DE102018132422B4 - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter - Google Patents
Leistungsvorrichtung für Gleichrichter Download PDFInfo
- Publication number
- DE102018132422B4 DE102018132422B4 DE102018132422.7A DE102018132422A DE102018132422B4 DE 102018132422 B4 DE102018132422 B4 DE 102018132422B4 DE 102018132422 A DE102018132422 A DE 102018132422A DE 102018132422 B4 DE102018132422 B4 DE 102018132422B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrode
- power device
- terminal
- encapsulation
- transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims abstract description 60
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 48
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 25
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 9
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 9
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 7
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 6
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000530268 Lycaena heteronea Species 0.000 description 1
- QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N [Ag].[Sn] Chemical compound [Ag].[Sn] QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/492—Bases or plates or solder therefor
- H01L23/4924—Bases or plates or solder therefor characterised by the materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
- H01L23/043—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body
- H01L23/051—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body another lead being formed by a cover plate parallel to the base plate, e.g. sandwich type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3114—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed the device being a chip scale package, e.g. CSP
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3135—Double encapsulation or coating and encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/528—Geometry or layout of the interconnection structure
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02M—APPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
- H02M7/00—Conversion of ac power input into dc power output; Conversion of dc power input into ac power output
- H02M7/003—Constructional details, e.g. physical layout, assembly, wiring or busbar connections
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0601—Structure
- H01L2224/0603—Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0605—Shape
- H01L2224/06051—Bonding areas having different shapes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/2612—Auxiliary members for layer connectors, e.g. spacers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/29111—Tin [Sn] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/29116—Lead [Pb] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/29139—Silver [Ag] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/29198—Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
- H01L2224/29298—Fillers
- H01L2224/29299—Base material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/29198—Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
- H01L2224/29298—Fillers
- H01L2224/29299—Base material
- H01L2224/293—Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29338—Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/29339—Silver [Ag] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/33—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
- H01L2224/331—Disposition
- H01L2224/3318—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
- H01L2224/33181—On opposite sides of the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8338—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/83399—Material
- H01L2224/834—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/83417—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/83424—Aluminium [Al] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8338—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/83399—Material
- H01L2224/834—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/83438—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/83447—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/83801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/8384—Sintering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/16—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings
- H01L23/18—Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device
- H01L23/24—Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device solid or gel at the normal operating temperature of the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/33—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/20—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds
- H01L29/2003—Nitride compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/72—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals
- H01L29/739—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals controlled by field-effect, e.g. bipolar static induction transistors [BSIT]
- H01L29/7393—Insulated gate bipolar mode transistors, i.e. IGBT; IGT; COMFET
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/157—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2924/15717—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400 C and less than 950 C
- H01L2924/15724—Aluminium [Al] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/157—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2924/15738—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950 C and less than 1550 C
- H01L2924/15747—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19041—Component type being a capacitor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19102—Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device
- H01L2924/19104—Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device on the semiconductor or solid-state device, i.e. passive-on-chip
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Leistungsvorrichtung (10) für Gleichrichter, die Folgendes umfasst:einen ersten Anschluss (100) und einen zweiten Anschluss (200), die jeweils zum Verbinden mit einer externen Schaltung ausgelegt sind; undein Schaltungssystem (300), das zwischen dem ersten Anschluss (100) und dem zweiten Anschluss (200) angeordnet ist und mit dem ersten Anschluss (100) und dem zweiten Anschluss (200) elektrisch verbunden ist, wobei das Schaltungssystem (300) einen vorgeformten Chip (310) und eine Steuervorrichtung (320) umfasst, wobeider vorgeformte Chip (310) Folgendes umfasst:einen Transistor (312), der eine erste Elektrode (3121), eine zweite Elektrode (3122) und eine dritte Elektrode (3123) aufweist; undeine erste Verkapselung (316), die den Transistor (312) verkapselt, wobei die Steuervorrichtung (320) nicht durch die erste Verkapselung (316) verkapselt ist, und wobeider erste Anschluss (100) mit der ersten Elektrode (3121) elektrisch verbunden ist, der zweite Anschluss (200) mit der zweiten Elektrode (3122) elektrisch verbunden ist, und die Steuervorrichtung (320) mit der dritten Elektrode (3123) des Transistors (312) elektrisch verbunden ist.
Description
- Technisches Gebiet
- Die Offenbarung bezieht sich auf eine Leistungsvorrichtung und genauer auf eine Leistungsvorrichtung für Gleichrichter.
- Beschreibung des verwandten Gebiets
- Im bestehenden Fahrzeugtransportsystem sind die Fahrzeugstromgeneratoren alle Wechselstromgeneratoren, da der Wirkungsgrad und die Lebensdauer eines Wechselstromgenerators viel höher als jene eines Gleichstromgenerators sind. Um den Wechselstrom, der durch den Wechselstromgenerator erzeugt wird, in die Batterie zu laden, wird eine Gleichrichterdiode verwendet, um den Wechselstrom in Gleichstrom gleichzurichten. Auf diese Weise wird die elektrische Leistung für diverse elektrische Vorrichtungen im Fahrzeugsystem derart zugeführt, dass sie ununterbrochen arbeiten und das Fahrzeug fahren kann, ohne die elektrische Leistung zu verbrauchen, die in der Batterie gespeichert ist, um in der Batterie reichlich elektrische Leistung für die nächste Fahrt zu halten. Im Allgemeinen sind üblicherweise 6 bis 8 Gleichrichterdioden auf den Elektrodenplatten eines Wechselstromgenerators angeordnet.
- In der Vergangenheit wurde häufig eine pn-Sperrschichtdiode als eine Gleichrichterdiode verwendet. Jedoch weist die pn-Sperrschichtdiode eine ziemlich hohe Durchlassspannung (VF) auf, die leicht das Problem eines Leistungsumsetzungsverlustes bewirkt.
- Daher wurde kürzlich eine Gleichrichterdiode entwickelt, die einen Metalloxidhalbleiter-Feldeffekttransistor (MOSFET) verwendet, um eine synchrone Gleichrichtung durchzuführen. Da der MOSFET kein eingebautes Potential aufweist und eine niedrige VF aufweist, ist der Verlust ebenfalls gering. Jedoch benötigt das Ansteuern des MOSFET eine zusätzliche integrierte Steuerschaltung und so weiter, um ein Schaltungssystem zu bilden, die Kopplung im Inneren des Schaltungssystems ist häufig kompliziert, was eine hohe parasitäre Wirkung ergibt, die den Wirkungsgrad des Gleichrichters beeinflusst.
