DE102014214753A1 - Drucksensor und Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors - Google Patents

Drucksensor und Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors Download PDF

Info

Publication number
DE102014214753A1
DE102014214753A1 DE102014214753.0A DE102014214753A DE102014214753A1 DE 102014214753 A1 DE102014214753 A1 DE 102014214753A1 DE 102014214753 A DE102014214753 A DE 102014214753A DE 102014214753 A1 DE102014214753 A1 DE 102014214753A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
circuit board
membrane
printed circuit
flexible printed
pressure sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102014214753.0A
Other languages
English (en)
Inventor
Ruben Wahl
Andreas Kugler
Georg Eifler
Patrik Patzner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
Priority to DE102014214753.0A priority Critical patent/DE102014214753A1/de
Priority to PCT/EP2015/066513 priority patent/WO2016016026A1/de
Publication of DE102014214753A1 publication Critical patent/DE102014214753A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0051Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance
    • G01L9/0052Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements
    • G01L9/0055Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements bonded on a diaphragm
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/0061Electrical connection means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft einen Drucksensor (10) mit einer Membran (12), die einem zu messenden Medium ausgesetzt ist und aus deren Auslenkung mittels eines piezoresistiven Sensorelements (14a; 14b; 14c) ein dem gemessenen Druck (P) proportionales elektrisches Signal (S) erzeugbar ist, und mit einer flexiblen Leiterplatte (16), welche das piezoresistive Sensorelement (14a; 14b; 14c) elektrisch und mechanisch kontaktiert. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein entsprechendes Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors (10).

Description

  • Die Erfindung betrifft einen Drucksensor und ein Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors.
  • Stand der Technik
  • Aktuell werden zum Messen von Drücken zwei Arten von Sensoren eingesetzt und gefertigt. Zum einen werden auf Stahlmembranen elektrische Strukturen aufgeätzt. Die Stahlmembran ist hierbei unter Druckeinwirkung auslenkbar. Die elektrischen Strukturen weisen Piezowiderstände auf, die zusammen mit der Stahlmembran gedehnt bzw. gestaucht werden. Diese Deformationen bewirken eine Veränderung des Widerstandswerts der Piezowiderstände, sodass der auf die Membran wirkende Druck bei geeigneter Verschaltung der Piezowiderstände, beispielsweise in einer Wheatstone-Brücke in Form eines proportionalen elektrischen Ausgangssignals erfasst werden kann. Zum zweiten werden Siliziumchips verwendet, bei denen sich durch das Anlegen eines Druckes eine dünne Siliziummembran verbiegt, auf deren Rückseite sich eine in Halbleitertechnologie aufgebaute elektrische Schaltung befindet. Beide Methoden haben ihre Einsatzbereiche stark abgegrenzt. Stahlmembranen werden für Hochdrucksysteme eingesetzt. Dort wird durch die hohen Drücke eine ausreichende Deformation der Membran erzeugt, die mit der elektrischen Struktur an der Oberfläche messbar ist. Siliziumchips als Drucksensoren kommen bei Niedrig- bis Mitteldruckanwendungen zum Einsatz.
  • Die DE 10 2009 044 980 A1 offenbart ein Sensorbauelement umfassend einen Verformungskörper und eine piezoresistive Sensorschicht, welche auf den Verformungskörper aufgebracht ist, wobei die piezoresistive Sensorschicht mindestens ein Metall sowie Kohlenstoff und/oder Kohlenwasserstoff umfasst.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung schafft einen Drucksensor mit einer Membran, die einem zu messenden Medium ausgesetzt ist und aus deren Auslenkung mittels eines piezoresistiven Sensorelements ein dem gemessenen Druck proportionales elektrisches Signal erzeugbar ist, und mit einer flexiblen Leiterplatte, welche das piezoresistive Sensorelement elektrisch und mechanisch kontaktiert.
  • Die vorliegende Erfindung schafft des Weiteren ein Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors. Das Verfahren umfasst ein Vorsehen einer Membran, die einem zu messenden Medium ausgesetzt ist. Das Verfahren umfasst des Weiteren ein Vorsehen eines piezoresistiven Sensorelements, durch welches ein, aus einer Auslenkung der Membran einem gemessenen Druck proportionales elektrisches Signal erzeugbar ist. Das Verfahren umfasst überdies ein Vorsehen einer flexiblen Leiterplatte, welche das piezoresistive Sensorelement elektrisch und mechanisch kontaktiert.
  • Eine Idee der vorliegenden Erfindung ist es, den Drucksensor derart zu gestalten, dass dieser einen Nieder-, Mittel-, und Hochdruckbereich abdeckt und dabei eine ausreichende Empfindlichkeit des Drucksensors gegeben ist. Durch das Vorsehen der flexiblen Leiterplatte, welche das piezoresistive Sensorelement elektrisch und mechanisch kontaktiert, ist es möglich, unterschiedliche Druckbereiche mit einer immer gleichen Detektion, Kontaktierung und Anbindung abzudecken.
  • Vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen ergeben sich aus den Unteransprüchen sowie aus der Beschreibung unter Bezugnahme auf die Figuren.
  • Vorzugsweise ist vorgesehen, dass das piezoresistive Sensorelement durch einen biegungsempfindlichen Halbleiterchip oder eine aus einem Halbleitermaterial ausgebildete Dünnfilm-Messstruktur ausgebildet ist. Somit kann eine hohe Messgenauigkeit erreicht werden. Des Weiteren kann durch die Reduzierung der Fügestellen auch die Zuverlässigkeit des Drucksensors erhöht werden.
  • Vorzugsweise ist ferner vorgesehen, dass das piezoresistive Sensorelement in der flexiblen Leiterplatte eingebettet, auf der flexiblen Leiterplatte oder auf der Membran angeordnet ist. Das piezoresistive Sensorelement kann somit nach individuellen Anforderungen ausgewählt werden.
  • Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist vorgesehen, dass die Dünnfilm-Messstruktur durch ein photolithographisches Verfahren auf die flexible Leiterplatte aufgebracht, oder auf die Membran aufgedruckt ist. Die aufgebrachte Struktur ermöglicht es somit durch die Auslenkung der Membran induzierte Widerstandsänderungen im mOhm Bereich sicher und zuverlässig zu detektieren.
  • Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass die Dünnfilm-Messstruktur mit elektrisch leitenden Tinten, die Gold- oder Silberpartikel aufweisen, auf die Membran aufgedruckt ist. Somit kann eine genaue und zuverlässige Druckmessung realisiert werden.
  • Vorzugsweise ist ferner vorgesehen, dass die flexible Leiterplatte einen zur Membran benachbart angeordneten, flexibel ausgebildeten ersten Bereich, in welchem die flexible Leiterplatte mit der Membran stoffschlüssig verbunden ist, einen im Wesentlichen starr ausgebildeten zweiten Bereich, in welchem eine Auswerteschaltung zum Auswerten des von dem piezoresistiven Sensorelement erzeugbaren elektrischen Signals angeordnet ist, und einen flexibel ausgebildeten Verbindungsbereich aufweist, welcher zwischen dem ersten und zweiten Bereich angeordnet ist. Durch die flexible Ausbildung des ersten, benachbart zur Membran angeordneten Bereichs ist dieser Bereich bei dem Auslenken der Membran ebenfalls bewegbar. Die starre Ausbildung des zweiten Bereichs ermöglicht die Anordnung der Auswerteschaltung in diesem Bereich. Das flexible Ausbilden des Verbindungsbereichs zwischen dem ersten und zweiten Bereich ermöglicht eine platzsparende Ausbildung des Drucksensors, wobei die flexible Leiterplatte zumindest in dem Verbindungsbereich faltbar ausgebildet ist.
  • Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass die Auswerteschaltung zumindest eine, in der flexiblen Leiterplatte eingebettete anwendungsspezifische integrierte Schaltung, und zumindest ein auf einer Oberfläche der flexiblen Leiterplatte oder außerhalb der flexiblen Leiterplatte angeordnetes passives oder aktives Bauelement aufweist. Die Auswerteschaltung kann somit platzsparend im Drucksensor angeordnet werden.
  • Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist vorgesehen, dass eine Dicke der flexiblen Leiterplatte kleiner oder gleich 100 Mikrometer, vorzugsweise zwischen 30 und 100 Mikrometer beträgt, und dass eine Dicke des biegungsempfindlichen Halbleiterchips kleiner oder gleich 50 Mikrometer, vorzugsweise zwischen 10 und 20 Mikrometer beträgt, wobei eine Leiterbahnbreite kleiner oder gleich 20 Mikrometer und eine Leiterbahndicke kleiner oder gleich 5 Mikrometer, vorzugsweise 1 Mikrometer beträgt. Dadurch kann eine ausreichende Flexibilität der flexiblen Leiterplatte, insbesondere im Bereich des piezoresistiven Sensorelements, sowie eine im Wesentlichen dünne Ausbildung des biegungsempfindlichen Halbleiterchips mit einer hohen Messgenauigkeit gewährleistet werden.
  • Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist vorgesehen, dass eine elektrische Kontaktierung der flexiblen Leiterplatte mit einer Leistungsversorgung durch mit der flexiblen Leiterplatte verbindbare Durchsteckpins ausgebildet ist. Dadurch kann die flexible Leiterplatte durch ihre Flexibilität an eine Bauform des Drucksensors angepasst werden und dennoch eine einfache und zuverlässige Kontaktierung der flexiblen Leiterplatte mit der Leistungsversorgung vorgesehen werden.
  • Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass ein Messbereich des piezoresistiven Sensorelements zwischen 0,1 und 2200 bar beträgt. Der Drucksensor kann somit einen Nieder-, Mittel- und Hochdruckbereich genau und zuverlässig abdecken.
  • Vorzugsweise ist ferner vorgesehen, dass das piezoresistive Sensorelement durch einen biegungsempfindlichen Halbleiterchip oder durch eine Dünnfilm-Messstruktur ausgebildet wird, wobei das piezoresistive Sensorelement in die flexible Leiterplatte eingebettet, auf die flexible Leiterplatte aufgebracht oder auf die Membran aufgebracht wird. Somit kann eine hohe Messgenauigkeit erreicht werden. Des Weiteren kann durch die Reduzierung der Fügestellen auch die Zuverlässigkeit des Drucksensors erhöht werden. Ferner kann das piezoresistive Sensorelement somit auch nach individuellen Anforderungen ausgewählt werden.
  • Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist vorgesehen, dass eine Auswerteschaltung zum Auswerten des von dem piezoresistiven Sensorelement erzeugbaren elektrischen Signals in die flexible Leiterplatte eingebettet wird. Die starre Ausbildung des zweiten Bereichs ermöglicht die Anordnung der Auswerteschaltung in diesem Bereich. Die Auswerteschaltung kann somit platzsparend im Drucksensor angeordnet werden.
  • Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass die Dünnfilm-Messstruktur auf die flexible Leiterplatte durch ein photolithographisches Verfahren aufgebracht oder auf die Membran aufgedruckt wird. Die aufgebrachte Struktur ermöglicht es somit durch die Auslenkung der Membran induzierte Widerstandsänderungen im mOhm Bereich sicher und zuverlässig zu detektieren.
  • Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist vorgesehen, dass die Dünnfilm-Messstruktur durch ein Druckverfahren mit elektrisch leitenden Tinten, die Gold- oder Silberpartikel aufweisen, auf die Membran aufgedruckt wird. Somit kann eine genaue und zuverlässige Druckmessung realisiert werden.
  • Die beschriebenen Ausgestaltungen und Weiterbildungen lassen sich beliebig miteinander kombinieren.
  • Weitere mögliche Ausgestaltungen, Weiterbildungen und Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmale der Erfindung.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Die beiliegenden Zeichnungen sollen ein weiteres Verständnis der Ausführungsformen der Erfindung vermitteln. Sie veranschaulichen Ausführungsformen und dienen im Zusammenhang mit der Beschreibung der Erklärung von Prinzipien und Konzepten der Erfindung.
  • Andere Ausführungsformen und viele der genannten Vorteile ergeben sich im Hinblick auf die Zeichnungen. Die dargestellten Elemente der Zeichnungen sind nicht notwendigerweise maßstabsgetreu zueinander gezeigt.
  • Es zeigen:
  • 1 eine Schnittansicht eines erfindungsgemäßen Drucksensors gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung;
  • 2 eine Schnittansicht des erfindungsgemäßen Drucksensors gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung;
  • 3 eine Schnittansicht des Drucksensors gemäß einer dritten Ausführungsform der Erfindung; und
  • 4 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen eines Drucksensors gemäß der ersten bis dritten Ausführungsform der Erfindung.
  • In den Figuren der Zeichnungen bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche oder funktionsgleiche Elemente, Bauteile oder Komponenten, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.
  • 1 zeigt eine Schnittansicht eines erfindungsgemäßen Drucksensors gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung.
  • Der Drucksensor 10 weist eine Membran 12 auf, die vorzugsweise aus Stahl ausgebildet ist. Alternativ kann die Membran 12 auch aus einem anderen geeigneten Material ausgebildet sein. Die Membran 12 ist mit einem Stahlsockel 13 aus einem Stück ausgebildet. In dem Stahlsockel 13 ist ein Kanal ausgebildet, durch welchen die Membran 12 mit einem Druck P eines zu messenden Mediums beaufschlagbar ist.
  • Der Drucksensor 10 weist des Weiteren ein piezoresistives Sensorelement 14a und eine flexible Leiterplatte 16 auf. Das piezoresistive Sensorelement 14a ist in der vorliegenden ersten Ausführungsform durch einen biegungsempfindlichen Halbleiterchip 14a ausgebildet. Der biegungsempfindliche Halbleiterchip 14a ist vorzugsweise in der flexiblen Leiterplatte 16 eingebettet, und dazu ausgebildet, aus der Auslenkung der Membran 12 ein dem gemessenen Druck P proportionales elektrisches Signal S zu erzeugen. Die flexible Leiterplatte 16 kontaktiert den biegungsempfindlichen Halbleiterchip elektrisch und mechanisch. Die flexible Leiterplatte 16 ist vorzugsweise durch eine Klebstoffschicht mit der Membran 12 verbunden. Alternativ kann die flexible Leiterplatte 16 auch durch ein anderes geeignetes Verbindungsmittel mit der Membran 12 verbunden sein.
  • Die flexible Leiterplatte 16 weist einen zur Membran 12 benachbart angeordneten, flexibel ausgebildeten ersten Bereich 16a auf, in welchem die flexible Leiterplatte 16 mit der Membran 12 stoffschlüssig verbunden ist.
  • Die flexible Leiterplatte 16 weist des Weiteren einen im Wesentlichen starr ausgebildeten zweiten Bereich 16b auf, in welchem eine Auswerteschaltung 18 zum Auswerten des von dem biegungsempfindlichen Halbleiterchip 14a erzeugbaren elektrischen Signals S angeordnet ist. Die flexible Leiterplatte 16 weist überdies einen flexibel ausgebildeten Verbindungsbereich 16c auf, welcher zwischen dem ersten und zweiten Bereich 16a, 16b angeordnet ist.
  • Die Auswerteschaltung 18 weist eine in der flexiblen Leiterplatte 16 eingebettete anwendungsspezifische integrierte Schaltung 18a und ein auf einer Oberfläche der flexiblen Leiterplatte 16 angeordnetes passives Bauelement 18b auf. Die anwendungsspezifische integrierte Schaltung 18a kann alternativ auch auf einer Oberfläche der flexiblen Leiterplatte 16 angeordnet sein. Das Bauelement 18b kann alternativ auch außerhalb der flexiblen Leiterplatte 16 angeordnet und/oder durch ein aktives Bauelement ausgebildet sein.
  • Eine elektrische Kontaktierung der flexiblen Leiterplatte 16 mit einer Leistungsversorgung 20 ist vorzugsweise durch mit der flexiblen Leiterplatte 16 verbindbare Durchsteckpins 22 ausgebildet. Alternativ kann die elektrische Kontaktierung der flexiblen Leiterplatte 16 auch durch andere geeignete elektrische Kontaktierungsmittel ausgebildet sein.
  • Eine Dicke der flexiblen Leiterplatte 16 beträgt vorzugsweise 100 Mikrometer. Alternativ kann die Dicke der flexiblen Leiterplatte auch geringer als 100 Mikrometer, insbesondere vorzugsweise zwischen 30 und 100 Mikrometer, betragen. Eine Dicke des biegungsempfindlichen Halbleiterchips 14a beträgt vorzugsweise 50 Mikrometer. Alternativ kann die Dicke des biegungsempfindlichen Halbleiterchips 14a auch geringer als 50 Mikrometer, insbesondere vorzugsweise zwischen 10 und 20 Mikrometer, betragen. Eine Leiterbahnbreite des biegungsempfindlichen Halbleiterchips 14a beträgt vorzugsweise 20 Mikrometer. Alternativ kann die Leiterbahnbreite auch geringer als 20 Mikrometer betragen. Eine Leiterbahndicke des biegungsempfindlichen Halbleiterchips 14a beträgt vorzugsweise 5 Mikrometer. Alternativ kann die Leiterbahndicke auch kleiner als 5 Mikrometer, vorzugsweise 1 Mikrometer betragen. Ein Messbereich des biegungsempfindlichen Halbleiterchips 14a beträgt vorzugsweise zwischen 0,1 und 2200 bar.
  • 2 zeigt eine Schnittansicht des erfindungsgemäßen Drucksensors gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung.
  • Ein piezoresistives Sensorelement 14b ist in der vorliegenden zweiten Ausführungsform durch eine aus einem Halbleitermaterial ausgebildete Dünnfilm-Messstruktur 14b ausgebildet. Die Dünnfilm-Messstruktur 14b ist vorzugsweise auf der flexiblen Leiterplatte 16 angeordnet. Die Dünnfilm-Messstruktur 14b ist ferner vorzugsweise durch ein photolithographisches Verfahren auf die flexible Leiterplatte 16 aufgebracht. Alternativ kann die Dünnfilm-Messstruktur 14b auch durch ein anderes geeignetes Verfahren auf die flexible Leiterplatte 16 aufgebracht sein. Eine Leiterbahnbreite der Dünnfilm-Messstruktur 14b beträgt vorzugsweise 20 Mikrometer. Alternativ kann die Leiterbahnbreite auch geringer als 20 Mikrometer betragen. Eine Leiterbahndicke der Dünnfilm-Messstruktur 14b beträgt vorzugsweise 5 Mikrometer. Alternativ kann die Leiterbahndicke auch kleiner als 5 Mikrometer, vorzugsweise 1 Mikrometer betragen.
  • 3 zeigt eine Schnittansicht des Drucksensors gemäß einer dritten Ausführungsform der Erfindung.
  • Ein piezoresistives Sensorelement 14c ist gemäß der dritten Ausführungsform durch eine aus einem Halbleitermaterial ausgebildete Dünnfilm-Messstruktur 14c ausgebildet.
  • Die Dünnfilm-Messstruktur 14c ist vorzugsweise auf der Membran 12 angeordnet. Die Dünnfilm-Messstruktur 14c ist vorzugsweise auf die Membran 12 aufgedruckt. Vorzugsweise wird die Dünnfilm-Messstruktur 14c durch einen Aerosolstrahl mit elektrisch leitenden Tinten, die Gold- oder Silberpartikel aufweisen, auf die Membran 12 aufgedruckt. Alternativ kann die Dünnfilm-Messstruktur 14c auch durch ein anderes geeignetes Druckverfahren wie beispielsweise Tintenstrahldruck aufgedruckt werden.
  • Eine Leiterbahnbreite der Dünnfilm-Messstruktur 14c beträgt vorzugsweise 20 Mikrometer. Alternativ kann die Leiterbahnbreite auch geringer als 20 Mikrometer betragen. Eine Leiterbahndicke der Dünnfilm-Messstruktur 14c beträgt vorzugsweise 5 Mikrometer. Alternativ kann die Leiterbahndicke auch kleiner als 5 Mikrometer, vorzugsweise 1 Mikrometer betragen.
  • 4 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen eines Drucksensors gemäß der ersten bis dritten Ausführungsform der Erfindung.
  • Das Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors 10 umfasst in Schritt S1 ein Vorsehen einer Membran 12, die einem zu messenden Medium ausgesetzt ist. Das Verfahren umfasst des Weiteren in Schritt S2 ein Vorsehen eines piezoresistiven Sensorelements 14a; 14b; 14c, durch welches ein, aus einer Auslenkung der Membran 12 einem gemessenen Druck P proportionales elektrisches Signal S erzeugbar ist. Das Verfahren umfasst überdies in Schritt S3 ein Vorsehen einer flexiblen Leiterplatte 16, welche das piezoresistive Sensorelement 14a; 14b; 14c elektrisch und mechanisch kontaktiert.
  • Das Verfahren umfasst darüber hinaus, dass das piezoresistive Sensorelement 14a; 14b; 14c durch einen biegungsempfindlichen Halbleiterchip 14a oder durch eine aus einem Halbleitermaterial ausgebildete Dünnfilm-Messstruktur 14b; 14c ausgebildet wird, wobei das piezoresistive Sensorelement 14a; 14b; 14c in Schritt S4 in die flexible Leiterplatte 16 eingebettet, auf die flexible Leiterplatte 16 aufgebracht oder auf die Membran 12 aufgebracht wird.
  • Obwohl die vorliegende Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele vorstehend beschrieben wurde, ist sie nicht darauf beschränkt, sondern auf vielfältige Art und Weise modifizierbar. Insbesondere lässt sich die Erfindung in mannigfaltiger Weise verändern oder modifizieren, ohne vom Kern der Erfindung abzuweichen.
  • Beispielsweise können Material und Dicke der flexiblen Leiterplatte 16 sowie der Membran 12 an individuelle Anforderungen angepasst werden.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102009044980 A1 [0003]

Claims (15)

  1. Drucksensor (10) mit einer Membran (12), die einem zu messenden Medium ausgesetzt ist und aus deren Auslenkung mittels einem piezoresistiven Sensorelement (14a; 14b; 14c) ein dem gemessenen Druck (P) proportionales elektrisches Signal (S) erzeugbar ist, und mit einer flexiblen Leiterplatte (16), welche das piezoresistive Sensorelement (14a; 14b; 14c) elektrisch und mechanisch kontaktiert.
  2. Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das piezoresistive Sensorelement (14a; 14b; 14c) durch einen biegungsempfindlichen Halbleiterchip (14a) oder eine aus einem Halbleitermaterial ausgebildete Dünnfilm-Messstruktur (14b; 14c) ausgebildet ist.
  3. Drucksensor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das piezoresistive Sensorelement (14a; 14b; 14c) in der flexiblen Leiterplatte (16) eingebettet, auf der flexiblen Leiterplatte (16) oder auf der Membran (12) angeordnet ist.
  4. Drucksensor nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Dünnfilm-Messstruktur (14b; 14c) durch ein photolithographisches Verfahren auf die flexible Leiterplatte (16) aufgebracht, oder auf die Membran (12) aufgedruckt ist.
  5. Drucksensor nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Dünnfilm-Messstruktur (14c) mit elektrisch leitenden Tinten, die Gold- oder Silberpartikel aufweisen, auf die Membran (12) aufgedruckt ist.
  6. Drucksensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die flexible Leiterplatte (16) einen zur Membran (12) benachbart angeordneten, flexibel ausgebildeten ersten Bereich (16a), in welchem die flexible Leiterplatte (16) mit der Membran (12) stoffschlüssig verbunden ist, einen im Wesentlichen starr ausgebildeten zweiten Bereich (16b), in welchem eine Auswerteschaltung (18) zum Auswerten des von dem piezoresistiven Sensorelement (14a; 14b; 14c) erzeugbaren elektrischen Signals (S) angeordnet ist, und einen flexibel ausgebildeten Verbindungsbereich (16c) aufweist, welcher zwischen dem ersten und zweiten Bereich (16a, 16b) angeordnet ist.
  7. Drucksensor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Auswerteschaltung (18) zumindest eine, in der flexiblen Leiterplatte (16) eingebettete anwendungsspezifische integrierte Schaltung (18a), und zumindest ein auf einer Oberfläche der flexiblen Leiterplatte (16) oder außerhalb der flexiblen Leiterplatte (16) angeordnetes passives oder aktives Bauelement (18b) aufweist.
  8. Drucksensor nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass eine Dicke der flexiblen Leiterplatte (16) kleiner oder gleich 100 Mikrometer, vorzugsweise zwischen 30 und 100 Mikrometer beträgt, und dass eine Dicke des biegungsempfindlichen Halbleiterchips (14a) kleiner oder gleich 50 Mikrometer, vorzugsweise zwischen 10 und 20 Mikrometer beträgt, wobei eine Leiterbahnbreite kleiner oder gleich 20 Mikrometer und eine Leiterbahndicke kleiner oder gleich 5 Mikrometer, vorzugsweise 1 Mikrometer beträgt.
