DE102010062945A1 - Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit Verdampfungsquelle - Google Patents
Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit Verdampfungsquelle Download PDFInfo
- Publication number
- DE102010062945A1 DE102010062945A1 DE102010062945A DE102010062945A DE102010062945A1 DE 102010062945 A1 DE102010062945 A1 DE 102010062945A1 DE 102010062945 A DE102010062945 A DE 102010062945A DE 102010062945 A DE102010062945 A DE 102010062945A DE 102010062945 A1 DE102010062945 A1 DE 102010062945A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- crucible
- evaporation source
- inclined portion
- nozzle
- coating material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 83
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 83
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 72
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 14
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/40—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
- H10K71/441—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour in the presence of solvent vapors, e.g. solvent vapour annealing
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
- STAND DER TECHNIK
- 1. Gebiet
- Die beschriebene Technik betrifft im Allgemeinen eine Verdampfungsquelle und eine Beschichtungsvorrichtung mit Verdampfungsquelle für Flachbildanzeigen.
- 2. Beschreibung der verwandten Technik
- Dank ihres geringen Gewichts und flachen Profils haben Flachbildanzeigen die Röhrenbildschirme verdrängt. Typische Beispiele für solche Anzeigen sind Flüssigkristallanzeigen (LCD) und Anzeigen mit organischen lichtemittierenden Dioden (OLED). OLEDs zeichnen sich im Allgemeinen durch bessere Leuchtdichten und größere Betrachtungswinkel aus und benötigen keine Hintergrundbeleuchtung, so dass sich mit ihnen ultradünne Anzeigen realisieren lassen.
- Diese OLEDs nutzen für die Anzeige das Phänomen aus, dass Elektronen und Löcher, die über eine Kathode und eine Anode in eine organische Dünnschicht injiziert werden, zu Exzitonen rekombinieren und die bei der Abregung dieser Exzitonen freigesetzte Energie in Form von Licht mit einer spezifischen Wellenlänge emittiert wird.
- OLED-Anzeigen werden im Allgemeinen in einem Fotolithografieverfahren oder einem Beschichtungsverfahren hergestellt; dabei werden auf einem Substrat aus beispielsweise Glas, Edelstahl oder Kunstharz selektiv eine Kathode, eine Anode und eine organische Dünnschicht ausgebildet. Bei dem Beschichtungsverfahren wird ein Beschichtungsmaterial verdampft oder sublimiert, im Vakuum abgeschieden und selektiv geätzt. Alternativ hierzu wird unter Verwendung einer Maskeneinheit mit mehreren Schlitzen, die in einem vorbestimmten Muster angeordnet sind, ein Beschichtungsmaterial selektiv abgeschieden.
- Das Fotolithografieverfahren erfordert im Allgemeinen, dass auf einen vorbestimmten Bereich Fotolack aufgetragen wird und anschließend ein Nass- oder Trockenätzschritt an dem aufgetragenen Fotolack durchgeführt wird. Beim Abtragen oder Wegätzen des Fotolacks kann Feuchtigkeit eindringen. Für Materialien wie organische Dünnschichten, die unter Feuchtigkeitseinwirkung degradieren, ist daher das Beschichtungsverfahren das primäre Verfahren zum Ausbilden einer Dünnschicht.
- KURZDARSTELLUNG
- Ein erfinderischer Aspekt betrifft eine Verdampfungsquelle, bei welcher eine Beschichtungsdüse so konstruiert ist, dass ein Schatteneffekt minimiert wird, und eine Beschichtungsvorrichtung mit dieser Verdampfungsquelle für Flachbildanzeigen, die eine im Wesentlichen gleichförmige Abscheidung von Schichten der Flachbildanzeigen realisieren.
- Ein weiterer Aspekt betrifft eine Verdampfungsquelle, die Folgendes umfasst: einen Tiegel, der an einer seiner Seiten offen ist und ein Beschichtungsmaterial bevorratet; einen Düsenabschnitt, der an der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen aufweist, die jeweils in einem vorbestimmten Innenwandbereich geneigt sind; eine Heizvorrichtung, die den Tiegel erhitzt; und ein Gehäuse, das den Tiegel, den Düsenabschnitt und die Heizvorrichtung aufnimmt. Der Düsenabschnitt weist einen maximalen Zerstäubungswinkel von weniger als 60° auf.
- Ein weiterer Aspekt betrifft eine Beschichtungsvorrichtung, die Folgendes umfasst: eine Prozesskammer; eine Verdampfungsquelle, die auf einer Seite der Prozesskammer angeordnet ist und mindestens eine Düse umfasst, die in einem vorbestimmten Innenwandbereich geneigt ist; eine Substrathalterung, die der Verdampfungsquelle gegenüberliegend angeordnet ist; und eine Maskeneinheit, die zwischen der Substrathalterung und der Verdampfungsquelle angeordnet ist und mehrere Schlitze aufweist, deren Seitenwände jeweils unter einem ersten Neigungswinkel gegen eine Oberfläche der Maskeneinheit geneigt sind. Die Verdampfungsquelle weist einen maximalen Zerstäubungswinkel auf, der kleiner als der erste Neigungswinkel ist.
- Ein weiterer Aspekt betrifft eine Verdampfungsquelle zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: einen Tiegel, der an einer seiner Seiten offen und zum Bevorraten eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist; einen Düsenabschnitt, der auf der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen umfasst, wobei jede der Düsen eine Seitenwand aufweist, die zum Zerstäuben des Beschichtungsmaterials durch die Düse eingerichtet ist, wobei die Seitenwand einen geneigten Abschnitt aufweist; eine Heizvorrichtung, die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist; und ein Gehäuse, das so eingerichtet ist, dass es den Tiegel, den Düsenabschnitt und die Heizvorrichtung aufnimmt, wobei der Düsenabschnitt einen maximalen Zerstäubungswinkel von weniger als ca. 60° aufweist.
- Bei der vorstehenden Quelle erstreckt sich der Tiegel in einer Richtung und umfasst mindestens eine Trennwand, die einen Innenraum des Tiegels unterteilt. Bei der vorstehenden Quelle weist die mindestens eine Trennwand eine Aussparung auf, die in einem oberen Abschnitt davon ausgebildet ist.