- Die
DE 11 2015 003 757 T5 beschreibt eine Halbleitervorrichtung, enthaltend: eine erste Außenelektrode, welche einen runden Außenrandteil enthält; einen MOSFET-Chip; einen Steuerschaltungs-Chip, welcher Spannungen einer Drain-Elektrode und einer Source-Elektrode des MOSFET empfängt und ein Signal zum Steuern des MOSFET-Chips auf der Grundlage der Spannung an eine Gate-Elektrode liefert; eine zweite Außenelektrode, welche bezüglich des MOSFET-Chips auf einer der ersten Außenelektrode entgegengesetzten Seite angeordnet ist und eine Außenanschlussklemme auf einer Mittelachse des runden Außenrandteils der ersten Außenelektrode enthält; und ein Isoliersubstrat, welches den Steuerschaltungs-Chip von der Außenelektrode isoliert. Die erste Außenelektrode, die Drain-Elektrode und die Source-Elektrode des MOSFET-Chips und die zweite Außenelektrode sind so angeordnet, dass sie sich in einer Richtung der Mittelachse überdecken. Die Drain-Elektrode des MOSFET-Chips und die erste Außenelektrode sind verbunden. Die Source-Elektrode des MOSFET-Chips und die zweite Außenelektrode sind verbunden. - Die
DE 10 2009 040 557 B4 beschreibt ein Bauelement mit genau einem Halbleiterchip, der ein Leistungs-MOSFET ist. - Zusammenfassung
- Die Erfindung ist in den unabhängigen Ansprüchen definiert. Die abhängigen Ansprüche definieren bevorzugte Ausführungsformen. Die Offenbarung schafft eine Leistungsvorrichtung für Gleichrichter, die ein Schaltungssystem mit einer geringen parasitären Wirkung aufweist und die VF weiter absenken kann, und wodurch der Wirkungsgrad des Gleichrichters verbessert wird.
- Eine Leistungsvorrichtung für Gleichrichter der Offenbarung enthält vorzugsweise einen ersten Anschluss und einen zweiten Anschluss, die zum Verbinden mit einer externen Schaltung ausgelegt sind, und ein Schaltungssystem, das zwischen dem ersten Anschluss und dem zweiten Anschluss angeordnet ist. Das Schaltungssystem ist mit dem ersten Anschluss und dem zweiten Anschluss elektrisch verbunden. Das Schaltungssystem enthält einen vorgeformten Chip und eine Steuervorrichtung. Der vorgeformte Chip enthält einen Transistor und eine erste Verkapselung, wobei der Transistor eine erste Elektrode, eine zweite Elektrode und eine dritte Elektrode aufweist und die erste Verkapselung zum Verkapseln des Transistors ausgelegt ist. Der erste Anschluss, der zweite Anschluss und die Steuervorrichtung sind mit der ersten Elektrode bzw. der zweiten Elektrode bzw. der dritten Elektrode des Transistors elektrisch verbunden.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung enthält der vorgeformte Chip ferner eine strukturierte Schaltungsschicht, die mit der ersten Elektrode und/oder der zweiten Elektrode und/oder der dritten Elektrode des Transistors verbunden ist, und die erste Verkapselung verkapselt die strukturierte Schaltungsschicht und legt einen Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht frei.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung ist die strukturierte Schaltungsschicht mit der ersten Elektrode und der dritten Elektrode elektrisch verbunden, und der erste Anschluss und die Steuervorrichtung sind über den freiliegenden Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht mit der ersten Elektrode bzw. der dritten Elektrode elektrisch verbunden.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung legt der vorgeformte Chip, der durch die erste Verkapselung verkapselt ist, die zweite Elektrode frei, die mit dem zweiten Anschluss elektrisch verbunden ist.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung umfassen ein Material des ersten Anschlusses und ein Material des zweiten Anschlusses Aluminium, Kupfer oder eine Legierung davon.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung ist der Transistor ein Feldeffekttransistor, der durch Spannung oder Strom gesteuert wird.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung ist der Transistor ein Metalloxidhalbleiter-Feldeffekttransistor, ein bipolarer Transistor mit isoliertem Gate oder ein Galliumnitrid-Transistor.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung enthält ein Material der ersten Verkapselung ein Epoxidharz, ein Silikonharz, ein Biphenyl-Harz, einen ungesättigten Polyester oder ein Keramikmaterial.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung enthält der erste Anschluss eine Basis und eine Leitung, eine Form einer Bodenfläche der Basis ist ein Kreis, ein Quadrat oder ein Sechseck, und eine Form des zweiten Anschlusses ist ein Kreis, ein Quadrat oder ein Sechseck.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung kann die Leistungsvorrichtung für Gleichrichter ferner einen leitfähigen Abstandhalter enthalten, der zwischen dem vorgeformten Chip und dem ersten Anschluss angeordnet ist und zum elektrischen Verbinden des vorgeformten Chips und des ersten Anschlusses ausgelegt ist.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung sind der leitfähige Abstandhalter und der erste Anschluss einteilig ausgebildet.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung kann die Leistungsvorrichtung für Gleichrichter ferner eine zweite Verkapselung enthalten, die auf dem zweiten Anschluss angeordnet ist und zum Abdecken des leitfähigen Abstandhalters, des Schaltungssystems und eines Abschnitts des ersten Anschlusses ausgelegt ist.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung kann die Leistungsvorrichtung für Gleichrichter ferner eine zweite Verkapselung enthalten, die zwischen dem vorgeformten Chip und dem ersten Anschluss angeordnet ist und zum Verkapseln der Steuervorrichtung und des leitfähigen Abstandhalters ausgelegt ist und einen Abschnitt des leitfähigen Abstandhalters freilegt.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung kann die Leistungsvorrichtung für Gleichrichter ferner ein Bondmaterial enthalten, das zwischen der zweiten Verkapselung und dem ersten Anschluss angeordnet ist.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung enthält die Leistungsvorrichtung für Gleichrichter ferner eine dritte Verkapselung, die auf dem zweiten Anschluss angeordnet ist und zum Abdecken des leitfähigen Abstandhalters, des Schaltungssystems und eines Abschnitts des ersten Anschlusses ausgelegt ist.
- In einer Ausführungsform der Offenbarung umfassen ein Material der zweiten Verkapselung und ein Material der dritten Verkapselung ein Epoxidharz, ein Silikonharz, ein Biphenly-Harz, einen ungesättigten Polyester oder ein Keramikmaterial.
- Eine weitere Leistungsvorrichtung für Gleichrichter der Offenbarung enthält vorzugsweise einen ersten Anschluss und einen zweiten Anschluss, die zum Verbinden mit einer externen Schaltung ausgelegt sind, und einen vorgeformten Chip, der zwischen dem ersten Anschluss und dem zweiten Anschluss angeordnet ist. Der vorgeformte Chip enthält einen Transistor und eine erste Verkapselung, wobei der Transistor eine erste Elektrode und eine zweite Elektrode aufweist und die erste Verkapselung zum Verkapseln des Transistors ausgelegt ist und wobei der erste Anschluss und der zweite Anschluss mit der ersten Elektrode des Transistors bzw. der zweiten Elektrode des Transistors elektrisch verbunden sind.