  9. Drucksensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine elektrische Kontaktierung der flexiblen Leiterplatte (16) mit einer Leistungsversorgung (20) durch mit der flexiblen Leiterplatte (16) verbindbare Durchsteckpins (22) ausgebildet ist.
  10. Drucksensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein Messbereich des piezoresistiven Sensorelements (14a; 14b; 14c) zwischen 0,1 und 2200 bar beträgt.
  11. Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors (10), mit den Schritten: Vorsehen (S1) einer Membran (12), die einem zu messenden Medium ausgesetzt ist; Vorsehen (S2) eines piezoresistiven Sensorelements (14a; 14b; 14c), durch welches ein, aus einer Auslenkung der Membran (12) einem gemessenen Druck (P) proportionales elektrisches Signal (S) erzeugbar ist; und Vorsehen (S3) einer flexiblen Leiterplatte (16), welche das piezoresistive Sensorelement (14a; 14b; 14c) elektrisch und mechanisch kontaktiert.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das piezoresistive Sensorelement (14a; 14b; 14c) durch einen biegungsempfindlichen Halbleiterchip (14a) oder durch eine aus einem Halbleitermaterial ausgebildete Dünnfilm-Messstruktur (14b; 14c) ausgebildet wird, wobei das piezoresistive Sensorelement (14a; 14b; 14c) in die flexible Leiterplatte (16) eingebettet, auf die flexible Leiterplatte (16) aufgebracht oder auf die Membran (12) aufgebracht wird (S4).
  13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass eine Auswerteschaltung (18) zum Auswerten des von dem piezoresistiven Sensorelement (14a; 14b; 14c) erzeugbaren elektrischen Signals (S) in die flexible Leiterplatte (16) eingebettet wird.
  14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Dünnfilm-Messstruktur (14b; 14c) auf die flexible Leiterplatte (16) durch ein photolithographisches Verfahren aufgebracht wird, oder auf die Membran (12) aufgedruckt wird.
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Dünnfilm-Messstruktur (14c) durch ein Druckverfahren mit elektrisch leitenden Tinten, die Gold- oder Silberpartikel aufweisen, auf die Membran (12) aufgedruckt wird.
DE102014214753.0A 2014-07-28 2014-07-28 Drucksensor und Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors Pending DE102014214753A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014214753.0A DE102014214753A1 (de) 2014-07-28 2014-07-28 Drucksensor und Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors
PCT/EP2015/066513 WO2016016026A1 (de) 2014-07-28 2015-07-20 Drucksensor und verfahren zum herstellen eines drucksensors

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014214753.0A DE102014214753A1 (de) 2014-07-28 2014-07-28 Drucksensor und Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102014214753A1 true DE102014214753A1 (de) 2016-01-28

Family

ID=53673099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102014214753.0A Pending DE102014214753A1 (de) 2014-07-28 2014-07-28 Drucksensor und Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102014214753A1 (de)
WO (1) WO2016016026A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111060251A (zh) * 2019-12-31 2020-04-24 苏州能斯达电子科技有限公司 一种柔性压力传感器自动检测标定装置及方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040237661A1 (en) * 2003-05-28 2004-12-02 Chien-Sheng Yang Semiconductor pressure sensor
DE102005024215A1 (de) * 2004-06-03 2005-12-22 Denso Corp., Kariya Drucksensor
DE102007003446A1 (de) * 2006-01-23 2007-08-02 Denso Corp., Kariya Montagestruktur eines Drucksensorelements
US20100057046A1 (en) * 2008-09-03 2010-03-04 Keimar, Inc Systems for characterizing physiologic parameters and methods for use therewith
DE102009044980A1 (de) 2009-09-24 2011-03-31 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Sensorbauelementes ohne Passivierung sowie Sensorbauelement
WO2011101170A1 (de) * 2010-02-22 2011-08-25 Andreas Jakob Verfahren und anordnung zum herstellen eines halbleitermoduls
DE102010011047A1 (de) * 2010-03-11 2011-09-15 Johnson Matthey Catalysts (Germany) Gmbh Biegewandler
DE102012024659A1 (de) * 2012-12-17 2014-06-18 Harald Kobolla Anordnung und Verfahren zur Information eines Patienten über eine Auftrittsbelastung

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3445894B2 (ja) * 1996-02-14 2003-09-08 長野計器株式会社 圧力変換器
JP2002310826A (ja) * 2001-02-08 2002-10-23 Tgk Co Ltd 圧力センサの調整方法
DE102007016475B4 (de) * 2007-04-05 2017-03-23 Robert Bosch Gmbh Anschlusseinheit für einen Drucksensor

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040237661A1 (en) * 2003-05-28 2004-12-02 Chien-Sheng Yang Semiconductor pressure sensor
DE102005024215A1 (de) * 2004-06-03 2005-12-22 Denso Corp., Kariya Drucksensor
DE102007003446A1 (de) * 2006-01-23 2007-08-02 Denso Corp., Kariya Montagestruktur eines Drucksensorelements
US20100057046A1 (en) * 2008-09-03 2010-03-04 Keimar, Inc Systems for characterizing physiologic parameters and methods for use therewith
DE102009044980A1 (de) 2009-09-24 2011-03-31 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Sensorbauelementes ohne Passivierung sowie Sensorbauelement
WO2011101170A1 (de) * 2010-02-22 2011-08-25 Andreas Jakob Verfahren und anordnung zum herstellen eines halbleitermoduls
DE102010011047A1 (de) * 2010-03-11 2011-09-15 Johnson Matthey Catalysts (Germany) Gmbh Biegewandler
DE102012024659A1 (de) * 2012-12-17 2014-06-18 Harald Kobolla Anordnung und Verfahren zur Information eines Patienten über eine Auftrittsbelastung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111060251A (zh) * 2019-12-31 2020-04-24 苏州能斯达电子科技有限公司 一种柔性压力传感器自动检测标定装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2016016026A1 (de) 2016-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AT511330B1 (de) Sensor für die messung von druck und/oder kraft
DE102007010913A1 (de) Drucksensor
DE102008040525A1 (de) Mikromechanisches Sensorelement, Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Sensorelements und Verfahren zum Betrieb eines mikromechanischen Sensorelements
EP2335039B1 (de) Sensoranordnung, verfahren zum betrieb einer sensoranordnung und verfahren zur herstellung einer sensoranordnung
EP2823274B1 (de) Mikromechanisches messelement
DE2503781A1 (de) Verfahren zur herstellung von druck-messwertwandlern in halbleiterbauweise
DE19601078C2 (de) Druckkraftsensor
DE102012205878A1 (de) Mikromechanischer Drucksensor
DE102018122522A1 (de) Drucksensor mit verbessertem Dehnungsmessstreifen
DE102011002884A1 (de) Elektronische Kraft- und/oder Druck- und/oder Temperaturmessschaltung
DE102014214753A1 (de) Drucksensor und Verfahren zum Herstellen eines Drucksensors
DE102004023063A1 (de) Mikromechanische piezoresistive Drucksensorenvorrichtung
DE102011106694A1 (de) Druckmessumformer
DE102014212261A1 (de) Drucksensor zur Erfassung eines Drucks eines fluiden Mediums in einem Messraum
DE102008043271A1 (de) Sensoranordnung zur Differenzdruckmessung
DE102009045158A1 (de) Sensoranordnung und Verfahren zur Herstellung einer Sensoranordnung
EP4048993A1 (de) Einrichtung zur bestimmung eines auf eine oberfläche oder eine wand eines in einem strömungskanal angeordneten körpers wirkenden drucks oder einer auf eine oberfläche oder eine wand eines in einem strömungskanal angeordneten körpers wirkenden zeitlichen druckveränderung
DE102008041937A1 (de) Drucksensoranordnung und Verfahren zur Herstellung einer Drucksensoranordnung
DE10120069B4 (de) Scheibenförmiges Siliziumsensorelement für einen Druckfühler sowie Druckfühler unter Verwendung eines derartigen Siliziumsensorelements
DE102011105539B4 (de) Vorrichtung zum Wandeln einer Kraft in ein elektrisches Signal, insbesondere piezoresistiver Kraftsensor
WO2016131582A1 (de) Hydraulischer drucksensor für ein fahrzeug
DE102019135606B3 (de) Halbleiterbasierter Differenzdrucksensor und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102007034691B4 (de) Differenzdrucksensor
DE102017208048B3 (de) Mikromechanischer Drucksensor
CH704818B1 (de) Messanordnung und Parallelfederanordnungen für die Sensortechnik.

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication