DE102015213771A1 - MEMS-Bauelement mit schalldruckempfindlichem Membranelement - Google Patents

MEMS-Bauelement mit schalldruckempfindlichem Membranelement Download PDF

Info

Publication number
DE102015213771A1
DE102015213771A1 DE102015213771.6A DE102015213771A DE102015213771A1 DE 102015213771 A1 DE102015213771 A1 DE 102015213771A1 DE 102015213771 A DE102015213771 A DE 102015213771A DE 102015213771 A1 DE102015213771 A1 DE 102015213771A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
membrane
opening
membrane element
layer structure
mems device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102015213771.6A
Other languages
English (en)
Inventor
Rolf Scheben
Benedikt STEIN
Fabian Purkl
Michael Stumber
Christoph Schelling
Thomas Buck
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
Priority to DE102015213771.6A priority Critical patent/DE102015213771A1/de
Priority to US15/212,334 priority patent/US9914636B2/en
Publication of DE102015213771A1 publication Critical patent/DE102015213771A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • B81B3/0064Constitution or structural means for improving or controlling the physical properties of a device
    • B81B3/0067Mechanical properties
    • B81B3/0072For controlling internal stress or strain in moving or flexible elements, e.g. stress compensating layers
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R17/00Piezoelectric transducers; Electrostrictive transducers
    • H04R17/02Microphones
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2201/00Specific applications of microelectromechanical systems
    • B81B2201/02Sensors
    • B81B2201/0257Microphones or microspeakers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2203/00Basic microelectromechanical structures
    • B81B2203/01Suspended structures, i.e. structures allowing a movement
    • B81B2203/0127Diaphragms, i.e. structures separating two media that can control the passage from one medium to another; Membranes, i.e. diaphragms with filtering function
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/01Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS
    • B81B2207/015Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS the micromechanical device and the control or processing electronics being integrated on the same substrate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/07Interconnects
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R2201/00Details of transducers, loudspeakers or microphones covered by H04R1/00 but not provided for in any of its subgroups
    • H04R2201/003Mems transducers or their use

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

Es wird ein Bauelementkonzept vorgeschlagen, mit dem sich MEMS-Mikrofonbauelemente mit einer sehr guten Mikrofonperformance und vergleichsweise geringem Stromverbrauch realisieren lassen. Demnach ist im Schichtaufbau des MEMS-Bauelements (10) mindestens ein schalldruckempfindliches Membranelement (111, 112, 113, 114) ausgebildet, das eine Öffnung (12) im Schichtaufbau überspannt. Dieses Membranelement (111, 112, 113, 114) ist über mindestens ein Säulenelement (13) im Mittelbereich der Öffnung (12) an den Schichtaufbau des Bauelements (10) angebunden. Erfindungsgemäß werden die Auslenkungen des Membranelements (111, 112, 113, 114) mit Hilfe mindestens eines piezosensitiven Schaltungselements erfasst, das im Schichtaufbau des Membranelements (111, 112, 113, 114) realisiert ist und im Bereich der Anbindung des Membranelements (111, 112, 113, 114) an das Säulenelement (13) angeordnet ist.