- In einer weiteren Ausführungsform der Offenbarung enthält der vorgeformte Chip ferner eine strukturierte Schaltungsschicht, die mit der ersten Elektrode elektrisch verbunden ist, wobei die erste Verkapselung die strukturierte Schaltungsschicht verkapselt und einen Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht freilegt und der erste Anschluss über den freiliegenden Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht mit der ersten Elektrode elektrisch verbunden ist.
- In einer weiteren Ausführungsform der Offenbarung legt der vorgeformte Chip die zweite Elektrode frei, die mit dem zweiten Anschluss elektrisch verbunden ist.
- In einer weiteren Ausführungsform der Offenbarung umfassen ein Material des ersten Anschlusses und ein Material des zweiten Anschlusses Aluminium, Kupfer oder eine Legierung davon.
- In einer weiteren Ausführungsform der Offenbarung enthält ein Material der ersten Verkapselung ein Epoxidharz, ein Silikonharz, ein Biphenyl-Harz, einen ungesättigten Polyester oder ein Keramikmaterial.
- Eine Gleichrichtervorrichtung eines Fahrzeuggenerators der Offenbarung enthält die oben genannte Leistungsvorrichtung für Gleichrichter.
- Auf der Grundlage des Obenstehenden ordnet das Schaltungssystem in der Leistungsvorrichtung für Gleichrichter der Offenbarung die Steuervorrichtung direkt auf dem vorgeformten Chip an, der durch Verkapseln des Transistors in der ersten Verkapselung und die strukturierte Schaltungsschicht gebildet ist, und vervollständigt dadurch die Schaltungsverbindung. Da das Schaltungssystem in der Leistungsvorrichtung für Gleichrichter der Offenbarung kein zusätzliches Drahtbonding erfordert, wird ein Schaltungssystem mit einer geringen parasitären Wirkung erzielt. Außerdem wird aufgrund des niedrigen Widerstands des Transistors eine verringerte VF erhalten, und somit wird der Wirkungsgrad der Leistungsvorrichtung für Gleichrichter verbessert. In einer Ausführungsform, in der die Steuervorrichtung nicht erforderlich ist, kann die Zuverlässigkeit der Gesamtverkapselung erhöht werden, indem zuerst der Transistor in einen vorgeformten Chip ausgebildet wird und wobei anschließend der vorgeformte Chip mit den zwei Anschlüssen elektrisch verbunden wird.
- Um zu bewirken, dass das Voranstehende verständlicher wird, sind mehrere Ausführungsformen, die von Zeichnungen begleitet sind, wie folgt im Einzelnen beschrieben.
- Figurenliste
- Die begleitenden Zeichnungen sind enthalten, um ein tieferes Verständnis der Offenbarung bereitzustellen. Die Zeichnungen veranschaulichen beispielhafte Ausführungsformen der Offenbarung und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu, die Prinzipien der Offenbarung zu erklären.
-
1 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Leistungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung. -
2 ist eine schematische Draufsicht von1 , und1 ist die Querschnittsansicht entlang des Linienabschnitts I-I in2 . -
3A ist eine schematische Stirnansicht eines vorgeformten Chips gemäß der Ausführungsform der Offenbarung. -
3B ist eine schematische Rückansicht des vorgeformten Chips aus3A . -
4 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Leistungsvorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der Offenbarung. -
5 ist eine schematische Draufsicht von4 , und4 ist die Querschnittsansicht entlang des Linienabschnitts II-II in5 . -
6 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Leistungsvorrichtung gemäß einer nochmals weiteren Ausführungsform der Offenbarung. -
7 ist eine schematische Draufsicht von6 , und6 ist die Querschnittsansicht entlang des Linienabschnitts III-III in7 . -
8A ist eine schematische Stirnansicht eines vorgeformten Chips gemäß einer nochmals weiteren Ausführungsform der Offenbarung. -
8B ist eine schematische Rückansicht eines vorgeformten Chips gemäß der nochmals weiteren Ausführungsform der Offenbarung. - Beschreibung der Ausführungsformen
- Eine Beschreibung, die von Zeichnungen begleitet wird, ist im Folgenden bereitgestellt, um beispielhafte Ausführungsformen der Offenbarung verständlich zu erklären. Jedoch sei erwähnt, dass die Offenbarung nach wie vor gemäß vielen anderen verschiedenen Formen implementiert sein kann und nicht als auf die im Folgenden beschriebenen Ausführungsformen eingeschränkt angesehen werden sollte. Zur Klarheit der Zeichnungen können die Größen und Dicken jedes Bereichs, jedes Abschnitts und jeder Schicht nicht gemäß dem praktischen Maßstab veranschaulicht sein. Zum einfachen Verständnis werden in der folgenden Beschreibung denselben Elementen dieselben Bezugszeichen zugewiesen.