-
- Hierbei ist θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts und R der Innendurchmesser des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand.
- Bei der vorstehenden Quelle weist die Seitenwand einen nicht geneigten Abschnitt auf, der sich näher bei dem Tiegel befindet als der geneigte Abschnitt, wobei der geneigte Abschnitt eine Oberseite aufweist und eine Unterseite, die sich näher bei dem Tiegel befindet als die Oberseite, wobei der geneigte Abschnitt im Wesentlichen graduell geneigt ist, so dass der Innendurchmesser der Oberseite größer als der Innendurchmesser der Unterseite ist, wobei für die Dicke (t) der Unterseite des geneigten Abschnitts der folgende Ausdruck gilt:
- Hierbei ist θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts und R der Innendurchmesser des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand, und die Dicke (t) ist im Wesentlichen gleich der Dicke des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand.
-
- Hierbei ist θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts, wobei der geneigte Abschnitt eine Oberseite aufweist und eine Unterseite, die sich näher bei dem Tiegel befindet als die Oberseite, wobei der geneigte Abschnitt im Wesentlichen graduell geneigt ist, so dass der Innendurchmesser der Oberseite größer als der Innendurchmesser der Unterseite ist, und t ist die Dicke der Unterseite des geneigten Abschnitts, die im Wesentlichen gleich der Dicke des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand ist.
- Bei der vorstehenden Quelle umfasst das in dem Tiegel bevorratete Beschichtungsmaterial ein organisches Material. Bei der vorstehenden Quelle ist das Gehäuse ferner so eingerichtet, dass es mehrere Tiegel und einen auf einer offenen Seite der Tiegel angeordneten Düsenabschnitt aufnimmt. Bei der vorstehenden Quelle weist die Seitenwand einen nicht geneigten Abschnitt auf, der sich näher bei dem Tiegel befindet als der geneigte Abschnitt, wobei die Höhe des nicht geneigten Abschnitts größer als die Höhe des geneigten Abschnitts ist.
- Ein weiterer Aspekt betrifft eine Beschichtungsvorrichtung zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: eine Verdampfungsquelle, die zum Beinhalten und Zerstäuben eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist; eine Maskeneinheit, die mehrere Schlitze aufweist und dazu eingerichtet ist, das Beschichtungsmaterial durch die Schlitze auf ein Substrat abzuscheiden, wobei die Schlitze jeweils Seitenwände aufweisen, die unter einem ersten Neigungswinkel gegen eine Oberfläche der Maskeneinheit geneigt sind; eine Substrathalterung, die dazu eingerichtet ist, das Substrat zu halten, und der Verdampfungsquelle auf der anderen Seite der Maskeneinheit gegenüberliegend angeordnet ist; und eine Prozesskammer, die so eingerichtet ist, dass sie die Verdampfungsquelle, die Substrathalterung und die Maskeneinheit aufnimmt, wobei die Verdampfungsquelle einen maximalen Zerstäubungswinkel aufweist, der kleiner als der erste Neigungswinkel ist.
- Bei der vorstehenden Vorrichtung kann der maximale Zerstäubungswinkel der Verdampfungsquelle kleiner als ca. 60° sein. Bei der vorstehenden Quelle kann die Verdampfungsquelle ferner Folgendes aufweisen: einen Tiegel, der an einer seiner Seiten offen und zum Bevorraten des Beschichtungsmaterials eingerichtet ist; einen Düsenabschnitt, der auf der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen aufweist, wobei jede der Düsen eine Seitenwand aufweist, die zum Zerstäuben des Beschichtungsmaterials durch die Düse eingerichtet ist, und wobei die Seitenwand i) einen geneigten Abschnitt aufweist und ii) einen nicht geneigten Abschnitt, der sich näher bei dem Tiegel befindet als der geneigte Abschnitt; eine Heizvorrichtung, die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist; und ein Gehäuse, das so eingerichtet ist, dass es den Tiegel, den Düsenabschnitt und die Heizvorrichtung aufnimmt.
-
- Hierbei ist θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts und R der Innendurchmesser des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand.
- Bei der vorstehenden Vorrichtung kann der geneigte Abschnitt eine Oberseite aufweisen und eine Unterseite, die sich näher bei dem Tiegel befindet als die Oberseite, wobei der geneigte Abschnitt im Wesentlichen graduell geneigt ist, so dass der Innendurchmesser der Oberseite größer als der Innendurchmesser der Unterseite ist, wobei für die Dicke (t) der Unterseite des geneigten Abschnitts der folgende Ausdruck gilt:
- Hierbei ist θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts und R der Innendurchmesser des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand, und die Dicke (t) ist im Wesentlichen gleich der Dicke des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand.
-
- Hierbei ist θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts, wobei der geneigte Abschnitt eine Oberseite aufweist und eine, Unterseite, die sich näher bei dem Tiegel befindet als die Oberseite, wobei der geneigte Abschnitt im Wesentlichen graduell geneigt ist, so dass der Innendurchmesser der Oberseite größer als der Innendurchmesser der Unterseite ist, und t ist die Dicke der Unterseite des geneigten Abschnitts, die im Wesentlichen gleich der Dicke des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand ist. Die vorstehende Vorrichtung kann ferner eine Transporteinrichtung umfassen, die dazu eingerichtet ist, die Verdampfungsquelle in einer vorbestimmten Richtung hin- und herzubewegen.
- Ein weiterer Aspekt betrifft eine Verdampfungsquelle zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: einen Behälter, der zum Bevorraten eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist; eine Düse, die in Fluidverbindung mit dem Behälter steht, wobei die Düse eine Seitenwand aufweist, die zum Zerstäuben des Beschichtungsmaterials auf ein zu beschichtendes Substrat eingerichtet ist, wobei die Seitenwand einen geneigten Abschnitt aufweist, wobei der geneigte Abschnitt eine Oberseite aufweist und eine Unterseite, die sich näher bei dem Behälter befindet als die Oberseite, und wobei die Oberseite des geneigten Abschnitts in Bezug auf die Unterseite einen solchen Neigungswinkel bildet, dass der Innendurchmesser der Oberseite größer als der Innendurchmesser der Unterseite ist, und wobei der Neigungswinkel größer als ca. 60° und kleiner als ca. 90° ist; und ein Gehäuse, das so eingerichtet ist, dass es den Tiegel und die Düse aufnimmt.
- Bei der vorstehenden Quelle kann der maximale Zerstäubungswinkel der Düse kleiner als ca. 60° sein. Bei der vorstehenden Quelle kann die Seitenwand einen nicht geneigten Abschnitt aufweisen, der sich näher bei dem Behälter befindet als der geneigte Abschnitt, wobei für die Dicke (t) der Unterseite des geneigten Abschnitts der folgende Ausdruck gilt:
- Hierbei ist θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts und R der Innendurchmesser des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand, und die Dicke (t) ist im Wesentlichen gleich der Dicke des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand der Düse.
-
- Hierbei ist θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts und t die Dicke der Unterseite des geneigten Abschnitts, die im Wesentlichen gleich der Dicke des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand ist.
- KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
-
1 ist eine schematische Ansicht einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. -
2A ist eine perspektivische Ansicht einer Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. -
2B ist eine Querschnittsansicht einer Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. -
3 ist eine vergrößerte Ansicht des Bereichs A aus2B . -
4 zeigt ein Schaubild, in dem Verhältnisse zwischen Dicke und Höhe des vorbestimmten Bereichs einer Düse und einer Öffnungsweite der Düse in Abhängigkeit vom maximalen Zerstäubungswinkel der Verdampfungsquelle aufgetragen sind. - DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
- Eine Beschichtungsmaschine umfasst für gewöhnlich eine Verdampfungsquelle. Die Verdampfungsquelle weist im Allgemeinen Folgendes auf: i) einen auf einer Seite offenen Tiegel zum Bevorraten eines Beschichtungsmaterials, ii) eine Heizvorrichtung zum Erhitzen des Tiegels, iii) einen an der offenen Seite des Tiegels angeordneten Düsenabschnitt und iv) ein Gehäuse, das den Tiegel, die Heizvorrichtung und den Düsenabschnitt aufnimmt. Zur Verbesserung der Beschichtungseffizienz kann als Verdampfungsquelle eine lineare Verdampfungsquelle benutzt werden. Bei dieser Konstruktion erstreckt sich der Tiegel linear in einer Richtung, oder in dem Gehäuse sind entlang einer gerade Linie mehrere Tiegel und ein Düsenabschnitt installiert.
- Eine Beschichtungsmaschine, die die vorstehend beschriebene Maskeneinheit benutzt, ist dafür ausgelegt, ein „Schatteneffekt” genanntes Phänomen zu reduzieren, bei dem ein Beschichtungsmaterial ungleichförmig auf einem Substrat abgeschieden wird. Dies wird dadurch erreicht, dass Seitenwände der Schlitze in der Maskeneinheit in einem vorbestimmten Muster so ausgebildet werden, dass sie in Bezug zu der Oberfläche der Maskeneinheit einen ersten Neigungswinkel aufweisen. Da jedoch das von der Quelle verdampfte Beschichtungsmaterial in verschiedene Zerstäubungswinkel gestreut wird, ist es problematisch, den Schatteneffekt zu eliminieren.
- Es wird nun im Einzelnen auf die offenbarten Ausführungsformen eingegangen, für die in den beigefügten Zeichnungen, in denen gleiche Elemente durchgängig die gleichen Bezugszeichen haben, Beispiele dargestellt sind. Die Längen und Dicken von Schichten und Bereichen können in den Zeichnungen der Klarheit halber übertrieben dargestellt sein.
-
1 ist eine schematische Ansicht einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform.2A ist eine perspektivische Ansicht einer Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform.2B ist eine Querschnittsansicht einer Verdampfungsquelle für eine Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform. - Es wird auf
1 ,2A und2B Bezug genommen. Die Beschichtungsvorrichtung100 umfasst Folgendes: i) eine Prozesskammer110 , ii) eine Verdampfungsquelle130 , die auf einer Seite der Prozesskammer110 angeordnet ist und mindestens eine Düse aufweist, die auf dem vorbestimmten Innenwandbereich in Richtung ihrer Außenwand geneigt ist, und iii) eine Substrathalterung120 , die der Verdampfungsquelle130 gegenüberliegend angeordnet ist. Die Vorrichtung100 umfasst ferner eine Maskeneinheit140 , die zwischen der Substrathalterung120 und der Verdampfungsquelle130 angeordnet ist und mehrere Schlitze141 aufweist, deren Seitenwände jeweils unter einem ersten Winkel θ1 gegen eine Oberfläche der Maskeneinheit140 geneigt sind. Die Verdampfungsquelle130 weist in einer Ausführungsform einen maximalen Zerstäubungswinkel auf, der kleiner als der erste Neigungswinkel θ1 ist. - Die Prozesskammer
110 ist so eingerichtet, dass sie Raum für einen Beschichtungsvorgang bietet. Die Prozesskammer110 kann ein Beschickungstor (nicht gezeigt), durch welches ein Substrat S eingebracht und entnommen wird, sowie einen Absaugöffnung (nicht gezeigt) umfassen, der an eine Vakuumpumpe (nicht gezeigt) angeschlossen ist, die einen Innendruck der Prozesskammer110 steuert und Beschichtungsmaterial, das nicht auf das Substrat S abgeschieden wurde, abführt. - Die Substrathalterung
120 ist dazu eingerichtet, das in die Prozesskammer110 eingebrachte Substrat zu halten, und kann ein separates Spannelement (nicht gezeigt) aufweisen, das dazu dient, das Substrat S während des Beschichtungsvorgangs einzuspannen. - Bei einer Ausführungsform ist die Verdampfungsquelle
130 auf einer Unterseite der Prozesskammer110 angeordnet, die Substrathalterung120 ist auf einer Oberseite der Prozesskammer110 angeordnet, und das Substrat S ist dergestalt in die Substrathalterung120 eingespannt, dass es im Wesentlichen parallel zur horizontalen Ebene ist. Alternativ hierzu können die Substrathalterung120 und die Verdampfungsquelle130 auf verschiedenen Seiten angeordnet sein, so dass das in die Substrathalterung120 eingespannte Substrat S mit der horizontalen Ebene einen Winkel von ca. 70° bis ca. 110° bildet. Dadurch ist es möglich, ein schwerkraftbedingtes Durchhängen des Substrats zu verhindern. - Es wird auf
2A Bezug genommen. Die Verdampfungsquelle130 umfasst einen Tiegel oder einen Beschichtungsmaterialbehälter132 , der einen offenen oberen Abschnitt aufweist und ein Beschichtungsmaterial bevorratet, und einen Düsenabschnitt134 , der auf dem offenen oberen Abschnitt des Tiegels132 angeordnet ist und mehrere Düsen aufweist, die jeweils in dem vorbestimmten Innenwandbereich geneigt sind. Die Verdampfungsquelle130 umfasst ferner Heizvorrichtungen135 , die an gegenüberliegenden Seiten des Tiegels132 angeordnet sind und den Tiegel132 erhitzen, und ein Gehäuse131 , das den Tiegel132 , den Düsenabschnitt134 und die Heizvorrichtungen135 aufnimmt. - Bei einer Ausführungsform ist die Verdampfungsquelle
130 an der Unterseite der Prozesskammer110 angeordnet, und somit ist der obere Abschnitt des Tiegels132 offen. Alternativ hierzu kann der Tiegel132 auch je nach der Position der Verdampfungsquelle130 an einem seitlichen oder unteren Abschnitt offen sein. - Der Tiegel
132 ist dazu eingerichtet, ein Beschichtungsmaterial wie etwa ein organisches Material zu bevorraten. Wie in2A und2B dargestellt ist, ist der Tiegel132 so konstruiert, dass er sich in einer Richtung erstreckt, und kann mehrere Trennwände133 umfassen, die dazu dienen, einen Innenraum des Tiegels zu unterteilen, damit sich das bevorratete Beschichtungsmaterial nicht an einer Seite des Tiegels ansammelt. - Hierbei ist jede Trennwand
133 in einem oberen Abschnitt mit einer abgestuften Aussparung oder Einkerbung133a versehen, damit das von den Heizvorrichtungen135 verdampfte Beschichtungsmaterial frei durch den oberen Abschnitt des Tiegels132 wandern kann. Auf diese Weise kann das verdampfte Beschichtungsmaterial ausgelöst durch einen Druckunterschied im Wesentlichen gleichförmig durch die einzelnen Düsen134a des Düsenabschnitts134 zerstäubt werden. - Bei einer Ausführungsform ist die Verdampfungsquelle
130 eine lineare Verdampfungsquelle, deren Triegel132 so konstruiert ist, dass er sich in einer Richtung erstreckt. Alternativ hierzu kann die Verdampfungsquelle130 eine lineare Verdampfungsquelle, bei der in dem Gehäuse131 entlang einer Richtung mehrere Tiegel untergebracht sind, oder eine Einpunkt-Verdampfungsquelle umfassen. - Wenn es sich bei der Verdampfungsquelle
130 um eine lineare Verdampfungsquelle mit vorbestimmter Länge in einer Richtung handelt, kann die Beschichtungsvorrichtung100 ferner eine Transporteinrichtung150 umfassen (siehe1 ), die die Verdampfungsquelle130 in im Wesentlichen horizontaler und im Wesentlichen vertikaler Richtung hin- und herbewegt, damit das Beschichtungsmaterial leicht auf eine Vorderfläche des Substrat S aufgestäubt werden kann. Die Transporteinrichtung150 umfasst eine Kugelumlaufspindel151 , einen Motor153 , der die Kugelumlaufspindel dreht, und eine Führung152 , die eine Bewegungsrichtung der Verdampfungsquelle130 kontrolliert. - Der Düsenabschnitt
134 ist dafür eingerichtet, das von den Heizvorrichtungen135 verdampfte Beschichtungsmaterial durch die Düsen134a auf das Substrat S aufzustäuben. Die Innenwand jeder der Düsen134a ist jeweils in einem vorbestimmten Bereich in Richtung einer Außenwand der jeweiligen Düse134a geneigt. Bei einer Ausführungsform werden eine Höhe und eine Dicke des geneigten vorbestimmten Bereichs der Innenwand so gesteuert, dass ein maximaler Zerstäubungswinkel (θ2: wird später behandelt) der Verdampfungsquelle auf einen Wert eingestellt wird, der kleiner als der erste Neigungswinkel θ1 der Maskeneinheit ist. Da das Beschichtungsmaterial im Wesentlichen gleichförmig auf Schichten von Flachbildanzeigen ausgebildet wird, wird ein Schatteneffekt (der ungleichförmige Abscheidungsschichten bewirkt) minimiert oder im Wesentlichen verhindert. - Die Heizvorrichtungen
135 sind so eingerichtet, dass sie den Tiegel132 erhitzen, damit das in dem Tiegel132 bevorratete Beschichtungsmaterial verdampft. Die Heizvorrichtungen135 können auf einer Seite des Tiegels132 angeordnet sein, die der offenen Seite des Tiegels132 gegenüberliegt. Bei dieser Ausführungsform kann es länger dauern, bis das Beschichtungsmaterial von den Heizvorrichtungen135 erhitzt und verdampft worden ist. Um dem Beschichtungsmaterial bei der offenen Seite des Tiegels132 die größtmögliche Wärme zuzuführen, damit das Beschichtungsmaterial leicht verdampft werden kann, können die Heizvorrichtungen135 auf Seiten des Tiegels132 angeordnet werden. Beispielsweise können die Heizvorrichtungen135 auf gegenüberliegenden Seiten des Tiegels132 angeordnet sein, wenn die Oberseite des Tiegels132 offen ist, wie in2A und2B gezeigt ist. Als weiteres Beispiel können die Heizvorrichtungen135 so angeordnet sein, dass sie die Seiten des Tiegels132 umgeben. Bei einer weiteren Ausführungsform sind die Heizvorrichtungen135 nur auf kurzen Seiten des Gehäuses131 angeordnet. Bei noch einer weiteren Ausführungsform sind die Heizvorrichtungen135 nur auf langen Seiten des Gehäuses131 angeordnet. - Die Maskeneinheit
140 ist zwischen der Substrathalterung120 und der linearen Verdampfungsquelle130 angeordnet und so eingerichtet, dass das von der linearen Verdampfungsquelle130 zerstäubte Beschichtungsmaterial in einem vorbestimmten Muster auf dem Substrat S abgeschieden wird. Die Maskeneinheit140 weist mehrere Schlitze141 auf, die in einem vorbestimmten Muster ausgebildet sind, wobei die Seitenwände der einzelnen Schlitze141 unter dem ersten Neigungswinkel θ1 gegen die Oberfläche der Maskeneinheit geneigt sind (siehe1 ). -
3 ist eine vergrößerte Ansicht des Bereichs A aus2B und stellt die Düse einer Verdampfungsquelle in einer Beschichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform vergrößert dar. - Anhand von
3 wird ein Verfahren zum Steuern eines maximalen Zerstäubungswinkels der Verdampfungsquelle130 beschrieben. Das Beschichtungsmaterial wird von den Düsen134a zerstäubt, wobei ein vorbestimmter Bereich B (oberer geneigter Abschnitt) der einzelnen Düsen134a geneigt ist. Die Seitenwand jeder Düse134a weist außerdem einen unteren nicht geneigten Abschnitt auf. Das Beschichtungsmaterial kann auf eine der folgenden drei Arten zerstäubt werden: Erstens kann das Beschichtungsmaterial zerstäubt werden, ohne mit dem vorbestimmten Bereich B der Düse134a zu kollidieren. Zweitens kann das Beschichtungsmaterial zerstäubt werden, nachdem es mit dem vorbestimmten Bereich B einer Innenwand der Düse134a kollidiert ist. Drittens kann das Beschichtungsmaterial zerstäubt werden, nachdem es zunächst mit dem vorbestimmten Bereich B einer Innenwand der Düse134a und dann mit dem vorbestimmten Bereich B der gegenüberliegenden Innenwand der Düse134a kollidiert ist. - Berücksichtigt man hierbei, dass der vorbestimmte Bereich B der Düse
134a geneigt ist, so weist das von der Düse134a zerstäubte Beschichtungsmaterial im zweiten Falle den maximalen Zerstäubungswinkel auf. Im zweiten Falle kollidiert das Beschichtungsmaterial beim Zerstäuben an einem Punkt mit einer Innenwand der Düse134a , an dem deren Neigung beginnt, d. h. einem Neigungsstartpunkt P1, und läuft anschließend direkt über einem oberen Ende der anderen gegenüberliegenden Innenwand der Düse134a vorbei. Der maximale Sprühwinkel der Verdampfungsquelle130 ist somit der Winkel θ2 zwischen einer Geraden, die den Neigungsstartpunkt P1 einer Innenwand der Düse134a mit dem oberen Ende N1 der anderen gegenüberliegenden Innenwand der Düse134a verbindet, und einer horizontalen Geraden durch den Neigungsstartpunkt P1. -
-
-
- Hierbei muss für das Beschichtungsmaterial, das am Neigungsstartpunkt P1 des vorbestimmten Bereichs B mit diesem kollidiert, die Bedingung gelten, dass ein Einfallswinkel relativ zur Normalen einer geneigten Fläche des vorbestimmten Bereichs B am geringsten sein muss, damit sich auf Grundlage der Prinzipien von Huygens und Fermat der maximale Zerstäubungswinkel ergibt. Da der maximale Zerstäubungswinkel θ2 der Verdampfungsquelle
130 ein Zerstäubungswinkel ist, d. h. eine Summe aus Einfalls- und Reflexionswinkel des Beschichtungsmaterials, das sich entlang der durch den Neigungsstartpunkt P1 verlaufenden horizontalen Geraden bewegt und am Neigungsstartpunkt P1 kollidiert, sind also der Einfallswinkel und der Reflexionswinkel des bei dem maximalen Zerstäubungswinkel θ2 der Verdampfungsquelle130 zerstäubten Beschichtungsmaterials jeweils gleich dem halben maximalen Zerstäubungswinkel - Demgemäß gilt für den maximalen Zerstäubungswinkel θ2 der Verdampfungsquelle
130 und den Neigungswinkel Φ des vorbestimmten Bereichs B der nachstehende Ausdruck (5). Durch Anwendung des nachstehenden Ausdrucks (5) auf die vorstehenden Ausdrücke (3) und (4) lassen sich die ebenfalls nachstehenden Ausdrücke (6) und (7) erhalten. -
4 zeigt ein Schaubild, in dem die Verhältnisse der Dicke t und der Höhe h des vorbestimmten Bereichs B der Düse134a zur Öffnungsweite R der Düse134a in Abhängigkeit von dem maximalen Zerstäubungswinkel θ2 der Verdampfungsquelle130 gemäß Ausdruck (6) und (7) aufgetragen sind. - Bei einer Ausführungsform ist der maximale Zerstäubungswinkel θ2 der Verdampfungsquelle
130 auf einen Wert eingestellt, der kleiner als der erste Neigungswinkel θ1 der Seitenwand des Schlitzes141 der Maskeneinheit140 ist. Bei dieser Ausführungsform sind die Verhältnisse der Dicke t und der Höhe h des vorbestimmten Bereichs B der Düse134a zur Öffnungsweite R der Düse134a in Abhängigkeit von dem maximalen Zerstäubungswinkel θ2 der Verdampfungsquelle130 bestimmt, der anhand von4 eingestellt wird. Somit kann die Beschichtungsvorrichtung100 den Schatteneffekt minimieren oder im Wesentlichen verhindern. -
- Unter Verwendung der bekannten Werte der trigonometrischen Funktionen ergibt sich, dass der maximale Zerstäubungswinkel θ2 der Verdampfungsquelle
130 , der dem Ausdruck (8) genügt, kleiner als ca. 60° sein muss. Bei dieser Ausführungsform ist der Neigungswinkel Φ des vorbestimmten Bereichs B größer als ca. 60° und kleiner als 90° (siehe Ausdruck (5)). Der Bereich für den maximalen Zerstäubungswinkel θ2 reicht von ca. 30° bis ca. 90°. - Gemäß mindestens einer der offenbarten Ausführungsformen wird das von der Verdampfungsquelle zerstäubte Beschichtungsmaterial unter Verwendung der Maskeneinheit mit mehreren Schlitzen, deren Seitenwände unter einem ersten Neigungswinkel in Richtung der Oberfläche der Maskeneinheit geneigt sind, selektiv auf dem Substrat abgeschieden und in einem vorbestimmten Muster ausgebildet. Ferner ist der maximale Zerstäubungswinkel der Verdampfungsquelle auf einen Wert eingestellt, der kleiner als der erste Neigungswinkel der Seitenwand der einzelnen Schlitze der Maskeneinheit und kleiner als ca. 60° ist, wodurch der Schatteneffekt minimiert oder im Wesentlichen verhindert wird.
