DE102012212394A1

DE102012212394A1 - Abtrennvorrichtung und abtrennverfahren für projektionsbelichtungsanlagen

Info

Publication number: DE102012212394A1
Application number: DE201210212394
Authority: DE
Inventors: Günther Dengel; Bernhard Sitek; Maik-René Piatkowski; Joachim Hartjes
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2012-07-16
Filing date: 2012-07-16
Publication date: 2013-05-29

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Abtrennung von ersten optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage von zweiten optischen Elementen, wobei mindestens ein Trennbereich definiert ist, in dem die Abtrennung erfolgt, und wobei die Vorrichtung Leitungen zur Leitung eines Fluids umfasst, die so ausgebildet sind, dass das Fluid im Trennbereich mindestens einen Fluidvorhang ausbildet. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer entsprechenden Abtrennvorrichtung sowie ein Verfahren zur Abtrennung von ersten optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage von zweiten optischen Elementen.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Abtrennung von ersten optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage von zweiten optischen Elementen, wobei mindestens ein Trennbereich definiert ist, in dem die Abtrennung erfolgt. Außerdem betrifft die Erfindung ein entsprechendes Abtrennverfahren und eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer entsprechenden Abtrennvorrichtung.
STAND DER TECHNIK
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen dienen zur Herstellung von mikrostrukturierten Bauelementen mittels eines photolithographischen Verfahrens. Dabei wird eine strukturtragende Maske, das sogenannte Retikel, mit Hilfe einer Lichtquelleneinheit und einer Beleuchtungsoptik beleuchtet und mit Hilfe einer Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei stellt die Lichtquelleneinheit eine Strahlung zur Verfügung, die in die Beleuchtungsoptik geleitet wird. Die Beleuchtungsoptik dient dazu, am Ort der strukturtragenden Maske eine gleichmäßige Ausleuchtung mit einer vorbestimmten winkelabhängigen Intensitätsverteilung zur Verfügung zu stellen. Hierzu sind innerhalb der Beleuchtungsoptik verschiedene geeignete optische Elemente vorgesehen. Die so ausgeleuchtete strukturtragende Maske wird mit Hilfe der Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei wird die minimale Strukturbreite, die mit Hilfe einer solchen Projektionsoptik abgebildet werden kann, unter anderem durch die Wellenlange der verwendeten Strahlung bestimmt. Je kleiner die Wellenlange der Strahlung ist, desto kleinere Strukturen können mit Hilfe der Projektionsoptik abgebildet werden. Aus diesem Grund ist es vorteilhaft Strahlung mit der Wellenlänge 5 nm bis 15 nm zu verwenden, also Licht im Wellenlängenspektrum des extrem ultravioletten (EUV) Lichts, so dass derartige Projektionsbelichtungsanlagen auch als EUV-Projektionsbelichtungsanlagen bezeichnet werden.
Um jedoch Strahlung der Wellenlänge 5 nm bis 15 nm zu verwenden, ist es erforderlich ein leuchtendes Quellplasma als Lichtquelle einzusetzen. Eine derartige Lichtquelleneinheit kann zum Beispiel als eine Laserplasmaquelle (LPP Laser Pulsed Plasma) ausgebildet sein. Bei diesem Quelltyp wird ein eng begrenztes Quellplasma erzeugt, indem ein kleines Materialtröpfchen mit einem Tröpfchengenerator hergestellt wird und an einen vorbestimmten Ort verbracht wird. Dort wird das Materialtröpfchen mit einem hochenergetischen Laser bestrahlt, so dass das Material in einen Plasmazustand übergeht und Strahlung im Wellenlängenbereich 5 nm bis 15 nm emittiert. Als Laser kommt z. B. ein Infrarotlaser mit der Wellenlänge 10 μm zum Einsatz. Alternativ kann die Lichtquelleneinheit auch als eine Entladungsquelle ausgebildet sein, bei der das Quellplasma mit Hilfe einer Entladung erzeugt wird. In beiden Fällen tritt neben der gewünschten Strahlung mit einer ersten Wellenlänge im Bereich von 5 nm bis 15 nm, die vom Quellplasma emittiert wird, auch Strahlung mit einer zweiten, unerwünschten Wellenlänge auf. Hierbei handelt es sich z. B. um von Quellplasma emittierte Strahlung außerhalb des gewünschten Bereiches von 5 nm bis 15 nm oder insbesondere bei der Verwendung einer Laserplasmaquelle um Laserstrahlung, die vom Quellplasma reflektiert wurde. Damit liegt die zweite Wellenlänge typischerweise im Infrarotbereich mit Wellenlängen von 0,78 μm bis 1000 μm, insbesondere im Bereich von 3 μm bis 50 μm. Beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage mit einer Laserplasmaquelle entspricht die zweite Wellenlänge insbesondere der Wellenlänge des zur Erzeugung des Quellplasmas verwendeten Lasers. Beim Einsatz eines CO₂ Lasers ist dies z. B. die Wellenlänge 10,6 μm. Die Strahlung mit der zweiten Wellenlänge kann nicht zur Abbildung der strukturtragenden Maske verwendet werden, da die Wellenlänge zur Abbildung der Maskenstrukturen im Nanometer – Bereich zu groß ist. Die Strahlung mit der zweiten Wellenlänge führt daher nur zu einer unerwünschten Untergrundhelligkeit in der Bildebene. Weiterhin führt die Strahlung der zweiten Wellenlänge zu einer Erwärmung der optischen Elemente der Beleuchtungsoptik und der Projektionsoptik. Aus diesen beiden Gründen wird ein Filterelement zur Unterdrückung von Strahlung mit der zweiten Wellenlänge vorgesehen.
Als Filterelemente werden somit Spektralfilter eingesetzt, die unerwünschte Lichtbestandteile herausfiltern sollen und Membranfolien umfassen, die aus einem Material hergestellt sind, welches Strahlung mit der ersten gewünschten Wellenlänge durchlässt und Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge absorbiert bzw. reflektiert. Beispielsweise kann dies eine Zirkonfolie mit einer Dicke im Bereich von kleiner oder gleich 500 nm sein oder der Filter kann aus abwechselnden Zirkon- und Siliziumschichten aufgebaut sein. Spektralfilter, sogenannte Spectral-Purity-Filter sind im Stand der Technik bekannt und beispielsweise in der EP 1 708 031 A2 beschrieben.
Filter mit dünnen Folien besitzen jedoch den Nachteil, dass sie bei entsprechenden thermischen Belastungen durch die Strahlung und/oder sonstigen mechanischen Belastungen, wie Erschütterungen oder Druckschwankungen, im Betrieb zerstört werden können.
Die WO 2007/107783 A1 beschreibt entsprechend ein Reparaturverfahren für einen Spektralfilter, bei welchem kohlenstoffhaltiges Material zur Reparatur des Filters in eine entsprechende Kammer eingefüllt wird, an deren Ende ein Spektralfilter angeordnet ist, wenn festgestellt wird, dass über den Filter aus der Kammer Gas entweicht, sodass darauf zu schließen ist, dass der Filter eine Beschädigung aufweist. Hierzu sind Gassensoren vorgesehen, die den entsprechenden Gasfluss ermitteln können.
Durch die Zerstörung eines entsprechenden Spektralfilters besteht jedoch das Problem, dass es zu einer Verunreinigung von benachbarten Bereichen der Projektionsbelichtungsanlage kommen kann. Insbesondere in Bereichen, die unter Ultrahochvakuum betrieben werden, wie dies in angrenzenden Bereichen des Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage der Fall ist, wo die entsprechenden Spektralfilter üblicherweise eingesetzt werden, führt eine Zerstörung des Spektralfilters zu einer erheblichen Verschmutzung des Systems. Da zudem die Schwierigkeit besteht, dass derartige Systeme oft schwer zugänglich sind, führt die erforderliche Reinigung zu einem sehr hohen Aufwand.
Die beschriebene Problematik tritt nicht nur bei den oben beschriebenen Spektralfiltern auf, sondern kann allgemein bei entsprechenden Filtern mit dünnen Membranfolien auftreten, die beispielsweise auch zum Filtern von Debris oder dergleichen eingesetzt werden können.
OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
AUFGABE DER ERFINDUNG
Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung und ein Verfahren bereitzustellen, mit denen die wirksame Abtrennung von optischen oder mechanischen Komponenten in einer Projektionsbelichtungsanlage möglich ist, wobei insbesondere eine Abtrennung von Spektralfiltern von benachbarten Komponenten ermöglicht werden soll, um eine Kontaminierung der Projektionsbelichtungsanlage oder von Teilen davon durch Zerstörungsprodukte eines Spektralfilters zu vermeiden, wenn dieser im Betrieb zerstört werden sollte. Eine entsprechende Vorrichtung soll einfach aufgebaut und ein Verfahren soll einfach und zuverlässig durchführbar sein.
TECHNISCHE LÖSUNG
Diese Aufgabe wird gelöst mit einer Vorrichtung zur Abtrennung eines ersten Bereichs einer Projektionsbelichtungsanlage von mindestens einem zweiten Bereich einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere zur Abtrennung von ersten optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage von zweiten optischen Elementen mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie einem entsprechenden Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 14. Darüber hinaus wird eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Abtrennvorrichtung im Anspruch 8 definiert. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
Die Erfindung geht aus von der Idee, dass eine wirksame Abtrennung von optischen oder mechanischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage bzw. eines ersten Bereichs von mindestens einem zweiten Bereich durch Ausbildung eines Fluidvorhangs erzielt werden kann, wobei der Fluidvorhang durch einen Fluidstrom gebildet wird. Der Fluidvorhang kann sich hierbei flächig in einem Trennbereich erstrecken, der die Abtrennung zwischen den optischen Elementen definiert. Beispielsweise kann der Trennbereich entlang einer Ebene zwischen zwei optischen Elementen vorliegen oder auch beliebige dreidimensionale Formen aufweisen, wobei dann unter Umständen mehrere Fluidvorhänge zur Ausbildung des Trennbereichs erforderlich sind. Das verwendete Fluid zur Bildung des Fluidvorhangs kann Luft oder ein inertes Gas sein.
Eine entsprechende Vorrichtung zur Abtrennung von optischen Elementen bzw. Bereichen in einer Projektionsbelichtungsanlage (Abtrennvorrichtung) kann so ausgebildet sein, dass mindestens eine Zuführleitung und mindestens eine Absaugleitung vorgesehen sind, wobei jede Zuführleitung mindestens eine Abgabeöffnung und jede Absaugleitung mindestens eine Aufnahmeöffnung aufweist. Der oder die Fluidvorhänge werden dann zwischen der mindestens einen Abgabeöffnung und der mindestens einen Aufnahmeöffnung ausgebildet, wenn ein Fluid von der Abgabeöffnung der Zuführleitung zur Aufnahmeöffnung der Absaugleitung strömt und einen entsprechenden Fluidstrom ausbildet. Durch mehrere Zuführleitungen und/oder mehrere Absaugleitungen sowie mehrere Abgabeöffnungen und/oder mehrere Absaugleitungen pro Zuführleitung bzw. pro Absaugleitung können Fluidvorhänge mit entsprechender Ausdehnung in unterschiedlicher Formgebung erzeugt werden, so dass durch die Fluidvorhänge in geeigneter Weise eine Abtrennung erfolgen kann.
Der oder die Fluidvorhänge führen nicht nur dazu, dass Partikel oder Gasströme den Trennbereich nicht durchdringen können, sondern weisen zudem den Vorteil auf, dass mit dem Fluidstrom auch die entsprechenden Fremdkörper bzw. Gasströme abgeführt werden können.
Um diesen Effekt des Einsaugens in den Fluidstrom, der auch als Venturi-Effekt bezeichnet werden kann, weiter zu verstärken, kann die Strömungsgeschwindigkeit des Fluids im Bereich des Fluidvorhangs verstärkt werden, was beispielsweise durch eine Verengung des Strömungsquerschnitts im Bereich der Abgabeöffnung der Zuführleitung bewirkt werden kann.
Da in der Absaugleitung somit Fremdstoffe, wie Partikel und dergleichen, enthalten sein können, kann die Absaugleitung einen Partikelabscheider und/oder Partikelfilter aufweisen, um so die Partikel aus dem Fluidstrom zu entfernen. Das gereinigte Fluid kann dann wieder zur Ausbildung eines Fluidvorhangs verwendet werden und kann somit im Kreis geführt werden.
Die Abtrennvorrichtung bzw. das Trennverfahren zur Abtrennung von optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage kann insbesondere im Zusammenhang mit einem Spektralfilter, der wiederum vorzugsweise im Beleuchtungssystem angeordnet ist, eingesetzt werden, da derartige Spektralfilter besonders anfällig für Beschädigungen oder Zerstörungen sind und somit eine potenzielle Quelle von Kontaminationen darstellen.
Insbesondere kann ein Fluidvorhang zur Abtrennung des Spektralfilters von in Strahlrichtung des Nutzlichts nachfolgenden optischen Komponenten des Beleuchtungssystems eingesetzt werden.
Im Zusammenhang mit dem Einsatz der Abtrennvorrichtung bzw. des Trennverfahrens zur Abtrennung von Spektralfiltern können die Vorrichtung oder das Verfahren um die Maßnahme ergänzt werden, dass ein zusätzlicher oder mehrere zusätzliche Fluidströme zum Spülen des Spektralfilters vorgesehen werden. Die dafür vorgesehenen Spülleitungen zur Erzeugung von Spülfluidströmen dienen dazu, bei Bedarf in gezielter Weise einen direkten Fluidstrom auf den Spektralfilter richten zu können, um bei einem bereits zerstörten oder beschädigten Spektralfilter am Spektralfilter noch anhaftende lose Teile zu entfernen oder bei einem zwar möglicherweise leicht vorgeschädigten, aber insgesamt noch intakten Spektralfilter diesen gezielt durch die Spülfluidströmung zerstören zu können, um so ein definiertes Ende des Spektralfilters zu bewirken.
Entsprechend kann eine Überwachungseinrichtung für den Spektralfilter sowie eine Steuer- und/oder Regelungseinheit vorgesehen sein, die bei der Ermittlung einer Schädigung oder Zerstörung des Spektralfilters einen entsprechenden Spülfluidstrom einstellt. Gleichzeitig kann die Ausbildung der Fluidvorhänge in geeigneter Weise abgeändert werden, um den Spülvorgang zu unterstützen. Dabei ist es möglich, dass die Zuführleitung mit ihrer Abgabeöffnung verstellbar ausgebildet ist, um den Fluidstrom zur Ausbildung eines Fluidvorhangs in einen Spülfluidstrom zum Spülen der Anlage im Bereich des Spektralfilters umzuwandeln. Entsprechend kann unter Umständen auch auf die Ausbildung zusätzlicher Spülleitungen verzichtet werden.
Neben der Überwachungseinrichtung für den Spektralfilter können unabhängig davon oder in Kombination weitere Sensoren zur Überwachung der Fluidvorhänge vorgesehen sein, die ebenfalls mit einer separaten Steuer- und/oder Regelungseinheit oder der Steuer- und/oder Regelungseinheit für die Spüleinrichtung verbunden sind, so dass die entsprechenden Fluidströme eingestellt werden können.
Unter Abtrennung wird bei der vorliegenden Erfindung ganz allgemein eine Trennung oder Abteilung von Bereichen oder Räumen zum Schutz oder zur Abschirmung der Bereiche oder der Räume und darin enthaltener Komponenten verstanden, wie sie vorstehend beschrieben worden ist und nachfolgend anhand der Beschreibung der Ausführungsbeispiele weiter erläutert wird. Andere Bedeutungen des Begriffs Abtrennung spielen für die vorliegende Erfindung keine Rolle.
KURZBESCHREIBUNG DER FIGUREN
Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in
1 eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie nach dem Stand der Technik, wie sie bei der vorliegenden Erfindung Verwendung finden kann;
2 einen Spektralfilter, wie er in der Projektionsbelichtungsanlage der 1 eingesetzt werden kann;
3 eine Darstellung einer Überwachungseinrichtung, wie sie gemäß der vorliegenden Erfindung Verwendung finden kann;
4 eine Darstellung einer Vorrichtung zur Abtrennung eines Spektralfilters von im Strahlengang des Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage nachfolgenden optischen Komponenten;
5 eine Darstellung einer weiteren Ausführungsform einer Vorrichtung zur Abtrennung eines Spektralfilters von im Strahlengang des Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage nachfolgenden optischen Komponenten und von der Strahlungsquelle; und in
6 eine Darstellung einer dritten Ausführungsform einer Vorrichtung zur Abtrennung eines Spektralfilters von im Strahlengang des Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage nachfolgenden optischen Komponenten und von der Strahlungsquelle mit einer zusätzlichen Einrichtung zur Entfernung von Teilen des Spektralfilters.
AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der beigefügten Zeichnungen deutlich. Die Erfindung ist jedoch nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.
Die 1 zeigt eine Ausgestaltung einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage 1 mit einer Beleuchtungsoptik 3 und einer Projektionsoptik 5. Die Beleuchtungsoptik 3 umfasst dabei ein erstes optisches Element 7 mit einer Mehrzahl von reflektiven ersten Facettenelementen 9 und ein zweites optisches Element 11 mit einer Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 13. Im Lichtweg nach dem zweiten optischen Element 11 sind ein erster Teleskopspiegel 15 und ein zweiter Teleskopspiegel 17 angeordnet, die beide unter senkrechtem Einfall betrieben werden, d. h. die Strahlung trifft unter einem Einfallswinkel zwischen 0° und 45° auf beide Spiegel. Unter dem Einfallswinkel wird dabei der Winkel zwischen einfallender Strahlung und der Normalen zur reflektiven optischen Fläche verstanden. Nachfolgend im Strahlengang ist ein Umlenkspiegel 19 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf das Objektfeld 21 in der Objektebene 23 lenkt. Der Umlenkspiegel 19 wird unter streifendem Einfall betrieben, d. h. die Strahlung trifft unter einem Einfallswinkel zwischen 45° und 90° auf den Spiegel.
Am Ort des Objektfeldes 21 ist eine reflektive strukturtragende Maske angeordnet, die mit Hilfe der Projektionsoptik 5 in die Bildebene 25 abgebildet wird. Die Projektionsoptik 5 umfasst sechs Spiegel 27, 29, 31, 33, 35 und 37. Alle sechs Spiegel der Projektionsoptik 5 weisen jeweils eine reflektive optische Fläche auf, die entlang einer um die optische Achse 39 rotationssymmetrischen Fläche verläuft.
Die Projektionsbelichtungsanlage nach 1 umfasst ferner eine Lichtquelleneinheit 43, die Strahlung auf das erste optische Element 7 lenkt. Die Lichtquelleneinheit 43 umfasst dabei ein Quellplasma 45 und einen Kollektorspiegel 47. Die Lichtquelleneinheit 43 kann in verschiedenen Ausführungsformen ausgebildet sein. Dargestellt ist eine Laserplasmaquelle (LPP Laser Pulsed Plasma). Bei diesem Quelltyp wird ein eng begrenztes Quellplasma 45 erzeugt, indem ein kleines Materialtröpfchen mit einem Tröpfchengenerator 49 hergestellt wird und an einen vorbestimmten Ort verbracht wird. Dort wird das Materialtröpfchen mit einem hochenergetischen Laser 51 bestrahlt, so dass das Material in einen Plasmazustand übergeht und Strahlung im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 15 nm emittiert. Der Laser 51 kann dabei so angeordnet sein, dass die Laserstrahlung durch eine Öffnung 53 in dem Kollektorspiegel fällt, bevor sie auf das Materialtröpfchen trifft. Als Laser 51 kommt z. B. ein Infrarotlaser mit der Wellenlänge 10 μm zum Einsatz. Alternativ kann die Lichtquelleneinheit 43 auch als eine Entladungsquelle ausgebildet sein, bei der das Quellplasma 45 mit Hilfe einer Entladung erzeugt wird. In beiden Fällen tritt neben der gewünschten Strahlung mit einer ersten Wellenlänge im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 15 nm, die vom Quellplasma emittiert wird, auch Strahlung mit einer zweiten, unerwünschten Wellenlänge auf. Hierbei handelt es sich z. B. um vom Quellplasma emittierte Strahlung außerhalb des gewünschten Wellenlängenbereiches von 5 nm bis 15 nm oder insbesondere bei der Verwendung einer Laserplasmaquelle um Laserstrahlung, die vom Quellplasma reflektiert wurde. Damit liegt die zweite Wellenlänge typischerweise im Infrarotbereich mit einer Wellenlänge von 0,78 μm bis 1000 μm, insbesondere im Bereich von 3 μm bis 50 μm. Beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage mit einer Laserplasmaquelle entspricht die zweite Wellenlänge insbesondere der Wellenlänge des zur Erzeugung des Quellplasmas 45 verwendeten Lasers 51. Beim Einsatz eines CO₂ Lasers ist dies z. B. die Wellenlänge 10,6 μm.
Die Strahlung mit der zweiten Wellenlänge kann nicht zur Abbildung der strukturtragenden Maske am Ort des Objektfeldes 21 verwendet werden, da die Wellenlänge zur Abbildung der Maskenstrukturen im Nanometer-Bereich zu groß ist. Die Strahlung mit der zweiten Wellenlänge führt daher insbesondere im Wellenlängenbereich von 100 nm bis 300 nm (DUV deep ultraviolet) zu einer unerwünschten Untergrundhelligkeit in der Bildebene 25. Weiterhin führt die Strahlung der zweiten Wellenlänge insbesondere im Infrarotbereich zu einer Erwärmung der optischen Elemente der Beleuchtungsoptik und der Projektionsoptik. Aus diesen beiden Gründen ist erfindungsgemäß ein Filterelement 55 zur Unterdrückung von Strahlung mit der zweiten Wellenlänge vorgesehen.
Das Filterelement 55 ist im Strahlengang zwischen der Lichtquelleneinheit 43 und dem ersten reflektiven optischen Element 7 der Beleuchtungsoptik 3 angeordnet. Auf diese Weise wird die Strahlung der zweiten Wellenlänge so frühzeitig wie möglich unterdrückt. Alternativ kann das Filterelement 55 auch an anderen Positionen im Strahlengang angeordnet sein. Das Filterelement kann eine Folie mit einer Dicke von weniger als 500 nm umfassen, wobei Material und Dicke der Folie derart ausgeführt sind, dass die Folie einen Anteil von mindestens 90% der Strahlung der zweiten Wellenlänge absorbiert und ein Anteil von 70% der Strahlung der ersten Wellenlänge transmittiert.
Die nun so spektral bereinigte Strahlung beleuchtet das erste reflektive optische Element 7. Der Kollektorspiegel 49 und die ersten reflektiven Facettenelemente 9 haben eine derartige optische Wirkung, dass sich Bilder des Quellplasmas 45 an den Orten der zweiten reflektiven Facettenelemente 13 des zweiten optischen Elements 11 ergeben. Hierzu werden einerseits die Brennweite des Kollektorspiegels 49 und der ersten Facettenelemente 9 entsprechend der räumlichen Abstände gewählt. Dies geschieht z. B. indem die reflektiven optischen Flächen der ersten reflektiven Facettenelemente 9 mit geeigneten Krümmungen versehen werden. Andererseits weisen die ersten reflektiven Facettenelemente 9 eine reflektive optische Fläche auf mit einem Normalenvektor, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven optischen Fläche im Raum festlegt, wobei die Normalenvektoren der reflektiven Flächen der ersten Facettenelemente 9 derart orientiert sind, dass die von einem ersten Facettenelement 9 reflektierte Strahlung auf ein zugeordnetes zweites reflektives Facettenelement 13 trifft. Das zweite reflektive Facettenelement 11 ist in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 3 angeordnet, die mit Hilfe der Spiegel 15, 17 und 19 auf die Austrittspupillenebene abgebildet wird. Dabei entspricht die Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik 3 gerade der Eintrittspupillenebene 57 der Projektionsoptik 5. Somit liegt das zweite optische Element 11 in einer Ebene, die optisch konjugiert zur Eintrittspupillenebene 57 der Projektionsoptik 5 ist. Aus diesem Grund steht die Intensitätsverteilung der Strahlung auf dem zweiten optischen Element 11 in einem einfachen Zusammenhang zur winkelabhängigen Intensitätsverteilung der Strahlung im Bereich des Objektfeldes 21. Dabei ist die Eintrittspupillenebene der Projektionsoptik 5 definiert als die Ebene senkrecht zur optischen Achse 39, in der der Hauptstrahl 59 zum Mittelpunkt des Objektfeldes 21 die optische Achse 39 schneidet.
Die Aufgabe der zweiten Facettenelemente 13 und der nachfolgenden Optik, die die Spiegel 15, 17 und 19 umfasst, ist es die ersten Facettenelemente 9 überlagernd auf das Objektfeld 21 abzubilden. Dabei versteht man unter überlagernder Abbildung, dass Bilder der ersten reflektiven Facettenelemente 9 in der Objektebene entstehen und dort zumindest teilweise überlappen. Hierzu weisen die zweiten reflektiven Facettenelemente 13 eine reflektive optische Fläche mit einem Normalenvektor auf, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven optischen Fläche im Raum festlegt. Für jedes zweite Facettenelement 13 ist die Richtung des Normalenvektors so gewählt, dass das ihm zugeordnete erste Facettenelement 9 auf das Objektfeld 21 in der Objektebene 23 abgebildet wird. Da die ersten Facettenelemente 9 auf das Objektfeld 21 abgebildet werden, entspricht die Form des ausgeleuchteten Objektfeldes 21 der äußeren Form der ersten Facettenelemente 9. Die äußere Form der ersten Facettenelemente 9 wird daher üblicherweise derart bogenförmig gewählt, dass die langen Berandungslinien des ausgeleuchteten Objektfeldes 21 im Wesentlichen kreisbogenförmig um die optische Achse 39 der Projektionsoptik 5 verlaufen.
Zwischen dem Filter 55 und dem ersten reflektiven Element 7 wird mittels einer in 1 nicht näher, aber in den 3 bis 6 detailliert beschriebenen Vorrichtung ein erster Fluidvorhang 60 gemäß der vorliegenden Erfindung ausgebildet, so dass Zerstörungsprodukte, die bei der Zerstörung des Filters 55 entstehen, nicht zum ersten reflektiven Element 7 gelangen können. Zusätzlich wird zwischen Filter 55 und der Lichtquelleneinheit 43 ein weiterer Fluidvorhang 61 ausgebildet, um einerseits, wie nachfolgend ebenfalls noch detailliert beschrieben werden wird, den Spektralfilter 55 vor einem quellenseitigen Leckstrom zu schützen und andererseits ebenfalls zu verhindern, dass Partikel von dem Spektralfilter in Richtung der Lichtquelleneinheit 43 gelangen. Ein weiterer Fluidvorhang 62 kann zwischen den Spiegeln 17 und 19 vorgesehen sein.
Die 2 zeigt einen Filter 111, wie er beispielsweise in der Projektionsbelichtungsanlage der 1 eingesetzt werden kann. Der Filter 111 weist einen kreisförmigen Rahmen 132 auf, in welchem der eigentliche Filter aus einer Vielschichtstruktur mit alternierenden Zirkon- und Siliziumschichten 131 aufgenommen ist. Zur Stabilisierung der Zirkon-/Siliziumschichten 131 ist zusätzlich ein Gitter 130 in einer Honigwabenstruktur vorgesehen, welches optional ist.
Allerdings besteht bei derartigen Filtern weiterhin das Problem, dass trotz der Stabilisierung der Schichtstruktur mittels einer Wabenstruktur der Filter reißen kann, sodass nicht nur ungehindert das Licht der Lichtquelleneinheit 43 hindurch treten und in das Beleuchtungssystem eintreten kann, sondern dass auch Zerstörungsprodukte des Filters bei einer Zerstörung in das System der Projektionsbelichtungsanlage und insbesondere zu den dort angeordneten optischen Elementen gelangen können.
Die Projektionsbelichtungsanlage, wie sie in der 1 beschrieben ist, wird mit gepulstem Licht betrieben, also mit wiederkehrend maximal hoher Lichtintensität unterbrochen von Zeiten geringer Lichtintensität, wobei die Maxima der Lichtintensität über der Zeit in einem zeitlichen Abstand dT vorliegen. Die Pulsdauer beträgt beispielsweise etwa 50 ns und die Impulsfrequenz der Lichtquelle kann zwischen 6 kHz und etwa 60 kHz betrieben werden, sodass der Abstand dT zwischen 0,2 ms bis 2 ms beträgt. In den Pausen zwischen zwei Pulsen, die auch als sogenannte Idle Time bezeichnet wird, kann eine Überwachungseinrichtung den Filter prüfen, sodass auch die Überwachungseinrichtung in einem entsprechend gepulsten Betrieb betrieben wird.
Die 3 zeigt eine Überwachungseinrichtung, wie sie bezüglich eines Filters 211, der in der Projektionsbelichtungsanlage aus 1 eingesetzt werden kann, verwendet wird. Die Überwachungseinrichtung umfasst eine Lichtquelle 251, welches Licht 252 aussendet, das über eine optische Anordnung, dargestellt durch eine Sammellinse 253, gebündelt wird, um einen definierten Überwachungslichtstrahl 254 zu bilden, der auf den Filter 211 gerichtet wird. Der Überwachungslichtstrahl 254 kann in seinem Querschnitt so groß dimensioniert sein, dass der gesamte Filter 211 bestrahlt wird. Alternativ kann der Strahlungsquerschnitt des Überwachungslichtstrahls 254 auch kleiner als der Filter 211 sein, sodass über eine Ablenkungseinrichtung (nicht gezeigt) der Überwachungslichtstrahl 254 über die Oberfläche des Filters 211 geführt (gescannt) werden kann. Ferner ist es auch möglich den Filter 211 in zwei oder mehr Bereiche zu unterteilen, nämlich den Filterbereich 211a und den Filterbereich 211b und für jeden der Filterbereiche 211a, 211b eine eigene Überwachungseinrichtung vorzusehen, die dann wiederum so ausgebildet sein kann, dass der Überwachungslichtstrahl 254 den gesamten Filterbereich 211a, 211b überdeckt oder über den Filterbereich 211a, 211b in einer Scanbewegung geführt wird.
Da der Filter 211 beispielsweise als Spektralfilter ausgebildet ist, wird ein Teil des Überwachungslichtstrahls 254 durch den Filter 211 hindurch treten und als Lichtstrahl 256 auf den zweiten Teil der optischen Anordnung der Überwachungseinrichtung, welche wiederum als Sammellinse 257 dargestellt ist, treffen, um in einem aufbereiteten Strahl 258 auf einen Detektor 259 gelenkt zu werden. Mit dem Detektor 259 kann der Lichtstrahl 258 erfasst werden und beispielsweise die Intensität ermittelt werden.
Wird nunmehr der Filter 211 beschädigt, so wird sich eine Veränderung des transmittierten Lichts ergeben, was vom Detektor 259 erfasst werden kann, sodass durch einen Vergleich einer aktuell gemessenen Lichtintensität mit einer früheren gemessenen Lichtintensität auf den Zustand des Filters 211 geschlossen werden kann.
Die Überwachungseinrichtung kann hierzu eine entsprechende Steuer- und/oder Regelungseinheit aufweisen, die genauso wie eine Steuer- und/oder Regelungseinheit für eine Abtrennvorrichtung vorzugsweise über eine Datenverarbeitungseinheit mit entsprechender Software realisiert werden kann, um ein Ergebnis für den Zustand des Filters 211 zu ermitteln. Mit dem Überwachungsergebnis kann unmittelbar eine Signalausgabe an ein oder mehrere Eingänge einer Steuerungs- und/oder Regelungseinheit der Abtrennvorrichtung ausgeben, um die Abtrennvorrichtung, wie nachfolgend noch detailliert beschrieben werden wird, in geeigneter Weise zu betreiben. Die nicht dargestellte Steuer- und/oder Regelungseinheit zur Steuerung und/oder Regelung der Überwachungseinrichtung kann zugleich zur Steuerung und/oder Regelung der Abtrennvorrichtung eingesetzt werden und durch eine mit entsprechender Software ausgestattete Datenverarbeitungsanlage gebildet werden.
Neben dem transmittierten Strahl 256 des Überwachungslichtstrahls 254 wird ein Teil des Lichts auch am Filter 211 reflektiert und erzeugt einen reflektierten Lichtstrahl 255, der beispielsweise ebenfalls von einem Detektor 261 erfasst werden kann. Es sind auch Fälle vorstellbar, in denen lediglich der reflektierte Strahl 255 zur Erfassung des Zustands des Filters verwendet wird.
Da der Filter im Wesentlichen zum Filtern des Nutzlichts 250 der Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt wird, ist die Anordnung der Überwachungseinrichtung so vorzunehmen, dass durch die Überwachungseinrichtung kein Licht in den Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage eingeführt wird. Dies gilt insbesondere bei einem nicht gepulsten Betrieb. Entsprechend sind die Lichtquelle 251 und die Detektoren 259 und 261 so angeordnet, dass der Strahlengang der Überwachungseinrichtung mit dem Überwachungslichtstrahl 254, dem transmittierten Strahl 256 und/oder dem reflektierten Strahl 255 jeweils quer zum Strahlengang bzw. der Lichtausbreitungsrichtung des Nutzlichts 250 der Projektionsbelichtungsanlage gegeben ist. Insbesondere können die Winkel zwischen dem Überwachungslichtstrahl 254 sowie dem transmittierten und/oder reflektierten Lichtstrahl 256, 255 einerseits und der Ausbreitungsrichtung des Nutzlichts 250 durch den Filter 211 andererseits im Bereich von 30° bis 90°, vorzugsweise 45° bis 90° bezogen auf die Ausbreitungsrichtung der Lichtstrahlen gewählt werden.
Um zusätzlich zu vermeiden, dass Streulicht oder sonstiges reflektiertes Licht in den Strahlengang des Nutzlichts gelangt, kann die Überwachungseinrichtung mindestens eine Lichtfalle umfassen, die Licht der Lichtquelle oder reflektiertes oder durchgelassenes Licht absorbiert oder vom Eindringen in den Strahlengang des Nutzlichts abhält. Beispielsweise ist in der 3 eine Blendeneinrichtung 260 schematisch dargestellt, die diesem Zweck dient.
Die 4 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zum Abtrennen (Abtrennvorrichtung) eines Spektralfilters 300 von benachbarten optischen Elementen oder Abschnitten einer Projektionsbelichtungsanlage. Wie in 4 mit den Pfeilen 307 und 308 für die Strahlrichtung des Nutz- oder Arbeitslichts der Projektionsbelichtungsanlage dargestellt und wie im Zusammenhang mit der 1 deutlich ist, kann ein Spektralfilter 300 bzw. 55 durch die in 4 dargestellte Abtrennvorrichtung von im Strahlengang nachfolgenden optischen Elementen, wie der Spiegelanordnung 7 aus 1, abgeschottet werden. Entsprechend ist nach der Ausführungsform der 4 ausgehend von dem Spektralfilter 300 in Strahlungsrichtung 308 des Nutzlichts in den zu dem Spektralfilter benachbarten Gehäuseteilen 301 eine Zuführleitung 303 für ein Fluid sowie eine Absaugleitung 304 vorgesehen. Die Gehäuseteile 301 sowie die Halterung 302 mit dem Spektralfilter 300 und der Zuführleitung 303 sowie der Absaugleitung 304 kann auch als Baueinheit ausgeführt sein.
Das Fluid wird entsprechend dem Pfeil 315 in der Zuführleitung zu einer Abgabeöffnung 305 geführt, wo es die Zuführleitung 303 verlässt, um auf der gegenüberliegenden Seite der Gehäuseanordnung von der Aufnahmeöffnung 306 der Absaugleitung 304 wieder aufgenommen zu werden und entsprechend des Pfeils 314 durch die Absaugleitung 304 geführt zu werden. Dadurch entsteht im Bereich zwischen der Abgabeöffnung 305 und der Aufnahmeöffnung 306 ein Fluidvorhang 310, welcher in dem gezeigten Ausführungsbeispiel parallel zur Hauptfläche des Spektralfilters 300 ausgebildet ist, wobei die Hauptfläche des Spektralfilters 300 durch die größte Fläche, also die Fläche definiert ist, die entlang der größten Dimensionen des Spektralfilters 300 aufgespannt ist. Der Fluidvorhang ist in der Darstellung der 4 und den nachfolgenden Figuren als Pfeil 310 dargestellt, um die Fluidströmung zu veranschaulichen.
Da sich die Abgabeöffnung 305 und die Aufnahmeöffnung 306 auch in einer Richtung senkrecht zur Bildebene erstrecken können bzw. mehrere Abgabeöffnungen 305 und Aufnahmeöffnungen 306 sowie mehrere Zuführleitungen 303 und Absaugleitungen 304 vorgesehen sein können, kann der Fluidvorhang 310 als ein flächiges Gebilde ausgebildet sein, welches den Bereich des Strahlengangs gemäß der Strahlungsrichtung 308 nach dem Spektralfilter vollständig abschließt. Darüber hinaus ist es auch möglich, statt nur eines einzigen Fluidvorhangs 310 mehrere Fluidvorhänge vorzusehen, die auch in beliebiger Anordnung zueinander, insbesondere winkliger Anordnung, versetzter Anordnung, paralleler Anordnung usw., ausgebildet sein können.
Kommt es nun zu einer Beschädigung des Spektralfilters 300, so dass sich entsprechend der gestrichelten Pfeile 309 Partikel von dem Spektralfilter 300 ablösen, so werden diese entsprechend den gestrichelten Pfeilen 309 durch den Sog des Fluidvorhangs in die Absaugleitung 304 eingesaugt und dort entlang der Fluidströmung 314 abtransportiert.
In der Absaugleitung 314 kann ein Partikelabscheider 312 vorgesehen sein, der beispielsweise durch eine Senke und eine Ablenkplatte 311 gebildet ist, die sich unter dem Winkel α zur Eingangsrichtung der Absaugleitung 304 erstreckt. Dadurch wird der Fluidstrom, wie in der 4 dargestellt ist, abgelenkt und im Fluidstrom enthaltene Partikel können aufgrund der Führung des Fluidstroms in einer Senke 313 abgeschieden werden. Darüber hinaus kann in der Absaugleitung 314 ein Filter 316 vorgesehen sein, der zum Herausfiltern der Partikel aus dem Fluidstrom 314 dient.
Die 5 zeigt eine weitere Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Abtrennung von optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage, wobei hier statt eines Fluidvorhangs 310 auf der von der Strahlungsquelle abgewandten Seite des Spektralfilters 300 jeweils auf jeder Seite des Spektralfilters 300 ein Fluidvorhang 310, 320 ausgebildet wird. Entsprechend ist zumindest eine zweite Zuführleitung 323 und eine zweite Absaugleitung 324 vorgesehen, wobei wiederum eine Abgabeöffnung 325 der Zuführleitung 323 und eine Aufnahmeöffnung 326 der Absaugleitung 324 einander gegenüberliegend vorhanden sind. Ähnlich der Ausbildung des Fluidvorhangs 310 werden Partikel des Spektralfilters 300 gemäß der gestrichelten Pfeile 329 durch den Fluidstrom in die Absaugleitung 324 gezogen und dort gemäß dem Fluidstrom 327 geführt, so dass wiederum in einem Partikelabscheider 322 in einer Senke 328 die entsprechenden Partikel abgeschieden werden können. Auch ein Partikelfilter kann wiederum vorgesehen werden. Zusätzlich kann jedoch durch den Fluidvorhang auch verhindert werden, dass ein quellenseitiger Leckstrom von der Strahlungsquelle, der durch die Pfeile 321 angedeutet ist, auf den Spektralfilter 300 treffen kann, so dass durch den Fluidvorhang 320 nicht nur ein Schutz benachbarter Komponenten vor Teilen des Spektralfilters 300 gegeben ist, sondern auch der Spektralfilter 300 selbst geschützt wird.
Die 6 zeigt eine dritte Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, die im Wesentlichen den Ausführungsformen der 4 und 5 entspricht, was die Anordnung von Komponenten zur Ausbildung von Fluidvorhängen 310 und 320 anbelangt. Entsprechend wird darauf verzichtet, dieselben Komponenten, die bereits bei den 4 und 5 beschrieben worden sind, bei der Ausführungsform der 6 noch einmal zu beschreiben.
Die 6 weist jedoch zusätzliche Spülleitungen 330 und 331 auf, die es ermöglichen, dass ein zusätzlicher Fluidstrom in Richtung des Spektralfilters 300 geführt wird. Entsprechend sind die Spülleitungen 330, 331 um den Winkel β geneigt zur Ebene der Hauptfläche des Spektralfilters 300 angeordnet. Durch die Spülleitungen 330, 331 wird ein Fluidstrom erzeugt, der Teile des Spektralfilters 300 entfernen soll, wenn dieser entweder bereits vorgeschädigt ist oder wenn nach einer Schädigung nur noch Restteile des Spektralfilters 300 vorhanden sind. Entsprechend ist bei der Ausführungsform der 6 eine Überwachungseinrichtung 332 schematisch dargestellt, wie sie beispielsweise mit Bezug auf die 3 detailliert beschrieben worden ist. Die Überwachungseinrichtung 333 kann den Zustand des Spektralfilters 300 überwachen und, wenn eine Schädigung des Spektralfilters 300 festgestellt wird, durch eine nicht näher dargestellte Steuerungs- und/oder Regelungseinheit der Abtrennvorrichtung bewirken, dass die Fluidströme zum Spülen aus den Spülleitungen 330 und 331 aktiviert werden, um den Spektralfilter 300 in definierter und gezielter Weise zu zerstören und für einen Abtransport der Teile des Spektralfilters 300 über den Fluidvorhang 320 zu sorgen. Entsprechend kann der Fluidvorhang 310 in einem derartigen Betriebszustand abgeschaltet werden.
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der vorgestellten Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für einen Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen realisiert werden, ohne dass der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche verlassen wird.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

EP 1708031 A2 [0004]
WO 2007/107783 A1 [0006]

Claims

Vorrichtung zur Abtrennung eines ersten Bereichs einer Projektionsbelichtungsanlage von einem zweiten Bereich einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere von ersten optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage von zweiten optischen Elementen, wobei mindestens ein Trennbereich definiert ist, in dem die Abtrennung erfolgt, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung Leitungen (303, 304) zur Leitung eines Fluids umfasst, die so ausgebildet sind, dass das Fluid im Trennbereich mindestens einen Fluidvorhang (310) ausbildet.
Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Trennbereich eine Trennfläche oder Trennebene aufweist, entlang der das Fluid zur Ausbildung des Fluidvorhangs (310) strömt.
Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung mindestens eine Zuführleitung (303) und mindestens eine Absaugleitung (304) umfasst, wobei jede Zuführleitung mindestens eine Abgabeöffnung (305) und jede Absaugleitung mindestens eine Aufnahmeöffnung (306) aufweisen und wobei der Fluidvorhang zwischen der mindestens einen Abgabeöffnung und der mindestens einen Aufnahmeöffnung ausgebildet wird.
Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung so ausgebildet ist, dass mehrere Fluidvorhänge gebildet werden können.
Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Fluid Luft oder ein Gas, insbesondere ein Inertgas ist.
Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abgabeöffnung (305) der Zuführleitung (303) zur Erhöhung der Strömungsgeschwindigkeit des Fluids einen gegenüber der Zuführleitung verengten Querschnitt aufweist.
Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Absaugleitung (304) einen Partikelfilter (316) und/oder Partikelabscheider (312) aufweist.
Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Abtrennvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche.
Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Bereich einen Spektralfilter umfasst oder das erste optische Element ein Spektralfilter (55, 300) und die zweiten optischen Elemente Komponenten (7) des Beleuchtungssystems und/oder der Strahlungsquelle (43) sind.
Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass im Beleuchtungssystem ein erster Fluidvorhang (310) auf der zu einem Feldfacettenspiegel gerichteten Seite eines Spektralfilters und/oder ein zweiter Fluidvorhang (320) auf der zur Strahlungsquelle gerichteten Seite eines Spektralfilters angeordnet ist.
Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 9 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Fluidvorhang (310, 320) im Wesentlichen parallel zur Hauptfläche des Spektralfilters (300) ausgerichtet ist.
Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Abgabeöffnung der Zuführleitung so auf den Spektralfilter ausgerichtet werden kann, dass der Fluidstrom auf den Spektralfilter geleitet wird und/oder dass mindestens eine Spülleitung (330, 331) vorgesehen ist, mit welcher ein Fluidstrom auf den Spektralfilter (300) gerichtet werden kann.
Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass eine Steuer- und/oder Regelungseinheit und/oder eine Überwachungseinrichtung (332) vorgesehen sind, mittels denen der Fluidstrom steuer- und/oder regelbar ist.
Verfahren zur Abtrennung eines ersten Bereichs einer Projektionsbelichtungsanlage von einem zweiten Bereich einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere zur Abtrennung von ersten optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage von zweiten optischen Elementen, wobei mindestens ein Trennbereich definiert ist, in dem die Abtrennung erfolgt, insbesondere mit einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7 und/oder in einer Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 8 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass im Trennbereich die Strömung eines Fluids erzeugt wird, die so ausgebildet ist, dass das Fluid im Trennbereich mindestens einen Fluidvorhang (60, 61; 310, 320) ausbildet.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das erste optische Element ein Spektralfilter (55) und die zweiten optischen Elemente Komponenten (7) des Beleuchtungssystems und/oder der Strahlungsquelle (43) sind und im Bereich des Spektralfilters mindestens ein zweiter Fluidstrom erzeugt wird, wenn festgestellt wird, dass der Spektralfilter eine Schädigung aufweist, wobei der zweite Fluidstrom direkt auf den Spektralfilter gerichtet wird, um Teile des Spektralfilters zu entfernen.