DE102018222326A1

DE102018222326A1 - Collector mirror assembly for an EUV light source

Info

Publication number: DE102018222326A1
Application number: DE102018222326.2A
Authority: DE
Inventors: Ralf Moser
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2018-12-19
Filing date: 2018-12-19
Publication date: 2019-10-02

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Kollektorspiegelanordnung für eine EUV - Lichtquelle mit einem Kollektorspiegel (10) mit einer Reflexionsoberfläche (26) und einer Öffnung (11) in der Reflexionsoberfläche, durch welche ein rohrförmiges Element (30) geführt ist, das einen zur Führung eines Gasstroms ausgebildeten Strömungskanal aufweist und diesen ringförmig begrenzt, wobei das rohrförmige Element so ausgebildet ist, dass mindestens ein Durchgang (31) von der zur Reflexionsoberfläche gerichteten Außenseite (27) des rohrförmigen Elements zum Strömungskanal gebildet ist, durch den Gas von der Reflexionsoberfläche zum Strömungskanal fließen kann. Außerdem betrifft die Erfindung eine EUV - Lichtquelleneinheit und eine EUV - Projektionsbelichtungsanlage mit einer entsprechenden Kollektorspiegelanordnung.

The present invention relates to a collector mirror assembly for an EUV light source comprising a collector mirror (10) having a reflection surface (26) and an opening (11) in the reflection surface through which a tubular member (30) is passed, one for guiding a gas flow formed and this annularly bounded, wherein the tubular member is formed so that at least one passage (31) from the reflection surface facing outside (27) of the tubular member to the flow channel is formed, can flow through the gas from the reflection surface to the flow channel , Moreover, the invention relates to an EUV light source unit and an EUV projection exposure apparatus with a corresponding collector mirror arrangement.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Kollektorspiegelanordnung für eine EUV - Lichtquelleneinheit sowie eine entsprechende EUV - Lichtquelleneinheit und eine EUV - Projektionsbelichtungsanlage für die mikrolithographische Herstellung von mikrostrukturierten und nanostrukturierten Bauteilen der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik.The invention relates to a collector mirror arrangement for an EUV light source unit and to a corresponding EUV light source unit and to an EUV projection exposure apparatus for the microlithographic production of microstructured and nanostructured components in microelectronics and microsystem technology.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Für die Herstellung von mikrostrukturierten und nanostrukturierten Bauteilen der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik werden bei mikrolithographischen Verfahren Projektionsbelichtungsanlagen eingesetzt, die mit Licht bzw. elektromagnetischer Strahlung mit Wellenlängen im Bereich des extrem ultravioletten Lichts (EUV - Licht) betrieben werden, um eine Auflösung von abzubildenden Strukturen im Nanometerbereich zu ermöglichen. Entsprechend sind im Stand der Technik EUV - Lichtquellen bzw. EUV - Lichtquelleneinheiten bekannt, mit denen EUV - Licht erzeugt werden kann. Hierzu werden beispielsweise Anordnungen eingesetzt, bei denen ein Brennstoff mittels eines Infrarotstrahls zu einem Plasma angeregt wird, welches das gewünschte EUV - Licht ausstrahlt. Das so erzeugte EUV - Licht wird mit einem Kollektorspiegel in einen Zwischenfokus fokussiert, um dann in einem Beleuchtungssystem einer Projektionsbelichtungsanlage für die Beleuchtung eines Retikels weiter aufbereitet zu werden.For the production of microstructured and nanostructured components of microelectronics and microsystems technology, microlithographic processes use projection exposure apparatuses which are operated with light or electromagnetic radiation with wavelengths in the range of extreme ultraviolet light (EUV light) in order to resolve nanoscale structures to be imaged to enable. Accordingly, in the prior art, EUV light sources or EUV light source units are known, with which EUV light can be generated. For this purpose, for example, arrangements are used in which a fuel is excited by means of an infrared beam to form a plasma which emits the desired EUV light. The EUV light produced in this way is focused with a collector mirror into an intermediate focus, in order to be further processed in a lighting system of a projection exposure apparatus for the illumination of a reticle.

Bei der Erzeugung des Plasmas können jedoch Kontaminationen auf die Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels gelangen und dort abgeschieden werden, sodass die Wirkungsweise des Kollektorspiegels beeinträchtigt werden kann. Entsprechend wird nach dem Stand der Technik bereits versucht durch die Einstellung einer geeigneten Gasströmung im Bereich der Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels, beispielsweise einer Wasserstoffgasströmung, eine Abscheidung von Kontaminationen auf der Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels zu verhindern. When the plasma is generated, however, contaminants can reach the reflection surface of the collector mirror and be deposited there, so that the mode of operation of the collector mirror can be impaired. Accordingly, the prior art already attempts to prevent the deposition of contaminants on the reflection surface of the collector mirror by setting a suitable gas flow in the region of the reflection surface of the collector mirror, for example a hydrogen gas flow.

Hierzu wird üblicherweise ein zentraler Gasstrom durch eine zentrale Öffnung des Kollektorspiegels geleitet, der von der Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels weg gerichtet ist. Zusätzlich wird eine laterale Gasströmung von dem Rand des Kollektorspiegels in Richtung der Mitte des Kollektorspiegels geführt, um eine laminare Gasströmung entlang der Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels einzustellen.For this purpose, a central gas flow is usually passed through a central opening of the collector mirror, which is directed away from the reflection surface of the collector mirror. In addition, a lateral gas flow from the edge of the collector mirror is directed towards the center of the collector mirror to set a laminar gas flow along the reflection surface of the collector mirror.

In den Bereich des zentralen Gasstroms und des laminaren Gasstroms vom Rand sind Wolfram-Filamente platziert, welche den zugeführten Wasserstoff spalten. Der atomare Wasserstoff sorgt für eine reinigende Wirkung auf der Reflexionsoberfläche durch Bildung von Stanan in Verbindung mit Zinn.In the region of the central gas flow and the laminar gas flow from the edge tungsten filaments are placed, which split the supplied hydrogen. The atomic hydrogen provides a cleansing effect on the reflective surface by forming Stanan in conjunction with tin.

Allerdings kann es beim Zusammentreffen des zentralen Gasstroms bzw. eines Anteils des zentralen Gasstroms, der radial nach außen abfließt, mit dem laminarer Gasstrom von dem Rand des Kollektorspiegels, der in Richtung des Zentrums des Kollektorspiegels fließt, zu Verwirbelungen kommen, die einen Transport von Kontaminationen in Richtung der Reflexionsoberfläche verursachen können, sodass sich bereits entfernte Kontaminationen in dieser Verwirbelungszone, wo die Spülgasströme aufeinandertreffen, wieder auf der Oberfläche absetzen können.However, when the central gas flow or a portion of the central gas flow, which flows radially outwards, with the laminar gas flow from the edge of the collector mirror, which flows in the direction of the center of the collector mirror, turbulences can occur, which entail a transport of contaminations can cause in the direction of the reflection surface, so that even remote contaminants in this Verwirbelungszone where the purge gas streams meet again can settle on the surface.

Ein herkömmliches System und Verfahren zum Entfernen von Kontaminationen gleichzeitig mit dem Erzeugen von EUV-Licht ist beispielsweise aus der Druckschrift US 9 888 554 B2 bekannt.A conventional system and method for removing contaminants concurrently with generating EUV light is, for example, the document US Pat. No. 9,888,554 B2 known.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine Kollektorspiegelanordnung für eine EUV - Lichtquelle sowie eine EUV - Lichtquelleneinheit und eine EUV - Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen, bei denen die Problematik der Kontamination des Kollektorspiegels, mit dem das in einem Plasma erzeugte EUV - Licht gesammelt wird, vermieden oder zumindest verringert wird. Gleichzeitig soll die Lösung einfach verwirklicht werden können und einfach durchführbar sein, wobei die EUV - Lichtquelle nicht beeinträchtigt werden soll, sondern eine hohe Ausbeute für das erzeugte EUV - Licht sichergestellt werden soll.It is therefore an object of the present invention to provide a collector mirror arrangement for an EUV light source as well as an EUV light source unit and an EUV projection exposure apparatus, in which the problem of contamination of the collector mirror, with which the EUV light generated in a plasma is collected, is avoided or avoided at least reduced. At the same time, the solution should be easy to implement and easy to carry out without affecting the EUV light source, but ensuring a high yield for the generated EUV light.

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Kollektorspiegelanordnung mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie einer EUV - Lichtquelleneinheit mit den Merkmalen des Anspruchs 13 sowie einer EUV - Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 14. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved by a collector mirror arrangement having the features of claim 1 and an EUV light source unit having the features of claim 13 and an EUV projection exposure apparatus having the features of claim 14. Advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.

Mit der vorliegenden Erfindung wird eine gegenüber dem Stand der Technik veränderte und verbesserte Gasführung zum Schutz des Kollektorspiegels vor Kontaminationen vorgeschlagen. Hierzu wird bei einer Kollektorspiegelanordnung mit einem Kollektorspiegel, der in seiner Reflexionsoberfläche eine zentrale Öffnung für einen zentralen Gasstrom aufweist, ein rohrförmiges Element in der zentralen Öffnung zur Führung des Gasstroms angeordnet, welches so ausgebildet ist, dass mindestens ein Durchgang von der zur Reflexionsoberfläche gerichteten Außenseite des rohrförmigen Elements zum Strömungskanal des rohrförmigen Elements, durch den der zentrale Gasstrom geleitet wird, gegeben ist. Damit wird ermöglicht, dass eine laterale Gasströmung, die von dem Rand des Kollektorspiegels laminar entlang der Reflexionsoberfläche in Richtung des Zentrums des Kollektorspiegels geleitet wird, über das rohrförmige Element sicher abgeleitet werden kann, ohne dass sich Verwirbelungen oder dergleichen bilden, die eine Abscheidung von Kontaminationen auf die Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels verursachen könnten.With the present invention, a modified and improved compared to the prior art gas guide for protecting the collector mirror from contamination is proposed. For this purpose, in a collector mirror assembly having a collector mirror, which has in its reflection surface a central opening for a central gas flow, a tubular element in the central Opening arranged to guide the gas flow, which is formed so that at least one passage from the surface facing the reflection surface of the tubular member is given to the flow channel of the tubular member through which the central gas flow is passed. This allows a lateral gas flow, which is conducted from the edge of the collector mirror laminar along the reflection surface towards the center of the collector mirror, can be safely derived via the tubular member without causing turbulence or the like, the deposition of contaminants could cause on the reflection surface of the collector mirror.

Entsprechend kann der Durchgang mindestens eine Eintrittsöffnung an der Außenseite des rohrförmigen Elements und mindestens eine Austrittsöffnung am Strömungskanal des rohrförmigen Elements aufweisen, sodass die laminare Gasströmung, die von dem Rand des Kollektorspiegels in Richtung der Mitte des Kollektorspiegels entlang der Reflexionsoberfläche strömt, durch die Eintrittsöffnung in den Durchgang gelangen kann und durch die Austrittsöffnung in den Strömungskanal mit dem zentralen Gasstrom austreten kann. Hierbei können die Eintrittsöffnung und die Austrittsöffnung in axialer Richtung des Strömungskanals versetzt zueinander angeordnet sein, wobei die Eintrittsöffnung weiter entfernt von dem von der Reflexionsoberfläche wegweisenden Ende des rohrförmig Elements angeordnet sein kann als die Austrittsöffnung, um so eine Sogwirkung durch das durch den Strömungskanal des rohrförmig Elements strömende Gas zu bewirken.Accordingly, the passage may have at least one inlet opening on the outside of the tubular element and at least one outlet opening on the flow channel of the tubular element, so that the laminar gas flow flowing from the edge of the collector mirror towards the center of the collector mirror along the reflection surface, through the inlet opening in can pass through and exit through the outlet opening in the flow channel with the central gas flow. In this case, the inlet opening and the outlet opening in the axial direction of the flow channel can be arranged offset to one another, wherein the inlet opening can be arranged further away from the direction away from the reflection surface end of the tubular element as the outlet opening, so as a suction effect through the through the flow channel of the tubular Elements to cause flowing gas.

Die Eintrittsöffnung in den Durchgang kann unmittelbar im Bereich des Stoßes, an dem die Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels an die Außenseite des rohrförmig Elements angrenzt, angeordnet sein bzw. sich in einer Richtung, die der Reflexionsrichtung entspricht, von der Reflexionsoberfläche erstrecken. Dadurch kann die laminare Gasströmung unmittelbar entlang der Reflexionsoberfläche stabilisiert werden und bei der Ausbildung eines Sogs durch den Durchgang kann entsprechend ein stabiler laminarer Gasstrom über die gesamte Reflexionsoberfläche eingestellt werden.The entrance opening into the passage may be located directly in the region of the impact at which the reflection surface of the collector mirror adjoins the outside of the tubular element or extend in a direction corresponding to the reflection direction of the reflection surface. Thereby, the laminar gas flow can be stabilized immediately along the reflection surface, and when a suction is formed through the passage, a stable laminar gas flow can be adjusted correspondingly over the entire reflection surface.

Der Durchgang kann in einer Doppelwandstruktur des rohrförmigen Elements ausgebildet sein, die durch eine Begrenzungswand des Strömungskanals und der Außenseite des rohrförmig Elements gebildet sein.The passage may be formed in a double wall structure of the tubular member formed by a boundary wall of the flow passage and the outside of the tubular member.

Das rohrförmige Element kann weiterhin eine seitliche Abgabeöffnung für das im Strömungskanal geführte Gas aufweisen, wobei die seitliche Abgabeöffnung in der vom Strömungskanal abgewandten Außenseite des rohrförmig Elements angeordnet sein kann. Die seitliche Abgabeöffnung kann beabstandet von der Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels in Richtung des von dem von der Reflexionsoberfläche wegweisenden Endes des rohrförmigen Elements angeordnet sein, sodass beabstandet zur Reflexionsoberfläche eine seitliche, von der Reflexionsoberfläche weg gerichtete Gasströmung eingestellt werden kann.The tubular element can furthermore have a lateral discharge opening for the gas guided in the flow channel, wherein the lateral discharge opening can be arranged in the outside of the tubular element facing away from the flow channel. The lateral discharge opening may be spaced from the reflecting surface of the collector mirror in the direction of the end of the tubular member facing away from the reflecting surface so that a lateral gas flow directed away from the reflecting surface can be adjusted at a distance from the reflecting surface.

Insbesondere kann die seitliche Abgabeöffnung näher zu dem von der Reflexionsoberfläche wegweisenden Ende des rohrförmigen Elements angeordnet sein, als die Austrittsöffnung des Durchgangs in den Strömungskanal.In particular, the lateral discharge opening may be located closer to the end of the tubular element facing away from the reflection surface than the exit opening of the passage into the flow channel.

Die seitliche Abgabeöffnung kann durch einen Verbindungskanal mit dem Strömungskanal des rohrförmigen Elements, der den zentralen Gasstrom leitet, verbunden sein, sodass Gas des zentralen Gasstroms direkt über die seitliche Abgabeöffnung abgegeben werden kann. Darüber hinaus ist es jedoch auch möglich die seitliche Abgabeöffnung mittels einer separaten Zuführleitung für das im Strömungskanal geführte Gas zu speisen, wobei das Gas an einer entfernten Stelle in die Zuführleitung eingespeist werden kann.The lateral discharge port may be connected by a connecting channel to the flow channel of the tubular element directing the central gas flow so that gas from the central gas flow can be delivered directly via the lateral discharge port. In addition, however, it is also possible to feed the lateral discharge opening by means of a separate supply line for the guided gas in the flow channel, wherein the gas can be fed at a remote location in the feed line.

Der Zugang vom Strömungskanal zum Verbindungskanal kann in dem rohrförmig Element so ausgebildet sein, dass er näher an dem von der Reflexionsoberfläche wegweisenden Ende des rohrförmigen Elements angeordnet ist als die Austrittsöffnung des Durchgangs in den Strömungskanal.The access from the flow channel to the connection channel may be formed in the tubular element so that it is located closer to the end of the tubular element facing away from the reflection surface than the exit opening of the passage into the flow channel.

Das rohrförmig Element kann als Vierkantrohr bzw. Mehrkantrohr oder als Rundrohr mit einer zylindrischen Grundform ausgebildet sein. Entsprechend können die an der Begrenzungswand des Strömungskanals bzw. an der Außenseite des rohrförmigen Elements angeordneten Zugänge bzw. Öffnungen, wie die Eintrittsöffnung und/oder die Austrittsöffnung des Durchgangs bzw. die seitliche Abgabeöffnung so ausgebildet sein, dass die entsprechende Öffnung oder der entsprechende Zugang ringförmig ausgebildet ist. Alternativ können auch mehrere Zugänge, Eintrittsöffnungen, Austrittsöffnungen oder seitliche Abgabeöffnungen jeweils nebeneinander um das rohrförmig Element herum angeordnet sein.The tubular element may be formed as a square tube or polygonal tube or as a round tube with a cylindrical basic shape. Correspondingly, the openings or openings arranged on the boundary wall of the flow channel or on the outside of the tubular element, such as the inlet opening and / or the outlet opening of the passage or the lateral discharge opening, can be designed such that the corresponding opening or the corresponding access is annular is trained. Alternatively, a plurality of access points, inlet openings, outlet openings or lateral discharge openings can each be arranged next to one another around the tubular element.

Die seitliche Abgabeöffnung kann an sich so ausgebildet sein, dass das aus der seitlichen Abgabeöffnung abgegebene Gas in eine Richtung weg von der Reflexionsoberfläche strömt. Zusätzlich oder alternativ kann mindestens ein Führungselement in oder an der seitlichen Abgabeöffnung angeordnet sein, welches den Gasstrom in eine Richtung weg von der Reflexionsoberfläche leitet. Auf diese Weise kann sichergestellt werden, dass möglichst keine Gasteilströmung in Richtung Reflexionsoberfläche geführt wird, die Kontaminationen auf die Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels leiten könnte.As such, the lateral discharge port may be formed such that the gas discharged from the side discharge port flows in a direction away from the reflection surface. Additionally or alternatively, at least one guide member may be disposed in or on the side discharge opening directing the gas flow in a direction away from the reflection surface. In this way it can be ensured that as far as possible no partial gas flow in the direction of the reflection surface which could conduct contaminants to the reflection surface of the collector mirror.

