DE102014115847A1 - Halbleitermodul und Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 86
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 60
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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Abstract
Ein Aspekt der Erfindung betrifft ein Leistungshalbleitermodul. Dieses weist ein Modulgehäuse (6) auf, sowie einen Schaltungsträger (2) mit einem dielektrischen Isolationsträger (20) und mit einer oberen Metallisierungsschicht (21), die auf eine Oberseite (20t) des dielektrischen Isolationsträgers (20) aufgebracht ist. Auf dem Schaltungsträger (2) ist Halbleiterbauelement (1) angeordnet. Außerdem weist das Leistungshalbleitermodul einen elektrisch leitenden Anschlussblock (5) auf, der fest und elektrisch leitend mit dem Schaltungsträger (2) und/oder mit dem Halbleiterbauelement (1) verbunden ist und der ein Gewinde (50) aufweist, das von der Außenseite des Modulgehäuses (6) her zugänglich ist.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft einen Leistungshalbleitermodul und Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls.
- Leistungshalbleitermodule benötigen zu ihrer modulexternen elektrischen Kontaktierung elektrische Anschlüsse. Bei herkömmlichen Halbleitermodulen werden hierzu häufig Anschlussbleche verwendet, die einen Fußbereich aufweisen, an dem sie mit einem Schaltungsträger des Halbleitermoduls gelötet werden, sowie einen Anschlussbereich, der aus dem Modulgehäuse herausragt. Aufgrund der Wärmekapazität derartiger Anschlussbleche ist mit dem Löten der Fußbereiche eine starke thermische Belastung des Schaltungsträgers verbunden, was dazu führen kann, dass der Schaltungsträger und/oder ein elektrisches Bauelement, mit dem der Schaltungsträger vorbestückt ist, beschädigt oder zerstört werden kann.
- Ein weiteres Problem bei elektrischen Anschlüssen von Halbleitermodulen besteht in deren Induktivitäten. Wenn die elektrischen Anschlüsse beispielsweise dazu verwendet werden, einem in dem Halbleitermodul verbauten steuerbaren Halbleiterschalter (z.B. einem IGBT, einem MOSFET etc.) ein Steuersignal, z. B. eine Gateansteuerspannung, zuzuführen, so können aufgrund der Induktivität der elektrischen Anschlüsse Schaltfehler auftreten, die dazu führen, dass der steuerbare Halbleiterschalter verzögert oder verfrüht ein- oder ausschaltet.
- Anstelle von Anschlussblechen werden häufig auch einzelne Anschlusspins verwendet, die jeweils ein erstes Ende aufweisen, das im Inneren eines Modulgehäuses angeordnet ist, sowie ein zweites Ende, das aus dem Modulgehäuse herausgeführt ist. Die ersten Enden sind im Inneren des Modulgehäuses mit einer Metallisierung des Schaltungsträgers verbunden, während die zweiten Enden an eine modulexterne Leiterkarte angeschlossen sind. Um die zweiten Enden mit der modulexternen Leiterkarte zu verbinden, werden die zweiten Enden häufig in korrespondierende Kontaktöffnungen der Leiterkarte eingepresst. Hierzu wird die Leiterkarte auf die aus dem Modulgehäuse herausragenden zweiten Enden aufgepresst, was allerdings entsprechend hohe Kräfte erfordert, die über die Anschlusspins auf den Schaltungsträger übertragen werden. Diese Kräfte bewirken eine mechanische Belastung des Schaltungsträgers, durch die der Schaltungsträger beschädigt werden kann. Außerdem müssen die zweiten Enden relativ zueinander mit hoher Genauigkeit positioniert werden, so dass sie bei der Montage der Leiterkarte an dem Halbleitermodul mit deren Kontaktöffnungen fluchten. Eine derartige präzise Positionierung ist jedoch mit hohem Aufwand verbunden. Beispielsweise muss die Ausrichtung der zweiten Enden nach der eigentlichen Fertigstellung des Halbleitermoduls überprüft und gegebenenfalls durch Nachbiegen korrigiert werden, da sich die Leiterkarte anderenfalls nicht montieren lässt. Ein ähnliches Problem tritt auf, wenn das Modulgehäuse einen Gehäusedeckel mit Öffnungen aufweist, durch die die Anschlusspins hindurchgeführt werden müssen. Neben alldem ist auch die Montage der einzelnen Anschlusspins auf dem Schaltungsträger sehr aufwändig, da diese einzeln jeweils an einer vorgeben Stelle des Schaltungsträgers positioniert und dort mit diesem verbunden werden müssen.
- Weiterhin benötigt die modulinterne elektrische Anbindung der elektrischen Anschlüsse viel Platz für entsprechende Verbindungsleitungen. Zum einen enthält das Halbleitermodul eine Vielzahl anderer Elemente wie beispielsweise Bonddrähte oder Stromschienen, so dass beim Verlegen der Verbindungsleitungen Umwege in Kauf genommen werden müssen, zum anderen müssen die Verbindungsleitungen auch Mindestabstände zu anderen Elementen des Halbleitermoduls einhalten, beispielsweise um Spannungsüberschläge und Kriechströme zu vermeiden.
- Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Leistungshalbleitermodul bereitzustellen, das zumindest einen elektrischen Anschluss aufweist, das einfach und ohne die Gefahr einer Zerstörung von Bestandteilen des Halbleitermoduls herzustellen ist, und das auf einfache Weise elektrisch angeschlossen werden kann. Eine weitere Aufgabe besteht darin, Verfahren zur Herstellung eines solchen Halbleitermoduls bereitzustellen.
- Diese Aufgaben werden durch ein Leistungshalbleitermodul gemäß Patentanspruch 1 bzw. durch Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls gemäß den Patentansprüchen 12 und 16 gelöst. Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand von Unteransprüchen.
- Ein erster Aspekt betrifft ein Leistungshalbleitermodul mit einem Modulgehäuse, einem Schaltungsträger, einem Halbleiterbauelement und einem elektrisch leitenden Anschlussblock. Der Schaltungsträger weist mit einen dielektrischen Isolationsträger auf, sowie eine obere Metallisierungsschicht, die auf eine Oberseite des dielektrischen Isolationsträgers aufgebracht ist. Das Halbleiterbauelement ist auf dem Schaltungsträger angeordnet ist. Der Anschlussblock ist über einen Verbindungsleiter fest und elektrisch leitend mit dem Schaltungsträger und/oder mit dem Halbleiterbauelement verbunden und weist ein Gewinde auf, das von der Außenseite des Modulgehäuses her zugänglich ist.
- Ein zweiter Aspekt betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls.
- Bei dem Verfahren werden ein elektrisch leitender Anschlussblock mit einem Gewinde, ein Verbindungsleiter mit einem ersten Abschnitt und einem zweiten Abschnitt sowie ein Modulgehäuse bereitgestellt. Der Schaltungsträger weist einen dielektrischen Isolationsträger auf, sowie eine obere Metallisierungsschicht, die auf eine Oberseite des dielektrischen Isolationsträgers aufgebracht ist. Der Schaltungsträger wird mit dem Halbleiterbauelement bestückt und es wird eine feste und elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Anschlussblock und dem Verbindungsleiter an dessen erstem Abschnitt hergestellt. Außerdem wird eine stoffschlüssige und elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Schaltungsträger oder dem Halbleiterbauelement und dem Verbindungsleiter an dessen zweitem Abschnitt hergestellt. Der Anschlussblock und der mit dem Halbleiterbauelement bestückte Schaltungsträger werden derart an dem Modulgehäuse angeordnet, dass das Halbleiterbauelement in dem Modulgehäuse angeordnet und das Gewinde von der Außenseite des Modulgehäuses her zugänglich ist.
- Diese sowie weitere Aspekte der Erfindung werden nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die beigefügten Figuren erläutert. Es zeigen:
-
1 eine perspektivische Ansicht von zwei jeweils ein Gewinde aufweisenden Anschlussblöcken, die jeweils stoffschlüssig und elektrisch leitend mit einem Verbindungsleiter verbunden sind. -
2 einen Querschnitt durch ein Halbleitermodul, das zwei jeweils ein Innengewinde aufweisende Anschlussblöcke enthält, von denen jeder mittels eines Verbindungsleiters stoffschlüssig und elektrisch leitend mit einem Schaltungsträger verbunden ist. -
3 verschiedene Ansichten der beiden in1 dargestellten, jeweils stoffschlüssig und elektrisch leitend mit einem Verbindungsleiter verbundenen Anschlussblöcke. -
4A eine perspektivische Draufsicht auf einen Abschnitts eines Modulgehäuses, in das die in den1 und3 gezeigten Verbindungsleiter eingespritzt sind. -
4B eine Seitenansicht der Anordnung gemäß4A . -
4C eine perspektivische Unteransicht der Anordnung gemäß4A . -
5 einen Querschnitt durch ein Halbleitermodul, das zwei jeweils ein Außengewinde aufweisende Anschlussblöcke enthält, von denen jeder mittels eines Verbindungsleiters stoffschlüssig und elektrisch leitend mit einem Schaltungsträger verbunden ist. -
6 eine perspektivische Draufsicht auf zwei Halbleitermodule, von denen jedes mehrere ein Innengewinde aufweisende Anschlussblöcke enthält, an denen eine Leiterplatte aufgeschraubt und dadurch elektrisch leitend mit den Halbleitermodulen verbunden ist. - Die Darstellung in den Figuren ist nicht maßstäblich. Sofern nicht anders angegeben, bezeichnen in den Figuren gleiche Bezugszeichen gleiche oder gleichwirkende Elemente.
-
1 zeigt eine perspektivische Ansicht von zwei elektrisch leitenden Anschlussblöcken5 . Ein jeder der Anschlussblöcke5 weist ein Gewinde50 , hier lediglich beispielhaft ein Innengewinde, mit einer Gewindeachse a auf. Außerdem ist zu jedem der Anschlussblöcke5 ein Verbindungsleiter4 mit einem ersten Abschnitt41 und einem zweiten Abschnitt42 vorhanden. An seinem ersten Abschnitt41 ist jeder Verbindungsleiter4 an einer ersten Verbindungsstelle mit dem zugehörigen Anschlussblock5 fest und elektrisch leitend verbunden. Die erste Verbindungsstelle kann sich beispielsweise an der dem Gewinde50 abgewandten Seite des Anschlussblocks5 befinden, aber auch an anderen Stellen. - Die Verbindung zwischen einem Anschlussblock
5 und einem Verbindungsleiter4 kann stoffschlüssig sein und beispielsweise als Lötverbindung (Hart- oder Weichlötverbindung) oder als Schweißverbindung (z. B. durch Laserschweißen hergestellt) ausgebildet sein. Im Fall einer Lötverbindung grenzt das verwendete Lot sowohl an den Verbindungsleiter4 als auch an den Anschlussblock5 an, und im Fall einer Schweißverbindung grenzt der Verbindungsleiter4 an den Anschlussblock5 an. - Die Verbindung zwischen einem Anschlussblock
5 und einem Verbindungsleiter4 kann aber auch als Nietverbindung ausgebildet sein und beispielsweise im Taumelnietverfahren hergestellt werden. Hierzu wird der Verbindungsleiter4 an seinem ersten Abschnitt41 von der dem Innengewinde abgewandten Unterseite in eine vorgefertigte Bohrung oder sonstige Öffnung des Anschlussblocks5 eingesetzt, so dass ein am ersten Abschnitt41 ausgebildetes freies Ende des Verbindungsleiters4 in eine weitere Bohrung des Anschlussblocks5 hineinragt, die die Öffnung des oder für das Innengewinde bildet. Das Innengewinde kann vor oder nach der Durchführung des Taumelnietverfahrens im Bereich der weiteren Bohrung erzeugt werden. - Vor der Herstellung der Verbindung zwischen einem Anschlussblock
5 und einem Verbindungsleiter4 kann der Verbindungsleiter4 passend zu eine vorgegebenen Aufbau eines Halbleitermoduls, in dem er später verbaut wird, vorgebogen werden. Hierzu kann der Verbindungsleiter4 beispielsweise aus einem Blech gestanzt und nachfolgend in eine gewünschte Endform gebogen werden, in der er letztlich auch in seinem im Halbleitermodul verbauten Zustand aufweist. - Grundsätzlich kann die Herstellung der Verbindung zwischen einem Anschlussblock
5 und dem Verbindungsleiter4 vor oder nach dem Biegen des Verbindungsleiters4 erfolgen, aber auch zwischen zwei Biegeschritten, in denen der Verbindungsleiter4 jeweils gebogen wird. - Die zweiten Abschnitte
42 dienen dazu, den jeweiligen Verbindungsleiter4 elektrisch und mechanisch mit einem Element eines Halbleitermoduls100 , beispielsweise einem Schaltungsträger2 oder einem Halbleiterchip1 , zu verbinden. Die entsprechende Verbindung kann beispielsweise durch Löten, durch Sintern einer metallpulverhaltigen Paste (z. B. einer Paste, die ein Silberpulver enthält), durch Schweißen oder durch elektrisch leitendes Kleben mit einem Leitkleber hergestellt werden. Als Beispiel hierzu zeigt2 einen Querschnitt durch ein Halbleitermodul100 . - Das Halbleitermodul
100 weist ein elektrisch isolierendes Modulgehäuse6 auf, sowie einen Schaltungsträger2 , der mit dem Modulgehäuse6 , beispielsweise durch Kleben, stoffschlüssig verbunden ist. - Das Modulgehäuse
6 kann beispielsweise einen Gehäuserahmen61 enthalten, sowie einen Gehäusedeckel62 , der auf den Gehäuserahmen61 aufgesetzt ist. - Der Schaltungsträger
2 weist einen dielektrischen Isolationsträger20 mit einer Oberseite20t auf, auf die eine obere Metallisierungsschicht21 aufgebracht ist, sowie eine optionale untere Metallisierungsschicht22 , die auf eine der Oberseite20t abgewandte Unterseite20b des dielektrischen Isolationsträgers20 aufgebracht ist. Sofern eine obere und eine untere Metallisierungsschicht21 ,22 vorhanden sind, können sich diese also auf einander entgegengesetzten Seiten des Isolationsträgers20 befinden. Die obere Metallisierungsschicht21 kann bei Bedarf strukturiert sein, so dass sie Abschnitte211 ,212 ,213 ,214 aufweist, die beispielsweise zur elektrischen Verschaltung und/oder zur Chipmontage genutzt werden können. Der dielektrische Isolationsträger20 kann dazu verwendet werden, die obere Metallisierungsschicht21 und die untere Metallisierungsschicht22 elektrisch voneinander zu isolieren. - Bei dem Schaltungsträger
2 kann es sich um ein Keramiksubstrat handeln, bei dem der Isolationsträger20 als dünne Schicht ausgebildet ist, die Keramik aufweist oder aus Keramik besteht. Als Materialien für die obere Metallisierungsschicht21 und, soweit vorhanden, die untere Metallisierungsschicht22 eignen sich elektrisch gut leitende Metalle wie beispielsweise Kupfer oder Kupferlegierungen, Aluminium oder Aluminiumlegierungen, aber auch beliebige andere Metalle oder Legierungen. Sofern der Isolationsträger20 Keramik aufweist oder aus Keramik besteht, kann es sich bei der Keramik beispielsweise um Aluminiumoxid (Al2O3) oder Aluminiumnitrid (AlN) oder Siliziumnitrid (Si3N4) oder Zirkoniumoxid (ZrO2) handeln, oder um eine Mischkeramik, die neben zumindest einem der genannten Keramikmaterialien noch wenigstens ein weiteres, von diesem verschiedenes Keramikmaterial aufweist. Zum Beispiel kann ein Schaltungsträger2 als DCB-Substrat (DCB = Direct Copper Bonding), als DAB-Substrat (DAB = Direct Aluminum Bonding), als AMB-Substrat (AMB = Active Metal Brazing) oder als IMS-Substrat (IMS = Insulated Metal Substrate) ausgebildet sein. Die obere Metallisierungsschicht21 und, soweit vorhanden, die untere Metallisierungsschicht22 können, unabhängig voneinander, jeweils eine Dicke im Bereich von 0,05 mm bis 2,5 mm aufweisen. Die Dicke des Isolationsträgers20 kann z. B. im Bereich von 0,1 mm bis 2 mm liegen. Größere oder kleinere als die angegebenen Dicken sind jedoch ebenfalls möglich. - Der Schaltungsträger
2 kann mit einem oder mehreren elektronischen Bauteilen1 bestückt sein. Grundsätzlich können beliebige elektronische Bauteile1 verwendet werden. Insbesondere kann ein solches elektronisches Bauteil1 ein beliebiges aktives oder passives elektronisches Bauelement enthalten. Auch ist es möglich, dass in einem elektronischen Bauteil1 ein oder mehrere aktive elektronische Bauelemente und ein oder mehrere passive elektronische Bauelemente miteinander integriert sind. Jedes elektronische Bauteil1 weist eine erste Elektrode11 und mindestens eine zweite Elektrode12 auf. - Beispielsweise kann ein elektronisches Bauteil
1 als Halbleiterchip ausgebildet sein und einen Halbleiterkörper10 aufweisen. Bei den Elektroden11 und12 kann es sich dann jeweils um eine Chipmetallisierung handeln, die auf den Halbleiterkörper10 aufgebracht ist. - Ein Bauteil
1 kann zum Beispiel eine Diode enthalten, oder einen steuerbaren Halbleiterschalter, der über einen Steuereingang13 (z. B. einen Gate- oder Basiseingang) angesteuert werden kann, beispielsweise einen MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor), einen IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor), einen Thyristor, einen JFET (Junction Field Effect Transistor), einen HEMT (High Electron Mobility Transistor). Bei der ersten Elektrode11 und der zweite Elektrode12 eines Bauteils1 kann es sich zum Beispiel um Anode bzw. Kathode, um Kathode bzw. Anode, um Source bzw. Drain, um Drain bzw. Source, um Emitter bzw. Kollektor oder um Kollektor bzw. Emitter des betreffenden Bauelements handeln. - Bei dem gezeigten Beispiel ist das Bauteil
1 an seiner Elektrode12 stoffschlüssig und elektrisch leitend mit einem Abschnitt der oberen Metallisierungsschicht21 verbunden. Die entsprechende Verbindung kann beispielsweise durch Löten, Sintern einer metallpulverhaltigen Paste (z. B. einer Paste, die ein Silberpulver enthält) oder durch elektrisch leitendes Kleben hergestellt werden. Je nach den Erfordernissen der auf dem Schaltungsträger2 zu realisierenden Schaltung kann das eine elektronisches Bauteil1 auf beliebige Weise an den Schaltungsträger2 und/oder an anderen Elemente des herzustellenden Leistungshalbleitermoduls angeschlossen werden. In2 ist hierzu lediglich beispielhaft ein Bonddraht3 gezeigt, der durch Drahtbonden an einer ersten Bondstelle an einen Abschnitt der oberen Metallisierungsschicht21 gebondet ist, sowie an einer zweiten Bondstelle an die erste Elektrode11 des Bauteils1 . - Damit die auf dem Schaltungsträger
2 realisierte elektronische Schaltung von der Außenseite des Halbleitermoduls100 , d.h. von der Außenseite des Modulgehäuses6 her anhand von Schraubverbindungen elektrisch kontaktiert werden kann, werden ein oder mehrere Anschlussblöcke5 eingesetzt, deren Gewinde50 jeweils von der Außenseite des Modulgehäuses6 her zugänglich ist. Das Gewinde50 , hier lediglich beispielhaft ein Innengewinde, kann z. B. dazu genutzt werden, eine Leiterkarte, eine massive metallische Busschiene, einen Flachbandleiter, eine Anschlussöse etc. unter Verwendung des Gewindes50 mit dem Anschlussblock5 zu verschrauben. - Wie anhand des
2 dargestellten Halbleitermoduls100 gezeigt ist, kann die modulinterne elektrische Verbindung zwischen dem Anschlussblock5 und der auf dem Schaltungsträger2 realisierten Schaltung unter Verwendung eines Verbindungsleiters4 erfolgen, der, wie bezugnehmend auf1 erläutert wurde, an seinem ersten Abschnitt41 fest und elektrisch leitend mit dem Anschlussblock5 und an seinem zweiten Abschnitt42 elektrisch leitend mit der auf dem Schaltungsträger2 realisierten Schaltung verbunden ist. - Ein Verbindungsleiter
4 kann an seinem zweiten Abschnitt durch prinzipiell beliebige Verbindungstechniken elektrisch leitend mit der auf dem Schaltungsträger2 realisierten Schaltung verbunden werden. Bei dem gezeigten Beispiel sind die Verbindungsleiter4 jeweils an ihrem zweiten Abschnitt42 mit einem Abschnitt der oberen Metallisierungsschicht21 des Schaltungsträgers2 verbunden. Diese Verbindungen können zum Beispiel als stoffschlüssige Verbindungen ausgebildet sein, beispielsweise als Lötverbindungen, als Klebeverbindungen unter Verwendung eines elektrisch leitenden Klebers, als Schweißverbindung (beispielsweise hergestellt durch Laserschweißen oder durch Ultraschallschweißen). Im Fall einer Löt- bzw. Klebeverbindung wird als Verbindungsmittel ein Lot bzw. ein Leitkleber eingesetzt, das sowohl an den zweiten Abschnitt42 als auch an die obere Metallisierungsschicht21 angrenzt. - Ebenso ist es beispielsweise möglich, einen Verbindungsleiter
4 an seinem zweiten Abschnitt42 auf dieselbe Weise anstelle mit der oberen Metallisierungsschicht21 mit der ersten Elektrode11 des Bauteils1 zu verbinden. - Wie in
2 ebenfalls dargestellt ist, kann ein erster Anschlussblock5 (der linke der beiden dargestellten Anschlussblöcke5 ) über einen ersten Verbindungsleiter4 auf die erläuterte Weise elektrisch an den Steuereingang13 angeschlossen sein, was vorliegend lediglich beispielhaft über einen Abschnitt213 der oberen Metallisierungsschicht21 und einen Bonddraht3 erfolgt, während ein zweiter Anschlussblock5 (der rechte der beiden dargestellten Anschlussblöcke5 ) über einen zweiten Verbindungsleiter4 , ebenfalls auf die erläuterte Weise, elektrisch an den Lastanschluss des Bauteils1 angeschlossen ist, der beim Betrieb des Halbleitermoduls100 das Bezugspotential zur Ansteuerung des aufweist. Wie vorliegend gezeigt ist, kann es sich bei diesem Lastanschluss um den ersten Lastanschluss11 handeln. Dieser ist, elektrisch leitend und lediglich beispielhaft über einen Bonddraht3 , mit einem Abschnitt212 der oberen Metallisierungsschicht21 verbunden, an dem auch der zweite Abschnitt42 des zweiten Verbindungsleiters4 befestigt ist. Der zweite Anschlussblock5 kann beispielsweise einen Hilfsanschluss zur Ansteuerung des Bauteils1 , z. B. einen Hilfsemitteranschluss, darstellen. - Zur Herstellung eines Halbleitermoduls
100 kann eine Einheit mit einem Anschlussblock5 und einem Verbindungsleiter4 , der mit dem Anschlussblock5 wie unter Bezugnahme auf1 erläutert an seinem ersten Abschnitt fest und elektrisch leitend mit dem Anschlussblock5 verbunden ist, vorgefertigt werden. - Außerdem kann der Schaltungsträger
2 optional mit einem oder mehreren elektronischen Bauelementen1 vorbestückt und danach mit dem Gehäuse6 oder einem Gehäuserahmen61 oder einer Gehäuseseitenwand verbunden werden. Nachfolgend kann die vorgefertigte Einheit mit dem Anschlussblock5 und dem mit diesem verbundenen Verbindungsleiter4 elektrisch leitend mit der auf dem Schaltungsträger2 realisierten Schaltung verbunden werden, beispielsweise indem der Verbindungsleiter4 an seinem zweiten Abschnitt42 wie erläutert an die obere Metallisierungsschicht21 oder die erste Elektrode11 gelötet, geschweißt oder elektrisch leitend geklebt wird. - Um zu erreichen, dass sich der zweite Abschnitt
42 des Verbindungsleiters4 , bevor dieser mit der Schaltung verbunden wird, an der korrekten Position befindet, kann die Einheit mit dem Verbindungsleiter4 und dem Anschlussblock5 so an dem Gehäuse6 oder einem Gehäuseteil (z.B. dem Gehäuserahmen61 oder einer Gehäuseseitenwand) befestigt sein, dass der zweite Abschnitt42 des Verbindungsleiters4 beim Anbringen des vorbestückten Schaltungsträgers2 an dem Gehäuse6 bzw. dem Gehäuseteil an die korrekte Zielposition gelangt, so dass nur noch die Verbindung zwischen dem zweiten Abschnitt und der Schaltung hergestellt werden muss, ohne dass eine weitere Positionierung des zweiten Abschnitts42 relativ zur Schaltung (d.h. relativ zur vorgegebenen Befestigungsstelle) vorgenommen werden muss. - Die Befestigung der Einheit mit dem Verbindungsleiter
4 und dem Anschlussblock5 an dem Gehäuse6 oder dem Gehäuseteil kann dadurch erfolgen, dass die Einheit in eine Halterung60 des vorgefertigten Gehäuses6 bzw. des vorgefertigten Gehäuseteils eingesetzt (z. B. geclipt) oder gleich bei der Herstellung des Gehäuses6 bzw. des Gehäuseteils (durch Spritzgießen) in dieses eingespritzt wird, so dass das Gehäuse6 bzw. der Gehäuseteil eine integrierte Halterung60 aufweist. Mit Hilfe einer entsprechenden Anzahl von Halterungen60 kann ein Gehäuse60 oder ein Gehäuseteil mit zwei oder mehr Einheiten vorbestückt werden, von denen jeden einen Anschlussblock5 und einen mit diesem verbundenen Verbindungsleiter4 aufweist. - Um im Fall von zwei oder mehr solchen Einheiten eine niederinduktive Leiterführung zu erreichen, können zwei Abschnitte von Verbindungsleitern
4 verschiedener Einheiten über eine Strecke40 parallel zueinander geführt werden, wie dies beispielhaft in1 gezeigt ist, welche zwei solche Einheiten in der Anordnung zueinander zeigt, in der sie sich auch bei dem fertigen Halbleitermodul100 befinden, sowie in2 und auch den nachfolgenden Figuren. Die Strecke40 kann beispielsweise eine Länge L40 von wenigstens 30 mm aufweisen, z. B. ca. 33 mm. Dabei ist die Länge L40 entlang der Verlaufsrichtung der parallel geführten Abschnitte und mittig zwischen diesen zu ermitteln. Die parallel geführten Abschnitte können gerade und/oder gekrümmt verlaufen. Soweit Krümmungen vorhanden sind, ist die Länge L40 auch entlang der Krümmungen zu ermitteln. Im Bereich der Strecke40 weisen die parallel geführten Abschnitte einen Abstand d40 auf. Dieser kann beispielsweise kleiner oder gleich 5 mm, kleiner oder gleich 1 mm oder gar kleiner oder gleich 0,5 mm gewählt werden. Durch die erläuterte abschnittweise Parallelführung lässt sich einem Bauteil1 eine zwischen die Anschlussblöcke5 der beiden Einheiten angelegte Steuerspannung zur Ansteuerung des Bauteils1 niederinduktiv und mit geringer Störanfälligkeit zuführen. - Bei einer oder beiden der Einheiten, bei denen zwei Abschnitte der Verbindungsleiter
4 parallel geführt sind, kann der jeweilige Verbindungsleiter4 an seiner dem Anschlussblock5 derselben Einheit abgewandten Seite einen Abschnitt45 aufweisen, der sich an den Streckenabschnitt40 anschließt. Zu diesem Abschnitt45 weist der Verbindungsleiter4 der anderen Einheit keinen dazu parallel geführten Abschnitt auf, wodurch sich eine erhöhte Induktivität ergibt. Daher ist es vorteilhaft, den Abschnitt45 möglichst kurz zu halten. So kann beispielsweise jede Stelle des Abschnitts45 in keiner zur Oberseite20t parallelen Richtung weiter als ein Abstand L45 von dem Streckenabschnitt40 entfernt sein. Der Abstand L45 kann beispielsweise kleiner als 37 mm gewählt werden, oder gar kleiner als 2 mm. - Gemäß noch einem anderen Aspekt ist es zur Erzielung einer niederinduktiven Führung eines Verbindungsleiters
4 vorteilhaft, wenn dieser einen zur Oberseite20t parallel verlaufenden Abschnitt aufweist, der beispielsweise eine Länge von wenigstens 30 mm aufweisen kann, und dessen Abstand h4 von der oberen Metallisierungsschicht21 kleiner oder gleich 9 mm beträgt. Dieses Kriterium kann nicht nur für ein Verbindungsleiter4 einer einzelnen Einheit gelten, sondern insbesondere auch bei den Verbindungsleitern4 zweier Einheiten mit parallel geführten Abschnitten ihrer Verbindungsleiter4 für jeden der parallel geführten Abschnitte. -
3 zeigt noch verschiedene Ansichten der beiden bereits in1 dargestellten Einheiten, ebenfalls in der Anordnung zueinander, in der sie sich auch bei dem fertigen Halbleitermodul100 befinden. - Entsprechend zeigen die
4A ,4B und4C eine perspektivische Draufsicht, eine Seitenansicht bzw. eine perspektivische Ansicht von unten desselben Abschnitts eines Modulgehäuses6 mit einer Seitenwand61 , an dem die beiden anhand der1 und3 erläuterten Einheiten mit Hilfe von Halterungen60 wie vorangehend erläutert befestigt sind. - Zwar waren die Gewinde
50 der Anschlussblöcke5 bei den vorangehenden Beispielen als Innengewinde ausgebildet, allerdings können sie ebenso als Außengewinde ausgebildet sein. Ein Beispiel hierfür ist anhand eines in5 dargestellten Halbleitermoduls100 gezeigt, dessen Aufbau im Übrigen dem des Halbleitermoduls100 gemäß2 entspricht. Selbstverständlich kann bei einem Halbleitermodul100 auch wenigstens ein Anschlussblock5 verwendet werden, dessen Gewinde50 als Innengewinde ausgebildet ist, sowie wenigstens ein weiterer Anschlussblock5 , dessen Gewinde50 als Außengewinde ausgebildet ist. - Grundsätzlich ist es bei der vorliegenden Erfindung vorteilhaft, wenn die Anschlussblöcke
5 und die Verbindungsleiter4 eine gute elektrische Leitfähigkeit aufweisen. Beispielsweise kann ein Anschlussblock5 aus Kupferlegierungen bestehen oder einen Anteil von wenigstens90 Gewichts% Kupfer aufweisen. - Ebenso kann ein Anschlussblock
5 aus anderen Materialien bestehen oder andere Materialien aufweisen. Beispiele für geeignete Materialien sind bleifreies Messing (z.B. CuZn39Pb3), Zerspanungsmessing, Edelstahl (z.B. nach DIN EN 10088-3 X8CrNiS18-9), Stahl (auch oberflächenvernickelt), oder Bronze (z.B. CuSn6 oder CuPb1P). Ein Verbindungsleiter4 kann aus Metall, z.B. aus Kupfer oder einer Kupferlegierung, bestehen und/oder einen Anteil von wenigstens90 Gewichts% Kupfer aufweisen. - Bei allen Varianten der Erfindung kann die Gewindeachse a des Gewindes optional senkrecht zur Oberseite
20t des Isolationsträgers20 verlaufen. -
6 zeigt noch eine perspektivische Ansicht von zwei Halbleitermodulen100 , auf die eine Leiterplatte200 aufgesetzt und bei einem jeden der Halbleitermodule100 an mehreren Anschlussblöcken5 unter Verwendung von Verbindungsschrauben205 , die jeweils in das Innengewinde eines Anschlussblocks eingeschraubt sind, mechanisch und elektrisch mit dem betreffenden Halbleitermodul100 verbunden ist. Auf entsprechende Weise könnte natürlich auch nur ein einzelnes Halbleitermodul100 mit einer Leiterplatte200 verbunden werden. Bei den dargestellten Halbleitermodulen100 sind die Gewinde5 jeweils als Innengewinde ausgebildet. Grundsätzlich könnte bei einem Halbleitermodul100 jedoch auch bei einem, mehreren oder sämtlichen seinen Anschlussblöcken5 das Gewinde50 als Außengewinde ausgebildet sein. Soweit eine Leiterplatte200 mit ein Anschlussblock5 verschraubt wird, dessen Gewinde50 ein Außengewinde ist, wird anstelle einer Verbindungsschraube205 eine Schraubenmutter verwendet, die auf das Außengewinde aufgeschraubt wird. - Anstelle mit einer Leiterplatte
200 kann ein Halbleitermodul100 auf analoge Weise auch mit einer metallischen Busschiene, mit einem Flachbandleiter oder mit einer Anschrauböse verschraubt und dadurch elektrisch angeschlossen werden. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Nicht-Patentliteratur
-
- DIN EN 10088-3 [0051]
Claims (14)
- Leistungshalbleitermodul, das aufweist: ein Modulgehäuse (
6 ); einen Schaltungsträger (2 ) mit einem dielektrischen Isolationsträger (20 ) und einer oberen Metallisierungsschicht (21 ), die auf eine Oberseite (20t ) des dielektrischen Isolationsträgers (20 ) aufgebracht ist; ein Halbleiterbauelement (1 ), das auf dem Schaltungsträger (2 ) angeordnet ist; und einen elektrisch leitenden Anschlussblock (5 ), der ein Gewinde (50 ) aufweist, das von der Außenseite des Modulgehäuses (6 ) her zugänglich ist; und einen Verbindungsleiter (4 ), der einen ersten Abschnitt (41 ) aufweist, an dem er an einer ersten Verbindungsstelle fest und elektrisch leitend mit dem Anschlussblock (5 ) verbunden ist, sowie einen zweiten Abschnitt (42 ), an dem er an einer zweiten Verbindungsstelle stoffschlüssig und elektrisch leitend mit dem Schaltungsträger (2 ) und/oder mit dem Halbleiterbauelement (1 ) verbunden ist. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 1, bei dem der Verbindungsleiter (
4 ) an der ersten Verbindungsstelle an den Anschlussblock (5 ) gelötet, geschweißt, lasergeschweißt oder genietet ist. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 1 oder 2, bei dem der Verbindungsleiter (
4 ) an der zweiten Verbindungsstelle an den Schaltungsträger (2 ) oder an das Halbleiterbauelement (1 ) gelötet, gesintert, geschweißt, ultraschallgeschweißt oder elektrisch leitend geklebt ist. - Leistungshalbleitermodul nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem der Verbindungsleiter (
4 ) abschnittweise in das Modulgehäuse (6 ) oder in einen Teil des Modulgehäuses (6 ) eingespritzt oder eingesetzt ist und dadurch fest mit dem Modulgehäuse (6 ) oder dem Teil des Modulgehäuses (6 ) verbunden ist. - Leistungshalbleitermodul nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem der Isolationsträger (
20 ) eine Keramik aufweist oder aus einer Keramik besteht. - Leistungshalbleitermodul nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem das Gewinde ein Innengewinde oder ein Außengewinde ist.
- Leistungshalbleitermodul nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem das Gewinde eine Gewindeachse aufweist, die senkrecht zur Oberseite (
20t ) verläuft. - Leistungshalbleitermodul nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem der Anschlussblock (
5 ) einstückig ausgebildet ist. - Leistungshalbleitermodul nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem der Anschlussblock (
5 ) aus einem einheitlichen Material oder einer homogenen Materialzusammensetzung besteht. - Leistungshalbleitermodul nach einem der vorangehenden Ansprüche mit einem elektrisch leitenden weiteren Anschlussblock (
5 ), der ein weiteres Gewinde (50 ) aufweist, das von der Außenseite des Modulgehäuses (6 ) her zugänglich ist; und einem weiteren Verbindungsleiter (4 ), der einen weiteren ersten Abschnitt (41 ) aufweist, an dem er an einer weiteren ersten Verbindungsstelle fest und elektrisch leitend mit dem weiteren Anschlussblock (5 ) verbunden ist, sowie einen weiteren zweiten Abschnitt (42 ), an dem er an einer weiteren zweiten Verbindungsstelle stoffschlüssig und elektrisch leitend mit dem Schaltungsträger (2 ) und/oder mit dem Halbleiterbauelement (1 ) verbunden ist; wobei der Verbindungsleiter (4 ) und der weitere Verbindungsleiter (4 ) über eine Länge (L40) von wenigstens 30 mm parallel geführt sind. - Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 10, bei dem die Verbindungsleiter (
4 ) in dem Bereich, in dem sie parallel geführt sind, einen Abstand von höchstens 5 mm aufweisen. - Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Bereitstellen eines elektrisch leitenden Anschlussblocks (
5 ), der ein Gewinde (50 ) aufweist, Bereitstellen eines Verbindungsleiters (4 ), der einen ersten Abschnitt (41 ) und einen zweiten Abschnitt (42 ) aufweist; Bereitstellen eines Modulgehäuses (6 ); Bereitstellen eines Schaltungsträgers (2 ), der einen dielektrischen Isolationsträger (20 ) aufweist, sowie eine obere Metallisierungsschicht (21 ), die auf eine Oberseite (20t ) des dielektrischen Isolationsträgers (20 ) aufgebracht ist; Bereitstellen eines Halbleiterbauelements (1 ); Bestücken des Schaltungsträgers (2 ) mit dem Halbleiterbauelement (1 ); Herstellen einer festen und elektrisch leitenden Verbindung zwischen dem Anschlussblock (5 ) und dem Verbindungsleiter (4 ) an dessen erstem Abschnitt (41 ); Herstellen einer stoffschlüssigen und elektrisch leitenden Verbindung zwischen dem Schaltungsträger (2 ) oder dem Halbleiterbauelement (1 ) und dem Verbindungsleiter (4 ) an dessen zweitem Abschnitt (42 ). Anordnen des Anschlussblocks (5 ) und des mit dem Halbleiterbauelement (1 ) bestückten Schaltungsträgers (2 ) an dem Modulgehäuse (6 ) derart, dass das Halbleiterbauelement (1 ) in dem Modulgehäuse (6 ) angeordnet und das Gewinde (50 ) von der Außenseite des Modulgehäuses (6 ) her zugänglich ist. - Verfahren nach Anspruch 12, bei dem das Bereitstellen des Verbindungsleiters (
4 ) und das Bereitstellen des Modulgehäuses (6 ) erfolgt, indem das Modulgehäuse (6 ) durch Spritzgießen hergestellt und der Verbindungsleiter (4 ) dabei in das Modulgehäuse (6 ) eingespritzt wird. - Verfahren nach Anspruch 12, bei dem das Modulgehäuse (
6 ) oder ein Teil (61 ) des Modulgehäuses (6 ) durch Spritzgießen hergestellt und dabei mit einer Halterung (60 ) versehen wird, in die der Verbindungsleiter (4 ) nach der Herstellung des Modulgehäuse (6 ) oder des Teils (61 ) des Modulgehäuses (6 ) eingesetzt wird.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102014115847.4A DE102014115847B4 (de) | 2014-10-30 | 2014-10-30 | Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls |
CN201510564791.5A CN105609477B (zh) | 2014-10-30 | 2015-09-07 | 用于制造功率半导体模块的方法 |
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US15/424,995 US10008392B2 (en) | 2014-10-30 | 2017-02-06 | Method for producing a power semiconductor module |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102014115847.4A DE102014115847B4 (de) | 2014-10-30 | 2014-10-30 | Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102014115847A1 true DE102014115847A1 (de) | 2016-05-04 |
DE102014115847B4 DE102014115847B4 (de) | 2018-03-08 |
Family
ID=55753578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102014115847.4A Active DE102014115847B4 (de) | 2014-10-30 | 2014-10-30 | Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10020237B2 (de) |
CN (1) | CN105609477B (de) |
DE (1) | DE102014115847B4 (de) |
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CN105609477A (zh) | 2016-05-25 |
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|
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