Description

  • Stand der Technik
  • Die Erfindung betrifft ein MEMS-Bauelement, in dessen Schichtaufbau mindestens ein schalldruckempfindliches Membranelement ausgebildet ist, das eine Öffnung im Schichtaufbau überspannt, wobei das Membranelement über mindestens ein Säulenelement im Mittelbereich der Öffnung an den Schichtaufbau des Bauelements angebunden ist.
  • Ein derartiges MEMS-Mikrofonbauelement wird in der WO 2008/103672 A2 beschrieben. Die Signalerfassung erfolgt hier kapazitiv mit Hilfe einer Kondensatoranordnung, deren Elektroden einerseits auf dem beweglichen Membranelement und andererseits auf einem feststehenden Gegenelement der Mikrofonstruktur angeordnet sind. Die Mikrofonstruktur ist in einem Schichtaufbau auf einem Grundsubstrat realisiert, so dass das Membranelement und das Gegenelement übereinander und voneinander beabstandet angeordnet sind. Das Membranelement erstreckt sich über eine Öffnung in der Substratrückseite. Es ist lediglich mit dem Gegenelement verbunden, und zwar durch ein mittig angeordnetes Säulenelement. Der äußere Rand des Membranelements ist nicht in den Schichtaufbau eingebunden, so dass sich intrinsische mechanische Spannungen im Membranelement über den freien Membranrand abbauen können.
  • Das bekannte kapazitive MEMS-Mikrofonbauelement zeichnet sich zwar durch eine sehr gute Mikrofonperformance aus, insbesondere im Hinblick auf den Signal-Rausch-Abstand SNR (signal to noise ratio), dafür ist der Stromverbrauch bei kapazitiver Signalerfassung relativ hoch und zu hoch für einen „always-on“-Betrieb.
  • In der US 2014/0084395 A1 wird ein MEMS-Mikrofonbauelement mit einem schalldruckempfindlichen Membranelement beschrieben, das eine Öffnung oder Kaverne im Schichtaufbau überspannt und dessen äußerer Rand umlaufend an den Schichtaufbau des Bauelements angebunden ist. Die Auslenkungen des Membranelements werden hier mit Hilfe mindestens eines piezosensitiven Schaltungselements erfasst, das im Randbereich des Membranelements, d.h. im Bereich der Anbindung des Membranelements an den Schichtaufbau, angeordnet ist.
  • Ein Vorteil von piezosensitiven MEMS-Mikrofonbauelementen gegenüber kapazitiven MEMS-Mikrofonbauelementen ist, dass sie sehr einfach mit einer „wakeup“-Funktionalität ausgestattet werden können. Sie können also sehr einfach so konzipiert werden, dass sie nur im Bedarfsfall Strom verbrauchen, also beispielsweise nur dann, wenn ein bestimmter Schallpegel überschritten wird. Dadurch ist der Stromverbrauch von piezosensitiven MEMS-Mikrofonen im „always-on“-Betriebsmodus deutlich geringer als der von kapazitiven MEMS-Mikrofonbauelementen.
  • Allerdings treten bei umlaufend in den Schichtaufbau eingebundenen Membranelementen, wie im Fall des in der US 2014/0084395 A1 beschriebenen MEMS-Mikrofonbauelements, häufig herstellungsbedingte und/oder temperaturbedingte mechanische Spannungen innerhalb der Membranstruktur auf, die sich aufgrund der umlaufenden Einbindung nicht abbauen können. Derartige intrinsische mechanische Spannungen wirken sich besonders nachteilig auf die Performance von piezosensitiven MEMS-Mikrofonen aus, da sie das Messsignal unmittelbar beeinflussen und verfälschen.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Mit der vorliegenden Erfindung wird ein Bauelementkonzept vorgeschlagen, mit dem sich MEMS-Mikrofonbauelemente mit einer sehr guten Mikrofonperformance und vergleichsweise geringem Stromverbrauch realisieren lassen.
  • Dies wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, dass die Auslenkungen des Membranelements, das eine Öffnung im Schichtaufbau des Bauelements überspannt und über mindestens ein Säulenelement im Mittelbereich an den Schichtaufbau angebunden ist, mit Hilfe mindestens eines piezosensitiven Schaltungselements erfasst werden, das im Schichtaufbau des Membranelements realisiert ist und im Bereich der Anbindung des Membranelements an das Säulenelement angeordnet ist.
  • Erfindungsgemäß ist zunächst erkannt worden, dass sich eine mittig aufgehängte Membranstruktur mit freiem Membranrand besonders gut für eine piezosensitive Signalerfassung eignet, da intrinsischer Stress als Fehlerquelle weitestgehend ausgeschlossen werden kann. Des Weiteren ist erkannt worden, dass eine mittige Aufhängung der Membranstruktur bei piezosensitiver Signalerfassung dazu beiträgt, das Messsignal zu verstärken bzw. die Messempfindlichkeit zu erhöhen. Der Signalpegel des Messsignals ist nämlich umso höher, je größer die mechanischen Spannungen am Ort des piezosensitiven Schaltungselements sind. Bei einer mittigen Aufhängung der Membranstruktur konzentrieren sich die mechanischen Spannungen, die bei einer schalldruckbedingten Auslenkung in der Membranstruktur auftreten, auf einen relativ kleinen Flächenbereich in der Umgebung der mittigen Aufhängung. Im Unterschied dazu verteilen sich die mechanischen Spannungen bei einer umlaufenden Anbindung der Membranstruktur über den gesamten Membranrand, also einen deutlich größeren Flächenbereich, so dass die mechanischen Spannungen hier deutlich schwächer sind, als im Anbindungsbereich einer mittigen Membranaufhängung. Dementsprechend ist das Messsignal für einen gegebenen Schalldruck bei geeigneter Anordnung der piezosensitiven Schaltungselemente bei mittiger Membranaufhängung deutlich größer als bei einer umlaufenden Randanbindung.
  • Grundsätzlich gibt es viele verschiedene Möglichkeiten für die Umsetzung des erfindungsgemäßen Bauelementkonzepts, was Layout und Material der Membranstruktur und die Realisierung der piezosensitiven Schaltungselemente zur Signalerfassung sowie deren elektrische Anbindung betrifft. Aber auch im Hinblick auf die Begrenzung der Membranauslenkung und des Luftaustauschs zwischen den beiden Seiten der Membranstruktur gibt es verschiedene Ausgestaltungsmöglichkeiten. Dabei werden immer die Anwendung und der Einsatzort des MEMS-Bauelements sowie die Anforderungen an die Güte des Messsignals zu berücksichtigen sein.
  • So kann die Membranstruktur eines erfindungsgemäßen MEMS-Bauelements nur ein Membranelement umfassen, das sich allseitig bis an den Rand der Öffnung im Schichtaufbau oder auch darüber hinaus erstreckt. Es können aber auch mehrere Membranelemente vorgesehen sein, die zusammen eine Öffnung im Schichtaufbau des Bauelements überspannen. Diese Membranelemente können über ein gemeinsames Säulenelement an den Schichtaufbau angebunden sein, so dass sie jeweils paddelartig an einem Ende mit dem Säulenelement verbunden sind und sich von dort bis an den Rand der Öffnung im Schichtaufbau oder darüber hinaus erstrecken. Die Membranelemente können aber auch jeweils über ein eigenes Säulenelement an den Schichtaufbau angebunden sein und/oder eine eigene Teilöffnung überspannen.
  • Das bzw. die Säulenelemente können zentrisch oder auch exzentrisch zur Membranfläche angeordnet sein. Das oder die Membranelemente können eine runde oder auch eine eckige Membranfläche abdecken. Sie können in einer einzigen Materialschicht des Schichtaufbaus realisiert sein oder auch in mehreren Schichten. Bei den piezosensitiven Schaltungselementen kann es sich um piezoelektrische Schaltungselemente handeln, die beispielsweise in Form von gedoptem oder ungedoptem Aluminiumnitrid AlN, Zinkoxid ZnO oder Blei-Zirkonat-Titanat PZT realisiert sind. Alternativ oder ergänzend dazu können auch piezoresistive Schaltungselemente zur Signalerfassung eingesetzt werden.
  • Die elektrische Anbindung der piezosensitiven Schaltungselemente, die ja im Bereich der Anbindung des Membranelements an das Säulenelement angeordnet sind, erfolgt vorteilhafterweise über einen oder mehrere Durchkontakte im Säulenelement, da dies die einzige mechanische Verbindung oder doch zumindest die Hauptverbindung zum Schichtaufbau des Bauelements darstellt.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist der Membranrand nämlich nicht eingebunden. In diesem Fall besteht ein umlaufender Spalt zwischen dem mindestens einen Membranelement und dem Rand der Öffnung im Schichtaufbau.
  • Für viele Anwendungen erweist es sich als vorteilhaft, wenn im Randbereich der Öffnung ein Überlastschutz für das mindestens eine Membranelement ausgebildet ist, der mit dem äußeren Rand des mindestens einen Membranelements zusammenwirkt. Dazu kann im Randbereich der Öffnung beispielsweise eine Nut ausgebildet sein, in die der äußere Rand des Membranelements hineinragt, so dass die Innenwandung der Nut als Anschlag für das Membranelement fungiert. Über die Abmessungen der Nut und die Ausformung des äußeren Membranrandes lässt sich auch das Dämpfungsverhalten des Membranelements gezielt beeinflussen, da so die Querschnittsfläche und Länge des Pfades, über den der Luftaustausch zwischen den beiden Seiten des Membranelements erfolgt, variiert werden können.
  • In einer anderen Ausführungsform der Erfindung ist der äußere Rand des mindestens einen Membranelements über eine Federstruktur mit dem oberen Rand der Öffnung im Schichtaufbau verbunden. Diese Federstruktur sollte dann so ausgelegt sein, dass sie die Membranauslenkungen bei Schalldrücken bis zu einem vorgegebenen Pegel nicht behindert, bei höheren Belastungen aber als Überlastschutz fungiert. Das Dämpfungsverhalten des Membranelements kann hier über das Layout der Federstruktur beeinflusst werden, also über die Anzahl, Größe und Anordnung von Durchgangsöffnungen in der Federstruktur.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Wie bereits voranstehend erörtert, gibt es verschiedene Möglichkeiten, die Lehre der vorliegenden Erfindung in vorteilhafter Weise auszugestalten und weiterzubilden. Dazu wird einerseits auf die nachgeordneten Patentansprüche verwiesen und andererseits auf die nachfolgende Beschreibung mehrerer Ausführungsbeispiele der Erfindung.
  • 1a zeigt eine Draufsicht auf die Oberseite eines ersten erfindungsgemäßen MEMS-Bauelements 10
  • 1b zeigt eine Draufsicht auf die Unterseite dieses MEMS-Bauelements 10 und
  • 1c zeigt einen Schnitt durch den Aufbau des MEMS-Bauelements 10;
  • 2a zeigt eine Draufsicht auf die Oberseite eines zweiten erfindungsgemäßen MEMS-Bauelements 20
  • 2b zeigt eine Draufsicht auf die Unterseite dieses MEMS-Bauelements 20,
  • 2c zeigt einen Schnitt durch den Aufbau des MEMS-Bauelements 20 entlang der Schnittebene A und
  • 2d zeigt einen Schnitt durch den Aufbau des MEMS-Bauelements 20 entlang der Schnittebene B;
  • 3a3c zeigen drei unterschiedliche Membran-Layouts 301, 302 und 303; und
  • 4a4c veranschaulichen drei unterschiedliche Ausgestaltungen des äußeren Membranrandes anhand von schematischen Schnittdarstellungen.
  • Ausführungsformen der Erfindung
  • Die 1a bis 1c zeigen ein erstes Ausführungsbeispiel 10 für ein erfindungsgemäßes MEMS-Bauelement. Die Bauelementstruktur ist in einem Schichtaufbau auf einem Halbleitersubstrat realisiert, was hier allerdings nicht im Einzelnen dargestellt ist. Sie umfasst eine schalldruckempfindliche Membranstruktur 11, die hier aus vier trapezförmigen Membranelementen 111, 112, 113, 114 besteht. Diese sind so dimensioniert und angeordnet, dass sie zusammen eine rechteckige bzw. quadratische Öffnung 12 im Schichtaufbau überspannen, was insbesondere durch 1a veranschaulicht wird. Dazu sind die Membranelemente 111, 112, 113, 114 jeweils einseitig mit einem Säulenelement 13 verbunden, das in der Mitte der Öffnung 12 angeordnet ist und über eine Balkenstruktur 14 auf der Bauelementrückseite an den Schichtaufbau des Bauelements 10 angebunden ist. Die mittige Anordnung des Säulenelements 13 sowie die rückseitige Balkenstruktur 14 werden durch 1b veranschaulicht. Das Säulenelement 13 hat einen quadratischen Querschnitt. Die einzelnen Membranelemente 111, 112, 113, 114 ragen paddelartig von den vier Seiten des Säulenelements 13 ab und erstrecken sich jeweils bis zum gegenüberliegenden Rand der Öffnung 12. Im Randbereich der Öffnung 12 ist eine umlaufende Nut 15 ausgebildet, in die die freien Enden der Membranelemente 111, 112, 113, 114 hineinragen. Die Wandung der Nut bildet einen Anschlag für die Membranelemente 111, 112, 113, 114 und begrenzt so deren Auslenkung nach Art eines Überlastschutzes, was insbesondere durch 1c veranschaulicht wird.
  • Erfindungsgemäß wird die Auslenkungen der Membranelemente 111, 112, 113, 114 jeweils mit Hilfe mindestens eines piezosensitiven Schaltungselements erfasst. Diese sind im Schichtaufbau der Membranstruktur realisiert und jeweils im Bereich der Anbindung des Membranelements 111, 112, 113, 114 an das Säulenelement 13 angeordnet. Zwar sind die piezosensitiven Schaltungselemente hier nicht im Einzelnen dargestellt, dafür aber deren elektrische Anbindung, die in Form von Durchkontakten 17 innerhalb des Säulenelements 13 und Leiterbahnen 18 realisiert ist, die zu Anschlusspads 1 auf der Bauelementrückseite geführt sind.
  • Wie bereits erwähnt, besteht die Membranstruktur 11 im hier beschriebenen Ausführungsbeispiel 10 aus vier paddelartigen Membranelementen 111, 112, 113, 114, die gemeinsam eine Öffnung 12 in der Bauelementrückseite überspannen. Der Druckausgleich zwischen den beiden Seiten der Membranstruktur 11 findet zum einen über die Schlitze 19 zwischen den Membranelementen 111, 112, 113, 114 statt und zum anderen über die umlaufende Nut 15. Über die Öffnungsfläche der Schlitze 19 und der Nut 15 können der akustische Verlustwiderstand der Mikrofonstruktur und damit die Mikrofonempfindlichkeit gezielt beeinflusst werden.
  • Auch bei dem in den 2a bis 2d dargestellten zweiten Ausführungsbeispiel 20 eines erfindungsgemäßen MEMS-Bauelements ist die Bauelementstruktur in einem Schichtaufbau auf einem Halbleitersubstrat realisiert. Die schalldruckempfindliche Membranstruktur 21 umfasst ebenfalls vier trapezförmige Membranelemente 211, 212, 213, 214, die jeweils einseitig mit einem mittig angeordneten Säulenelement 23 verbunden sind. Dieses Säulenelement 23 hat ebenfalls einen quadratischen Querschnitt und jedes der Membranelemente 211, 212, 213, 214 ragt paddelartig von einer Seite des Säulenelements 23 ab. Im Unterschied zum MEMS-Bauelement 10 besteht die rückseitige Öffnung hier aber aus vier Teilöffnungen 221, 222, 223, 224, die durch Stege 29 voneinander getrennt sind. Jedes Membranelement 211, 212, 213, 214 überspannt eine dieser Teilöffnungen 221, 222, 223, 224, so dass es sich seitlich bis über die Stege 29 erstreckt und mit seinem freien Ende in eine Nut 25 im äußeren Randbereich der entsprechenden Teilöffnung 221, 222, 223 bzw. 224 ragt. Dies wird insbesondere durch die 2a und 2c veranschaulicht. Die Wandung dieser 25 Nut bildet einen Anschlag und Überlastschutz für das jeweilige Membranelemente 211, 212, 213, 214. 2d verdeutlicht, dass die Stege 29 zwischen den Teilöffnungen 221, 222, 223, 224 im Wesentlichen in der gesamten Dicke des Schichtaufbaus ausgebildet sind.
  • Auch im Fall des MEMS-Bauelements 20 werden die Auslenkungen der Membranelemente 211, 212, 213, 214 mit Hilfe von piezosensitiven Schaltungselementen erfasst, die im Schichtaufbau der Membranstruktur realisiert sind und jeweils im Bereich der Anbindung an das Säulenelement 23 angeordnet sind. 2d zeigt, dass die elektrische Anbindung dieser Schaltungselemente über Leiterbahnen 28 auf den Stegen 29 erfolgt, die zu Anschlusspads 2 auf der Bauelementoberfläche geführt sind.
  • Die 3a bis 3c verdeutlichen, dass sich im Rahmen des erfindungsgemäßen Bauelementkonzepts ganz unterschiedliche Membranformen realisieren lassen und dass auch die Position der mittigen Membranaufhängung variiert werden kann.
  • So zeigt 3a ein kreisrundes geschlossenes Membranelement 33 das über ein zentral-mittig angeordnetes zylindrisches Säulenelement 33 an die Bauelementstruktur angebunden ist und eine rückseitige Öffnung 32 mit kreisrunder Öffnungsfläche überspannt, wobei der freie äußere Rand des Membranelements 33 den Öffnungsrand überlappt.
  • Bei der in 3b dargestellten Variante ist im Schichtaufbau des Bauelements eine Öffnung 42 mit hexagonaler Öffnungsfläche ausgebildet. Zentral-mittig ist ein Säulenelement 43 mit hexagonalem Querschnitt angeordnet. An jeder Seite dieses Säulenelements 43 ist ein trapezförmiges Membranelement 41 angebunden, das sich paddelartig bis zum Öffnungsrand erstreckt, so dass die sechs durch Schlitze 44 getrennten Membranelemente 41 zusammen die hexagonale Öffnungsfläche überspannen.
  • Die in 3c dargestellte Variante entspricht in der Membranform und rückseitiger Öffnung 52 der in 3a dargestellten Ausführungsform. Im Unterschied zu dieser ist das mittige Säulenelement 53 hier allerdings exzentrisch angeordnet. Dadurch können die mechanischen Spannungen in einzelnen Bereichen des kreisrunden geschlossenen Membranelements 51 bei gegebener Schalldruckbelastung weiter erhöht werden. Die asymmetrische Anordnung des Säulenelements 53 als Membranaufhängung/anbindung erzeugt nämlich eine Asymmetrie in den Moden der Membranstruktur. Da die druckbedingte Deformation der Membranstruktur der Form der ersten Eigenmode entspricht, kann das Bauelement durch eine geeignete Kombination von Größe und Position des Anbindungsbereichs, d.h. des Säulenelements 53, im Hinblick auf Empfindlichkeit, Bandbreite und Eingangskapazität des Auswerte-ASIC optimiert werden.
  • Die 4a bis 4c veranschaulichen unterschiedliche Ausführungsformen eines Überlastschutzes für das Membranelement eines erfindungsgemäßen MEMS-Bauelements und Maßnahmen zur gezielten Beeinflussung des akustischen Verlustwiderstandes der Mikrofonstruktur.
  • Im Fall des in 4a dargestellten MEMS-Bauelements 60 ragt der freie Randbereich des mittig an einem Säulenelement 63 verankerten Membranelements 61 in eine umlaufende Nut 65 in der Wandung einer Öffnung 62 in der Bauelementrückseite. Die Nut 65 hat eine T-förmige Querschnittsfläche und verjüngt sich auf der dem Membranelement 61 zugewandten Seite.
  • 4b zeigt eine Weiterbildung der in 4a dargestellten Ausführungsform. Im Unterschied zu dem ebenen Membranrand des MEMS-Bauelements 60 schließt der Membranrand im Fall des MEMS-Bauelements 70 mit einem Steg 74 ab, der von beiden Oberflächen des Membranelements 71 abragt. Durch diesen Steg 74 wird der Strömungspfad innerhalb der Nut 75 zwischen den beiden Seiten des Membranelements 71 verlängert, wodurch sich der akustische Verlustwiderstand der Mikrofonstruktur vergrößert.
  • Besonders groß ist der akustische Verlustwiderstand im Fall des in 4c dargestellten MEMS-Bauelements 80. Der äußere Rand des mittig verankerten Membranelements 81 ragt auch hier in eine umlaufende Nut 85 in der Wandung der rückseitigen Öffnung 82. Zusätzlich ist er über eine mehr oder weniger geschlossene Federstruktur 86 mit der Öffnungswandung verbunden. Diese Federstruktur 86 ist so ausgelegt, dass sie die Auslenkungen des Membranelements 81 bei normaler Schalldruckbelastung nicht behindert, jedoch eine Beschädigung des Membranelements 81 in Überlastsituationen verhindert. Der akustische Verlustwiderstand kann hier durch die Anzahl, Anordnung und Größe von Durchgangsöffnungen in der Federstruktur 86 gezielt beeinflusst werden.
  • Abschließend sei in Verbindung mit den 4a bis 4c noch angemerkt, dass auch Ausführungsformen der Erfindung denkbar sind, bei denen nur Teilbereiche des Membranrandes bis in eine Nut in der Öffnungswandung hineinragen und/oder über eine Federstruktur an die Öffnungswandung angebunden sind.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • WO 2008/103672 A2 [0002]
    • US 2014/0084395 A1 [0004, 0006]

Claims (10)

  1. MEMS-Bauelement (10), in dessen Schichtaufbau mindestens ein schalldruckempfindliches Membranelement (111, 112, 113, 114) ausgebildet ist, das eine Öffnung (12) im Schichtaufbau überspannt, wobei das Membranelement (111, 112, 113, 114) über mindestens ein Säulenelement (13) im Mittelbereich der Öffnung (12) an den Schichtaufbau des Bauelements (10) angebunden ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Auslenkungen des Membranelements (111, 112, 113, 114) mit Hilfe mindestens eines piezosensitiven Schaltungselements erfasst werden, das im Schichtaufbau des Membranelements (111, 112, 113, 114) realisiert ist und im Bereich der Anbindung des Membranelements (111, 112, 113, 114) an das Säulenelement (13) angeordnet ist.
  2. MEMS-Bauelement (10) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Säulenelement (13) im Wesentlichen zentrisch oder exzentrisch in der Öffnung (12) und bezüglich der Membranfläche angeordnet ist.
  3. MEMS-Bauelement nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass sich das Membranelement (31) allseitig zumindest bis an den Rand der Öffnung (32) im Schichtaufbau erstreckt.
  4. MEMS-Bauelement (10) nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere paddelartige Membranelemente (111, 112, 113, 114) vorgesehen sind, die jeweils an einem Ende mit dem Säulenelement (13) verbunden sind und sich von dort zumindest bis an den Rand der Öffnung (12) im Schichtaufbau erstrecken.
  5. MEMS-Bauelement (20) nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Öffnung mehrere Teilöffnungen (221, 222, 223, 224) umfasst, die jeweils von einem paddelartigen Membranelement (211, 212, 213, 214) überspannt werden.
  6. MEMS-Bauelement (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass ein umlaufender Spalt zwischen dem mindestens einen Membranelement (111, 112, 113, 114) und dem Rand der Öffnung (12) im Schichtaufbau besteht.
  7. MEMS-Bauelement (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass im Randbereich der Öffnung (12) ein Überlastschutz für das mindestens eine Membranelement (111, 112, 113, 114) ausgebildet ist, der mit dem äußeren Rand des mindestens einen Membranelements (111, 112, 113, 114) zusammenwirkt.
  8. MEMS-Bauelement (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass im Randbereich der Öffnung (12) eine Nut (15) ausgebildet ist, in die der äußere Rand des Membranelements (111, 112, 113, 114) hineinragt.
  9. MEMS-Bauelement (80) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass der äußere Rand des mindestens einen Membranelements (81) über eine Federstruktur (86) mit der Wandung der Öffnung (82) im Schichtaufbau verbunden ist.
  10. MEMS-Bauelement (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrische Kontaktierung des piezosensitiven Schaltungselements über mindestens einen Durchkontakt (17) im Säulenelement (13) erfolgt.
DE102015213771.6A 2015-07-22 2015-07-22 MEMS-Bauelement mit schalldruckempfindlichem Membranelement Pending DE102015213771A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015213771.6A DE102015213771A1 (de) 2015-07-22 2015-07-22 MEMS-Bauelement mit schalldruckempfindlichem Membranelement
US15/212,334 US9914636B2 (en) 2015-07-22 2016-07-18 MEMS component including a sound-pressure-sensitive diaphragm element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015213771.6A DE102015213771A1 (de) 2015-07-22 2015-07-22 MEMS-Bauelement mit schalldruckempfindlichem Membranelement

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102015213771A1 true DE102015213771A1 (de) 2017-01-26

Family

ID=57739061

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102015213771.6A Pending DE102015213771A1 (de) 2015-07-22 2015-07-22 MEMS-Bauelement mit schalldruckempfindlichem Membranelement

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9914636B2 (de)
DE (1) DE102015213771A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016212717A1 (de) * 2016-07-13 2018-01-18 Robert Bosch Gmbh Detektionseinrichtung für piezoelektrisches Mikrofon
WO2018215669A3 (de) * 2017-05-26 2019-01-24 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Mikromechanischer schallwandler

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10715924B2 (en) * 2018-06-25 2020-07-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. MEMS microphone having diaphragm
CN111294715B (zh) * 2020-03-02 2021-05-04 瑞声声学科技(深圳)有限公司 压电mems麦克风
CN111328005B (zh) * 2020-03-10 2021-09-10 瑞声声学科技(深圳)有限公司 压电式mems麦克风
CN112601169B (zh) * 2020-12-15 2021-09-24 武汉大学 一种宽频带高灵敏度谐振式压电mems麦克风

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008103672A2 (en) 2007-02-20 2008-08-28 Case Western Reserve University Microfabricated microphone
US20140084395A1 (en) 2012-09-25 2014-03-27 Andrew Sparks Mems microphone

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4641217B2 (ja) * 2005-06-08 2011-03-02 株式会社豊田中央研究所 マイクロホンとその製造方法
US20080123876A1 (en) * 2006-10-16 2008-05-29 Yamaha Corporation Electrostatic pressure transducer and manufacturing method therefor
US8396228B2 (en) * 2008-02-27 2013-03-12 Stethoscope Technologies, Inc. Floating ballast mass active stethoscope or sound pickup device
DE102012212112A1 (de) * 2012-07-11 2014-01-30 Robert Bosch Gmbh Bauelement mit einer mikromechanischen Mikrofonstruktur

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008103672A2 (en) 2007-02-20 2008-08-28 Case Western Reserve University Microfabricated microphone
US20140084395A1 (en) 2012-09-25 2014-03-27 Andrew Sparks Mems microphone

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016212717A1 (de) * 2016-07-13 2018-01-18 Robert Bosch Gmbh Detektionseinrichtung für piezoelektrisches Mikrofon
WO2018215669A3 (de) * 2017-05-26 2019-01-24 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Mikromechanischer schallwandler
JP2020522178A (ja) * 2017-05-26 2020-07-27 フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ マイクロメカニカル音響変換器
US11350217B2 (en) 2017-05-26 2022-05-31 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Micromechanical sound transducer
JP7303121B2 (ja) 2017-05-26 2023-07-04 フラウンホッファー-ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ マイクロメカニカル音響変換器
EP4247005A3 (de) * 2017-05-26 2023-12-06 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Mikromechanischer schallwandler

Also Published As

Publication number Publication date
US20170022046A1 (en) 2017-01-26
US9914636B2 (en) 2018-03-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102015213771A1 (de) MEMS-Bauelement mit schalldruckempfindlichem Membranelement
DE102015213774A1 (de) MEMS-Bauelement mit schalldruckempfindlichem Membranelement und piezosensitiver Signalerfassung
DE102012218501A1 (de) Bauelement mit einer mikromechanischen Mikrofonstruktur
DE102012212112A1 (de) Bauelement mit einer mikromechanischen Mikrofonstruktur
DE102013211943B4 (de) MEMS-Struktur mit einstellbaren Ventilationsöffnungen
DE4000903C1 (de)
EP2953890B1 (de) Mikromechanisches bauelement mit einer membranstruktur
DE102012208032B4 (de) Hybrid integriertes Bauteil mit MEMS-Bauelement und ASIC-Bauelement
DE102017121705B3 (de) MEMS-Mikrofon
DE19930779B4 (de) Mikromechanisches Bauelement
DE102012107457B4 (de) MEMS-Bauelement mit Membran und Verfahren zur Herstellung
DE102012207939A1 (de) Federnder Anschlag für Beschleunigungssensor
WO2013011114A2 (de) Bauelement mit einer mikromechanischen mikrofonstruktur
EP2163121B1 (de) Akustisches sensorelement
DE102012210052A1 (de) Hybrid integriertes Bauteil und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102017103120A1 (de) Drucksensorchip und Drucksensor
EP2435786A1 (de) Mikromechanische struktur
DE102012220006A1 (de) Bauelement mit einer mikromechanischen Mikrofonstruktur
DE102016210479A1 (de) Mikromechanisches Bauteil für eine Drucksensorvorrichtung
DE102012223605A1 (de) MEMS-Bauelement zum Erzeugen von Druckpulsen
AT520304B1 (de) Drucksensor
DE102012215251A1 (de) MEMS-Bauelement
EP3001167B1 (de) Sensoranordnung und verfahren zur herstellung einer sensoranordnung
DE102004023063A1 (de) Mikromechanische piezoresistive Drucksensorenvorrichtung
DE102010027346A1 (de) Sensoranordnung

Legal Events

Date Code Title Description
R083 Amendment of/additions to inventor(s)
R012 Request for examination validly filed