder Rücklauf einer entsprechenden Reinigungsanlage überwacht werden, welche den wenigstens einen Teilbereich mit den während der Reinigungssequenz eingesetzten Medien beschickt.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung des Verfahrens kann die Reinigungssequenz bei einer Behandlungsanlage mit mehreren Teilbereichen jeweils für jeden der Teilbereiche einzeln durchgeführt werden. Es können insbesondere Rohrleitungsverbindungen zwischen einer Reinigungsanlage und den Teilbereichen der Behandlungsanlage selektiv freigeschaltet oder abgeschaltet werden. Vorteilhaft kann für jeden Teilbereich eine Reinigungssequenz erfolgen und nach deren Abschluss die Reinigungssequenz für den nächsten Teilbereich erfolgen.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung des Verfahrens kann die Reinigungssequenz manuell gesteuert durchgeführt werden. Es kann insbesondere eine selektive Freischaltung oder Abschaltung von Rohrleitungsverbindungen zwischen einer Reinigungsanlage und wenigstens Teilbereichen der Behandlungsanlage manuell gesteuert erfolgt. Eine Umschaltung der Medienströme zwischen einzelnen Teilbereichen in der Reinigungssequenz kann an einem Verteilerpaneel mittels verwechslungssicher ausgebildeten Rohrbögen erfolgen.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung des Verfahrens kann die Reinigungssequenz automatisch gesteuert durchgeführt werden. Es kann insbesondere eine selektive Freischaltung oder Abschaltung von Rohrleitungsverbindungen zwischen einer Reinigungsanlage und den Teilbereichen der Behandlungsanlage automatisch gesteuert erfolgen. Dies erlaubt eine hohe Reproduzierbarkeit der Reinigungssequenz.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung des Verfahrens kann vor oder während der Reinigungssequenz eine Laugenkonzentration erfasst werden und bedarfsweise eingestellt werden. Ebenso kann vor oder während der Reinigungssequenz eine Säurekonzentration erfasst werden und bedarfsweise eingestellt werden. Ferner kann vor oder während der Reinigungssequenz ein Gehalt an Bakterien erfasst werden und bedarfsweise ein Gehalt an Desinfektionsmittel eingestellt werden. Ferner kann der Desinfektionsschritt wiederholt und/oder auf ein anderes Desinfektionsmittel gewechselt werden.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung des Verfahrens kann wenigstens ein Teil der Spülflüssigkeit und/oder der Säure und/oder der Lauge für eine nächste Reinigungssequenz wiederverwendet werden. Dies erlaubt Materialeinsparungen und eine kostengünstige Verfahrensweise insbesondere bei größeren Behandlungsanlagen.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung des Verfahrens kann eine Reinigungsanlage nur zur Durchführung der Reinigungssequenz an die Behandlungsanlage angeschlossen werden. Die Reinigungsanlage kann vorteilhaft auch an Bestandsanlagen angeschlossen werden.
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Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung wird eine Reinigungsanlage zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens vorgeschlagen. Die Reinigungsanlage umfasst eine Fördereinrichtung für in einer Reinigungssequenz verwendete Medien, insbesondere Lauge, Säure, Wasser, Desinfektionsmittel, sowie eine Anschlusseinrichtung für einen Vorlauf und eine Anschlusseinrichtung für einen Rücklauf.
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Vorteilhaft kann die Reinigungsanlage über die Anschlusseinrichtung bedarfsweise jeweils an eine Behandlungsanlage anschließbar sein. Günstigerweise kann für jeden zu reinigenden Teilbereich der Behandlungsanlage ein eigener Medienkreislauf vorgesehen sein. Günstigerweise kann manuell oder automatisiert zwischen den Medienkreisläufen umgeschaltet werden.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung der Reinigungsanlage kann eine Dosiereinrichtung zur Zudosierung von in der Reinigungssequenz verwendeten Medien, insbesondere Lauge, Säure, Wasser, Desinfektionsmittel, vorgesehen sein. Die Konzentration der Medien kann flexibel und bedarfsweise eingestellt werden. Optional kann ein Wärmetauscher vorgesehen sein, um gegebenenfalls Medien für die Reinigungssequenz zu temperieren.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung der Reinigungsanlage kann wenigstens eine Sensoreinrichtung zur Überwachung von in der Reinigungssequenz verwendeten Medien, insbesondere Lauge, Säure, Wasser, Desinfektionsmittel, vorgesehen sein. Durch eine derartige Qualitätskontrolle kann eine hohe Qualität der Reinigungssequenz sichergestellt werden. Ferner ist durch die Überwachung eine kostensparende Wiederverwendung der Medien möglich, die nur bei Unterschreiten einer geforderten Mindestqualität ausgetauscht werden müssen.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung der Reinigungsanlage kann wenigstens ein Behälter vorgesehen sein zur Bevorratung von in der Reinigungssequenz verwendeten Medien, insbesondere von Lauge, Säure, Wasser, Desinfektionsmittel. Der Behälter kann während der Reinigungssequenz als Ausgleichsgefäß dienen und/oder als Speicherbehälter nach Abschluss der Reinigungssequenz und ein Medium aus der Reinigungssequenz aufnehmen.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung der Reinigungsanlage kann die Fördereinrichtung eine regelbare Pumpe umfassen. Die geregelte Pumpe kann frequenzgeregelt betrieben werden. Die Förderleistung der Pumpe kann für die unterschiedlichen Reinigungsanforderungen der Teilbereiche der Behandlungsanlage angepasst werden.
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Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung wird eine Verteileinrichtung zur Durchführung eines erfindungsgemäßen Verfahrens vorgeschlagen, wobei ein Verteilerpaneel mit einer Mehrzahl von Anschlüssen vorgesehen ist, mit der verschiedene Rohrleitungswege wenigstens zu Teilbereichen einer mit dem Verfahren zu reinigenden Behandlungsanlage manuell schaltbar sind. Alternativ oder zusätzlich sind eine oder mehrere Ventileinrichtungen vorgesehen, mit der verschiedene Rohrleitungswege wenigstens zu Teilbereichen einer mit dem Verfahren zu reinigenden Behandlungsanlage automatisch schaltbar sind.
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Günstigerweise ist wenigstens ein Vorlauf zu und ein Rücklauf von den Teilbereichen zu einer Reinigungsanlage schaltbar. Günstigerweise kann für jeden zu reinigenden Teilbereich der Behandlungsanlage ein eigener Medienkreislauf vorgesehen sein.
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Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung wird eine Behandlungsanlage mit wenigstens einem Teilbereich zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens vorgeschlagen, wobei wenigstens eine Koppelstelle vorgesehen ist, an welche eine erfindungsgemäße Reinigungsanlage wenigstens temporär zur Reinigung des wenigstens einen Teilbereichs anschließbar ist. Günstigerweise kann für jeden zu reinigenden Teilbereich der Behandlungsanlage ein eigener Medienkreislauf zwischen Reinigungsanlage und jeweiligen Teilbereich vorgesehen sein.
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Vorteilhaft kann die Behandlungsanlage daraufhin ausgelegt sein, dass eine gute Reinigungsfähigkeit der Teilbereiche und/oder der Gesamtanlage gegeben ist. Günstigerweise können zumindest einige Teilbereiche der Behandlungsanlage nach Kriterien der EHEDG (European Hygienic Engineering and Design Group) konstruiert sein.
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So kann insbesondere ein Wasseraufbereitungssystem (VEW-System) reinigungsfähig ausgeführt sein.
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In Prozesstanks können statt fest eingebauten Leitern zur Begehung, die viele Toträume aufweisen, herausnehmbare Elemente und/oder hygienische Mannlöcher zur einfachen und sicheren Begehung von außen vorgesehen sein.
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Silhouettenbleche, die üblicherweise horizontale Kanten aufweisen und mit der Tunnelwand dicht verschweißt sind, können mit angeschrägten Kanten ausgestattet sein und/oder Abtropffahnen aufweisen. Vorteilhaft können die Silhouettenbleche beabstandet zur Wand montiert sein.
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Spritzringe, die üblicherweise mit horizontalen Blechen gehaltert sind und Toträume bilden, können mit runden Haltern versehen sein und mit den Haltern totraumfrei an der Wand montiert sein.
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Übliche Düsenstöcke sind mit schlecht zu reinigenden Schnellkupplungen zu Spritzringen zusammengefasst, um einen großflächigen Sprühstrahl zu ermöglichen. Diese können durch leicht zu reinigende, hygienische Verschraubungen zu Spritzringen zusammengefasst sein.
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Vorteilhaft können Sensoren wie Druck- und Füllstandsensoren totraumfrei an den Behältern und Rohrleitungen mittels hygienischen Verbindungen angebracht werden.
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Zur Überwachung des bakteriellen Status von Prozesszonen der Behandlungsanlage können Probenahmeeinrichtungen an den Becken und Biosensoren in Nassbereichen wie Nass-Tunneln vorgesehen sein.
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Teilbereiche der Behandlungsanlage können mit Sprühkugeln oder Reinigungsmaschinen versehen sein, die eine automatisierte und im Ergebnis wiederholbare Reinigungs- und Desinfektionsleistung der Anlage erzielen und dabei von einer zentralen erfindungsgemäßen Reinigungsanlage (CIP-Anlage (CIP=Cleaning In Place)) versorgt werden können.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung der Behandlungsanlage kann als wenigstens ein Teilbereich eine Wasseraufbereitungseinrichtung und/oder ein Wassertank und/oder ein Vorbehandlungsbecken und/oder ein Tauchbad und/oder ein Sprühtunnel vorgesehen sein, die wenigstens temporär mit der erfindungsgemäßen Reinigungsanlage verbunden sind und von dieser mit Reinigungsmedien in einer Reinigungssequenz versorgt sein können.
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So wird üblicherweise vollentsalztes Wasser (nachfolgend auch VEW genannt) zur Beckenauffüllung nahe dem oder unter dem Flüssigkeitsspiegel mittels nichtselbstentleerender Leitungen zugegeben. Dies kann zu einer Rückkontamination des VEW-Systems führen. Das VEW-System beinhaltet Stichleitungen, die nur ungenügend gespült werden. Das VEW-System ist aus Bauteilen zusammengesetzt, die keinen hygienischen Anforderungen entsprechen.
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Demgegenüber kann die Behandlungsanlage, insbesondere das VEW-System, vorteilhaft nach hygienischen Standards konzipiert sein. Vorteilhaft kann der Teilbereich des gesamten VEW-Systems nach Kriterien konstruiert sein, die geringe Oberflächenrauigkeiten und keine Toträume aufweisen und eine Reinigungsfähigkeit zulassen. Das VEW-System kann an den Dosierpunkten in der Anlage direkt vorbeigeführt und das vollentsalzte Wasser mittels totraumfreien bzw. selbstentleerenden Stichleitungen oberhalb der Flüssigkeitsoberfläche im Prozesstank zugegeben sein. Zudem kann das VEW-System mit Biosensoren versehen sein, um den bakteriologischen Status kontinuierlich zu überwachen. Nach dem letzten Dosierpunkt von vollentsalztem Wasser kann eine Rücklaufleitung zum VEW-Tank zurückgeführt sein.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung der Behandlungsanlage kann der wenigstens eine Teilbereich totraumarm ausgebildet sein und/oder abtropfgünstig ausgebildet sein und/oder glatte Oberflächen aufweisen.
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Übliche Türen und Fenster von Tunneln der Behandlungsanlage beinhalten Toträume, die eine leichte Reinigungsfähigkeit ausschließen. Diese können durch totraumarme Klappen aus Edelstahl ersetzt werden.
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Vorteilhaft können übliche Bleche mit Oberflächenqualitäten von 1D nach EN 10088-2 oder schlechter auf (Ra 3,50-5,50 µm) ersetzt sein durch Edelstahlbleche mit einer Oberflächenqualität entsprechend 2B nach EN 10088-2 (Ra 0,3-0,5 µm).
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Statt üblicher grob verschliffener Schweißnähte können Schweißnähte bei guter Qualität nur gebeizt oder mit mindestens einer 240er-Körnung fein verschliffen sein.
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Nach einer günstigen Ausgestaltung der Behandlungsanlage können begehbare Flächen des wenigstens einen Teilbereichs herausnehmbar ausgebildet sein. Übliche begehbare Flächen in den Nass-Tunneln sind mit fest eingebauten Gitterrosten versehen und bilden somit Toträume. Die Begehung der Tunnel der Vorbehandlungs- und Tauchlackieranlage kann vorteilhaft durch den Einsatz von temporär einlegbaren Begehblechen sichergestellt sein.
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Figurenliste
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Weitere Vorteile ergeben sich aus der folgenden Zeichnungsbeschreibung. In den Zeichnungen sind Ausführungsbeispiele der Erfindung dargestellt. Die Zeichnungen, die Beschreibung und die Ansprüche enthalten zahlreiche Merkmale in Kombination. Der Fachmann wird die Merkmale zweckmäßigerweise auch einzeln betrachten und zu sinnvollen weiteren Kombinationen zusammenfassen.
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Es zeigen beispielhaft:
- 1 eine Anordnung nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei dem eine Reinigungsanlage über ein Verteilerpaneel an eine Behandlungsanlage angekoppelt ist, die mehrere Teilbereiche aufweist;
- 2 die Anordnung nach 1, wobei ein erster Kreislauf für einen Medienfluss von der Reinigungsanlage zu einer Wasseraufbereitungsanlage und zurück zur Reinigungsanlage manuell über das Verteilerpaneel geschaltet ist;
- 3 die Anordnung nach 1, wobei ein zweiter Kreislauf für einen Medienfluss von der Reinigungsanlage zu einem Wassertank einer Wasseraufbereitungsanlage und zurück zur Reinigungsanlage manuell über das Verteilerpaneel geschaltet ist;
- 4 die Anordnung nach 1, wobei ein dritter Kreislauf für einen Medienfluss von der Reinigungsanlage zu einer Prozess-Teilbereich und zurück zur Reinigungsanlage manuell über das Verteilerpaneel geschaltet ist;
- 5 die Anordnung nach 1 im normalen Prozessbetrieb der Behandlungsanlage;
- 6 eine Anordnung nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei dem eine automatisiert betreibbare Reinigungsanlage an eine Behandlungsanlage ankoppelbar ist, die mehrere Teilbereiche aufweist;
- 7 die Anordnung nach 6 mit einer detailliert ausgeführten Reinigungsanlage, die an die Behandlungsanlage angekoppelt ist und die eine automatisierte Schaltung separater Medienkreisläufe zwischen Reinigungsanlage und jeweiligem Teilbereich erlaubt;
- 8 die Anordnung nach 6, wobei ein erster Kreislauf für einen Medienfluss von der Reinigungsanlage zu einer Wasseraufbereitungsanlage und zurück zur Reinigungsanlage automatisiert geschaltet ist;
- 9 die Anordnung nach 6, wobei ein zweiter Kreislauf für einen Medienfluss von der Reinigungsanlage zu einem Wassertank einer Wasseraufbereitungsanlage und zurück zur Reinigungsanlage automatisiert geschaltet ist;
- 10 die Anordnung nach 6, wobei ein dritter Kreislauf für einen Medienfluss von der Reinigungsanlage zu einem Prozess-Teilbereich und zurück zur Reinigungsanlage automatisiert geschaltet ist;
- 11 eine Reinigungsanlage nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung für einen Einwegbetrieb der Medien;
- 12 eine Reinigungsanlage nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung für einen Betrieb mit Wiederverwendung der Medien;
- 13 schematisch ein Flussdiagramm eines Reinigungsverfahrens nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung.
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Ausführungsformen der Erfindung
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In den Figuren sind gleichartige oder gleichwirkende Komponenten mit gleichen Bezugszeichen beziffert. Die Figuren zeigen lediglich Beispiele und sind nicht beschränkend zu verstehen.
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Im Folgenden verwendete Richtungsterminologie mit Begriffen wie „links“, „rechts“, „oben“, „unten“, „davor“ „dahinter“, „danach“ und dergleichen dient lediglich dem besseren Verständnis der Figuren und soll in keinem Fall eine Beschränkung der Allgemeinheit darstellen. Die dargestellten Komponenten und Elemente, deren Auslegung und Verwendung können im Sinne der Überlegungen eines Fachmanns variieren und an die jeweiligen Anwendungen angepasst werden.
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Die 1 bis 5 illustrieren eine Anordnung nach einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei dem eine Reinigungsanlage 10 über ein Verteilerpaneel 160 an eine Behandlungsanlage 100 angekoppelt ist, die mehrere zu reinigende Teilbereiche 102, 104, 106 aufweist. Die Reinigungsanlage 10 ist jeweils mit separaten Medienkreisläufen mit jedem der Teilbereiche 102, 104, 106 verbindbar. Die Umschaltung zwischen den Medienkreisläufen erfolgt manuell mittels des Verteilerpaneels.
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Die Behandlungsanlage 100 ist beispielsweise eine Lackiereinrichtung, und die Teilbereiche 102, 104, 106 solche Bereiche, welche mit anlagenseitig aufbereitetem Wasser in Kontakt sind. Teilbereich 102 ist beispielsweise eine Wasseraufbereitungsanlage, etwa eine Umkehrosmoseanlage (RO-Anlage), Teilbereich 104 ein daran angeschlossener Wassertank für aufbereitetes Wasser (VEW) und Teilbereich 106 ein Prozess-Teilbereich.
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1 zeigt dabei die Anordnung als solche. 2 zeigt die Anordnung nach 1, wobei ein erster Kreislauf für einen Medienfluss von der Reinigungsanlage 10 zu einer Wasseraufbereitungsanlage 102 und zurück zur Reinigungsanlage 10 manuell über das Verteilerpaneel 160 geschaltet ist. 3 zeigt die Anordnung nach 1, wobei ein zweiter Kreislauf für einen Medienfluss von der Reinigungsanlage 10 zu einem Wassertank 104 der Wasseraufbereitungsanlage 102 und zurück zur Reinigungsanlage 10 manuell über das Verteilerpaneel 160 geschaltet ist. 4 zeigt die Anordnung nach 1, wobei ein dritter Kreislauf für einen Medienfluss von der Reinigungsanlage 10 zu einem Prozess-Teilbereich 106 und zurück zur Reinigungsanlage 10 manuell über das Verteilerpaneel 160 geschaltet ist. 5 zeigt die Anordnung nach 1 im normalen Prozessbetrieb der Behandlungsanlage 100.
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Die Behandlungsvorrichtung 100 ist mit einer zentralen Wasserversorgung 110 verbunden. Zwischen dem Wassertank 104 und dem Prozess-Teilbereich 106 ist ein Fördermodul 112 angeordnet. Der Prozess-Teilbereich 106 umfasst vorzugsweise eine Vorbehandlungseinrichtung sowie ein Tauchbecken für eine KTL-Tauchlackbehandlung, wobei im Prozess-Teilbereich 106 ein VE-Wasserkreislauf umläuft, der vom Wassertank 104 gespeist wird.
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Das Verteilerpaneel 160 bildet eine Koppelstelle 200 zwischen der Reinigungsanlage 10 und der Behandlungsanlage 100 und deren Teilbereichen 102, 104, 106,
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Die Anschlüsse 170 und 172 sind mit der Reinigungsanlage 10 verbunden, wobei Anschluss 170 über einen Vorlauf mit dem Ausgang 20 und Anschluss 172 über einen Rücklauf mit dem Eingang 30 der Reinigungsanlage 10 verbunden ist.
Die Anschlüsse 161 und 168 sind kurzgeschlossen und mit dem Teilbereich 102 verbunden. Der Teilbereich 102 ist ferner mit dem Anschluss 166 verbunden. Der Teilbereich 104 ist mit dem Anschluss 162 und mit dem Anschluss 164 verbunden. Der Teilbereich 106 ist mit dem Anschluss 167 und über das Pumpmodul 112 mit dem Anschluss 163 verbunden.
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Die zentrale Wasserversorgung 110 ist mit dem Anschluss 165 verbunden.
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Die Reinigungsanlage 10 versorgt die Teilbereiche 102, 104, 106 jeweils mit Wasser, Lauge, Säure, Desinfektionsmittel, wobei die Teilbereiche 102, 104, 106 nacheinander gereinigt werden und dann in den normalen Prozessbetrieb übergehen.
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Zunächst wird ein Medienkreislauf hergestellt, indem eine entsprechende Anzahl von Rundbögen montiert werden, die selektiv einige der Anschlüsse 161-172 miteinander verbinden.
Die Reinigungsanlage 10 gibt über den Vorlauf eine Spülflüssigkeit, beispielsweise Wasser, in den Medienkreislauf. Darauf gibt die Reinigungsanlage 10 Lauge als Reinigungsmedium in den Medienkreislauf. Die Reinigungsanlage 10 gibt dann wieder die Spülflüssigkeit in den Medienkreislauf. Darauf gibt die Reinigungsanlage 10 Säure in den Medienkreislauf, und anschließend wiederum Spülflüssigkeit. Zuletzt gibt die Reinigungsanlage 10 ein Desinfektionsmittel in den Medienkreislauf.
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Das Bereitstellen der Medien sowie das Umschalten zwischen den Medien erfolgt in der Reinigungsanlage 10, wozu ein nicht dargestellter Steuerrechner verfügbar sein kann. Ebenso kann eine Überwachung der Medien hinsichtlich Durchfluss, Konzentration, Druck, Temperatur und dergleichen in der Reinigungsanlage 10 erfolgen.
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Mit dem ersten Medienkreislauf (2) wird der Teilbereich 102 gereinigt, wobei die Medien nacheinander aus dem Ausgang 20 über den Vorlauf zum Anschluss 170 gelangen, der mit dem Anschluss 166 verbunden ist, von dort über den Anschluss 166 zum Teilbereich 102, von dort zu den Anschlüssen 161, 168, die mit dem Anschluss 172 verbunden sind und von dort über den Anschluss 172 in den Rücklauf zum Eingang 30 der Reinigungsanlage 10 gelangen. Die Medienströmung ist jeweils durch unterbrochene Pfeillinien symbolisiert.
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Mit dem zweiten Medienkreislauf (3) wird der Teilbereich 104 gereinigt, wobei die Medien nacheinander aus dem Ausgang 20 über den Vorlauf zum Anschluss 170 gelangen, der jetzt mit dem Anschluss 164 verbunden ist, von dort über den Anschluss 164 zum Teilbereich 104, von dort zu dem Anschluss 162, der mit dem Anschluss 172 verbunden ist und von dort über den Anschluss 172 in den Rücklauf zum Eingang 30 der Reinigungsanlage 10 gelangen. Die Medienströmung ist jeweils durch unterbrochene Pfeillinien symbolisiert.
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Mit dem dritten Medienkreislauf (4) wird der Teilbereich 106 gereinigt, wobei die Medien nacheinander aus dem Ausgang 20 über den Vorlauf zum Anschluss 170 gelangen, der jetzt mit dem Anschluss 163 verbunden ist, von dort über den Anschluss 163 über das Fördermodul 112 zum Teilbereich 106 und von dort zu dem Anschluss 167, der mit dem Anschluss 172 verbunden ist und von dort über den Anschluss 172 in den Rücklauf zum Eingang 30 der Reinigungsanlage 10 gelangen. Die Medienströmung ist jeweils durch unterbrochene Pfeillinien symbolisiert.
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5 zeigt die Behandlungsanlage 100 im Normalbetrieb, wobei Wasser aus der zentralen Wasserversorgung über den Anschluss 165 zugeführt wird, der mit dem Anschluss 166 verbunden ist, über den Anschluss 166 zur Aufbereitung im Teilbereich 102, von dort zum Anschluss 161, der mit Anschluss 162 und dieser mit Anschluss 163 verbunden ist, über das Pumpmodul 112 zum Prozess-Teilbereich 106 gelangt.
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Die Anschlüsse 170, 172 zur Reinigungsanlage 10 bleiben im normalen Betriebszustand der Behandlungsanlage offen.
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Die 6 bis 10 zeigen eine weitere Anordnung nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei der die Umschaltung der Medienkreisläufe automatisiert erfolgt.
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Die Behandlungsanlage 100 entspricht mit ihren Teilbereichen 102, 104, 106 weitestgehend der Behandlungsanlage 100 im vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel, worauf zur Vermeidung unnötiger Wiederholungen verwiesen wird. Es ist in einer Verbindungsleitung zwischen dem Teilbereich 104 und der Reinigungsanlage 10 ein weiteres Fördermodul 114 vorgesehen. Ferner findet die Umschaltung zwischen den Medienkreisläufen nicht mehr mit einem externen Verteilerpaneel statt, sondern automatisiert innerhalb der Reinigungsanlage 10. Ferner sind eine Anzahl ansteuerbarer Ventile 26, 36 in den Leitungen der Behandlungsanlage 100 vorgesehen, welche Teilabschnitte entsprechend der Beaufschlagung mit Medien eines aktuellen Medienkreislaufs zwischen der Reinigungsanlage 10 und einem der Teilbereiche 102, 104, 106 schließen oder freigeben können.
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6 zeigt die Behandlungsanlage 100 während eines Behandlungsprozesses im Normalbetrieb, bei dem die Reinigungsanlage 10 von der Behandlungsanlage 100 entkoppelt ist. Im Normalbetrieb gelangt Frischwasser aus einer zentralen Wasserversorgung 110 in die Behandlungsanlage 100.
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Die Reinigungsanlage 10 ist automatisiert betreibbar und an einer Koppelstelle 200 mit ihrem Ausgang 20 und Eingang 30 an die Behandlungsanlage 100 zur Durchführung des erfindungsgemäßen Reinigungsverfahrens ankoppelbar.
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7 zeigt die Anordnung nach 6 mit einer detailliert ausgeführten Reinigungsanlage 10, die an die Behandlungsanlage 100 angekoppelt ist und die eine automatisierte Schaltung separater Medienkreisläufe zwischen Reinigungsanlage 10 und jeweiligem Teilbereich 102, 104, 106 erlaubt. Die Reinigungsanlage 10 wird in 11 detailliert dargestellt und beschrieben. Die Reinigungsanlage 10 ist als „Einweg-Anlage“ ausgelegt, bei der die Medien in der Reinigungssequenz nur einmal verwendet und danach verworfen werden. Dies ist für kleinere Behandlungsanlagen 100 oder bei geringem Platzangebot für die Reinigungsanlage 10 günstig.
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Die Reinigungsanlage 10 weist an ihrem Ausgang 20 für jeden Medienkreislauf einen eigenen Vorlauf 21, 22, 23 auf und am Eingang 30 einen eigenen Rücklauf 31, 32, 33. Jeder Medienkreislauf hat demnach ein eigenes Rohrsystem.
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8 zeigt die Anordnung nach 6, wobei ein erster Kreislauf für einen Medienfluss vom Ausgang 20 der Reinigungsanlage 10 über ihren Vorlauf 21 zu einer Wasseraufbereitungsanlage als Teilbereich 102 der Behandlungsanlage 100 führt. Von dort gelangt das jeweilige Medium, d.h. Spülflüssigkeit, Lauge, Säure, Desinfektionsmittel, über den Rücklauf 31 zurück zum Eingang 30 der Reinigungsanlage 200. Die Medienströmung ist jeweils durch unterbrochene Pfeillinien symbolisiert.
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9 zeigt die Anordnung nach 6, wobei ein zweiter Kreislauf für einen Medienfluss vom Ausgang 20 der Reinigungsanlage 10 über ihren Vorlauf 22 der Reinigungsanlage 10 zu einem Wassertank als Teilbereich 104 der Behandlungsanlage 100 führt. Von dort gelangt das jeweilige Medium, d.h. Spülflüssigkeit, Lauge, Säure, Desinfektionsmittel, über den Rücklauf 32 zurück zum Eingang 30 der Reinigungsanlage 200. Die Medienströmung ist jeweils durch unterbrochene Pfeillinien symbolisiert.
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10 zeigt die Anordnung nach 6, wobei ein dritter Kreislauf für einen Medienfluss vom Ausgang 20 der Reinigungsanlage 10 über ihren Vorlauf 23 der Reinigungsanlage 10 zu einem Prozess-Teilbereich als Teilbereich 106 der Behandlungsanlage 100 führt. Von dort gelangt das jeweilige Medium, d.h. Spülflüssigkeit, Lauge, Säure, Desinfektionsmittel, über den Rücklauf 33 zurück zum Eingang 30 der Reinigungsanlage 200. Die Medienströmung ist jeweils durch unterbrochene Pfeillinien symbolisiert.
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11 zeigt eine Reinigungsanlage 10 nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung für einen Einwegbetrieb der Medien, wie sie im vorhergehenden Ausführungsbeispiel in den 6 bis 10 eingesetzt ist.
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Die Ausführung der Reinigungsanlage 10 ist für den Betrieb mit jeweils frisch angesetzten Reinigungs- und Desinfektionslösungen ausgelegt. Sie beinhaltet einen Tank 34, der beim Schließen des jeweiligen Medienkreislaufs als Ausgleichsbehälter dient.
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Am Ausgang 20 ist eine Sensoreinrichtung 64 mit mehreren Sensoren zur Überwachung der Medien angeordnet, welche in den Medienkreislauf gelangen. Am Eingang 30 ist eine Sensoreinrichtung 66 vorgesehen, welche die rückgeführten Medien überwacht. Ausgang 20 und Eingang 30 stellen die Koppelstelle der Reinigungsanlage 10 mit der Behandlungsanlage 100 dar.
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Die ausgangsseitige Sensoreinrichtung 64 ist stromauf eines Wärmetauschers 48 angeordnet, dem über Schnittstellen 13, 14 ein Wärmeträgermedium, beispielsweise erhitztes Wasser, zugeführt und abgeführt wird. Mit dem Wärmetauscher 48 kann das jeweilige Medium auf eine für die Reinigungssequenz günstige Temperatur gebracht werden.
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Stromab der Sensoreinrichtung 64 ist eine Fördereinrichtung 60, vorzugsweise eine regelbare Pumpe, angeordnet. Diese kann ihre Förderleistung abhängig von dem zu versorgenden Medienkreislauf anpassen. Stromauf der Fördereinrichtung und stromab des Tanks 34 ist eine Dosiereinrichtung 62 angeordnet. Dort können über Schnittstellen 17, 18, 19 Reinigungsmedien wie Lauge über die Schnittstelle 17, Säure über die Schnittstelle 18 und Desinfektionsmittel über die Schnittstelle 19 zudosiert werden.
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Die Medien werden mit Wasser, das über die Schnittstelle 15 in eine Leitung 70 zugeführt wird, auf eine gewünschte Konzentration gebracht. Über eine weitere Schnittstelle 12 kann zusätzliches Desinfektionsmittel in die Leitung der Schnittstelle 19 zugeführt werden.
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Die konzentrierten Medien, die über die Dosierstelle 62 zugegeben werden, können in Modulen 17 für Lauge, 18 für Säure und 19 für Desinfektionsmittel in entsprechenden Vorratsbehältern 52 für Lauge, 54 für Säure und 56 für Desinfektionsmittel in separaten Modulen 51, 53, 55 gelagert werden. Bei Bedarf werden die jeweiligen Schnittstellen 17, 18, 19 miteinander verbunden und die Medien bedarfsgerecht zudosiert.
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Der Ausgang 20 kann mit einem regelbaren Ventil 26 gesperrt oder geöffnet werden. Entsprechend kann der Eingang 30 mit einem regelbaren Ventil 38 geschlossen werden.
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Das jeweilige Medium kann im Tank 34 gesammelt und über einen Entsorgungsanschluss 72 entsorgt werden. Hierzu kann ein am Tank 34 angeschlossener Ventilknoten 36 mit mehreren Ventilen entsprechend geschaltet werden.
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In einer ersten Schaltstellung des Ventilknotens 36 kann das Wasser aus der Leitung 70 zur Dosiereinrichtung 62 und dem Fördermittel 60 gelangen. In einer zweiten Schaltstellung des Ventilknotens kann Medium aus dem als Ausgleichsgefäß dienenden Tank 34 wieder in den Medienkreislauf zum Fördermittel 60 fließen. In einer weiteren Schaltstellung des Ventilknotens 36 kann das Medium aus dem Tank an den Entsorgungsanschluss 72 geleitet und aus der Reinigungsanlage 10 abgeleitet werden.
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Zur Steuerung der Reinigungsanlage können weitere Ventile, Sensoren und Filter vorgesehen sein. Ferner ist ein nicht dargestellter Steuerrechner vorgesehen, der die Sensoren zur Überwachung der Medien sowie die Ventile und Fördermittel steuert oder regelt.
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12 zeigt eine Reinigungsanlage nach einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung für einen Betrieb mit Wiederverwendung der Medien, die in der Reinigungssequenz eingesetzt werden. Dies ist für große Anlagen günstig, bei denen große Volumina an Reinigungsmedien notwendig sind.
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In großen Teilen entspricht die Reinigungsanlage derjenigen aus dem vorangegangenen Ausführungsbeispiel.
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Die Ausführung der Reinigungsanlage 10 ist jedoch für den Betrieb mit wiederverwendbaren Reinigungs- und Desinfektionslösungen ausgelegt. Sie beinhaltet mehrere Tanks 40, 42, 44, 46, der beim Schließen des jeweiligen Medienkreislaufs als Ausgleichsbehälter und nach der Reinigungssequenz als Vorratsbehälter dienen.
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Im Tank 40 ist Wasser zum Vorspülen vor der Zufuhr von Lauge gespeichert. Dieses Wasser kann beispielsweise das Spülmedium aus dem letzten Spülgang der vorangegangenen Reinigungssequenz sein.
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Im Tank 42 ist wiederverwendbare Lauge enthalten. Der Tank 44 ist für Säure vorgesehen, der Tank 46 ist für frisches Wasser als Spülmedium für den letzten Spülgang vorgesehen.
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Die Tanks 40, 42, 44, 46 sind stromauf der Dosiereinrichtung 62 angeordnet.
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Am Ausgang 20 ist eine Sensoreinrichtung 64 mit mehreren Sensoren zur Überwachung der Medien angeordnet, welche in den Medienkreislauf gelangen. Am Eingang 30 ist eine Sensoreinrichtung 66 vorgesehen, welche die rückgeführten Medien überwacht. Ausgang 20 und Eingang 30 stellen die Koppelstelle der Reinigungsanlage 10 mit der Behandlungsanlage 100 dar.
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Die ausgangsseitige Sensoreinrichtung 64 ist stromauf eines Wärmetauschers 48 angeordnet, dem über Schnittstellen 13, 14 ein Wärmeträgermedium, beispielsweise erhitztes Wasser, zugeführt und abgeführt wird. Mit dem Wärmetauscher 48 kann das jeweilige Medium auf eine für die Reinigungssequenz günstige Temperatur gebracht werden.
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Stromab der Sensoreinrichtung 64 ist eine Fördereinrichtung 60, vorzugsweise eine regelbare Pumpe, angeordnet. Diese kann ihre Förderleistung abhängig von dem zu versorgenden Medienkreislauf anpassen. Stromauf der Fördereinrichtung und stromab des Tanks 34 ist eine Dosiereinrichtung 62 angeordnet. Dort können über Schnittstellen 17, 18, 19 Reinigungsmedien wie Lauge über die Schnittstelle 17, Säure über die Schnittstelle 18 und Desinfektionsmittel über die Schnittstelle 19 zudosiert werden. Das Desinfektionsmittel wird hier nicht gespeichert, sondern jeweils für jede Reinigungssequenz frisch angesetzt verwendet.
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Das jeweilige Medium in den Tanks 40, 42, 44, 46 kann nach Verbrauch über einen Entsorgungsanschluss 72 entsorgt werden.
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Die Medien werden mit Wasser, das über die Schnittstelle 15 in eine Leitung 70 zugeführt wird, auf eine gewünschte Konzentration gebracht.
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Die konzentrierten Medien, die über die Dosierstelle 62 zugegeben werden, können in Modulen 17 für Lauge, 18 für Säure und 19 für Desinfektionsmittel in entsprechenden Vorratsbehältern 52 für Lauge, 54 für Säure und 56 für Desinfektionsmittel in separaten Modulen 51, 53, 55 gelagert werden. Bei Bedarf werden die jeweiligen Schnittstellen 17, 18, 19 miteinander verbunden und die Medien bedarfsgerecht zudosiert.
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Der Ausgang 20 kann mit einem regelbaren Ventil 26 gesperrt oder geöffnet werden. Entsprechend kann der Eingang 30 mit einem regelbaren Ventil 38 geschlossen werden.
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Zur Steuerung der Reinigungsanlage können weitere Ventile, Sensoren und Filter vorgesehen sein. Ferner ist ein nicht dargestellter Steuerrechner vorgesehen, der die Sensoren zur Überwachung der Medien sowie die Ventile und Fördermittel steuert oder regelt.
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13 zeigt schematisch ein Flussdiagramm eines Reinigungsverfahrens nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung. Beispielhaft werden aufeinander folgend drei Teilbereiche einer Behandlungsanlage einer Reinigungssequenz unterzogen.
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Das Verfahren sieht vor, dass wenigstens ein Teilbereich einer Behandlungsanlage einer Reinigungssequenz unterzogen wird. Nach der Reinigungssequenz kann der Teilbereich mit dem üblichen Fluid für den Behandlungsprozess beaufschlagt werden und die nächste Reinigungssequenz in einem anderen Teilbereich durchgeführt werden.
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Ein erster Medienkreislauf wird geschaltet und in Schritt S10 der Teilbereich mit einer Spülflüssigkeit gespült. In Schritt S12 wird der Teilbereich mit Lauge gereinigt. In Schritt S14 wird der Teilbereich mit Spülflüssigkeit gespült. In Schritt S16 wird der Teilbereich mit Säure gereinigt und Laugenreste neutralisiert. In Schritt S18 wird der Teilbereich mit Spülflüssigkeit gespült. In Schritt S20 wird der Teilbereich mit einem Desinfektionsmittel desinfiziert.
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Nach der Reinigungssequenz ist der Teilbereich einsatzbereit.
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Die Schritte S10-S20 werden im nächsten Teilbereich wiederholt, wenn der zweite Medienkreislauf geschaltet ist. Sodann wird der dritte Medienkreislauf für den dritten Teilbereich geschaltet und die Schritte S10-S20 dort wiederholt.
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Es können weniger oder mehr Teilbereiche mit der Reinigungssequenz gereinigt werden.
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- 10
- Reinigungsanlage
- 12
- Schnittstelle
- 13
- Schnittstelle
- 14
- Schnittstelle
- 15
- Schnittstelle
- 16
- Schnittstelle
- 17
- Schnittstelle
- 18
- Schnittstelle
- 19
- Schnittstelle
- 20
- Vorlauf
- 21
- Leitung
- 22
- Leitung
- 23
- Leitung
- 28 30
- Rücklauf
- 31
- Leitung
- 32
- Leitung
- 33
- Leitung
- 34
- Ausgleichsgefäß
- 36
- Ventilknoten
- 40
- Wassertank
- 42
- Laugentank
- 44
- Säuretank
- 46
- Wassertank
- 48
- Wärmetauscher
- 51
- Laugenmodul
- 52
- Behälter
- 53
- Säuremodul
- 55
- Desinfektionsmodul
- 56
- Behälter
- 60
- Fördereinrichtung
- 62
- Dosiereinrichtung
- 64
- Sensoreinrichtung
- 66
- Sensoreinrichtung
- 70
- Wasserzufuhr
- 72
- Entsorgungsanschluss
- 100
- Behandlungsanlage
- 102
- Wasseraufbereitungsanlage
- 104
- Wassertank
- 106
- Beschichtungsanlage
- 110
- Wasser-Eingangsfilter
- 112
- Fördermodul
- 114
- Fördermodul
- 160
- Verteilerpanel
- 161
- Anschluss
- 162
- Anschluss
- 163
- Anschluss
- 164
- Behälter
- 165
- Anschluss
- 166
- Anschluss
- 167
- Anschluss
- 168
- Anschluss
- 170
- Anschluss
- 172
- Anschluss
- 200
- Koppelstelle
- S10
- Spülschritt
- S12
- Laugenbehandlungsschritt
- S14
- Spülschritt
- S16
- Säurebehandlungsschritt
- S18
- Spülschritt
- S20
- Desinfektionsschritt