-
1 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Leistungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung.2 ist eine schematische Draufsicht von1 . Zur Klarheit sind einige Elemente der Leistungsvorrichtung aus2 weggelassen.3A und3B sind eine schematische Stirn- und Rückansicht eines vorgeformten Chips gemäß der Ausführungsform der Offenbarung. - Unter Bezugnahme auf
1 bis3B ist die Leistungsvorrichtung10 z. B. eine Gleichrichterdiode, die in einem Fahrzeuggenerator zum Gleichrichten von Wechselstrom in Gleichstrom angewendet wird und zu diversen elektrischen Vorrichtungen und Batterien im Fahrzeugsystem Gleichstrom überträgt. In dieser Ausführungsform enthält die Leistungsvorrichtung10 einen zweiten Anschluss200 , einen ersten Anschluss100 und ein Schaltungssystem300 , wobei der zweite Anschluss200 und der erste Anschluss100 zum Verbinden mit einer externen Schaltung ausgelegt sind und das Schaltungssystem300 zwischen dem zweiten Anschluss200 und dem ersten Anschluss100 angeordnet ist und das Schaltungssystem300 mit dem zweiten Anschluss200 und dem ersten Anschluss100 elektrisch verbunden ist. - In dieser Ausführungsform enthält das Schaltungssystem
300 einen vorgeformten Chip310 und eine Steuervorrichtung320 . Wie in2 gezeigt ist, enthält die detaillierte Struktur des vorgeformten Chips310 einen Transistor312 , der eine erste Elektrode3121 , eine zweite Elektrode3122 und eine dritte Elektrode3123 aufweist (wie in3A und3B gezeigt ist), und eine erste Verkapselung316 , die zum Verkapseln des Transistors312 ausgelegt ist. Der erste Anschluss100 , der zweite Anschluss200 und die Steuervorrichtung320 sind mit dem Transistor312 elektrisch verbunden. Zum Beispiel sind der erste Anschluss100 , der zweite Anschluss200 und die Steuervorrichtung320 mit der ersten Elektrode3121 bzw. der zweiten Elektrode3122 bzw. der dritten Elektrode3123 des Transistors312 elektrisch verbunden. - In einer weiteren Ausführungsform kann der vorgeformte Chip
310 ferner eine strukturierte Schaltungsschicht314 enthalten, die mit dem Transistor312 verbunden ist. Die strukturierte Schaltungsschicht314 kann mit der ersten Elektrode3121 und/oder der zweiten Elektrode3122 und/oder der dritten Elektrode3123 des Transistors312 elektrisch verbunden sein. Die erste Verkapselung316 verkapselt die strukturierte Schaltungsschicht314 , und ein Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht314 liegt frei. Zum Beispiel ist die strukturierte Schaltungsschicht314 mit der ersten Elektrode3121 und der dritten Elektrode3123 elektrisch verbunden, und der erste Anschluss100 und die Steuervorrichtung320 sind über den freiliegenden Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht314 mit der ersten Elektrode3121 bzw. der dritten Elektrode3123 elektrisch verbunden. In dieser Ausführungsform liegt die zweite Elektrode3122 aus dem vorgeformten Chip310 frei, der durch die erste Verkapselung316 verkapselt ist, und die freiliegende zweite Elektrode3122 ist mit dem zweiten Anschluss200 elektrisch verbunden. - In dieser Ausführungsform ist der Transistor
312 z. B. ein Feldeffekttransistor, der durch Spannung oder Strom gesteuert wird. In einer Ausführungsform ist der Transistor312 z. B. ein MOSFET, ein bipolarer Transistor mit isoliertem Gate oder ein Galliumnitrid-Transistor. Wenn der Transistor312 z. B. ein MOSFET ist, sind die Source, der Drain und das Gate des MOSFET die erste Elektrode3121 bzw. die zweite Elektrode3122 bzw. die dritte Elektrode3123 des Transistors312 . Die Verbindungsstücke des Gates und der Source des MOSFET befinden sich auf derselben Seite, die dem ersten Anschluss100 zugewandt ist, das Verbindungsstück des Drain befindet sich auf der anderen Seite, die dem zweiten Anschluss200 zugewandt ist, und der zweite Anschluss200 ist über das Verbindungsstück des Drain mit dem MOSFET elektrisch verbunden. Da der MOSFET während des Einschaltens einen niedrigen Widerstand aufweist, kann eine niedrigere Einschaltspannung (z. B. eine VF kleiner als 0,5 V) erzielt werden, und der Wirkungsgrad der Leistungsvorrichtung10 wird dadurch verbessert. Ferner befindet sich die Steuervorrichtung320 direkt in Kontakt mit der strukturierten Schaltungsschicht314 und ist über die strukturierte Schaltungsschicht314 mit der dritten Elektrode3123 des Transistors312 elektrisch verbunden, daher werden die herkömmlichen Probleme eines hohen Widerstands und einer schlechten Zuverlässigkeit, die durch ein Drahtbonding bewirkt werden, beseitigt, und die Integrität des Schaltungssystems300 wird dadurch verbessert. - Außerdem kann die Leistungsvorrichtung
10 ferner einen Kondensator330 , einen leitfähigen Abstandhalter340 und so weiter enthalten, und ein Bondmaterial350 (wie etwa ein Lötmittel) kann zwischen dem ersten Anschluss100 und dem leitfähigen Abstandhalter340 angeordnet sein, um den ersten Anschluss100 und den Transistor312 in dem vorgeformten Chip310 elektrisch zu verbinden. Auf diese Weise wird der einfließende Wechselstrom durch das Schaltungssystem300 , das eine gleichrichtende Funktion aufweist, in einen Gleichstrom gleichgerichtet, und anschließend wird der Gleichstrom von der Leistungsvorrichtung10 ausgegeben. - In dieser Ausführungsform ist der zweite Anschluss
200 z. B. eine Basiselektrode mit einer Rille200a , und die Form des zweiten Schlusses200 ist z. B. ein Kreis, ein Quadrat oder ein Sechseck, jedoch ist die Offenbarung nicht darauf eingeschränkt. Tatsächlich kann der zweite Anschluss200 gemäß den Anforderungen des Produktentwurfs verschiedene Formen oder Ausprägungen annehmen, z. B. keine Rille aufweisen oder ferner eine erhöhte Basis (nicht veranschaulicht) auf der Oberfläche zum Anordnen des Schaltungssystems300 enthalten. In dieser Ausführungsform enthält ein Material des zweiten Anschlusses200 Aluminium, Kupfer oder eine Legierung der vorhergehenden Metalle (wie etwa eine Aluminiumlegierung), vorzugsweise Kupfer oder Aluminium. Wenn das Material des zweiten Anschlusses200 Aluminium ist, kann er eine gute Wärmeleitfähigkeit, eine gute elektrische Leitfähigkeit und eine große Wärmekapazität aufweisen. Außerdem kann der Außenumfang des zweiten Anschlusses200 dieser Ausführungsform, wie in2 gezeigt ist, zahnradförmig sein, derart, dass während des Installierens der Leistungsvorrichtung10 am Fahrzeuggenerator durch eine Presspassungs-Verbindungstechnologie sichergestellt ist, dass auf dem Schaltungssystem300 in der Leistungsvorrichtung10 keine Beschädigungen oder Fehler auftreten. - In dieser Ausführungsform ist der erste Anschluss
100 z. B. eine Elektrode, die eine Basis110 und eine Leitung120 , die mit der Basis110 verbunden ist, enthält. In dieser Ausführungsform ist die Basis110 des ersten Anschlusses100 mit der Leitung120 elektrisch verbunden, und der erste Anschluss100 ist durch die Leitung120 mit der externen Schaltung verbunden. Wie in1 gezeigt ist, sind die Basis110 des ersten Anschlusses100 und ein Abschnitt der Leitung120 in der Rille200a des zweiten Anschlusses200 angeordnet. Eine Oberfläche der Basis110 des ersten Anschlusses100 , die dem Schaltungssystem300 zugewandt ist, dient als eine Schnittstelle, die mit dem Schaltungssystem300 elektrisch leitfähig ist. In dieser Ausführungsform ist eine Fläche der Basis110 des ersten Anschlusses100 im Wesentlichen kleiner als eine Fläche der Bodenfläche der Rille200a des zweiten Anschlusses200 . In dieser Ausführungsform liegt die Bodenfläche der Basis110 des ersten Anschlusses100 in einer Quadratform nahe an der Form des vorgeformten Chips310 vor. In einigen anderen Ausführungsformen ist die Form der Basis110 des ersten Anschlusses100 ein Kreis oder ein Sechseck, jedoch ist die Offenbarung nicht darauf eingeschränkt. In dieser Ausführungsform enthält ein Material des ersten Anschlusses100 Aluminium, Kupfer oder eine Legierung der vorhergehenden Metalle wie etwa eine Kupferlegierung, eine Aluminiumlegierung und so weiter. - Als nächstes wird ein Herstellungsprozess der Leistungsvorrichtung
10 kurz beschrieben, jedoch ist die Leistungsvorrichtung der Offenbarung nicht auf den folgenden Prozess eingeschränkt. - Zuerst wird ein Transistor
312 bereitgestellt, und Kontaktlöcher (nicht veranschaulicht) und eine strukturierte Schaltungsschicht314 werden auf dem Transistor312 gebildet. In dieser Ausführungsform können die Kontaktlöcher auf den Verbindungsstücken der Source und des Gates des Transistors312 gebildet werden, und anschließend kann die strukturierte Schaltungsschicht314 auf den Kontaktlöchern gebildet werden, jedoch ist die Offenbarung nicht darauf eingeschränkt. Daraufhin verkapselt die erste Verkapselung316 den Transistor312 , die Kontaktlöcher und die strukturierte Schaltungsschicht314 z. B. durch einen Gießformprozess. Hier ist der Prozess des Herstellens des vorgeformten Chips310 im Allgemeinen abgeschlossen. Außerdem legt die erste Verkapselung316 die strukturierte Schaltungsschicht314 für die anschließenden elektrischen Verbindungen frei. In dieser Ausführungsform kann ein Material der ersten Verkapselung316 z. B. ein Epoxidharz, ein Silikonharz, ein Biphenyl-Harz, einen ungesättigten Polyester oder ein Keramikmaterial enthalten. Ein Material der Kontaktlöcher und der strukturierten Schaltungsschicht314 ist z. B. Kupfer oder ein anderes geeignetes Material. - Als nächstes werden eine Steuervorrichtung
320 , ein Kondensator330 und ein leitfähiger Abstandhalter340 auf der strukturierten Schaltungsschicht314 angebracht. Die Steuervorrichtung320 ist über die strukturierte Schaltungsschicht314 mit dem Transistor312 elektrisch verbunden, um einen Ansteuerstrom bereitzustellen, um zu steuern, ob der Transistor312 ein- oder ausgeschaltet ist. Der Kondensator330 kann über die strukturierte Schaltungsschicht314 jeweils mit der Steuervorrichtung320 und dem Transistor312 elektrisch verbunden sein. Der leitfähige Abstandhalter340 ist zwischen dem vorgeformten Chip310 und dem ersten Anschluss100 angeordnet, um den vorgeformten Chip310 und den ersten Anschluss100 elektrisch zu verbinden, und der leitfähige Abstandhalter340 weist außerdem eine Wärmeableitungswirkung auf. Als nächstes wird durch ein Verfahren wie etwa den Gießformprozess eine zweite Verkapselung360 zwischen dem vorgeformten Chip310 und dem ersten Anschluss100 gebildet, um Elemente wie etwa den vorgeformten Chip310 , die Steuervorrichtung320 , den Kondensator330 und den leitfähigen Abstandhalter340 zu verpacken. Hier ist die Herstellung des Schaltungssystems300 im Allgemeinen abgeschlossen. In dieser Ausführungsform legt die zweite Verkapselung360 einen Abschnitt einer Oberfläche des leitfähigen Abstandhalters340 für die anschließenden elektrischen Verbindungen frei. In einer weiteren Ausführungsform kann zwischen der zweiten Verkapselung360 und dem ersten Anschluss100 eine Schicht eines Bondmaterials350 gebildet sein, und die zweite Verkapselung360 legt eine Oberfläche des Bondmaterials350 zur anschließenden elektrischen Verbindung frei. In dieser Ausführungsform kann ein Material der zweiten Verkapselung360 z. B. ein Epoxidharz, ein Silikonharz, ein Biphenyl-Harz, einen ungesättigten Polyester oder ein Keramikmaterial enthalten. Ein Material des Bondmaterials350 ist z. B. Blei-Zinn, Zinn-Silber oder ein Lötmittel aus gesintertem Silber, jedoch ist die Offenbarung nicht darauf eingeschränkt. - Anschließend wird das Schaltungssystem
300 auf dem zweiten Anschluss200 angeordnet, derart, dass der zweite Anschluss200 mit dem Transistor312 im Schaltungssystem300 elektrisch verbunden ist, das heißt, eine Elektrode des Transistors312 wird an den zweiten Anschluss200 gebondet, und daraufhin wird der erste Anschluss100 auf dem Schaltungssystem300 angeordnet. Außerdem wird der Transistor312 im Schaltungssystem300 über den freiliegenden Abschnitt des leitfähigen Abstandhalters340 oder über das Bondmaterial350 mit dem ersten Anschluss100 elektrisch verbunden. In anderen Ausführungsformen kann wahlweise ein weiteres Bondmaterial (nicht veranschaulicht) auf einer Bodenfläche der Rille200a des zweiten Anschlusses200 gebildet werden und über das Bondmaterial (z. B. ein Lötmittel) mit dem zweiten Anschluss200 und dem Transistor312 im Schaltungssystem300 elektrisch verbunden werden. In1 und2 sind das Schaltungssystem300 und ein Abschnitt des ersten Anschlusses100 in der Rille200a des zweiten Anschlusses200 angeordnet. Wie in1 gezeigt ist, erstreckt sich die Leitung120 des ersten Anschlusses100 aus der Rille200a des zweiten Anschlusses200 zur Außenseite der Rille200a , um mit der externen Schaltung zu verbinden. Außerdem ist die Basis110 des ersten Anschlusses100 mit dem Bondmaterial350 verbunden. Eine Fläche des freiliegenden Bondmaterials350 kann größer oder gleich einer Fläche der Basis110 des ersten Anschlusses100 sein, jedoch ist die Offenbarung nicht darauf eingeschränkt. In einer Ausführungsform kann die Rille200a auf dem zweiten Anschluss200 durch ein Verfahren wie etwa den Gießformprozess mit der dritten Verkapselung400 gefüllt werden, derart, dass der leitfähige Abstandhalter340 , das Schaltungssystem300 und ein Abschnitt des ersten Anschlusses100 abgedeckt sind. In einer weiteren Ausführungsform kann die dritte Verkapselung400 weggelassen werden, wenn der erste Anschluss100 und das Schaltungssystem300 auf dem zweiten Anschluss200 fest installiert werden können. Wenn der zweite Anschluss200 in einer weiteren Ausführungsform keine Rille aufweist, wird die dritte Verkapselung400 auf dem zweiten Anschluss200 angeordnet, derart, das Schaltungssystem300 und der Abschnitt des ersten Anschlusses100 abgedeckt sind. Hier ist der Prozess des Herstellens der Leistungsvorrichtung10 im Allgemeinen abgeschlossen. In dieser Ausführungsform kann ein Material der dritten Verkapselung400 z. B. ein Epoxidharz, ein Silikonharz, ein Biphenyl-Harz, einen ungesättigten Polyester oder ein Keramikmaterial enthalten. In einer Ausführungsform können ein Material der ersten Verkapselung, ein Material der zweiten Verkapselung und ein Material der dritten Verkapselung dieselben Materialien sein. In einer weiteren Ausführungsform können ein Material der ersten Verkapselung, ein Material der zweiten Verkapselung und ein Material der dritten Verkapselung unterschiedliche Materialien sein, jedoch ist die Offenbarung nicht darauf eingeschränkt. - Außerdem ist in
1 eine Wand der Rille200a als eine abgestufte Form entworfen und weist einen sich nach innen erstreckenden, ununterbrochenen Ring200b auf einer Wand in der Nähe der Oberseite der Rille200a auf, derart, dass die dritte Verkapselung400 an einer feststehenden Position unter Kontrolle gehalten wird und die Lebensdauer der Leistungsvorrichtung10 dadurch verbessert wird. Jedoch ist die Offenbarung nicht darauf eingeschränkt. Die Wand der Rille200a kann ebenso eine glatte Oberfläche sein oder in anderen entworfenen Formen vorliegen. -
4 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Leistungsvorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der Offenbarung.5 ist eine schematische Draufsicht von4 . Zur Klarheit sind einige Elemente der Leistungsvorrichtung aus5 weggelassen. - Unter Bezugnahme sowohl auf
4 als auch auf5 ist eine Leistungsvorrichtung20 gleichartig wie die oben beschriebene Leistungsvorrichtung10 , insbesondere diejenigen, die in Absatz [0043] bis [0049] beschrieben sind, wobei der Unterschied zwischen den beiden darin besteht, dass ein leitfähiger Abstandhalter340' und ein erster Anschluss100' einteilig ausgebildet sind. Die Verbindungsbeziehungen und Materialien der anderen Elemente wurden in der ersten Ausführungsform im Einzelnen beschrieben und werden im Folgenden nicht wiederholt. In dieser Ausführungsform mit dem leitfähigen Abstandhalter340' und dem ersten Anschluss100' , die einteilig ausgebildet sind, kann z. B. die zweite Verkapselung360 in der Leistungsvorrichtung10 weggelassen werden, und die dritte Verkapselung400 kann genutzt werden, um den vorgeformten Chip310 , die Steuervorrichtung320 , den Kondensator330 , den leitfähigen Abstandhalter340' und einen Abschnitt des ersten Anschlusses100' abzudecken, um den Herstellungsprozess weiter zu vereinfachen. -
6 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Leistungsvorrichtung gemäß einer nochmals weiteren Ausführungsform der Offenbarung.7 ist eine schematische Draufsicht von6 . Zur Klarheit sind einige Elemente der Leistungsvorrichtung aus7 weggelassen.8A und8B sind eine schematische Stirnansicht und eine schematische Rückansicht eines vorgeformten Chips gemäß einer nochmals weiteren Ausführungsform der Offenbarung. - Unter Bezugnahme auf
6 bis8B ist eine Leistungsvorrichtung30 gleichartig wie die oben beschriebene Leistungsvorrichtung10 , insbesondere diejenigen, die in Absatz [0043] bis [0049] beschrieben sind, wobei der Unterschied zwischen den beiden darin besteht, dass Elemente wie etwa die Steuervorrichtung320 , der Kondensator330 und der leitfähige Abstandhalter340 zwischen dem zweiten Anschluss200 und einem ersten Anschluss100" weggelassen sind. Die Verbindungsbeziehungen und Materialien der anderen Elemente wurden in der ersten Ausführungsform im Einzelnen beschrieben und werden im Folgenden nicht wiederholt. - In dieser Ausführungsform sind ein erster Anschluss
100" und der zweite Anschluss200 mit einem Transistor312" elektrisch verbunden. Zum Beispiel sind der erste Anschluss100" und der zweite Anschluss200 mit einer ersten Elektrode3121" bzw. einer zweiten Elektrode3122" des Transistors312" elektrisch verbunden. Mit anderen Worten, eine Basis110" des ersten Anschlusses100" befindet sich im Wesentlichen direkt in Kontakt mit der freiliegenden ersten Elektrode3121" oder befindet sich über das Bondmaterial350 in Kontakt mit der freiliegenden ersten Elektrode3121" . Auf diese Weise wird dadurch die Leistungsvorrichtung30 erhalten, die einen vereinfachten Herstellungsprozess aufweist. - In einer weiteren Ausführungsform kann der vorgeformte Chip
310 ferner eine strukturierte Schaltungsschicht314 enthalten, die mit der ersten Elektrode3121" elektrisch verbunden ist. Der erste Anschluss100" ist über die strukturierte Schaltungsschicht314 , die aus der ersten Verkapselung316 freiliegt, mit der ersten Elektrode3121" elektrisch verbunden. Mit anderen Worten, eine Basis110" des ersten Anschlusses100" befindet sich im Wesentlichen direkt in Kontakt mit der freiliegenden strukturierten Schaltungsschicht314 oder befindet sich über das Bondmaterial350 in Kontakt mit der freiliegenden strukturierten Schaltungsschicht314 . Auf diese Weise wird dadurch die Leistungsvorrichtung30 erhalten, die einen vereinfachten Herstellungsprozess aufweist. - In der Offenbarung können die Leistungsvorrichtung
10 , die Leistungsvorrichtung20 und die Leistungsvorrichtung30 wie oben beschrieben auf eine Gleichrichtervorrichtung eines Fahrzeuggenerators angewendet werden, und dadurch verbessert sich der Wirkungsgrad derselben. - Das Obige zusammenfassend steht das Schaltungssystem in der Leistungsvorrichtung für Gleichrichter der Offenbarung über einen vorgeformten Chip direkt mit der Steuervorrichtung in Verbindung, derart, dass ein Schaltungssystem mit einer geringen parasitären Wirkung und einem niedrigen leitenden Widerstand erhalten werden kann und die VF der Leistungsvorrichtung dadurch abgesenkt werden kann. Auf diese Weise kann sie den Leistungsumsetzungsverlust deutlich verringern, und somit kann der Wirkungsgrad der Leistungsvorrichtung für Gleichrichter verbessert werden.
Claims (22)
- Leistungsvorrichtung (10) für Gleichrichter, die Folgendes umfasst: einen ersten Anschluss (100) und einen zweiten Anschluss (200), die jeweils zum Verbinden mit einer externen Schaltung ausgelegt sind; und ein Schaltungssystem (300), das zwischen dem ersten Anschluss (100) und dem zweiten Anschluss (200) angeordnet ist und mit dem ersten Anschluss (100) und dem zweiten Anschluss (200) elektrisch verbunden ist, wobei das Schaltungssystem (300) einen vorgeformten Chip (310) und eine Steuervorrichtung (320) umfasst, wobei der vorgeformte Chip (310) Folgendes umfasst: einen Transistor (312), der eine erste Elektrode (3121), eine zweite Elektrode (3122) und eine dritte Elektrode (3123) aufweist; und eine erste Verkapselung (316), die den Transistor (312) verkapselt, wobei die Steuervorrichtung (320) nicht durch die erste Verkapselung (316) verkapselt ist, und wobei der erste Anschluss (100) mit der ersten Elektrode (3121) elektrisch verbunden ist, der zweite Anschluss (200) mit der zweiten Elektrode (3122) elektrisch verbunden ist, und die Steuervorrichtung (320) mit der dritten Elektrode (3123) des Transistors (312) elektrisch verbunden ist.
- Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 1 , wobei der vorgeformte Chip (310) ferner eine strukturierte Schaltungsschicht (314) umfasst, die strukturierte Schaltungsschicht (314) mit der ersten Elektrode (3121) und/oder der zweiten Elektrode (3122) und/oder der dritten Elektrode (3123) des Transistors (312) elektrisch verbunden ist und die erste Verkapselung (316) die strukturierte Schaltungsschicht (314) verkapselt und einen Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht (314) freilegt. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 2 , wobei die strukturierte Schaltungsschicht (314) mit der ersten Elektrode (3121) und der dritten Elektrode (3123) elektrisch verbunden ist und der erste Anschluss (100) und die Steuervorrichtung (320) über den freiliegenden Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht (314) mit der ersten Elektrode (3121) bzw. der dritten Elektrode (3123) elektrisch verbunden sind. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 2 oder3 , wobei die zweite Elektrode (3122) aus dem vorgeformten Chip (310) freiliegt, der durch die erste Verkapselung (316) verkapselt ist, und der zweite Anschluss (200) mit der freiliegenden zweiten Elektrode (3122) elektrisch verbunden ist. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 1 , wobei ein Material des ersten Anschlusses (100) und ein Material des zweiten Anschlusses (200) jeweils Aluminium, Kupfer oder eine Legierung davon umfassen. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 1 , wobei der Transistor (312) einen Feldeffekttransistor enthält, der durch Spannung oder Strom gesteuert wird. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 1 , wobei der Transistor (312) einen Metalloxidhalbleiter-Feldeffekttransistor, einen bipolaren Transistor mit isoliertem Gate oder einen Galliumnitrid-Transistor enthält. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 1 , wobei ein Material der ersten Verkapselung (316) ein Epoxidharz, ein Silikonharz, ein Biphenyl-Harz, einen ungesättigten Polyester oder ein Keramikmaterial umfasst. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 1 , wobei der erste Anschluss (100) eine Basis (110) und eine Leitung (120) umfasst und eine Form einer Bodenfläche der Basis (110) ein Kreis, ein Quadrat oder ein Sechseck ist und eine Form des zweiten Anschlusses (200) ein Kreis, ein Quadrat oder ein Sechseck ist. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 1 , die ferner einen leitfähigen Abstandhalter (340) umfasst, der zwischen dem vorgeformten Chip (310) und dem ersten Anschluss (100) angeordnet ist und den vorgeformten Chip (310) und den ersten Anschluss (100) elektrisch verbindet. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 10 , wobei der leitfähige Abstandhalter (340') und der erste Anschluss (100') einteilig ausgebildet sind. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 11 , die ferner eine zweite Verkapselung (400) umfasst, die auf dem zweiten Anschluss (200) angeordnet ist und den leitfähigen Abstandhalter (340'), das Schaltungssystem (300) und einen Abschnitt des ersten Anschlusses (100') abdeckt. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 10 , die ferner eine zweite Verkapselung (360) umfasst, die zwischen dem vorgeformten Chip (310) und dem ersten Anschluss (100) angeordnet ist, wobei sie die Steuervorrichtung (320) und den leitfähigen Abstandhalter (340) verkapselt und einen Abschnitt des leitfähigen Abstandhalters (340) freilegt. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 13 , die ferner ein Bondmaterial (350) umfasst, das zwischen der zweiten Verkapselung (360) und dem ersten Anschluss (100) angeordnet ist. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 13 , die ferner eine dritte Verkapselung (400) umfasst, die auf dem zweiten Anschluss (200) angeordnet ist und den leitfähigen Abstandhalter (360), das Schaltungssystem (300) und einen Abschnitt des ersten Anschlusses (100) abdeckt. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 15 , wobei ein Material der zweiten Verkapselung (360) und ein Material der dritten Verkapselung (400) ein Epoxidharz, ein Silikonharz, einen ungesättigten Polyester oder ein Keramikmaterial umfassen. - Leistungsvorrichtung (30) für Gleichrichter, die Folgendes umfasst: einen ersten Anschluss (100'') und einen zweiten Anschluss (200), die jeweils zum Verbinden mit einer externen Schaltung ausgelegt sind; und einen vorgeformten Chip (310), der zwischen dem ersten Anschluss (100'') und dem zweiten Anschluss (200) angeordnet ist, wobei der vorgeformte Chip (310) Folgendes umfasst: einen Transistor (312''), der eine erste Elektrode (3121'') und eine zweite Elektrode (3122'') aufweist; und eine erste Verkapselung (316), die den Transistor (312'') verkapselt, wobei eine Basis (110'') des ersten Anschlusses (100'') nicht durch die erste Verkapselung (316) verkapselt ist, und wobei der erste Anschluss (100'') mit der ersten Elektrode (3121'') elektrisch verbunden ist und der zweite Anschluss (200) mit der zweiten Elektrode (3122'') des Transistors (312'') elektrisch verbunden ist.
- Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 17 , wobei der vorgeformte Chip (310) ferner eine strukturierte Schaltungsschicht (314) umfasst, die mit der ersten Elektrode (3121") elektrisch verbunden ist, die erste Verkapselung (316) die strukturierte Schaltungsschicht (314) verkapselt und einen Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht (314) freilegt und der erste Anschluss (100") über einen freiliegenden Abschnitt der strukturierten Schaltungsschicht (314) mit der ersten Elektrode (3121") elektrisch verbunden ist. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 17 oder18 , wobei die zweite Elektrode (3122") aus dem vorgeformten Chip (310) freiliegt, der durch die erste Verkapselung (316) verkapselt ist und der zweite Anschluss (200) mit der freiliegenden zweiten Elektrode (3122") elektrisch verbunden ist. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 17 , wobei ein Material des ersten Anschlusses (100") und ein Material des zweiten Anschlusses (200) Aluminium, Kupfer oder eine Legierung davon umfassen. - Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach
Anspruch 17 , wobei ein Material der ersten Verkapselung (316) ein Epoxidharz, ein Silikonharz, ein Biphenyl-Harz, einen ungesättigten Polyester oder ein Keramikmaterial umfasst. - Gleichrichtervorrichtung eines Fahrzeuggenerators, die Folgendes umfasst: die Leistungsvorrichtung für Gleichrichter nach einem der
Ansprüche 1 -21 .
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW107121274 | 2018-06-21 | ||
TW107121274A TWI710138B (zh) | 2018-06-21 | 2018-06-21 | 用於整流器的功率元件 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102018132422A1 DE102018132422A1 (de) | 2019-12-24 |
DE102018132422B4 true DE102018132422B4 (de) | 2021-12-02 |
Family
ID=68805843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102018132422.7A Active DE102018132422B4 (de) | 2018-06-21 | 2018-12-17 | Leistungsvorrichtung für Gleichrichter |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190393136A1 (de) |
JP (1) | JP6754419B2 (de) |
DE (1) | DE102018132422B4 (de) |
TW (1) | TWI710138B (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI748342B (zh) * | 2020-02-13 | 2021-12-01 | 朋程科技股份有限公司 | 功率元件的半成品及其製造方法以及功率元件的製造方法 |
CN113345861A (zh) * | 2020-02-18 | 2021-09-03 | 朋程科技股份有限公司 | 功率组件的半成品及其制造方法以及功率组件的制造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009040557B4 (de) | 2008-09-30 | 2015-06-25 | Infineon Technologies Ag | Bauelement mit zwei Montageoberflächen, System und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE112015003757T5 (de) | 2014-09-11 | 2017-06-29 | Hitachi Power Semiconductor Device, Ltd. | Halbleitervorrichtung sowie Generator und Stromrichtvorrichtung, welche die Halbleitervorrichtung verwenden |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3089086U (ja) * | 2002-04-04 | 2002-10-11 | 朋程科技股▲ふん▼有限公司 | デコボコ式工率半導体パッケージング装置 |
TW200527618A (en) * | 2003-11-10 | 2005-08-16 | Bosch Gmbh Robert | Diode |
JP3110467U (ja) * | 2005-02-16 | 2005-06-23 | 朋程科技股▲ふん▼有限公司 | 嵌合式パワー半導体パッケージ装置 |
JP2013183024A (ja) * | 2012-03-01 | 2013-09-12 | Toyota Industries Corp | 半導体デバイスおよび半導体装置 |
JP6263014B2 (ja) * | 2013-12-12 | 2018-01-17 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置、並びにそれを用いたオルタネータ及び電力変換装置 |
DE102015011718A1 (de) * | 2014-09-10 | 2016-03-10 | Infineon Technologies Ag | Gleichrichtervorrichtung und Anordnung von Gleichrichtern |
CN204332967U (zh) * | 2014-10-09 | 2015-05-13 | 朋程科技股份有限公司 | 二极管 |
CN106424466B (zh) * | 2015-08-12 | 2019-05-24 | 朋程科技股份有限公司 | 整流二极管的引线结构的制造方法及装置 |
JP6641161B2 (ja) * | 2015-11-18 | 2020-02-05 | 株式会社 日立パワーデバイス | 半導体装置、およびそれを用いたオルタネータ |
JP6480856B2 (ja) * | 2015-12-14 | 2019-03-13 | 株式会社東芝 | 半導体モジュール |
-
2018
- 2018-06-21 TW TW107121274A patent/TWI710138B/zh active
- 2018-08-21 US US16/106,010 patent/US20190393136A1/en not_active Abandoned
- 2018-12-14 JP JP2018234285A patent/JP6754419B2/ja active Active
- 2018-12-17 DE DE102018132422.7A patent/DE102018132422B4/de active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009040557B4 (de) | 2008-09-30 | 2015-06-25 | Infineon Technologies Ag | Bauelement mit zwei Montageoberflächen, System und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE112015003757T5 (de) | 2014-09-11 | 2017-06-29 | Hitachi Power Semiconductor Device, Ltd. | Halbleitervorrichtung sowie Generator und Stromrichtvorrichtung, welche die Halbleitervorrichtung verwenden |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI710138B (zh) | 2020-11-11 |
JP2019220671A (ja) | 2019-12-26 |
DE102018132422A1 (de) | 2019-12-24 |
US20190393136A1 (en) | 2019-12-26 |
TW202002294A (zh) | 2020-01-01 |
JP6754419B2 (ja) | 2020-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69735361T2 (de) | Harzverkapselte halbleiteranordnung und herstellungsverfahren dafür | |
DE112018003873T5 (de) | Elektronische komponente und halbleitervorrichtung | |
DE212018000087U1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE102009011213A1 (de) | Halbleitermodul und Verfahren zum Herstellen desselben | |
DE102016109558B4 (de) | Halbleiterpackage mit eingebetteter ausgangsinduktivität | |
DE112019003733B4 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE112016007432B4 (de) | Halbleitervorrichtung, Invertereinheit und Automobil | |
DE112015004424B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer elektronischen Vorrichtung | |
DE112018004129T5 (de) | Leistungsumwandlungsvorrichtung | |
DE102018132422B4 (de) | Leistungsvorrichtung für Gleichrichter | |
DE102009043441A1 (de) | Halbleitermodul | |
DE102016000264B4 (de) | Halbleiterchipgehäuse, das sich lateral erstreckende Anschlüsse umfasst, und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE102019210172A1 (de) | Halbleitervorrichtung, Leistungswandler, Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines Leistungswandlers | |
DE102010061011A1 (de) | Halbleiterbaugruppe und Verfahren zum Herstellen derselben | |
DE102015103897B4 (de) | Leitungsrahmen mit Kühlerplatte, Verfahren zur Herstellung eines Leitungsrahmens mit Kühlerplatte, Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung | |
DE102017222481A1 (de) | Leistungsmodul für Leistungsumwandlungseinrichtung, Leistungsumwandlungseinrichtung und elekktrische Rotationsvorrichtung mit integriertem Steuergerät | |
DE112012002724T5 (de) | Leiterrahmen und Leistungsmodul | |
DE102019213514B4 (de) | Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben | |
DE102018203228A1 (de) | Leistungshalbleitervorrichtung und Verfahren zur Fertigung derselben, und Leistungskonvertierungsvorrichtung | |
DE102016223651A1 (de) | Halbleitermodul und halbleitervorrichtung | |
DE102013112636B4 (de) | Integrierte Schaltung, Halbleiternacktchipanordnung und Verfahren zum Herstellen einer integrierten Schaltung | |
DE102018200161B4 (de) | Halbleiteranordnung und verfahren zum herstellen der halbleiteranordnung | |
DE102020125705A1 (de) | Leistungs-Halbleitervorrichtung | |
DE102019212727B4 (de) | Halbleitervorrichtung und elektrische Leistungsumwandlungseinrichtung | |
DE112016005885T5 (de) | Metallrohlinge zum doppelseitigen Kühlen eines Leistungsmoduls |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |