DE102012207048A1 - Method for manufacturing e.g. field faucet mirror of illumination optical device, involves arranging structural element with broken mirror element so that one of defective mirror elements is provided out of range of reflection surfaces - Google Patents

Abstract

The method involves providing base plate for the arrangement of optical device and specifying a certain arrangement of virtual facets having facet reflective surfaces. The predetermined number of optical components is arranged on the base plate for forming the faucet reflective surfaces of the virtual facets. The structural element is arranged with broken mirror element so that one of the defective mirror elements is provided out of range of faucet reflection surfaces of the virtual facets. Independent claims are included for the following: (1) lighting system; (2) projection exposure system; (3) method for manufacturing micro or nano structured component; and (4) micro or nano structured component.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer optischen Baugruppe. Die Erfindung betrifft weiterhin eine optische Baugruppe. Außerdem betrifft die Erfindung einen Facettenspiegel, eine Beleuchtungsoptik und ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen optischen Baugruppe. Schließlich betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage, ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements und ein derartig hergestelltes Bauelement. The invention relates to a method for producing an optical assembly. The invention further relates to an optical assembly. In addition, the invention relates to a facet mirror, an illumination optical system and a lighting system with such an optical assembly. Finally, the invention relates to a projection exposure apparatus, a method for producing a microstructured or nanostructured component and a component produced in this way.

Die Verwendung von Mikrospiegel-Arrays zur Herstellung optischer Baugruppen ist beispielsweise aus der DE 10 2011 006 100.2 bekannt.The use of micromirror arrays for producing optical assemblies is known, for example, from US Pat DE 10 2011 006 100.2 known.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung derartiger Baugruppen zu verbessern.The invention has for its object to improve a method for producing such assemblies.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Der Kern der Erfindung besteht darin, modular ausgebildete Spiegel-Arrays auf einer gemeinsamen Grundplatte anzuordnen, wobei ein Teil der Module defekte Spiegelelemente aufweisen. Hierbei werden die Spiegel-Arrays derartig angeordnet, dass zumindest ein Teil der defekten Spiegel-Elemente außerhalb eines Bereichs liegen, welcher als Facetten-Reflexionsfläche einer Mehrzahl virtueller Facetten dient.This object is solved by the features of claim 1. The core of the invention is to arrange modular mirror arrays on a common base plate, wherein a part of the modules have defective mirror elements. In this case, the mirror arrays are arranged such that at least part of the defective mirror elements lie outside a region which serves as a facet reflection surface of a plurality of virtual facets.

Ein Modul kann neben mindestens einem Spiegel-Array noch weitere Bestandteile enthalten, zum Beispiel zur Ansteuerung.In addition to at least one mirror array, a module may also contain further components, for example for activation.

Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass es auf der Baugruppe Bereiche gibt, welche nicht zur Überführung von Beleuchtungsstrahlung von einer Strahlungsquelle in ein zu beleuchtendes Objektfeld beitragen. Hierzu zählen insbesondere die Bereiche, welche jeweils zwischen den Bereichen liegen, welche Facetten-Reflexionsflächen bilden. Sofern ein defektes Spiegelelement in einem derartigen, nicht genutzten Bereich zu liegen kommt, hat dies keinerlei Einfluss auf die optischen Eigenschaften, insbesondere keinerlei Einfluss auf die Abbildungseigenschaften der optischen Baugruppe.According to the invention, it has been recognized that there are areas on the assembly which do not contribute to the transfer of illumination radiation from a radiation source into an object field to be illuminated. These include in particular the areas which lie in each case between the areas which form facet reflection surfaces. If a defective mirror element comes to lie in such a non-used area, this has no influence on the optical properties, in particular no influence on the imaging properties of the optical assembly.

Es ist somit möglich, teilweise defekte Module zu verbauen, ohne dass dies zu einer Beeinträchtigung der Eigenschaften der optischen Baugruppe führt. Hierdurch können insbesondere die Gesamtkosten zur Herstellung der Baugruppe erheblich reduziert werden.It is thus possible to install partially defective modules without this leading to impairment of the properties of the optical assembly. As a result, in particular, the total cost of producing the assembly can be significantly reduced.

Unter einem defekten Spiegelelement sei hierbei ein Spiegelelement verstanden, dessen optische Eigenschaften, insbesondere dessen Reflektivität, vorbestimmte Kriterien nicht erfüllt. Defekt kann ein Spiegelelement insbesondere sein, wenn dessen über seine Spiegelfläche gemittelte Reflektivität kleiner als 60%, insbesondere kleiner als 50% ist. Defekt kann ein Spiegelelement sein, wenn seiner über die Spiegelfläche gemittelte Reflektivität kleiner als 90% des entsprechenden Wertes gemittelt über die Spiegelflächen aller Einzelspiegel ist. Defekt kann ein Spiegelelement insbesondere sein, wenn ein Anteil der Spiegelfläche von mehr als 15%, insbesondere mehr als 5%, eine Reflektivität von weniger als 25% besitzt. Defekt kann ein Spiegelelement insbesondere sein, wenn seine Spiegelfläche um mehr als 5% kleiner als die Spiegelfläche der anderen Spiegelelemente des Moduls ist.In this case, a defective mirror element should be understood to mean a mirror element whose optical properties, in particular its reflectivity, do not fulfill predetermined criteria. A defect can be a mirror element, in particular, if its reflectivity averaged over its mirror surface is less than 60%, in particular less than 50%. Defect may be a mirror element if its reflectivity averaged over the mirror surface is less than 90% of the corresponding value averaged over the mirror surfaces of all individual mirrors. A defect can be a mirror element, in particular, if a proportion of the mirror surface of more than 15%, in particular more than 5%, has a reflectivity of less than 25%. A defect can be a mirror element, in particular, if its mirror surface is smaller than the mirror surface of the other mirror elements of the module by more than 5%.

Bei dem Defekt des Spiegelelements kann es sich auch um einen mechanischen Defekt, insbesondere um eine eingeschränkte Verlagerbarkeit relativ zu einer Soll-Verlagerbarkeit handeln. Ein Spiegelelement ist insbesondere dann defekt, wenn es nicht so verlagert werden kann, dass das Beleuchtungslicht alle Pupillenfacetten, die der virtuellen Feldfacetten, zu der das Spiegelelement gehört, zugeordnet sind, erreichen kann. Ein Spiegelelement kann dann defekt sein, wenn es eine virtuelle Feldfacette gibt, bei der dieses Einzelspiegelchen so verlagert werden kann, dass das Beleuchtungslicht alle zugeordneten Pupillenfacetten erreichen kann. Ein Spiegelelement kann defekt sein, wenn bei der Verlagerung auf eine zugeordnete Pupillenfacette mehr als 5%, insbesondere mehr als 1% des Beleuchtungslichtes auf ein Gebiet außerhalb der Pupillenfacette fällt.The defect of the mirror element may also be a mechanical defect, in particular a limited displaceability relative to a desired displaceability. A mirror element is in particular defective if it can not be displaced so that the illumination light can reach all the pupil facets associated with the virtual field facets to which the mirror element belongs. A mirror element may be defective if there is a virtual field facet in which this single mirror can be displaced so that the illumination light can reach all the associated pupil facets. A mirror element may be defective if more than 5%, in particular more than 1%, of the illumination light falls on an area outside the pupil facet during the displacement to an assigned pupil facet.

Vorzugsweise werden die modularen Bauelemente derart angeordnet, dass die Gesamtzahl defekter Spiegel-Elemente, welche innerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen, minimiert wird. Der Anteil an Spiegel-Arrays mit defekten Spiegel-Elementen kann im Bereich von 5% bis 50%, insbesondere im Bereich von 10% bis 50%, im Bereich von 25% bis 50% liegen.Preferably, the modular components are arranged such that the total number of defective mirror elements located within the facet reflective surfaces is minimized. The proportion of mirror arrays with defective mirror elements can be in the range of 5% to 50%, in particular in the range of 10% to 50%, in the range of 25% to 50%.

Es kann insbesondere vorgesehen sein, die Bauelemente derart anzuordnen, dass sämtliche defekten Spiegel-Elemente außerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen. In particular, it may be provided to arrange the components in such a way that all defective mirror elements lie outside the facet reflection surfaces.

Es kann auch vorgesehen sein, die modularen Bauelemente auf der Grundplatte anzuordnen, sodann die Bauelemente zu identifizieren, welche mindestens ein defektes Spiegel-Element aufweisen, insbesondere ein defektes Spiegel-Element, welches innerhalb der Facetten-Reflexionsfläche liegt, und anschließend einzelne Bauelemente paarweise auszutauschen.It can also be provided to arrange the modular components on the base plate, then to identify the components which have at least one defective mirror element, in particular a defective mirror element, which lies within the facet reflection surface, and then exchange individual components in pairs ,

Hierzu kann vorgesehen sein, Bauelemente paarweise, d. h. wechselseitig auszutauschen. Bei Bauelementen mit entsprechenden Eigenschaften, insbesondere entsprechenden Symmetrieeigenschaften, ist es auch möglich, einzelne Bauelemente gegen sich selbst auszutauschen, insbesondere in einer gegenüber der ursprünglichen Anordnung rotierten Anordnung wieder an derselben Stelle auf der Grundplatte anzuordnen. Dies ist insbesondere bei Bauelementen mit einer zwei-, drei-, vier- oder sechs-zähligen Drehsymmetrie vorteilhaft. Für Bauelemente mit einer n-zähligen Drehsymmetrie kann es insbesondere verschiedene Anordnungsmöglichkeiten an derselben Stelle auf der Grundplatte geben. Hierdurch wird die Variabilität der Anordnung der einzelnen Bauelemente weiter vergrößert.For this purpose, it may be provided to exchange components in pairs, ie mutually. For components with corresponding properties, in particular corresponding Symmetry properties, it is also possible to exchange individual components against itself, in particular to arrange in a rotated relative to the original arrangement arrangement again at the same location on the base plate. This is particularly advantageous for components with a two-, three-, four- or six-fold rotational symmetry. For components with an n-fold rotational symmetry, there may in particular be various possible arrangements at the same location on the base plate. As a result, the variability of the arrangement of the individual components is further increased.

Ein Austauschen der Bauelemente kann insbesondere auch zu einem späteren Zeitpunkt während der Lebensdauer der Baugruppen möglich sein.Replacement of the components may in particular also be possible at a later time during the life of the assemblies.

Durch wechselseitiges Austauschen einer geeigneten Auswahl der Module kann die Gesamtanzahl defekter Spiegelelemente, welche innerhalb einer vorgegebenen Anordnung von Facetten-Reflexionsflächen liegen, verringert werden.By mutually exchanging a suitable selection of the modules, the total number of defective mirror elements which lie within a predetermined arrangement of facet reflection surfaces can be reduced.

Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass durch Austauschen einzelner Bauelemente und/oder wechselseitiges Austauschen jeweils zweier, auf der Grundplatte angeordneter optischer Bauelemente die Gesamtanzahl defekter Spiegelelemente, welche innerhalb der zur Überführung der Beleuchtungsstrahlung in das Objektfeld genutzten Facetten-Reflexionsflächen liegen, verringert werden kann. Es ist insbesondere vorgesehen, die Gesamtzahl defekter Spiegelelemente, welche innerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen, durch Austauschen einzelner Bauelemente und/oder wechselseitiges Austauschen jeweils zweier, auf der Grundplatte angeordneter optischer Bauelemente zu minimieren.According to the invention, it has been recognized that by exchanging individual components and / or exchanging two respective optical components arranged on the base plate, the total number of defective mirror elements which lie within the facet reflection surfaces used for transferring the illumination radiation into the object field can be reduced. In particular, it is envisaged to minimize the total number of defective mirror elements which lie within the facet reflection surfaces by exchanging individual components and / or exchanging two respective optical components arranged on the baseplate.

Vorzugsweise ist zum Verringern der Gesamtanzahl defekter Spiegelelemente, welche innerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen, ein iteratives wechselseitiges Austauschen von Bauelementen vorgesehen. Preferably, to reduce the total number of defective mirror elements located within the facet reflective surfaces, iterative interchange of components is provided.

Es ist insbesondere vorteilhaft, die Bauelemente derart wechselseitig auszutauschen, dass bei jedem Austausch zweier Bauelemente die Gesamtanzahl defekter Spiegelelemente, welche innerhalb der Gesamtheit sämtlicher Facetten-Reflexionsflächen liegen, verringert wird. It is particularly advantageous to exchange the components in such a way that the total number of defective mirror elements, which lie within the totality of all facet reflection surfaces, is reduced with each replacement of two components.

Es ist insbesondere vorteilhaft, die Zuordnung der Bauelemente zu Positionen auf der Grundplatte bereits vorzunehmen, bevor die Spiegelarrays beschichtet worden sind, da die optimale Auslegung der reflektierenden Beschichtung von den Einfallswinkeln und damit von der Position auf der Grundplatte abhängt. Hierfür eine mindestens teilweise Qualifikation der Bauelemente vor dem Beschichtungszeitpunkt durchzuführen, wobei es vorteilhaft ist, insbesondere die Verlagerungsfähigkeit mindestens einiger Einzelspiegel bereits zu diesem Zeitpunkt zu überprüfen.It is particularly advantageous to carry out the assignment of the components to positions on the base plate before the mirror arrays have been coated, since the optimum design of the reflective coating depends on the angles of incidence and thus on the position on the base plate. For this purpose, carry out an at least partial qualification of the components before the coating time, wherein it is advantageous to check in particular the displacement ability of at least some individual mirror already at this time.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine optische Baugruppe zu verbessern. Another object of the invention is to improve an optical assembly.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 7 gelöst. This object is solved by the features of claim 7.

Der Kern der Erfindung besteht darin, eine optische Baugruppe mit einer Mehrzahl optischer Bauelemente, welche auf einer gemeinsamen Grundplatte angeordnet sind, auszubilden, wobei zumindest ein Teil der Bauelemente ein Spiegel-Array mit mindestens einem defekten Spiegelelement aufweist. The core of the invention is to form an optical assembly with a plurality of optical components, which are arranged on a common base plate, wherein at least a part of the components has a mirror array with at least one defective mirror element.

Bezüglich der Vorteile sei auf die vorhergehend für das Verfahren zur Herstellung der optischen Baugruppe beschriebenen Vorteile verwiesen.With regard to the advantages, reference is made to the advantages described above for the method for producing the optical assembly.

Bei dem defekten Spiegelelement kann es sich um ein mechanisch und/oder optisch defektes Spiegelelement handeln. Unter einem defekten Spiegelelement sei hierbei wiederum eines verstanden, welches vorbestimmte optische und/oder mechanische Kriterien nicht erfüllt.The defective mirror element may be a mechanically and / or optically defective mirror element. In this case, a defective mirror element is once again understood to be one which does not fulfill predetermined optical and / or mechanical criteria.

Insgesamt können bis zu 50% der Bauelemente defekte Spiegelelemente aufweisen. Der Anteil der Bauelemente mit defekten Spiegelelementen liegt insbesondere im Bereich von 5% bis 50%, insbesondere im Bereich von 10% bis 50%, insbesondere im Bereich von 25% bis 50%.Overall, up to 50% of the components may have defective mirror elements. The proportion of components with defective mirror elements is in particular in the range of 5% to 50%, in particular in the range of 10% to 50%, in particular in the range of 25% to 50%.

Vorzugsweise sind die Bauelemente derart auf der Grundplatte angeordnet, dass defekte Spiegelelemente außerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen. Vorzugsweise liegen sämtliche defekte Spiegelelemente außerhalb der Facetten-Reflexionsflächen. Die Bauelemente sind insbesondere derart angeordnet, dass mindestens 50% der defekten Spiegelelemente, insbesondere mindestens 75%, insbesondere mindestens 90% außerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen.Preferably, the components are arranged on the base plate such that defective mirror elements lie outside the facet reflection surfaces. Preferably, all defective mirror elements are outside the facet reflection surfaces. The components are in particular arranged such that at least 50% of the defective mirror elements, in particular at least 75%, in particular at least 90%, lie outside the facet reflection surfaces.

Abgesehen von möglichen Defekten, insbesondere einzelnen defekten Spiegelelementen, können die Bauelemente elektrisch und/oder mechanisch identisch ausgebildet sein. Sie bilden vorzugsweise autarke Einheiten. Sie sind insbesondere wechselseitig austauschbar. Hierdurch wird die Flexibilität der Anordnung der Bauelemente wesentlich erhöht.Apart from possible defects, in particular individual defective mirror elements, the components can be designed to be electrically and / or mechanically identical. They preferably form self-sufficient units. They are especially interchangeable. As a result, the flexibility of the arrangement of the components is substantially increased.

Eine Teilmenge der Bauelemente kann mit einer zueinander ähnlichen reflektierenden Schicht auf den Einzel-Reflexionsflächen versehen sein. Es kann vorteilhaft sein, diese Bauelemente primär untereinander zu tauschen.A subset of the components can be provided with a mutually similar reflecting layer on the individual reflection surfaces. It can be advantageous to exchange these components primarily with each other.

Die Einzel-Reflexionsflächen der Spiegelelemente sind vorzugsweise zu einer Mehrzahl von Facetten-Elementen gruppierbar, wobei jedes Facetten-Element eine Facetten-Reflexionsfläche aufweist, welche jeweils durch eine Parkettierung aus einer Mehrzahl von Einzel-Reflexionsflächen von Spiegelelementen mindestens zweier Bauelemente gebildet ist.The individual reflection surfaces of the mirror elements are preferably groupable into a plurality of facet elements, wherein each facet element has a facet reflection surface, which is formed in each case by a tiling of a plurality of individual reflection surfaces of mirror elements of at least two components.

Die Facetten-Reflexionsflächen sind vorzugsweise einfach zusammenhängend. Sie weisen vorzugsweise eine Form auf, welche an die Form des zu beleuchtenden Objektfeldes angepasst ist. Sie weisen insbesondere ein Aspektverhältnis auf, welches dem des zu beleuchtenden Objektfeldes entspricht. The facet reflection surfaces are preferably simply connected. They preferably have a shape which is adapted to the shape of the object field to be illuminated. In particular, they have an aspect ratio which corresponds to that of the object field to be illuminated.

Die optische Baugruppe bildet insbesondere einen Facettenspiegel, insbesondere einen Feldfacettenspiegel, für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie.In particular, the optical assembly forms a facet mirror, in particular a field facet mirror, for illumination optics of a projection exposure apparatus, in particular an EUV projection exposure apparatus for microlithography.

Weitere Aufgaben der Erfindung bestehen darin, eine Beleuchtungsoptik und ein Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage und eine Projektionsbelichtungsanlage zu verbessern. Diese Aufgaben werden durch die Merkmale der Ansprüche 11 bis 13 gelöst. Die Vorteile entsprechen den vorhergehend beschriebenen. Further objects of the invention are to improve an illumination optics and a lighting system for a projection exposure apparatus and a projection exposure apparatus. These objects are achieved by the features of claims 11 to 13. The advantages are the same as those described above.

Weitere Aufgaben der Erfindung bestehen darin, ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements und ein derartiges Bauelement zu verbessern. Diese Aufgaben werden durch die Merkmale der Ansprüche 14 und 15 gelöst. Further objects of the invention are to improve a method for producing a microstructured or nanostructured component and such a component. These objects are achieved by the features of claims 14 and 15.

Weitere Details und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der Zeichnungen. Es zeigen:Further details and advantages of the invention will become apparent from the description of an embodiment with reference to the drawings. Show it:

1 eine schematische Darstellung einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Beleuchtungssystem und einer Projektionsoptik im Meridionalschnitt, 1 a schematic representation of a projection exposure apparatus for microlithography with a lighting system and a projection optics in meridional section,

2 eine schematische Darstellung eines Bauelements mit einem Spiegel-Array, 2 a schematic representation of a device with a mirror array,

3 eine schematische Darstellung der Anordnung vier derartiger Bauelemente auf einer Grundplatte, 3 a schematic representation of the arrangement of four such components on a base plate,

4 eine schematische Darstellung der Ausbildung von Facetten-Reflexionsflächen, welche jeweils durch eine Parkettierung aus einer Mehrzahl von Einzel-Reflexionsflächen gebildet ist, und 4 a schematic representation of the formation of facet reflection surfaces, which is formed in each case by a tiling of a plurality of individual reflection surfaces, and

5 eine Darstellung entsprechend 3 mit einer alternativen Anordnung der Facetten-Reflexionsflächen. 5 a representation accordingly 3 with an alternative arrangement of faceted reflective surfaces.

Im Folgenden wird zunächst der prinzipielle Aufbau einer Projektionsbelichtungsanlage 1 anhand der Figuren beschrieben. In the following, the basic structure of a projection exposure apparatus will be described first 1 described with reference to the figures.

1 zeigt schematisch in einem Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithografie. Ein Beleuchtungssystem 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Belichtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Das Objektfeld 5 kann rechteckig oder bogenförmig mit einem x/y-Aspektverhältnis von beispielsweise 13/1 gestaltet sein. Belichtet wird hierbei ein im Objektfeld 5 angeordnetes und in der 1 nicht dargestelltes reflektierendes Retikel, das eine mit der Projektionsbelichtungsanlage 1 zur Herstellung mikrobeziehungsweise nanostrukturierter Halbleiter-Bauelemente zu projizierende Struktur trägt. Eine Projektionsoptik 7 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 8 in einer Bildebene 9. Abgebildet wird die Struktur auf dem Retikel auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 8 in der Bildebene 9 angeordneten Wafers, der in der Zeichnung nicht dargestellt ist. 1 schematically shows in a meridional section a projection exposure system 1 for microlithography. A lighting system 2 the projection exposure system 1 has next to a radiation source 3 an illumination optics 4 for the exposure of an object field 5 in an object plane 6 , The object field 5 may be rectangular or arcuate with an x / y aspect ratio of, for example, 13/1. One is exposed in the object field 5 arranged and in the 1 not shown reflective reticle, the one with the projection exposure system 1 contributes to the production of mikroskopziehungsweise nanostructured semiconductor devices to be projected structure. A projection optics 7 serves to represent the object field 5 in a picture field 8th in an image plane 9 , The structure on the reticle is imaged onto a photosensitive layer in the area of the image field 8th in the picture plane 9 arranged wafer, which is not shown in the drawing.

Das Retikel, das von einem nicht dargestellten Retikelhalter gehalten ist, und der Wafer, der von einem nicht dargestellten Waferhalter gehalten ist, werden beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage 1 synchron in der y-Richtung gescannt. Abhängig vom Abbildungsmaßstab der Projektionsoptik 7 kann auch ein gegenläufiges Scannen des Retikels relativ zum Wafer stattfinden. The reticle, which is held by a reticle holder, not shown, and the wafer, which is held by a wafer holder, not shown, are in operation of the projection exposure apparatus 1 scanned synchronously in the y-direction. Depending on the imaging scale of the projection optics 7 can also take place an opposite scanning of the reticle relative to the wafer.

Mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird wenigstens ein Teil des Retikels auf einen Bereich einer lichtempfindlichen Schicht auf dem Wafer zur lithographischen Herstellung eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauelements, insbesondere eines Halbleiterbauelements, zum Beispiel eines Mikrochips abgebildet. Je nach Ausführung der Projektionsbelichtungsanlage 1 als Scanner oder als Stepper werden das Retikel und der Wafer zeitlich synchronisiert in der y-Richtung kontinuierlich im Scannerbetrieb oder schrittweise im Stepperbetrieb verfahren. With the help of the projection exposure system 1 For example, at least part of the reticle is imaged onto a region of a photosensitive layer on the wafer for the lithographic production of a microstructured or nanostructured device, in particular a semiconductor device, for example a microchip. Depending on the version of the projection exposure system 1 As a scanner or as a stepper, the reticle and the wafer are synchronized in the y-direction continuously in scanner operation or stepwise in stepper mode.

Bei der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle mit einer emittierten Nutzstrahlung im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Es kann sich dabei um eine Plasmaquelle, beispielsweise um eine GDPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Gasentladung, Gas Discharge Produced Plasma), oder um eine LPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Laser, Laser Produced Plasma) handeln. Auch andere EUV-Strahlungsquellen, beispielsweise solche, die auf einem Synchrotron oder auf einem Free Electron Laser (Freie Elektronenlaser, FEL) basieren, sind möglich. At the radiation source 3 it is an EUV radiation source with an emitted useful radiation in the range between 5 nm and 30 nm. It can be a plasma source, for example a GDPP source (plasma generation by gas discharge, gas discharge produced Plasma), or to an LPP source (plasma generation by laser, laser produced plasma) act. Other EUV radiation sources are also possible, for example those based on a synchrotron or on a Free Electron Laser (FEL).

EUV-Strahlung 10, die von der Strahlungsquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 11 gebündelt. Ein entsprechender Kollektor ist beispielsweise aus der EP 1 225 481 A bekannt. Nach dem Kollektor 11 propagiert die EUV-Strahlung 10 durch eine Zwischenfokusebene 12, bevor sie auf einen Feldfacettenspiegel 13 mit einer Vielzahl von Feldfacetten 13a trifft. Der Feldfacettenspiegel 13 ist in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die zur Objektebene 6 optisch konjugiert ist. EUV radiation 10 coming from the radiation source 3 emanating from a collector 11 bundled. A corresponding collector is for example from the EP 1 225 481 A known. After the collector 11 propagates the EUV radiation 10 through an intermediate focus level 12 before moving to a field facet mirror 13 with a variety of field facets 13a meets. The field facet mirror 13 is in a plane of illumination optics 4 arranged to the object level 6 is optically conjugated.

Die EUV-Strahlung 10 wird nachfolgend auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungslicht oder als Abbildungslicht bezeichnet. The EUV radiation 10 is hereinafter also referred to as useful radiation, illumination light or as imaging light.

Nach dem Feldfacettenspiegel 13 wird die EUV-Strahlung 10 von einem Pupillenfacettenspiegel 14 mit einer Vielzahl von Pupillenfacetten 14a reflektiert. Der Pupillenfacettenspiegel 14 liegt entweder in der Eintrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik 7 oder in einer hierzu optisch konjugierten Ebene. Der Feldfacettenspiegel 13 und der Pupillenfacettenspiegel 14 sind aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln aufgebaut, die nachfolgend noch näher beschrieben werden. Dabei kann die Unterteilung des Feldfacettenspiegels 13 in Einzelspiegel derart sein, dass jede der Feldfacetten 13a, die für sich das gesamte Objektfeld 5 ausleuchten, durch genau einen der Einzelspiegel repräsentiert wird. Alternativ ist es möglich, zumindest einige oder alle der Feldfacetten 13a durch eine Mehrzahl derartiger Einzelspiegel aufzubauen. Entsprechendes gilt für die Ausgestaltung der den Feldfacetten 13a jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 14a des Pupillenfacettenspiegels 14, die jeweils durch einen einzigen Einzelspiegel oder durch eine Mehrzahl derartiger Einzelspiegel gebildet sein können. After the field facet mirror 13 becomes the EUV radiation 10 from a pupil facet mirror 14 with a variety of pupil facets 14a reflected. The pupil facet mirror 14 lies either in the entrance pupil plane of the illumination optics 7 or in a plane optically conjugated thereto. The field facet mirror 13 and the pupil facet mirror 14 are constructed from a variety of individual mirrors, which are described in more detail below. In this case, the subdivision of the field facet mirror 13 be in individual mirrors such that each of the field facets 13a that for themselves the entire object field 5 Illuminate, represented by exactly one of the individual mirrors. Alternatively, it is possible to have at least some or all of the field facets 13a build up by a plurality of such individual mirrors. The same applies to the design of the field facets 13a respectively assigned pupil facets 14a of the pupil facet mirror 14 , which may each be formed by a single individual mirror or by a plurality of such individual mirrors.

Die EUV-Strahlung 10 trifft auf die beiden Facettenspiegel 13, 14 unter einem Einfallswinkel, gemessen normal zur Spiegelfläche, auf, der kleiner oder gleich 25° ist. Die beiden Facettenspiegel 13, 14 werden also im Bereich eines normal incidence-Betriebs mit der EUV-Strahlung 10 beaufschlagt. Auch eine Beaufschlagung unter streifendem Einfall (grazing incidence) ist möglich. Der Pupillenfacettenspiegel 14 ist in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die eine Pupillenebene der Projektionsoptik 7 darstellt beziehungsweise zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 7 optisch konjugiert ist. Mithilfe des Pupillenfacettenspiegels 14 und einer abbildenden optischen Baugruppe in Form einer Übertragungsoptik 15 mit in der Reihenfolge des Strahlengangs für die EUV-Strahlung 10 bezeichneten Spiegeln 16, 17 und 18 werden die Feldfacetten des Feldfacettenspiegels 13 einander überlagernd in das Objektfeld 5 abgebildet. Der letzte Spiegel 18 der Übertragungsoptik 15 ist ein Spiegel für streifenden Einfall („Grazing incidence Spiegel“). Die Übertragungsoptik 15 wird zusammen mit dem Pupillenfacettenspiegel 14 auch als Folgeoptik zur Überführung der EUV-Strahlung 10 vom Feldfacettenspiegel 13 hin zum Objektfeld 5 bezeichnet. Das Beleuchtungslicht 10 wird von der Strahlungsquelle 3 hin zum Objektfeld 5 über eine Mehrzahl von Ausleuchtungskanälen geführt. Jedem dieser Ausleuchtungskanäle ist eine Feldfacette 13a des Feldfacettenspiegels 13 und eine dieser nachgeordnete Pupillenfacette 14a des Pupillenfacettenspiegels 14 zugeordnet. Die Einzelspiegel des Feldfacettenspiegels 13 und des Pupillenfacettenspiegels 14 können aktuatorisch verkippbar sein, sodass ein Wechsel der Zuordnung der Pupillenfacetten 14a zu den Feldfacetten 13a und entsprechend eine geänderte Konfiguration der Ausleuchtungskanäle erreicht werden kann. Es resultieren unterschiedliche Beleuchtungssettings, die sich in der Verteilung der Beleuchtungswinkel des Beleuchtungslichts 10 über das Objektfeld 5 unterscheiden.The EUV radiation 10 meets the two facet mirrors 13 . 14 at an incident angle measured normal to the mirror surface, which is less than or equal to 25 °. The two facet mirrors 13 . 14 are therefore in the range of a normal incidence operation with the EUV radiation 10 applied. Also, an application under grazing incidence (grazing incidence) is possible. The pupil facet mirror 14 is in a plane of illumination optics 4 arranged, which is a pupil plane of the projection optics 7 represents or to a pupil plane of the projection optics 7 is optically conjugated. Using the pupil facet mirror 14 and an imaging optical assembly in the form of a transmission optics 15 with in the order of the beam path for the EUV radiation 10 designated mirrors 16 . 17 and 18 become the field facets of the field facet mirror 13 overlapping each other in the object field 5 displayed. The last mirror 18 the transmission optics 15 is a grazing incidence mirror. The transmission optics 15 becomes along with the pupil facet mirror 14 also as a follow-up optics for the transfer of EUV radiation 10 from the field facet mirror 13 towards the object field 5 designated. The illumination light 10 is from the radiation source 3 towards the object field 5 guided over a plurality of illumination channels. Each of these illumination channels is a field facet 13a of the field facet mirror 13 and one of these subordinate pupil facets 14a of the pupil facet mirror 14 assigned. The individual mirrors of the field facet mirror 13 and the pupil facet mirror 14 can be tiltable actuator, so that a change in the assignment of the pupil facets 14a to the field facets 13a and according to a modified configuration of the illumination channels can be achieved. This results in different lighting settings, resulting in the distribution of the illumination angle of the illumination light 10 over the object field 5 differ.

Erfindungsgemäß ist vorgesehen, den Feldfacettenspiegel 13 als Multispiegelarray (englisch: Multi Mirror Array, MMA) auszubilden. Er ist insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS) ausgebildet. Er bildet allgemein eine optische Baugruppe zur Führung der Nutzstrahlung 10, insbesondere der EUV-Strahlung 10. Die optische Baugruppe umfasst eine Mehrzahl von Multispiegelarrays (englisch: Multi Mirror Arrays, MMA) 19, welche auf einer gemeinsamen Grundplatte 20 angeordnet sind. Die Grundplatte 20 dient der Stromversorgung und/oder der Signalverbindung der Multispiegel-Arrays 19 mit einer externen Steuer- und/oder Regeleinrichtung.According to the invention, the field facet mirror is provided 13 as a multi-mirror array (English: Multi Mirror Array, MMA) form. It is designed in particular as a microelectromechanical system (MEMS). It generally forms an optical assembly for guiding the useful radiation 10 , in particular EUV radiation 10 , The optical module comprises a plurality of multi-mirror arrays (English: Multi Mirror Arrays, MMA) 19 , which are on a common base plate 20 are arranged. The base plate 20 serves the power supply and / or the signal connection of the multilevel arrays 19 with an external control and / or regulating device.

Allgemein bilden die Multispiegel-Arrays 19 Bestandteile optischer Bauelemente, welche im Folgenden auch als Module 22 bezeichnet werden. Die Module 22 sind insbesondere als MEMS-Module, ausgebildet. Sie werden auch als Briks bezeichnet.In general, the multilevel arrays form 19 Components of optical components, which in the following also as modules 22 be designated. The modules 22 are in particular designed as MEMS modules. They are also referred to as briks.

Die Multispiegel-Arrays 19 weisen eine Vielzahl von matrixartig zeilen- und spaltenweise angeordneten Einzelspiegeln auf. Die Einzelspiegel werden im Folgenden auch als Spiegel-Elemente 21 bezeichnet. Die Spiegel-Elemente 21 sind aktuatorisch verkippbar ausgelegt. Insgesamt weist jedes der Multispiegel-Arrays 19 bis zu mehreren hunderttausend Spiegel-Elementen 21 auf. Die Spiegel-Elemente 21 weisen jeweils eine Einzel-Reflexionsfläche 24 auf.The multi-level arrays 19 have a plurality of matrix-like rows and columns arranged individual mirrors. The individual mirrors are also referred to below as mirror elements 21 designated. The mirror elements 21 are actuators tiltable designed. Overall, each of the multi-level arrays assigns 19 up to several hundred thousand mirror elements 21 on. The mirror elements 21 each have a single reflection surface 24 on.

Für Details der Multispiegel-Arrays 19 und deren Anordnung auf der Grundplatte 20 sei auf die DE 10 2011 006 100.2 verwiesen. For details of the multi-level arrays 19 and their arrangement on the base plate 20 be on the DE 10 2011 006 100.2 directed.

Die Module 22 mit den Multispiegel-Arrays 19 bilden vorzugsweise autarke Einheiten. Hierunter sei verstanden, dass die gesamte Elektronik zur Steuerung der Spiegel-Elemente 21 sich vorzugsweise in den Modulen 22 befindet.The modules 22 with the multilevel arrays 19 preferably form self-sufficient units. By this is understood that the entire electronics for controlling the mirror elements 21 preferably in the modules 22 located.

Die Module 22 sind insbesondere elektrisch und mechanisch identisch.The modules 22 are in particular electrically and mechanically identical.

Wie in der 4 schematisch dargestellt ist, können virtuelle Feldfacetten 23 durch Gruppen von Spiegel-Elementen 21 realisiert werden. Hierzu werden die Spiegel-Elemente 21, welche sich im Bereich einer virtuellen Feldfacette 23 befinden, derart verkippt, dass sie eine makroskopische Feldfacette approximieren. Like in the 4 is shown schematically, virtual field facets 23 through groups of mirror elements 21 will be realized. For this, the mirror elements 21 , which are in the range of a virtual field facet 23 tilted so as to approximate a macroscopic field facet.

Die virtuellen Feldfacetten 23 weisen jeweils eine Facetten-Reflexionsfläche auf, welche durch eine Parkettierung aus einer Mehrzahl von Einzel-Reflexionsflächen 24 von Spiegel-Elementen 21 gebildet ist. Die Facetten-Reflexionsfläche ist insbesondere durch eine Parkettierung aus einer Mehrzahl von Einzel-Reflexionsflächen 24 von Spiegel-Elementen 21 mindestens zweier Bauelemente 19, insbesondere von mindestens Bauelementen 19, insbesondere von mindestens acht Bauelementen 19 gebildet. Die virtuellen Feldfacetten 23 umfassen insbesondere Spiegel-Elemente 21 von mindestens vier nebeneinander angeordneten Modulen 22.The virtual field facets 23 each have a facet reflection surface, which by a tiling of a plurality of individual reflection surfaces 24 of mirror elements 21 is formed. The facet reflection surface is in particular by a tiling of a plurality of individual reflection surfaces 24 of mirror elements 21 at least two components 19 , in particular of at least components 19 , in particular of at least eight components 19 educated. The virtual field facets 23 include in particular mirror elements 21 of at least four modules arranged side by side 22 ,

Abgesehen von einem notwendigerweise vorhandenen Abstand zwischen den Spiegel-Elementen 21 innerhalb eines Multispiegel-Arrays 19 und einem Abstand zwischen den Spiegel-Elementen 21 zweier benachbarter Multispiegel-Arrays 19 bilden die Einzel-Reflexionsflächen 24 vorzugsweise eine dichte Parkettierung, insbesondere der virtuellen Feldfacetten 23. Sie weisen einen Füllgrad von mindestens 70%, vorzugsweise mindestens 90% auf. Der Füllgrad wird auch als Integrationsdichte bezeichnet. Apart from a necessarily existing distance between the mirror elements 21 within a multi-level array 19 and a distance between the mirror elements 21 two adjacent multilevel arrays 19 form the individual reflection surfaces 24 preferably a dense tiling, in particular the virtual field facets 23 , They have a degree of filling of at least 70%, preferably at least 90%. The degree of filling is also referred to as integration density.

Die virtuellen Feldfacetten 23 werden durch geeignete Ansteuerung der Spiegel-Elemente 21 definiert. Die Einzel-Reflexionsflächen 24 sind somit zu einer Mehrzahl von virtuellen Feldfacetten 23 gruppierbar. The virtual field facets 23 be by suitable control of the mirror elements 21 Are defined. The single reflection surfaces 24 are thus a plurality of virtual field facets 23 assigned to groups.

Die Spiegel-Elemente 21 sind von einem Substrat 25 gehalten. Das Substrat 25 weist einen Randbereich 26 auf. Der Randbereich 26 ist insbesondere um die Spiegel-Elemente 21 herum umlaufend angeordnet. Er weist eine Breite b, insbesondere eine maximale Breite b, von höchstens 5 mm, insbesondere höchstens 3 mm, insbesondere höchstens 1 mm, insbesondere höchstens 0,5 mm, insbesondere höchstens 0,3 mm, insbesondere höchstens 0,2 mm auf. Für Details sei wiederum auf die DE 10 2011 006 100.2 verwiesen.The mirror elements 21 are from a substrate 25 held. The substrate 25 has a border area 26 on. The border area 26 is especially about the mirror elements 21 arranged circumferentially around. It has a width b, in particular a maximum width b, of at most 5 mm, in particular at most 3 mm, in particular at most 1 mm, in particular at most 0.5 mm, in particular at most 0.3 mm, in particular at most 0.2 mm. For details turn to the DE 10 2011 006 100.2 directed.

Die Module 22 sind austauschbar auf der Grundplatte 20 angeordnet. Sie sind insbesondere wechselseitig austauschbar. Allgemein ist zumindest ein Teil der Module 22 wechselseitig austauschbar.The modules 22 are interchangeable on the base plate 20 arranged. They are especially interchangeable. General is at least part of the modules 22 mutually exchangeable.

In der Praxis kann es vorkommen, dass einzelne Spiegel-Elemente 21 eines Multispiegel-Arrays 19 defekt, d. h. nicht voll funktionsfähig sind. Hierunter sei verstanden, dass ihre optischen und/oder mechanischen Eigenschaften vorgegebene Kriterien nicht erfüllen. Es ist beispielsweise möglich, dass ihre Reflektivität für die Nutzstrahlung 10 unterhalb eines vorgegebenen Mindestwerts liegt. Defekt kann ein Spiegelelement insbesondere sein, wenn dessen über seine Spiegelfläche gemittelte Reflektivität kleiner als 60%, insbesondere kleiner als 50% ist. Defekt kann ein Spiegelelement sein, wenn seiner über die Spiegelfläche gemittelte Reflektivität kleiner als 90% des entsprechenden Wertes gemittelt über die Spiegelflächen aller Einzelspiegel ist. Defekt kann ein Spiegelelement insbesondere sein, wenn ein Anteil der Spiegelfläche von mehr als 15%, insbesondere mehr als 5%, eine Reflektivität von weniger als 25% besitzt. Defekt kann ein Spiegelelement insbesondere sein, wenn seine Spiegelfläche um mehr als 5% kleiner als die Spiegelfläche der anderen Spiegelelemente des Moduls ist.In practice, it may happen that individual mirror elements 21 a multi-level array 19 defective, ie not fully functional. By this is understood that their optical and / or mechanical properties do not meet predetermined criteria. It is possible, for example, that their reflectivity for the useful radiation 10 below a predetermined minimum value. A defect can be a mirror element, in particular, if its reflectivity averaged over its mirror surface is less than 60%, in particular less than 50%. Defect may be a mirror element if its reflectivity averaged over the mirror surface is less than 90% of the corresponding value averaged over the mirror surfaces of all individual mirrors. A defect can be a mirror element, in particular, if a proportion of the mirror surface of more than 15%, in particular more than 5%, has a reflectivity of less than 25%. A defect can be a mirror element, in particular, if its mirror surface is smaller than the mirror surface of the other mirror elements of the module by more than 5%.

Es ist auch möglich, dass ihre mechanische Funktion, insbesondere ihre Verlagerbarkeit eingeschränkt, d. h. defekt, ist. Ein Spiegelelement ist insbesondere dann defekt, wenn es nicht so verlagert werden kann, dass das Beleuchtungslicht alle Pupillenfacetten, die der virtuellen Feldfacetten, zu der das Spiegelelement gehört, zugeordnet sind, erreichen kann. Ein Spiegelelement kann dann defekt sein, wenn es eine virtuelle Feldfacette gibt, bei der dieses Einzelspiegelchen so verlagert werden kann, dass das Beleuchtungslicht alle zugeordneten Pupillenfacetten erreichen kann. Ein Spiegelelement kann defekt sein, wenn bei der Verlagerung auf eine zugeordnete Pupillenfacette mehr als 5%, insbesondere mehr als 1% des Beleuchtungslichtes auf ein Gebiet außerhalb der Pupillenfacette fällt.It is also possible that their mechanical function, in particular their displaceability restricted, d. H. defective, is. A mirror element is in particular defective if it can not be displaced so that the illumination light can reach all the pupil facets associated with the virtual field facets to which the mirror element belongs. A mirror element may be defective if there is a virtual field facet in which this single mirror can be displaced so that the illumination light can reach all the associated pupil facets. A mirror element may be defective if more than 5%, in particular more than 1%, of the illumination light falls on an area outside the pupil facet during the displacement to an assigned pupil facet.

Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass es möglich ist, derartige Multispiegel-Arrays 19 mit defekten Spiegel-Elementen 21d zu verbauen, ohne dass dies nachteilig für die optischen Eigenschaften der Baugruppe ist. Erfindungsgemäß ist daher vorgesehen, dass jedes Multispiegel-Array 19 mindestens ein intaktes Spiegel-Element 21 aufweist. Hierunter sei verstanden, dass das Spiegel-Element 21 vorgegebene optische sowie vorzugsweise auch mechanische und elektrische Kriterien erfüllt. Weiterhin weist zumindest ein Teil der Module 22 ein Multispiegel-Array 19 mit mindestens einem defekten Spiegel-Element 21d auf. According to the invention, it has been recognized that it is possible to have such multi-mirror arrays 19 with defective mirror elements 21d to build, without this being detrimental to the optical properties of the assembly. According to the invention, it is therefore provided that each multi-mirror array 19 at least one intact mirror element 21 having. By this is understood that the mirror element 21 met predetermined optical, and preferably also mechanical and electrical criteria. Further points at least part of the modules 22 a multi-level array 19 with at least one defective mirror element 21d on.

Insgesamt können zwischen 5% und 50% der Module 22, insbesondere zwischen 10% und 50%, insbesondere zwischen 25% und 50% der Module 22 defekte Spiegel-Elemente 21d aufweisen. In total, between 5% and 50% of the modules 22 , in particular between 10% and 50%, in particular between 25% and 50% of the modules 22 broken mirror elements 21d exhibit.

Wie aus der in 4 exemplarisch dargestellten Anordnung der Module 22 relativ zu den virtuellen Feldfacetten 23 ersichtlich ist, gibt es insbesondere am Rande des Bereichs, welcher als Facetten-Reflexionsfläche genutzt wird, Module 22, die nur teilweise genutzt sind. Es gibt insbesondere Module 22, bei welchen nur ein Teil der Spiegel-Elemente 21, insbesondere höchstens 90%, beispielsweise höchstens 70%, beispielsweise höchstens 50% der Spiegel-Elemente 21 zur Ausbildung einer Facetten-Reflexionsfläche beitragen. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, die Module 22 derart auf der Grundplatte 20 anzuordnen, dass defekte Spiegel-Elemente 21d im nicht genutzten Bereich, d. h. außerhalb der Reflexionsflächen der virtuellen Feldfacetten 23, liegen. Entsprechende defekte Spiegel-Elemente 21d sind in den 4 und 5 exemplarisch schraffiert dargestellt.As from the in 4 exemplified arrangement of the modules 22 relative to the virtual field facets 23 As can be seen, there are modules, especially at the edge of the area, which is used as a facet reflection surface 22 that are only partially used. There are modules in particular 22 in which only a part of the mirror elements 21 , in particular at most 90%, for example at most 70%, for example at most 50% of the mirror elements 21 contribute to the formation of a faceted reflective surface. According to the invention, the modules are provided 22 such on the base plate 20 arrange that broken mirror elements 21d in the unused area, ie outside the reflection areas of the virtual field facets 23 , lie. Corresponding defective mirror elements 21d are in the 4 and 5 hatched by way of example.

In 5 ist eine alternative Anordnung der virtuellen Feldfacetten 23 exemplarisch dargestellt. Hierbei wurde berücksichtigt, dass die Abmessungen der Reflexionsflächen der virtuellen Feldfacetten 23 unterschiedlich sein können. Bei einer derartigen Anordnung der virtuellen Feldfacetten 23 gibt es auch zwischen den virtuellen Feldfacetten 23 Bereiche, welche außerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen, d. h. nicht zur Überführung von Nutzstrahlen 10 von der Strahlungsquelle 3 in das Objektfeld 5 dienen. Auch in diesen Bereichen können defekte Spiegel-Elemente 21d angeordnet sein, ohne dass dies zu einer Beeinträchtigung der optischen Eigenschaften des Feldfacettenspiegels 13 führt.In 5 is an alternative arrangement of the virtual field facets 23 exemplified. It was considered that the dimensions of the reflection surfaces of the virtual field facets 23 can be different. With such an arrangement of the virtual field facets 23 there are also between the virtual field facets 23 Areas which lie outside the facet reflection surfaces, ie not for the transfer of useful rays 10 from the radiation source 3 in the object field 5 serve. Even in these areas can defective mirror elements 21d be arranged, without causing an impairment of the optical properties of the field facet mirror 13 leads.

Im Folgenden wird ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung einer optischen Baugruppe beschrieben. Zunächst wird die Grundplatte 20 und eine Vielzahl von Modulen 22 zur Anordnung auf der Grundplatte 20 bereitgestellt. Außerdem wird eine bestimmte Anordnung der virtuellen Facetten 23 vorgegeben. Sodann wird eine vorgegebene Anzahl der Module 22 zur Ausbildung der Facetten-Reflexionsflächen der virtuellen Facetten 23 auf der Grundplatte 20 angeordnet. Hierbei werden Module 22 mit defekten Spiegel-Elementen 21d derart angeordnet, dass die defekten Spiegel-Elemente 21d außerhalb der Facetten-Reflexionsflächen der virtuellen Facetten 23 liegen. Allgemein wird mindestens ein Modul 22 mit mindestens einem defekten Spiegel-Element 21d derart angeordnet, dass das defekte Spiegel-Element 21d außerhalb der Facetten-Reflexionsfläche der virtuellen Facetten 23 liegt.In the following, a method according to the invention for producing an optical assembly will be described. First, the base plate 20 and a variety of modules 22 for arrangement on the base plate 20 provided. In addition, a specific arrangement of the virtual facets 23 specified. Then, a predetermined number of modules 22 for the formation of facet reflection surfaces of the virtual facets 23 on the base plate 20 arranged. Here are modules 22 with defective mirror elements 21d arranged such that the defective mirror elements 21d outside the facet reflection surfaces of the virtual facets 23 lie. Generally, at least one module 22 with at least one defective mirror element 21d arranged such that the defective mirror element 21d outside the faceted reflection surface of the virtual facets 23 lies.

Bevorzugt ist eine Anordnung der Module 22 derart, dass die Gesamtzahl defekter Spiegel-Elemente 21d, welche innerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen, minimiert wird.An arrangement of the modules is preferred 22 such that the total number of defective mirror elements 21d , which lie within the facet reflection surfaces, is minimized.

Vorzugsweise werden die Module 22 derart angeordnet, dass sämtliche defekten Spiegel-Elemente 21d außerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen.Preferably, the modules 22 arranged such that all defective mirror elements 21d lie outside the facet reflection surfaces.

Die Anordnung der Module 22 auf der Grundplatte 20 kann vor dem tatsächlichen Anordnen der Module 22 optimiert werden. Alternativ oder zusätzlich hierzu ist es möglich, die Anordnung der Module 22 nach dem tatsächlichen Anordnen derselben auf der Grundplatte 20 zu optimieren. Es ist insbesondere möglich, die Gesamtzahl defekter Spiegel-Elemente 21d, welche innerhalb der Facetten-Reflexionsflächen der virtuellen Facetten 23 liegen, durch ein wechselseitiges Austauschen von Modulen 22 zu verringern. Die Module 22 können insbesondere derart iterativ wechselseitig ausgetauscht werden, dass bei jedem Austausch zweier Module 22 die Gesamtzahl defekter Spiegel-Elemente 21d, welche innerhalb der Gesamtheit sämtlicher Facetten-Reflexionsflächen liegen, verringert wird. Besitzt mehr als ein Modul 22 jeweils mindestens ein defektes Spiegel-Element 21d, so kann das wechselseitige Tauschen von Modulen 22 auch im Rahmen einer Simulation, bei der dann ein besser Zustand, insbesondere Optimum, gesucht wird, durchgeführt werden. Die dort gefundene Zuordnung von Modulen 22 auf die Grundplatte 20 kann dann direkt umgesetzt werden, sodass keine redundanten Einsetzund Entfernungsvorgänge von Modulen 22 auf bzw. von der Grundplatte 20 notwendig sind.The arrangement of the modules 22 on the base plate 20 can before actually arranging the modules 22 be optimized. Alternatively or additionally, it is possible, the arrangement of the modules 22 after actually placing them on the base plate 20 to optimize. It is possible in particular, the total number of defective mirror elements 21d which are within the facet reflection surfaces of the virtual facets 23 lie, by a mutual exchange of modules 22 to reduce. The modules 22 In particular, such can be exchanged alternately in such a way that every time two modules are replaced 22 the total number of defective mirror elements 21d , which are within the totality of all facet reflection surfaces, is reduced. Has more than one module 22 in each case at least one defective mirror element 21d , so can the mutual exchange of modules 22 also in the context of a simulation in which a better state, in particular optimum, is sought. The assignment of modules found there 22 on the base plate 20 can then be implemented directly, so no redundant insertion and removal operations of modules 22 on or from the base plate 20 necessary.

Außerdem ist es möglich, die Anordnung der virtuellen Facetten 23 an die Position der defekten Spiegel-Elemente 21d anzupassen. Dies kann insbesondere nach Anordnung der Module 22 auf der Grundplatte 20 geschehen. Die Anordnung der virtuellen Facetten 23 wird insbesondere derart an die Position der defekten Spiegel-Elemente 21d angepasst, dass die Gesamtzahl der defekten Spiegel-Elemente 21d, welche innerhalb des Bereichs der Facetten-Reflexionsflächen liegen, verringert, insbesondere minimiert wird. Dies ist insbesondere vorteilhaft, sofern die Pupillenfacetten 14a verstellbar bzw. nachjustierbar sind.It is also possible to arrange the virtual facets 23 to the position of the defective mirror elements 21d adapt. This can especially after arrangement of the modules 22 on the base plate 20 happen. The arrangement of the virtual facets 23 is in particular so to the position of the defective mirror elements 21d adjusted that the total number of defective mirror elements 21d , which are within the range of the facet reflection surfaces, reduced, in particular minimized. This is particularly advantageous if the pupil facets 14a are adjustable or readjustable.

Die erfindungsgemäße Baugruppe kann insbesondere als Facettenspiegel 13 der Beleuchtungsoptik 4 der Projektionsbelichtungsanlage 1 dienen. The assembly according to the invention can be used in particular as a facet mirror 13 the illumination optics 4 the projection exposure system 1 serve.

Beim Einsatz der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird ein Retikel mit abzubildenden Strukturen im Bereich des Objektfelds 5 bereitgestellt. Außerdem wird ein Wafer, welcher eine für das Beleuchtungslicht 10 lichtempfindliche Beschichtung trägt, im Bereich des Bildfeldes 8 bereitgestellt. Anschließend wird zumindest ein Abschnitt des Retikels mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 auf den Wafer projiziert. Bei der Projektion des Retikels auf den Wafer kann ein Retikelhalter und/oder ein Waferhalter in Richtung parallel zur Objektebene 6 bzw. parallel zur Bildebene 9 verlagert werden. Die Verlagerung des Retikels und des Wafers kann vorzugsweise synchron zueinander erfolgen. Schließlich wird die mit dem Beleuchtungslicht 10 belichtete lichtempfindliche Schicht auf dem Wafer entwickelt. Auf diese Weise wird ein mikro- bzw. nanostrukturiertes Bauelement, insbesondere ein Halbleiterchip, hergestellt. When using the projection exposure system 1 becomes a reticle with structures to be imaged in the area of the object field 5 provided. In addition, a wafer, which is one for the illumination light 10 carries light-sensitive coating, in the field of view 8th provided. Subsequently, at least a portion of the reticle with the help of the projection exposure system 1 projected onto the wafer. In the projection of the reticle onto the wafer, a reticle holder and / or a wafer holder may be parallel to the object plane 6 or parallel to the image plane 9 be relocated. The displacement of the reticle and the wafer can preferably take place synchronously with one another. Finally, the one with the illumination light 10 exposed photosensitive layer developed on the wafer. In this way, a microstructured or nanostructured component, in particular a semiconductor chip, is produced.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant has been generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturCited patent literature

• DE 102011006100 [0002, 0052, 0059] DE 102011006100 [0002, 0052, 0059]
• EP 1225481 A [0045] EP 1225481A [0045]

Claims (15)

Verfahren zur Herstellung einer optischen Baugruppe (13) umfassend die folgenden Schritte: a. Bereitstellen einer Grundplatte (20) zur Anordnung von optischen Bauelementen (22), b. Bereitstellen einer Vielzahl optischer Bauelemente (22), welche jeweils ein Spiegel-Array (19) mit einer Vielzahl von Spiegel-Elementen (21) aufweisen, i. wobei die Spiegel-Elemente (21) jeweils Einzel-Reflexionsflächen (24) und jeweils mindestens einem Verlagerungs-Freiheitsgrad aufweisen, ii. wobei jedes Spiegel-Array (19) mindestens ein intaktes Spiegel-Element (21) aufweist, und iii. wobei zumindest eines der Bauelemente (22) ein Spiegel-Array (19) mit mindestens einem defekten Spiegel-Element (21d) aufweist, c. Vorgabe einer bestimmten Anordnung von virtuellen Facetten (23) mit Facetten-Reflexionsflächen, d. Anordnen einer vorgegebenen Anzahl der optischen Bauelemente (22) auf der Grundplatte (20) zur Ausbildung der Facetten-Reflexionsflächen der virtuellen Facetten (23), e. wobei mindestens ein Bauelement (22) mit mindestens einem defekten Spiegel-Element (21d) derart angeordnet wird, dass zumindest eines der defekten Spiegel-Elemente (21d) außerhalb des Bereichs der Facetten-Reflexionsflächen der virtuellen Facetten (23) liegt.Method for producing an optical assembly ( 13 ) comprising the following steps: a. Providing a base plate ( 20 ) for the arrangement of optical components ( 22 b. Providing a plurality of optical components ( 22 ), each of which is a mirror array ( 19 ) with a plurality of mirror elements ( 21 ), i. where the mirror elements ( 21 ) each individual reflection surfaces ( 24 ) and each have at least one degree of displacement freedom, ii. where each mirror array ( 19 ) at least one intact mirror element ( 21 ), and iii. wherein at least one of the components ( 22 ) a mirror array ( 19 ) with at least one defective mirror element ( 21d ), c. Specification of a specific arrangement of virtual facets ( 23 ) with faceted reflection surfaces, d. Arranging a predetermined number of the optical components ( 22 ) on the base plate ( 20 ) for the formation of facet reflection surfaces of the virtual facets ( 23 ), e. wherein at least one component ( 22 ) with at least one defective mirror element ( 21d ) is arranged such that at least one of the defective mirror elements ( 21d ) outside the area of the facet reflection surfaces of the virtual facets ( 23 ) lies. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Bauelemente (22) derart angeordnet werden, dass die Gesamtzahl defekter Spiegel-Elemente (21d), welche innerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen, minimiert wird. Method according to claim 1, characterized in that the components ( 22 ) are arranged such that the total number of defective mirror elements ( 21d ) which lie within the facet reflection surfaces is minimized. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bauelemente (22) derart angeordnet werden, dass sämtliche defekten Spiegel-Elemente (21d) außerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the components ( 22 ) are arranged such that all defective mirror elements ( 21d ) are outside the facet reflection surfaces. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gesamtanzahl defekter Spiegel-Elemente (21d), welche innerhalb der Facetten-Reflexionsflächen liegen, durch ein Austauschen von Bauelementen (22) verringert wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the total number of defective mirror elements ( 21d ), which lie within the facet reflection surfaces, by exchanging components ( 22 ) is reduced. Verfahren gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Bauelemente (22) derart iterativ wechselseitig ausgetauscht werden, dass bei jedem Austausch zweier Bauelemente (22) die Gesamtzahl defekter Spiegel-Elemente (21d), welche innerhalb der Gesamtheit sämtlicher Facetten-Reflexionsflächen liegen, verringert wird.Method according to claim 4, characterized in that the components ( 22 ) are iteratively exchanged alternately such that each time two components ( 22 ) the total number of defective mirror elements ( 21d ), which are within the totality of all facet reflection surfaces, is reduced. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Anordnung der virtuellen Facetten (23) derart an die Position der defekten Spiegel-Elemente (21d) angepasst wird, dass die Gesamtzahl der defekten Spiegel-Elemente (21d), welche innerhalb des Bereichs der Facetten-Reflexionsflächen liegen, verringert wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the arrangement of the virtual facets ( 23 ) to the position of the defective mirror elements ( 21d ), that the total number of defective mirror elements ( 21d ), which are within the range of the facet reflection surfaces, is reduced. Optische Baugruppe (13) mit einer Mehrzahl optischer Bauelemente (22), welche auf einer gemeinsamen Grundplatte (20) angeordnet sind, a. wobei die Bauelemente (22) jeweils ein Spiegel-Array (19) mit einer Vielzahl von Spiegel-Elementen (21) mit i. Einzel-Reflexionsflächen (24) und ii. jeweils mindestens einem Verlagerungs-Freiheitsgrad aufweisen, b. wobei jedes Spiegel-Array (19) mindestens ein intaktes Spiegel-Element (21) aufweist, c. wobei mindestens eines der Bauelemente (22) ein Spiegel-Array (19) mit mindestens einem defekten Spiegel-Element (21d) aufweist, d. wobei die Einzel-Reflexionsflächen (24) zu einer Mehrzahl von vorgegebenen Facetten-Reflexionsflächen gruppiert sind, und e. wobei das mindestens eine Bauelement (22) mit dem mindestens einen defekten Spiegel-Element (21d) derart auf der Grundplatte (20) angeordnet ist, dass mindestens eines der defekten Spiegel-Elemente (21d) außerhalb des Bereichs der Facetten-Reflexionsflächen liegt.Optical assembly ( 13 ) with a plurality of optical components ( 22 ), which on a common base plate ( 20 ), a. where the components ( 22 ) each have a mirror array ( 19 ) with a plurality of mirror elements ( 21 ) with i. Single reflection surfaces ( 24 ) and ii. each have at least one degree of displacement freedom, b. where each mirror array ( 19 ) at least one intact mirror element ( 21 ), c. wherein at least one of the components ( 22 ) a mirror array ( 19 ) with at least one defective mirror element ( 21d ), d. where the individual reflection surfaces ( 24 ) are grouped into a plurality of predetermined facet reflection surfaces, and e. wherein the at least one component ( 22 ) with the at least one defective mirror element ( 21d ) on the base plate ( 20 ) is arranged that at least one of the defective mirror elements ( 21d ) is outside the range of facet reflection surfaces. Optische Baugruppe (13) gemäß Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Mehrzahl defekter Spiegel-Elemente (21d) aufweist, wobei sämtliche defekten Spiegel-Elemente (21d) außerhalb des Bereichs der Facetten-Reflexionsflächen liegen.Optical assembly ( 13 ) according to claim 7, characterized in that it comprises a plurality of defective mirror elements ( 21d ), wherein all defective mirror elements ( 21d ) are outside the range of the facet reflection surfaces. Optische Baugruppe (13) gemäß einem der Ansprüche 7 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass jede Facetten-Reflexionsfläche durch eine Parkettierung aus Einzel-Reflexionsflächen (24) von Spiegel-Elementen (19) mindestens zweier Bauelemente (22) gebildet ist.Optical assembly ( 13 ) according to one of claims 7 to 8, characterized in that each facet reflection surface is defined by a tiling of individual reflection surfaces ( 24 ) of mirror elements ( 19 ) at least two components ( 22 ) is formed. Optische Baugruppe (13) gemäß einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Teil der Bauelemente (22) wechselseitig austauschbar ist.Optical assembly ( 13 ) according to one of claims 7 to 9, characterized in that at least a part of the components ( 22 ) is mutually exchangeable. Beleuchtungsoptik (4) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer optischen Baugruppe (13) gemäß einem der Ansprüche 7 bis 10.Illumination optics ( 4 ) for a projection exposure apparatus ( 1 ) with an optical assembly ( 13 ) according to one of claims 7 to 10. Beleuchtungssystem (2) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1) mit a. einer optischen Baugruppe (13) gemäß einem der Ansprüche 7 bis 10 und b. einer Strahlungsquelle (3). Lighting system ( 2 ) for a projection exposure apparatus ( 1 ) with a. an optical assembly ( 13 ) according to one of claims 7 to 10 and b. a radiation source ( 3 ). Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikrolithographie umfassend a. eine Beleuchtungsoptik (4) gemäß Anspruch 11 und b. eine Projektionsoptik (7).Projection exposure apparatus ( 1 ) for microlithography a. an illumination optics ( 4 ) according to claim 11 and b. a projection optics ( 7 ). Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements umfassend die folgenden Schritte: – Bereitstellen eines Substrats, auf das zumindest teilweise eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material aufgebracht ist, – Bereitstellen eines Retikels, das abzubildende Strukturen aufweist, – Bereitstellen einer Projektionsbelichtungsanlage (1) gemäß Anspruch 13, – Projizieren wenigstens eines Teils des Retikels auf einen Bereich der lichtempfindlichen Schicht des Substrats mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage (1).Method for producing a microstructured or nanostructured component comprising the following steps: providing a substrate on which at least partially a layer of a photosensitive material is applied, providing a reticle having structures to be imaged, providing a projection exposure apparatus 1 ) according to claim 13, - projecting at least a portion of the reticle onto a region of the photosensitive layer of the substrate by means of the projection exposure apparatus ( 1 ). Bauelement hergestellt nach dem Verfahren gemäß Anspruch 14.Component produced by the method according to claim 14.

Images