- Die offenbarten Ausführungsformen sind nicht als einschränkend aufzufassen und können verschiedene Modifikationen und gleichwertige Anordnungen abdecken, die in den Schutzumfang der beigefügten Ansprüche fallen.
Claims (10)
- Verdampfungsquelle (
130 ) zum Herstellen von Flachbildanzeigen, umfassend: einen Tiegel (132 ), der an einer seiner Seiten offen und zum Bevorraten eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist; einen Düsenabschnitt (134 ), der auf der offenen Seite des Tiegels angeordnet ist und mehrere Düsen (134a ) umfasst, wobei jede der Düsen eine Seitenwand aufweist, die zum Zerstäuben des Beschichtungsmaterials durch die Düse eingerichtet ist, wobei die Seitenwand einen geneigten Abschnitt aufweist; eine Heizvorrichtung (135 ), die zum Erhitzen des Tiegels eingerichtet ist; und ein Gehäuse (131 ), das so eingerichtet ist, dass es den Tiegel, den Düsenabschnitt und die Heizvorrichtung aufnimmt, wobei der Düsenabschnitt einen maximalen Zerstäubungswinkel von weniger als etwa 60° aufweist. - Verdampfungsquelle (
130 ) nach Anspruch 1, wobei sich der Tiegel in (132 ) in einer Richtung erstreckt und mindestens eine Trennwand (133 ) umfasst, die einen Innenraum des Tiegels unterteilt. - Verdampfungsquelle (
130 ) nach Anspruch 2, wobei die mindestens eine Trennwand (133 ) eine Aussparung (133a ) aufweist, die in einem oberen Abschnitt davon ausgebildet ist. - Verdampfungsquelle (
130 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Seitenwand einen nicht geneigten Abschnitt aufweist, der sich näher bei dem Tiegel befindet als der geneigte Abschnitt, wobei der geneigte Abschnitt eine Höhe (h) aufweist, für die der folgende Ausdruck gilt: wobei θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts und R der Innendurchmesser des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand ist. - Verdampfungsquelle (
130 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Seitenwand einen nicht geneigten Abschnitt aufweist, der sich näher bei dem Tiegel (132 ) befindet als der geneigte Abschnitt, wobei der geneigte Abschnitt eine Oberseite aufweist und eine Unterseite, die sich näher bei dem Tiegel befindet als die Oberseite, wobei der geneigte Abschnitt im Wesentlichen graduell geneigt ist, so dass der Innendurchmesser der Oberseite größer als der Innendurchmesser der Unterseite ist, wobei für die Dicke (t) der Unterseite des geneigten Abschnitts der folgende Ausdruck gilt: wobei θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts und R der Innendurchmesser des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand ist, und wobei die Dicke (t) im Wesentlichen gleich der Dicke des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand ist. - Verdampfungsquelle (
130 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Seitenwand einen nicht geneigten Abschnitt aufweist, der sich näher bei dem Tiegel befindet als der geneigte Abschnitt, wobei der geneigte Abschnitt eine Höhe (h) und eine Dicke (t) aufweist, für die der folgende Ausdruck gilt: wobei θ der maximale Zerstäubungswinkel des Düsenabschnitts ist, wobei der geneigte Abschnitt eine Oberseite aufweist und eine Unterseite, die sich näher bei dem Tiegel befindet als die Oberseite, wobei der geneigte Abschnitt im Wesentlichen graduell geneigt ist, so dass der Innendurchmesser der Oberseite größer als der Innendurchmesser der Unterseite ist, und wobei t die Dicke der Unterseite des geneigten Abschnitts ist, die im Wesentlichen gleich der Dicke des nicht geneigten Abschnitts der Seitenwand ist. - Verdampfungsquelle (
130 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das in dem Tiegel bevorratete Beschichtungsmaterial ein organisches Material umfasst. - Verdampfungsquelle (
130 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Gehäuse (131 ) ferner so eingerichtet ist, dass es mehrere Tiegel (132 ) und einen auf einer offenen Seite der Tiegel angeordneten Düsenabschnitt (134 ) aufnimmt. - Verdampfungsquelle (
130 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Seitenwand einen nicht geneigten Abschnitt aufweist, der sich näher bei dem Tiegel befindet als der geneigte Abschnitt, und wobei die Höhe des nicht geneigten Abschnitts größer als die Höhe des geneigten Abschnitts ist. - Beschichtungsvorrichtung (
100 ) zum Herstellen von Flachbildanzeigen, die Folgendes aufweist: eine Verdampfungsquelle (130 ), die zum Beinhalten und Zerstäuben eines Beschichtungsmaterials eingerichtet ist, insbesondere die Verdampfungsquelle nach einem der vorhergehenden Ansprüche; eine Maskeneinheit (140 ), die mehrere Schlitze (141 ) aufweist und dazu eingerichtet ist, das Beschichtungsmaterial durch die Schlitze auf ein Substrat abzuscheiden, wobei die einzelnen Schlitze jeweils Seitenwände aufweisen, die unter einem ersten Neigungswinkel gegen eine Oberfläche der Maskeneinheit geneigt sind; eine Substrathalterung (120 ), die dazu eingerichtet ist, das Substrat zu halten, und gegenüber der Verdampfungsquelle auf der anderen Seite der Maskeneinheit angeordnet ist; und eine Prozesskammer (110 ), die so eingerichtet ist, dass sie die Verdampfungsquelle, die Substrathalterung und die Maskeneinheit aufnimmt, wobei die Verdampfungsquelle einen maximalen Zerstäubungswinkel aufweist, der kleiner als der erste Neigungswinkel ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2009-0128890 | 2009-12-22 | ||