Anstatt einem Führungselement zur Vermeidung einer Gasteilströmung in Richtung auf die Reflexionsoberfläche können mehrere Wolfram-Filamente in der seitlichen Abgabeöffnung angeordnet sein, welche den zugeführten Wasserstoff in atomaren Wasserstoff spalten. Dieser wird durch die Gasteilströmung in Richtung der Reflexionsoberfläche auf die Reflexionsoberfläche transportiert. Dies erhöht den Anteil an atomaren Wasserstoff in der Gasströmung entlang der Reflexionsoberfläche, welcher durch Rekombinationseffekte über die Weglänge, startend von der Gaszuführung vom Rand, typischerweise reduziert wird. Dies erhöht die Reinigungswirkung auf der Reflexionsoberfläche.Instead of a guide element for avoiding a partial gas flow in the direction of the reflection surface, a plurality of tungsten filaments may be arranged in the lateral discharge opening, which split the supplied hydrogen into atomic hydrogen. This is transported by the gas flow in the direction of the reflection surface on the reflection surface. This increases the level of atomic hydrogen in the gas flow along the reflection surface, which is typically reduced by recombination effects over the path length starting from the gas feed from the edge. This increases the cleaning effect on the reflection surface.

Insbesondere wird gemäß der vorliegenden Erfindung auch darauf verzichtet, einen seitlichen Gasstrom von der zentralen Öffnung in Richtung des Randes des Kollektorspiegels zu leiten, um Verwirbelungen mit dem laminarer Gasstrom vom Rand des Kollektorspiegels in Richtung der Mitte des Kollektorspiegels zu vermeiden.In particular, according to the present invention, refraining from directing a lateral gas flow from the central opening towards the edge of the collector mirror in order to avoid turbulence with the laminar gas flow from the edge of the collector mirror in the direction of the center of the collector mirror.

Figurenlistelist of figures

Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in

1 eine Darstellung einer EUV - Projektionsbelichtungsanlage,
2 eine Darstellung einer EUV - Lichtquelle, wie sie in der EUV - Projektionsbelichtungsanlage der 1 verwendet werden kann und in welcher die vorliegende Erfindung verwirklicht werden kann,
3 eine Darstellung eines Teils eines Kollektorspiegels gemäß dem Stand der Technik,
4 eine Darstellung eines Teils einer ersten Ausführungsform einer erfindungsgemä-ßen Kollektorspiegelanordnung,
5 eine Darstellung eines Teils einer zweiten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Kollektorspiegelanordnung und in
6 eine Darstellung eines Teils einer dritten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Kollektorspiegelanordnung.

The accompanying drawings show in a purely schematic manner in FIG

1 a representation of an EUV projection exposure apparatus,
2 a representation of an EUV light source, as used in the EUV projection exposure apparatus of the 1 can be used and in which the present invention can be realized,
3 a representation of a part of a collector mirror according to the prior art,
4 1 is a representation of a part of a first embodiment of a collector mirror arrangement according to the invention;
5 an illustration of a part of a second embodiment of a collector mirror assembly according to the invention and in
6 an illustration of a part of a third embodiment of a collector mirror assembly according to the invention.

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEEMBODIMENTS

Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der Ausführungsbeispiele ersichtlich. Allerdings ist die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.Further advantages, characteristics and features of the present invention will become apparent from the following detailed description of the embodiments. However, the invention is not limited to these embodiments.

In der 1 ist in rein schematischer Weise eine EUV - Projektionsbelichtungsanlage dargestellt, in welcher eine erfindungsgemäße EUV - Lichtquelleneinheit bzw. eine Kollektorspiegelanordnung für eine EUV - Lichtquelleneinheit Verwendung finden können. Die EUV - Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine EUV - Lichtquelleneinheit 2 sowie ein Beleuchtungssystem 3 und ein Projektionsobjektiv 4. Das in der EUV - Lichtquelleneinheit 2 erzeugte EUV - Licht wird im Beleuchtungssystem 3 so aufbereitet, dass ein Retikel 5, welches die abzubildenden Strukturen aufweist, in geeigneter Weise beleuchtet werden kann. Das Retikel 5 wird durch das Projektionsobjektiv 4 in verkleinernder Weise auf den Wafer 6 abgebildet, um dort durch mikrolithographische Prozesse die entsprechenden Strukturen zu erzeugen.In the 1 In a purely schematic manner, an EUV projection exposure apparatus is shown, in which an EUV light source unit according to the invention or a collector mirror arrangement for an EUV light source unit can be used. The EUV - projection exposure system 1 includes an EUV light source unit 2 and a lighting system 3 and a projection lens 4 , The in the EUV - light source unit 2 generated EUV - light is in the lighting system 3 so prepared that a reticle 5 , which has the structures to be imaged, can be illuminated in a suitable manner. The reticle 5 is through the projection lens 4 in a shrinking manner on the wafer 6 imaged there to create the corresponding structures by microlithographic processes.

Die 2 zeigt eine schematische Darstellung einer EUV - Lichtquelleneinheit, bei welcher durch ein Plasma 15 EUV - Licht erzeugt wird. Hierzu weist die EUV - Lichtquelleneinheit 2 einen Kollektorspiegel 10 auf, der das im Plasma 15 erzeugte EUV - Licht (siehe beispielhaft EUV - Lichtstrahl 16) in einen Zwischenfokus 17 reflektiert.The 2 shows a schematic representation of an EUV - light source unit, in which by a plasma 15 EUV - light is generated. For this purpose, the EUV - light source unit 2 a collector mirror 10 on, that in the plasma 15 generated EUV light (see for example EUV light beam 16 ) into an intermediate focus 17 reflected.

Das Plasma 15 wird durch Anregung eines Brennstoffs, der beispielsweise in Form von Tröpfchen in den Bereich des Plasmas 15 eingeführt wird, erzeugt, wobei die Anregung durch einen Infrarotstrahl 14 erfolgt, der im Bereich des Plasmas 15 auf den Brennstoff einwirkt. Wie in der 2 zu sehen ist, wird der Infrarotstrahl 14 durch eine Öffnung 11 im Kollektorspiegel 10 geführt, während der Brennstoff in einer Richtung quer dazu in den Bereich des Plasmas 15 zugeführt wird, wobei die Brennstoffzuführung der Einfachheit halber nicht gezeigt ist. Es sei darauf hingewiesen, dass die Öffnung 11 zum Einfall des Infrarotstrahls 14 dabei nicht notwendigerweise in der Rotationsachse des Kollektorspiegels 10 angeordnet sein muss, sondern auch andere Anordnungen der Öffnung 11 denkbar sind, wie beispielsweise ein radialer Versatz der Öffnung 11.The plasma 15 is by excitation of a fuel, for example in the form of droplets in the area of the plasma 15 is introduced, wherein the excitation by an infrared ray 14 takes place in the area of the plasma 15 acting on the fuel. Like in the 2 can be seen, the infrared beam 14 through an opening 11 in the collector mirror 10 guided while the fuel in a direction transverse to it in the area of the plasma 15 is supplied, wherein the fuel supply is not shown for the sake of simplicity. It should be noted that the opening 11 to the incidence of the infrared beam 14 not necessarily in the axis of rotation of the collector mirror 10 must be arranged, but also other arrangements of the opening 11 are conceivable, such as a radial offset of the opening 11 ,

Um zu vermeiden, dass Brennstoff bzw. Stoffe aus dem Plasma 15 auf die Reflexionsoberfläche des Kollektorspiels 10 gelangen und diesen verschmutzen, wird eine Gasströmung, beispielsweise eine Wasserstoffgasströmung, eingerichtet, die verhindern soll, dass die Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels 10 kontaminiert wird. Bei der in 2 gezeigten EUV - Lichtquelleneinheit werden ein zentraler Gasstrom 12, der durch die zentrale Öffnung 11 des Kollektorspiegels 10 in Richtung des Plasmas 15 geleitet wird, und ein lateraler Gasstrom 13 eingestellt, der von dem Rand des Kollektorspiegels 10 laminar entlang der Reflexionsoberfläche in Richtung der zentralen Öffnung 11 des Kollektorspiegels 10 geführt wird.To avoid fuel or substances from the plasma 15 on the reflection surface of the collector game 10 reach and pollute this, a gas flow, for example, a hydrogen gas flow, set up to prevent the reflection surface of the collector mirror 10 contaminated. At the in 2 The EUV light source unit shown becomes a central gas flow 12 passing through the central opening 11 of the collector mirror 10 in the direction of the plasma 15 is passed, and a lateral gas flow 13 set from the edge of the collector mirror 10 laminar along the reflection surface towards the central opening 11 of the collector mirror 10 to be led.

Dies ist im Detail in der 3 dargestellt, die den linken Teil eines Kollektorspiegels 10 gemäß dem Stand der Technik zeigt. Da der Kollektorspiegel 10 bzw. die gesamte Kollektorspiegelanordnung bezüglich der Mitte der zentralen Öffnung 11 symmetrisch ausgebildet ist, ist lediglich die Hälfte des Kollektorspiegels 10 ab der Symmetrielinie 25 nach außen dargestellt. This is in the detail in the 3 shown representing the left part of a collector mirror 10 according to the prior art shows. Because the collector mirror 10 or the entire collector mirror assembly with respect to the center of the central opening 11 is formed symmetrically, is only half of the collector mirror 10 from the symmetry line 25 shown to the outside.

Bei bekannten EUV - Lichtquelleneinheiten, wie in einem Beispiel in der 3 dargestellt, ist im Bereich der zentralen Öffnung 11 ein Rohrelement 20 angeordnet, welches den zentralen Gasfluss 12 und / oder den Infrarotstrahl 14 führt. Das Rohrelement 20 kann hierbei so aufgebaut sein, dass neben dem zentralen Gasstrom 12 ein Nebengasstrom 21 vorgesehen ist, welcher durch eine Öffnung 22 im Bereich der Anlage der Reflexionsoberfläche 26 des Kollektorspiegels 10 an der Außenseite 27 des Rohrelements 20 in Richtung entlang der Reflexionsoberfläche 26 ausströmen kann, um eine radial auswärts gerichtete, laminare Gasströmung auszubilden. In der Öffnung 22 befinden sich Wolfram-Filamente 221 zur Bildung von atomarem Wasserstoff. In known EUV light source units, as in an example in US Pat 3 is shown in the area of the central opening 11 a pipe element 20 arranged, which is the central gas flow 12 and / or the infrared ray 14 leads. The pipe element 20 can be constructed in such a way that next to the central gas flow 12 a secondary gas stream 21 is provided, which through an opening 22 in the area of the reflection surface 26 of the collector mirror 10 on the outside 27 of the tubular element 20 in the direction along the reflection surface 26 can flow out to form a radially outwardly directed laminar gas flow. In the opening 22 There are tungsten filaments 221 for the formation of atomic hydrogen.

Darüber hinaus kann an dem Rohrelement 20 eine seitliche Abgabeöffnung 23 vorgesehen sein, mit der Gas aus dem zentralen Gasstrom 12 in den Bereich vor den Kollektorspiegel 10 ausströmen kann.In addition, on the tubular element 20 a lateral discharge opening 23 be provided with the gas from the central gas stream 12 in the area in front of the collector mirror 10 can flow out.

In der 3 ist auch der laterale Gasstrom 13 gezeigt, welcher durch einen Zuführkanal 18 für den lateralen Gasstrom 13 an den Rand des Kollektorspiegels 10 und vom Rand des Kollektorspiegels 10 entlang der Reflexionsoberfläche 26 geführt wird, sodass sich eine laminarer Gasstrom 19 entlang der Reflexionsoberfläche 26 ausbildet. Im Zuführkanal 18 befinden sich Wolfram-Filamente 181 zur Bildung von atomarem Wasserstoff. Zusammen mit dem radial auswärts gerichteten, laminaren Gasstrom, der durch die Öffnung 22 durch den Nebengasstrom 21 gebildet wird, kommt es zur Ausbildung einer Stagnationszone 24 vor der Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels 10, in der die laminaren Gasströme verwirbeln und somit die Gefahr besteht, dass Kontaminationen auf die Reflexionsoberfläche 26 des Kollektorspiegels 10 gelangen.In the 3 is also the lateral gas flow 13 which is shown by a feed channel 18 for the lateral gas flow 13 to the edge of the collector mirror 10 and from the edge of the collector mirror 10 along the reflection surface 26 is guided, so that a laminar gas flow 19 along the reflection surface 26 formed. In the feed channel 18 There are tungsten filaments 181 for the formation of atomic hydrogen. Together with the radially outwardly directed, laminar gas flow through the opening 22 through the secondary gas flow 21 is formed, it comes to the formation of a stagnation zone 24 in front of the reflection surface of the collector mirror 10 in which the laminar gas streams swirl and thus there is a risk of contamination on the reflection surface 26 of the collector mirror 10 reach.

Um dies zu verhindern wird gemäß der Erfindung vorgeschlagen, ein Rohrelement 30 in der zentralen Öffnung 11 des Kollektorspiegels 10 zu verwenden, welches einen Durchgang 31 besitzt, mit dessen Hilfe der laminare Gasstrom 19 von dem Rand in Richtung der zentralen Öffnung 11 des Kollektorspiegels 10 in den zentralen Gasstrom 12 durch das Rohrelement 30 gelangen kann, sodass der laminare Gasstrom über die gesamte Reflexionsoberfläche aufrecht erhalten werden kann. Hierzu ist das Rohrelement 30 zumindest teilweise doppelwandig ausgeführt, um einen Durchgangskanal zu bilden, der eine Eintrittsöffnung 32 an der Außenseite 27 des Rohrelements 30 im Bereich der Reflexionsoberfläche 26 des Kollektorspiegels 10 sowie eine Austrittsöffnung 33 aufweist, die in axialer Richtung des Rohrelements 30 in eine Richtung weg von der Reflexionsoberfläche 26 versetzt von der Eintrittsöffnung 32 angeordnet ist. Dadurch wird vermieden, dass der laminare Gasstrom 19 entlang der Reflexionsoberfläche 26 gestört wird, sodass zuverlässig verhindert werden kann, dass Kontaminationen auf die Reflexionsoberfläche 26 des Kollektorspiegels 10 gelangen.To prevent this is proposed according to the invention, a tubular element 30 in the central opening 11 of the collector mirror 10 to use which one passage 31 owns, with whose help the laminar gas flow 19 from the edge towards the central opening 11 of the collector mirror 10 in the central gas stream 12 through the pipe element 30 can reach so that the laminar gas flow over the entire surface reflection can be maintained. For this purpose, the pipe element 30 at least partially double-walled to form a passageway having an inlet opening 32 on the outside 27 of the tubular element 30 in the area of the reflection surface 26 of the collector mirror 10 and an outlet opening 33 having, in the axial direction of the tubular element 30 in a direction away from the reflection surface 26 offset from the entrance opening 32 is arranged. This will avoid the laminar gas flow 19 along the reflection surface 26 is disturbed, so that it can reliably prevent contamination on the reflection surface 26 of the collector mirror 10 reach.

Es sei noch vermerkt, dass die Austrittsöffnung 33 beispielsweise in Form einer Venturi-Düse ausgeführt sein kann.It should be noted that the outlet 33 may be performed for example in the form of a Venturi nozzle.

Die 5 zeigt eine weitere Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Kollektorspiegelanordnung mit einem Kollektorspiegel 10 und einem zentralen Rohrelement 30 mit einem Durchgang 31 mit einer Eintrittsöffnung 32 und einer Austrittsöffnung 33 für den Abfluss der laminaren Gasströmung 19 in den zentralen Gasstrom 12 durch das Rohrelement 30. Damit entspricht die Ausführungsform der 5 derjenigen der 4, sodass gleiche oder gleichartige Komponenten und ihre Wirkungsweise nicht wiederholt beschrieben werden. Bei der Ausführungsform der 5 ist an der Außenfläche 27 des Rohrelements 30 weiterhin mindestens eine seitliche Abgabeöffnung 34 für angeordnet. Allerdings wird die seitliche Abgabeöffnung 34 nicht direkt mit dem Gas aus dem zentralen Gasstrom 12 gespeist, sondern das Gas wird über eine separate Zuführleitung 35 zu der seitlichen Abgabeöffnung 34 geführt. Durch die seitliche Abgabeöffnung 34 kann ein weiterer Gasstrom in Richtung des Plasmas 15 in den Bereich vor der Reflexionsoberfläche 26 des Kollektorspiegels 10 eingebracht werden, sowie eine potentielle Rezirkulationsströmung in Richtung der Reflexionsoberfläche. Wolfram-Filamente 36 in der Abgabeöffnung 34 ermöglichen durch die Rezirkulationsströmung eine Zuführung von atomarem Wasserstoff in Richtung der Reflexionsoberfläche.The 5 shows a further embodiment of a collector mirror assembly according to the invention with a collector mirror 10 and a central tubular element 30 with a passage 31 with an entrance opening 32 and an exit opening 33 for the outflow of the laminar gas flow 19 in the central gas stream 12 through the pipe element 30 , Thus, the embodiment corresponds to 5 that of the 4 , so that the same or similar components and their mode of action are not repeatedly described. In the embodiment of the 5 is on the outside surface 27 of the tubular element 30 furthermore at least one lateral discharge opening 34 arranged for. However, the lateral discharge opening becomes 34 not directly with the gas from the central gas stream 12 but the gas is supplied via a separate supply line 35 to the lateral discharge opening 34 guided. Through the lateral discharge opening 34 may be another gas flow in the direction of the plasma 15 in the area in front of the reflection surface 26 of the collector mirror 10 are introduced, as well as a potential recirculation flow in the direction of the reflection surface. Tungsten filaments 36 in the delivery opening 34 allow by the recirculation flow, a supply of atomic hydrogen in the direction of the reflection surface.

Bei der Ausführungsform der 6 weist das Rohrelement 30 in der zentralen Öffnung 11 des Kollektorspiegels 10 wie bei den vorangegangenen Ausführungsformen einen Durchgang 31 für die laminare Gasströmung 19 entlang des Kollektorspiegels 10 auf. Darüber hinaus ist wiederum, wie bei der vorangegangenen Ausführungsform der 5 eine seitliche Abgabeöffnung 34 verwirklicht, wobei jedoch beim Ausführungsbeispiel der 6 die seitliche Abgabeöffnung 34 durch einen Verbindungskanal 37 direkt mit dem Gas aus dem zentralen Gasstrom 12 gespeist wird.In the embodiment of the 6 has the pipe element 30 in the central opening 11 of the collector mirror 10 as in the previous embodiments, a passage 31 for the laminar gas flow 19 along the collector mirror 10 on. In addition, again, as in the previous embodiment of the 5 a lateral discharge opening 34 realized, but in the embodiment of the 6 the lateral discharge opening 34 through a connection channel 37 directly with the gas from the central gas stream 12 is fed.

Die 4 bis 6 zeigen verschiedene Ausführungsformen einer erfindungsgemäßen Kollektorspiegelanordnung in schematischen Schnittdarstellungen. Entsprechend ist darauf hinzuweisen, dass das Rohrelement 30 selbstverständlich eine dreidimensionale Form aufweist und beispielsweise als Vier - oder Mehrkantrohr oder als Rundrohr ausgebildet sein kann. Entsprechend kann das Rohrelement eine zylindrische Grundform aufweisen und entlang der Mantelfläche der zylindrischen Grundform kann eine Vielzahl von Eintrittsöffnungen 32 oder eine ringförmige Eintrittsöffnung 32 ausgebildet sein. In gleicher Weise können an der Innenseite des beispielsweise zylindrischen Rohrelements 30 eine Vielzahl von nebeneinander angeordneten Austrittsöffnungen 33 oder eine ringförmige Austrittsöffnung 33 verwirklicht sein. Das gleiche gilt für die seitliche Abgabeöffnung 34 an der Außenfläche 27 des Rohrelements 30.The 4 to 6 show various embodiments of a collector mirror assembly according to the invention in schematic Sectional views. Accordingly, it should be noted that the tubular element 30 of course, has a three - dimensional shape and may be formed, for example, as a four - or multi - edge tube or as a round tube. Accordingly, the tubular element may have a cylindrical basic shape and along the lateral surface of the cylindrical basic shape may have a plurality of inlet openings 32 or an annular inlet opening 32 be educated. In the same way, on the inside of the example, cylindrical tubular element 30 a plurality of juxtaposed outlet openings 33 or an annular outlet opening 33 be realized. The same applies to the lateral discharge opening 34 on the outside surface 27 of the tubular element 30 ,

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen verwirklicht werden können, ohne dass der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche verlassen wird. Insbesondere schließt die vorliegende Offenbarung sämtliche Kombinationen der in den verschiedenen Ausführungsbeispielen gezeigten Einzelmerkmale mit ein, sodass einzelne Merkmale, die nur in Zusammenhang mit einem Ausführungsbeispiel beschrieben sind, auch bei anderen Ausführungsbeispielen oder nicht explizit dargestellten Kombinationen von Einzelmerkmalen eingesetzt werden können.Although the present invention has been described in detail with reference to the embodiments, it will be understood by those skilled in the art that the invention is not limited to these embodiments, but rather modifications are possible in the manner that individual features omitted or other combinations of features can be realized without departing from the scope of the appended claims. In particular, the present disclosure includes all combinations of the individual features shown in the various embodiments, so that individual features that are described only in connection with an embodiment can also be used in other embodiments or combinations of individual features not explicitly shown.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11: EUV - ProjektionsbelichtungsanlageEUV - projection exposure system
22: EUV - LichtquelleneinheitEUV - light source unit
33: Beleuchtungssystemlighting system
44: Projektionsobjektivprojection lens
55: Retikelreticle
66: Waferwafer
1010: Kollektorspiegelcollector mirror
1111: zentrale Öffnungcentral opening
1212: zentraler Gasstromcentral gas flow
1313: lateraler Gasstromlateral gas flow
1414: IR - StrahlIR beam
1515: Plasmaplasma
1616: EUV - StrahlEUV - beam
1717: Zwischenfokusintermediate focus
1818: Zuführkanal für lateralen GasstromSupply channel for lateral gas flow
181181: Wolfram-Filamente im ZuführkanalTungsten filaments in the feed channel
1919: laminare Gasströmung entlang der Reflexionsoberflächelaminar gas flow along the reflection surface
2020: Rohrelementtube element
2121: NebengasstromIn addition to gas flow
2222: Öffnung für radial auswärts gerichtete laminare GasströmungOpening for radially outward laminar gas flow
221221: Wolfram-Filamente in der ÖffnungTungsten filaments in the opening
2323: seitliche Abgabeöffnunglateral discharge opening
2424: Stagnationszonestagnation zone
2525: Symmetrielinieline of symmetry
2626: Reflexionsoberflächereflection surface
2727: Außenseite des RohrelementsOutside of the tubular element
3030: Rohrelementtube element
3131: Durchgangpassage
3232: Eintrittsöffnunginlet opening
3333: Austrittsöffnungoutlet opening
3434: seitliche Abgabeöffnunglateral discharge opening
3535: Zuführleitung für Gas zur seitlichen AbgabeöffnungSupply line for gas for lateral discharge opening
3636: Filamentfilament
3737: Verbindungskanalconnecting channel

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

US 9888554 B2 [0007]US 9888554 B2 [0007]

Claims

Kollektorspiegelanordnung für eine EUV - Lichtquelle (2) mit einem Kollektorspiegel (10) mit einer Reflexionsoberfläche (26) und einer Öffnung (11) in der Reflexionsoberfläche, durch welche ein rohrförmiges Element (30) geführt ist, das einen zur Führung eines Gasstroms ausgebildeten Strömungskanal aufweist und diesen ringförmig begrenzt, dadurch gekennzeichnet, dass das rohrförmige Element so ausgebildet ist, dass mindestens ein Durchgang (31) von der zur Reflexionsoberfläche gerichteten Außenseite (27) des rohrförmigen Elements zum Strömungskanal gebildet ist, durch den Gas von der Reflexionsoberfläche zum Strömungskanal fließen kann.A collector mirror assembly for an EUV light source (2) comprising a collector mirror (10) having a reflective surface (26) and an aperture (11) in the reflective surface through which is passed a tubular member (30) having a flow channel formed to guide a gas flow and this annular limited, characterized in that the tubular member is formed so that at least one passage (31) from the reflection surface facing outside (27) of the tubular member is formed to the flow channel through which gas from the reflection surface to the flow channel can.

Kollektorspiegelanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchgang (31) mindestens eine Eintrittsöffnung (32) an der Außenseite des rohrförmigen Elements (30) und mindestens eine Austrittsöffnung (33) am Strömungskanal aufweist, wobei Eintrittsöffnung und Austrittsöffnung in Axialrichtung des Strömungskanals versetzt zueinander angeordnet sind, wobei die Eintrittsöffnung weiter entfernt von dem von der Reflexionsoberfläche wegweisenden Ende des rohrförmigen Elements ist als die Austrittsöffnung.Collector mirror assembly according to Claim 1 , characterized in that the passage (31) at least one inlet opening (32) on the outside of the tubular member (30) and at least one outlet opening (33) on the flow channel, wherein the inlet opening and outlet opening are arranged offset to one another in the axial direction of the flow channel the entrance opening farther from the end of the tubular element facing away from the reflection surface is considered to be the exit opening.

Kollektorspiegelanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Eintrittsöffnung (32) unmittelbar im Bereich des Stoßes, an dem die Reflexionsoberfläche (26) des Kollektorspiegels (10) an die Außenseite (27) des rohrförmigen Elements angrenzt, von der Reflexionsoberfläche in Richtung der Reflexionsrichtung angeordnet ist.Collector mirror assembly according to one of the preceding claims, characterized in that the inlet opening (32) immediately in the region of the shock, at which the reflection surface (26) of the collector mirror (10) to the outer side (27) of the tubular member, from the reflection surface in the direction the reflection direction is arranged.

Kollektorspiegelanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchgang (31) zwischen einer Begrenzungswand des Strömungskanals und der Außenseite (27) des rohrförmigen Elements in einer Doppelwandstruktur ausgebildet ist.Collector mirror assembly according to one of the preceding claims, characterized in that the passage (31) between a boundary wall of the flow channel and the outer side (27) of the tubular element is formed in a double-wall structure.

Kollektorspiegelanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das rohrförmige Element (30) eine seitliche Abgabeöffnung (34) für das im Strömungskanal geführte Gas in der vom Strömungskanal abgewandten Außenseite des rohrförmigen Elements aufweist, die beabstandet von der Reflexionsoberfläche (26) des Kollektorspiegels (10) in Richtung des von dem von der Reflexionsoberfläche wegweisenden Endes des rohrförmigen Elements angeordnet ist.A collector mirror assembly according to any one of the preceding claims, characterized in that the tubular member (30) has a lateral discharge opening (34) for the gas guided in the flow channel in the outside of the tubular element facing away from the flow channel, which is spaced from the reflection surface (26) of the collector mirror (10) is arranged in the direction of the end facing away from the reflection surface of the end of the tubular element.

Kollektorspiegelanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die seitliche Abgabeöffnung (34) näher zu dem von dem von der Reflexionsoberfläche wegweisenden Ende des rohrförmigen Elements angeordnet ist als eine Austrittsöffnung (33) des Durchgangs in den Strömungskanal.A collector mirror assembly according to any one of the preceding claims, characterized in that the lateral discharge opening (34) is located closer to the end of the tubular element facing away from the reflection surface than an exit opening (33) of the passage into the flow channel.

Kollektorspiegelanordnung nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die seitliche Abgabeöffnung (34) am Ende eines Verbindungskanals (37) von dem Strömungskanal zur Außenseite des rohrförmigen Elements ausgebildet ist, wobei insbesondere der Zugang vom Strömungskanal zum Verbindungskanal näher an dem von der Reflexionsoberfläche wegweisenden Ende des rohrförmigen Elements angeordnet ist als eine Austrittsöffnung (33) des Durchgangs (31) in den Strömungskanal, oder dass die seitliche Abgabeöffnung (34) am Ende einer separaten Zuführleitung für das im Strömungskanal geführte Gas angeordnet ist.Collector mirror assembly according to one of Claims 5 or 6 characterized in that the lateral discharge opening (34) is formed at the end of a connection channel (37) from the flow channel to the outside of the tubular element, in particular the access from the flow channel to the connection channel being closer to the end of the tubular element facing away from the reflection surface as an outlet opening (33) of the passage (31) into the flow channel, or that the lateral discharge opening (34) is arranged at the end of a separate supply line for the guided gas in the flow channel.

Kollektorspiegelanordnung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Zugang ringförmig ausgebildet ist.Collector mirror assembly according to Claim 7 , characterized in that the access is annular.

Kollektorspiegelanordnung nach einem der Ansprüche 2 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Eintrittsöffnung und / oder die Austrittsöffnung des Durchgangs ringförmig ausgebildet ist.Collector mirror assembly according to one of Claims 2 to 8th , characterized in that the inlet opening and / or the outlet opening of the passage is annular.

Kollektorspiegelanordnung nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die seitliche Abgabeöffnung ringförmig ausgebildet ist.Collector mirror assembly according to one of Claims 5 to 9 , characterized in that the lateral discharge opening is annular.

Kollektorspiegelanordnung nach einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die seitliche Abgabeöffnung so ausgebildet ist und / oder ein Führungselement, insbesondere ein Filament aufweist, sodass eine Erhöhung des Anteils von Wasserstoffradikalen nahe der Reflexionsoberfläche erreicht wird.Collector mirror assembly according to one of Claims 5 to 10 , characterized in that the lateral discharge opening is formed and / or has a guide element, in particular a filament, so that an increase in the proportion of hydrogen radicals near the reflection surface is achieved.

Kollektorspiegelanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im Bereich des Stoßes, an dem die Reflexionsoberfläche des Kollektorspiegels an die Außenseite des rohrförmigen Elements angrenzt, keine Einrichtung zur Bereitstellung eines Gasflusses entlang der Reflexionsoberfläche weg von dem rohrförmigen Element angeordnet ist.Collector mirror assembly according to one of the preceding claims, characterized in that in the region of the joint, at which the reflection surface of the collector mirror is adjacent to the outside of the tubular member, no means for providing a gas flow along the reflection surface away from the tubular member is arranged.

EUV - Lichtquelleneinheit mit einer Kollektorspiegelanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche.EUV light source unit with a collector mirror arrangement according to one of the preceding claims.

EUV - Projektionsbelichtungsanlage mit einer EUV - Lichtquelleneinheit mach Anspruch 13.EUV projection exposure machine with an EUV light source unit Claim 13 ,