KR1020090128890A KR101182265B1 (ko) | 2009-12-22 | 2009-12-22 | 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102010062945A1 true DE102010062945A1 (de) | 2011-07-14 |
Family
ID=44149288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102010062945A Withdrawn DE102010062945A1 (de) | 2009-12-22 | 2010-12-13 | Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit Verdampfungsquelle |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110146575A1 (de) |
JP (1) | JP2011132596A (de) |
KR (1) | KR101182265B1 (de) |
CN (1) | CN102102176B (de) |
DE (1) | DE102010062945A1 (de) |
TW (1) | TWI547577B (de) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9709334B2 (en) * | 2009-12-24 | 2017-07-18 | Lg Innotek Co., Ltd. | Heat treatment container for vacuum heat treatment apparatus |
KR101878173B1 (ko) * | 2011-08-22 | 2018-08-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판 증착장치 |
KR20140019579A (ko) | 2012-08-06 | 2014-02-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 |
KR101325864B1 (ko) * | 2012-08-27 | 2013-11-05 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 유기발광다이오드 봉지공정용 증착장치 |
KR102046440B1 (ko) | 2012-10-09 | 2019-11-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 |
TWI473894B (zh) * | 2013-09-11 | 2015-02-21 | Au Optronics Corp | 蒸鍍設備 |
KR102182114B1 (ko) * | 2013-12-16 | 2020-11-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증발장치 |
WO2015159428A1 (ja) * | 2014-04-18 | 2015-10-22 | 長州産業株式会社 | ラインソース |
CN103993268B (zh) * | 2014-04-30 | 2017-02-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种坩埚 |
CN104062842B (zh) * | 2014-06-30 | 2019-02-15 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种掩模板及其制造方法、工艺装置 |
KR20170095371A (ko) * | 2014-12-17 | 2017-08-22 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 재료 증착 어레인지먼트, 진공 증착 시스템, 및 재료를 증착하기 위한 방법 |
CN104593722B (zh) * | 2014-12-23 | 2017-06-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 掩膜板的制作方法 |
KR102318264B1 (ko) * | 2015-01-14 | 2021-10-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착장치 |
KR101660393B1 (ko) * | 2015-06-30 | 2016-09-28 | 주식회사 선익시스템 | 증발원 및 이를 구비한 증착장치 |
KR102608846B1 (ko) * | 2015-10-06 | 2023-12-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 그 제조 방법 |
CN105463403B (zh) * | 2015-11-24 | 2017-09-29 | 航天材料及工艺研究所 | 一种陶瓷基复合材料氮化硼界面涂层的制备方法 |
KR102497653B1 (ko) * | 2016-03-02 | 2023-02-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 발광 표시 장치의 제조 방법 |
CN107592889A (zh) * | 2016-05-10 | 2018-01-16 | 应用材料公司 | 用于沉积已蒸发材料的蒸发源与用于沉积已蒸发材料的方法 |
KR101866956B1 (ko) * | 2016-12-30 | 2018-06-14 | 주식회사 선익시스템 | 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원 |
CN107299321B (zh) * | 2017-07-28 | 2019-07-26 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸发源装置及蒸镀机 |
KR102003310B1 (ko) * | 2017-08-28 | 2019-07-25 | 주식회사 선익시스템 | 소스 분사장치 및 이를 포함하는 박막증착장비 |
KR102595355B1 (ko) | 2017-12-28 | 2023-10-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 그것을 이용한 증착 방법 |
KR102073717B1 (ko) * | 2017-12-28 | 2020-02-05 | 주식회사 선익시스템 | 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원 |
CN108203805A (zh) * | 2018-01-27 | 2018-06-26 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀设备及其磁性固定板 |
JP2020521039A (ja) * | 2018-05-04 | 2020-07-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 蒸発した材料を堆積させるための蒸発源、真空堆積システム、及び蒸発した材料を堆積させるための方法 |
KR20210028314A (ko) | 2019-09-03 | 2021-03-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 |
KR20210077103A (ko) * | 2019-12-16 | 2021-06-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 이를 포함하는 증착 장치 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2664852A (en) * | 1950-04-27 | 1954-01-05 | Nat Res Corp | Vapor coating apparatus |
JPS5322859U (de) * | 1976-08-03 | 1978-02-25 | ||
GB2172015B (en) * | 1984-06-12 | 1988-06-08 | Ki Polt I | Evaporator for vacuum deposition of films |
JPS6293368A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | 蒸発源 |
JPS6353259A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-07 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜形成方法 |
JPH0613258A (ja) * | 1991-12-20 | 1994-01-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜積層コンデンサのパターン形成方法 |
US5253266A (en) * | 1992-07-20 | 1993-10-12 | Intevac, Inc. | MBE effusion source with asymmetrical heaters |
JPH0916960A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Hitachi Maxell Ltd | 情報記録媒体の製造装置 |
JP2000068055A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-03 | Tdk Corp | 有機el素子用蒸発源、この有機el素子用蒸発源を用いた有機el素子の製造装置および製造方法 |
US6830626B1 (en) * | 1999-10-22 | 2004-12-14 | Kurt J. Lesker Company | Method and apparatus for coating a substrate in a vacuum |
KR100490537B1 (ko) * | 2002-07-23 | 2005-05-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 가열용기와 이를 이용한 증착장치 |
JP2004259634A (ja) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Nippon Seiki Co Ltd | 有機elパネルの製造方法、及びその有機elパネルの製造方法で用いられる有機層製膜装置 |
EP1491653A3 (de) * | 2003-06-13 | 2005-06-15 | Pioneer Corporation | Aufdampfverfahren und Aufdampfvorrichtungen |
JP4557170B2 (ja) * | 2004-11-26 | 2010-10-06 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 蒸発源 |
KR101200693B1 (ko) * | 2005-01-11 | 2012-11-12 | 김명희 | 대면적 유기박막 제작용 선형 다점 도가니 장치 |
WO2006091598A2 (en) * | 2005-02-22 | 2006-08-31 | E-Science, Inc. | Effusion cell valve |
KR100635496B1 (ko) * | 2005-02-25 | 2006-10-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 격벽을 구비하는 측면 분사형 선형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 |
WO2007026649A1 (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 蒸着ヘッド装置及び蒸着塗布方法 |
KR100711886B1 (ko) * | 2005-08-31 | 2007-04-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 무기 증착원 및 이의 가열원 제어방법 |
US20090087545A1 (en) * | 2005-09-20 | 2009-04-02 | Tadahiro Ohmi | Film Forming Apparatus, Evaporating Jig, and Measurement Method |
JP2007113077A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-05-10 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 坩堝 |
JP4768584B2 (ja) * | 2006-11-16 | 2011-09-07 | 財団法人山形県産業技術振興機構 | 蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置 |
JP2008208443A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Sony Corp | 蒸着成膜装置、蒸着成膜方法、および表示装置の製造方法 |
JP2008305560A (ja) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Canon Inc | 有機el表示装置の製造方法 |
JP5081516B2 (ja) * | 2007-07-12 | 2012-11-28 | 株式会社ジャパンディスプレイイースト | 蒸着方法および蒸着装置 |
KR101094299B1 (ko) * | 2009-12-17 | 2011-12-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치 |
-
2009
- 2009-12-22 KR KR1020090128890A patent/KR101182265B1/ko active IP Right Grant
-
2010
- 2010-08-20 JP JP2010185107A patent/JP2011132596A/ja active Pending
- 2010-12-13 DE DE102010062945A patent/DE102010062945A1/de not_active Withdrawn
- 2010-12-16 TW TW099144329A patent/TWI547577B/zh active
- 2010-12-17 US US12/972,369 patent/US20110146575A1/en not_active Abandoned
- 2010-12-17 CN CN201010601150.XA patent/CN102102176B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102102176B (zh) | 2015-11-25 |
KR101182265B1 (ko) | 2012-09-12 |
TWI547577B (zh) | 2016-09-01 |
JP2011132596A (ja) | 2011-07-07 |
CN102102176A (zh) | 2011-06-22 |
TW201129706A (en) | 2011-09-01 |
US20110146575A1 (en) | 2011-06-23 |
KR20110072092A (ko) | 2011-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102010062945A1 (de) | Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit Verdampfungsquelle | |
DE102010062937B4 (de) | Lineare Verdampfungsquelle und Beschichtungsvorrichtung mit linearer Verdampfungsquelle | |
DE602004000051T2 (de) | Verfahren zum Beschichten von grossflächigen Substraten | |
DE102005020666B4 (de) | Schichtbildungsquelle, vakuumunterstützte Vorrichtung zur Schichtbildung, Verfahren zur Herstellung eines organischen elektrolumineszierenden Bauelements | |
DE10392223T5 (de) | Linien- oder Flächen-Verdampfer zum Steuern des Schichtdickenprofils | |
DE60305246T2 (de) | Quelle zur thermischen PVD-Beschichtung für organische elektrolumineszente Schichten | |
DE69023633T2 (de) | Kathodenzerstäubungsgerät und kathodenzerstäubungsanlage. | |
DE69623213T2 (de) | Verfahren und Anlage zum Düsebeschichten | |
DE69808535T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer organischen elektrolumineszenten Vorrichtung | |
EP0235770B1 (de) | Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Substraten in einer durch Hochfrequenz angeregten Plasmaentladung | |
DE19581483B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bildung von Dünnschichten | |
DE10224908B4 (de) | Vorrichtung für die Beschichtung eines flächigen Substrats | |
DE102008016619B3 (de) | Verdampferkörper | |
DE4039930A1 (de) | Vorrichtung fuer plasmabehandlung | |
DE3709175A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum aufstaeuben hochohmiger schichten durch katodenzerstaeubung | |
DE60132950T2 (de) | Vakuumbehandlungsvorrichtung | |
DE112007001439T5 (de) | Lichtemittierende Einrichtung und Verfahren zum Herstellen einer lichtemittierenden Einrichtung | |
DE102005012274B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von Fluoreszenzlampen | |
EP0701487A1 (de) | Vorrichtung zur belackung oder beschichtung von platten oder scheiben | |
EP1555334B1 (de) | Verdampfungseinrichtung für sublimierende Materialien | |
EP1475458B1 (de) | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats. | |
DE2841969C2 (de) | Verdampfertiegel für das Verdampfen von Legierungen mit Komponenten mit unterschiedlichen Dampfdrücken | |
DE102004047938B4 (de) | Vorrichtung für die Verdampferbeschichtung eines bandförmigen Substrates | |
DE112015004673T5 (de) | Reaktionskammer für Vorrichtung zur chemischen Gasphasenabscheidung | |
DE102011016814B4 (de) | Verdampferzellen-Verschlusseinrichtung für eine Beschichtungsanlage |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: GULDE HENGELHAUPT ZIEBIG & SCHNEIDER, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD., YONGIN-CITY, KR Free format text: FORMER OWNER: SAMSUNG MOBILE DISPLAY CO., LTD., YONGIN, KYONGGI, KR Effective date: 20121026 Owner name: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD., KR Free format text: FORMER OWNER: SAMSUNG MOBILE DISPLAY CO., LTD., YONGIN, KR Effective date: 20121026 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: GULDE & PARTNER PATENT- UND RECHTSANWALTSKANZL, DE Effective date: 20121026 Representative=s name: GULDE HENGELHAUPT ZIEBIG & SCHNEIDER, DE Effective date: 20121026 |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |